JPWO2002048085A1 - 含フッ素エステル化合物の分解反応生成物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
含フッ素エステル化合物を、低温度で、速い反応速度で、効率良く分解して、高い生産性で製造する方法を提供する。エステル結合が分解されうる含フッ素エステル化合物のエステル結合を分解することにより分解反応生成物を得る方法において、エステル結合の分解反応を溶媒を実質的に用いずにＫＦの存在下に２００℃以下の反応温度で行い、かつ、前記含フッ素エステル化合物を反応域に連続供給し、分解反応生成物を反応域から連続的に抜き出しながら反応を行う。
Description
＜技術分野＞
本発明は、エステル結合分解反応生成物、特には有用な含フッ素化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、含フッ素エステル化合物のエステル結合を効率良く分解して分解反応生成物を製造する方法に関し、さらには、該方法に用いる含フッ素エステル化合物を効率良く製造する方法に関する。
＜背景技術＞
従来より、Ｃ−Ｈ含有化合物中のＣ−Ｈ部分の全てをＣ−Ｆにフッ素化する方法として、三フッ化コバルトを用いる方法、フッ素ガスを用いて直接フッ素化する方法、または、フッ化水素を電気分解してフッ素化反応を行う方法（ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ ｆｌｕｏｒｉｎａｔｉｏｎ、以下「ＥＣＦ法」と称する。）が知られている。これらの方法のうち、フッ素ガスを用いて直接フッ素化する方法には、気相で行う方法と、液相で行う方法が知られている。しかし、気相で行う方法では、フッ素化反応中にＣ−Ｃ単結合の切断が起こり、多種類の副生成物が生じる問題があり、液相で行う方法が有利である（ＷＯ００／５６６９４）。
また、（１）ペルフルオロエステル化合物のエステル結合を２２４〜２５４℃で分解する方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９８，１２０，７１１７）、（２）ペルフルオロエステル化合物をＮａＦの存在下に８０〜２００℃でエステル分解反応する方法（ＵＳ３９００３７２）、（３）ペルフルオロエステルを、溶媒とＮａＦやＫＦの存在下に、バッチ式反応でエステル分解反応する方法（ＵＳ５４６６８７７）、が知られている。
しかし、（１）の文献には、アルカリ金属フッ化物の存在下に反応させることは記載もなく示唆もない。また、（１）の文献に記載される方法は反応温度が高く、反応を実施できる基質が限定される問題がある。（２）や（３）の文献に記載の方法では収率が低く反応速度が低い問題がある。（３）の文献には、溶媒を存在させずに反応を行った場合には、反応が進まない例が記載されている。
＜発明の開示＞
本発明は、上記の問題を解決する目的でなされた発明であり、含フッ素エステル化合物のエステル結合を効果的に分解して連続的に分解反応生成物を製造する方法を提供する。さらに本発明は、該方法に用いる含フッ素エステル化合物をも効率良く製造する方法を提供する。
すなわち本発明は、以下の製造方法を提供する。
１．エステル結合が分解されうる含フッ素エステル化合物のエステル結合を分解することにより分解反応生成物を得る方法において、エステル結合の分解反応を溶媒を実質的に用いずにＫＦの存在下に２００℃以下の反応温度で行い、かつ、前記含フッ素エステル化合物を反応域に連続供給し、分解反応生成物を反応域から連続的に抜き出しながら反応を行うことを特徴とする分解反応生成物の製造方法。
２．含フッ素エステル化合物が式（４）で表される化合物であり、分解反応生成物が式（５）で表される化合物および／または式（６）で表される化合物である上記製造方法。
ＲＣＦＣＯＯＣＦＲＡＦＲＢＦ（４）
ＲＡＦＲＢＦＣ＝Ｏ （５）
ＲＣＦＣＯＦ （６）
ここで、ＲＡＦはフッ素原子または１価有機基であり、ＲＢＦは１価有機基であり、またはＲＡＦとＲＢＦは互いに結合して２価有機基を形成していてもよく、ＲＣＦは１価有機基であり、かつ、ＲＡＦ、ＲＢＦ、およびＲＣＦから選ばれる少なくとも１つの基中にはフッ素原子が存在する。
３．式（４）で表される化合物が、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物とを反応させて式（３）で表される化合物とし、該式（３）で表される化合物を液相中でフッ素と反応させることにより製造された化合物である上記製造方法。
ＨＯＣＨＲＡＲＢ （１）
ＲＣＣＯＸ （２）
ＲＣＣＯＯＣＨＲＡＲＢ （３）
ここで、ＲＡＦがフッ素原子である場合のＲＡは水素原子であり、ＲＡとＲＡＦとが同一の１価有機基である場合のＲＡはフッ素化されない１価有機基であり、ＲＡとＲＡＦとが異なる１価有機基である場合のＲＡはフッ素化される１価有機基であり、ＲＢとＲＢＦとが同一の１価有機基である場合のＲＢはフッ素化されない１価有機基であり、ＲＢとＲＢＦとが異なる１価有機基である場合のＲＢはフッ素化される１価有機基である。
また、ＲＡＦとＲＢＦが互いに結合して２価有機基を形成している場合のＲＡとＲＢは、互いに結合して２価有機基を形成しており、ＲＡとＲＢから形成される２価有機基が、ＲＡＦとＲＢＦから形成される２価有機基と同一である場合のＲＡとＲＢから形成される２価有機基はフッ素化されない２価有機基であり、異なる場合のＲＡとＲＢから形成される２価有機基はフッ素化される２価有機基である。
ＲＣとＲＣＦとが同一の１価有機基である場合のＲＣはフッ素化されない１価有機基であり、ＲＣとＲＣＦとが異なる１価有機基である場合のＲＣはフッ素化される１価有機基である。
Ｘはハロゲン原子である。
４．式（３）で表わされる化合物のフッ素原子含有量が３０〜８４質量％である上記製造方法。
５．ＲＡが、水素原子、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、または部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基）基であり、ＲＡＦがフッ素原子またはＲＡに存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であり、
ＲＢが、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、または部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基であり、ＲＢＦがＲＢに存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であり、
または、ＲＡとＲＢが互いに結合して２価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ２価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素基、または部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素）基を形成し、ＲＡＦとＲＢＦがＲＡとＲＢから形成される基中の水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であり、
ＲＣおよびＲＣＦが同一の基であって、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基の基中に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基である上記製造方法。
６．式（３）で表わされる化合物の分子量が２００〜１０００である上記製造方法。
７．エステル結合の分解反応を液相反応で行う上記製造方法。
８．エステル結合の分解反応を、分解反応生成物の沸点以上であり、かつ１００℃以下の反応温度で気相反応で行う上記製造方法。
＜発明を実施するための最良の形態＞
本明細書の以下の説明においては、式（４）で表される化合物を化合物（４）のように記す。他の式で表される化合物についても同様に記す。
本明細書において、有機基とは、炭素原子を必須とする基をいい、飽和、不飽和のいずれの構造のものも含む。
有機基としては、炭化水素基、ハロゲノ炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、またはハロゲノ（ヘテロ原子含有炭化水素）基が好ましい。これらの有機基は、フッ素化反応時に用いる液相への溶解性の観点からは、炭素数が１〜２０である基が好ましく、特に炭素数が１〜１０である基が好ましい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基であっても芳香族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基が好ましく、飽和の脂肪族炭化水素基が好ましい。１価飽和脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、またはシクロアルキル基が挙げられ、アルキル基の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環である構造のいずれであってもよい。２価飽和炭化水素基としては、アルキレン基またはシクロアルキレン基が挙げられ、アルキレン基の構造は、直鎖構造、分岐構造、または環部分を有する構造、のいずれであってもよい。
アルキル基またはアルキレン基の炭素数は１〜１０が好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロアルキルアルキル基、またはシクロアルキル基部分がさらにアルキル基で置換されたシクロアルキルアルキル基が挙げられる。
また、アルキレン基としては、上記アルキル基の水素原子の１個が結合手となった基が挙げられ、直鎖または分岐構造のアルキレン基が好ましい。
また、シクロアルキル基としては、３〜６員環のシクロアルキル基が挙げられ、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が好ましい。シクロアルキレン基としてはシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基が好ましい。
本明細書において、ハロゲノ基とは、水素原子の１個以上がハロゲン原子に置換された基をいう。ハロゲノ基は、水素原子が存在する基であってもよく、存在しない基であってもよい。部分ハロゲノ基とは水素原子の一部がハロゲン原子に置換された基をいう。すなわち、部分ハロゲノ基は、水素原子が存在する基である。ペルハロゲノ基は水素原子の全てがフッ素化された基であり、水素原子が存在しない基である。ハロゲノ、部分ハロゲノ、ペルハロゲノの用語の意味は、ハロゲン原子が特定された場合においても同様の意味を示す。
ハロゲノ基におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子が好ましく、とりわけ化合物の有用性の観点からフッ素原子のみ、またはフッ素原子と塩素原子からなるのが好ましい。
ハロゲノ炭化水素基とは、炭化水素基中に存在する水素原子の１個以上がハロゲン原子によって置換された基をいう。
１価ハロゲノ飽和炭化水素基としては、フルオロアルキル基またはフルオロ（部分クロロアルキル）基等が好ましく、ペルフルオロアルキル基またはペルフルオロ（部分クロロアルキル）基（すなわち、部分クロロアルキル基中の水素原子の全てがフッ素原子に置換された基）が好ましい。２価ハロゲノ飽和炭化水素基としては、フルオロアルキレン基またはフルオロ（部分クロロアルキレン）基等が好ましく、ペルフルオロアルキレン基またはペルフルオロ（部分クロロアルキレン）基（すなわち、部分クロロアルキレン基中の水素原子の全てがフッ素原子に置換された基）が好ましい。なお、ペルフルオロ（部分フルオロアルキル）基は、ペルフルオロアルキル基と同じであり、ペルフルオロ（部分フルオロアルキレン）基は、ペルフルオロアルキレン基と同じである。
ヘテロ原子含有炭化水素基とは、酸素原子、窒素原子、または硫黄原子等のヘテロ原子と、炭素原子と、水素原子とからなる基をいう。ヘテロ原子としては、エーテル性酸素原子（Ｃ−Ｏ−ＣのＯ）が特に好ましい。ヘテロ原子は、炭化水素基の炭素−炭素原子間または前記炭化水素基の結合末端に存在するのが好ましい。
ヘテロ原子含有炭化水素基としては、化合物の有用性、入手しやすさ、製造しやすさ、および生成物の有用性の点から、１価の基としてはエーテル性酸素原子を含むアルキル基（たとえば、アルコキシアルキル基等。）が好ましく、２価の基としてはエーテル性酸素原子を含むアルキレン基（たとえば、ポリオキシアルキレン基）が好ましい。
アルコキシアルキル基としては、アルコキシ基部分の炭素数が１〜１０である基が好ましい。アルコキシアルキル基としては、エトキシメチル基、１−プロポキシエチル基、２−プロポキシエチル基等が挙げられる。ポリオキシアルキレン基としては、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基が好ましい。
ハロゲノ（ヘテロ原子含有炭化水素）基とは、前記ヘテロ原子含有炭化水素基の水素原子の１個以上が、ハロゲン原子に置換された基、をいう。１価の基としてはフルオロ（アルコキシアルキル）基またはフルオロ（部分クロロ（アルコキシアルキル））基が好ましく、ペルフルオロ（アルコキシアルキル）基またはペルフルオロ（部分クロロ（アルコキシアルキル））基がとりわけ好ましい。２価の基としては、フルオロ（ポリオキシアルキレン）基が好ましく、特にペルフルオロ（ポリオキシアルキレン）基、が好ましい。
本発明においては、エステル結合が分解反応されうる含フッ素エステル化合物のエステル結合を分解する。エステル結合が分解されうる含フッ素エステル化合物としては、エステル結合を形成する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合した部分構造（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＣＦ−）を有する化合物が挙げられる。この部分構造中のフッ素原子が結合する炭素原子には、さらに結合手が存在する。該結合手には、１価原子（フッ素原子が入手しやすさの点で好ましい。）または１価有機基（トリフルオロメチル基が入手しやすさの点で好ましい。）が結合していてもよい。または、該フッ素原子が結合する炭素原子は環を形成する炭素原子であってもよい。また、含フッ素エステル化合物中の該部分構造は１個以上であり、１〜１０個が好ましく、特に化合物の有用性の観点や反応操作のしやすさの点から１または２個が好ましい。
以下、分解されうるエステル結合が１個である化合物を例に挙げて説明する。分解されうるエステル結合が１個である含フッ素エステル化合物としては、下記化合物（４）が好ましい。
ＲＣＦＣＯＯＣＦＲＡＦＲＢＦ（４）
ここで、ＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦは前記のとおりである。化合物（４）は実質的にペルフルオロ化された化合物であるのが好ましい。実質的にペルフルオロ化された化合物とは、フッ素化されない水素原子が存在したとしても、化合物としての性質がペルフルオロ化された化合物と同等である化合物をいう。さらにＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦは、ペルフルオロ１価飽和炭化水素基、ペルフルオロ（部分クロロ（１価飽和炭化水素））基、ペルフルオロ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基、ペルフルオロ（部分クロロ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素））基が好ましく、ＲＡＦにおいては、前記に加えてフッ素原子もまた好ましい。
さらにＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦとしては、ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロ（部分クロロアルキル））基、ペルフルオロアルコキシアルキル基、ペルフルオロ（部分クロロ（アルコキシアルキル））基が特に好ましく、またＲＡＦにおいては、前記に加えてフッ素原子もまた好ましい。
また、ＲＡＦとＲＢＦは共同で、ペルフルオロ２価飽和炭化水素基、ペルフルオロ（部分ハロゲノ（２価飽和炭化水素））基、ペルフルオロ（エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素）基、またはペルフルオロ（部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素））基が好ましく、特にペルフルオロアルキレン基、ペルフルオロ（部分クロロアルキレン））基、ペルフルオロアルキレンオキシアルキレン基、またはペルフルオロ（部分クロロ（アルキレンオキシアルキレン））基が好ましい。
化合物（４）の具体例としては下式で表わされる化合物が挙げられる。ただし、下記式中、ＣｙＦはペルフルオロシクロヘキシル基、Ｒ１ＦおよびＲ２Ｆはそれぞれ独立してフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示す。
本発明においては、該含フッ素エステル化合物のエステル結合を分解する。エステル結合の分解反応の条件や方法は、含フッ素エステル化合物の種類や目的とする含フッ素化合物（目的化合物が、化合物（５）であるのか化合物（６）であるのか等。）により適宜変更されうる。また、このエステル結合の分解反応は、含フッ素エステル化合物を反応域に連続供給し、分解反応生成物を反応域から連続的に抜き出しながら行われる。
本発明の反応は、溶媒を実質的に用いずに反応を行う。ここで、溶媒とは、反応に関与する化合物（すなわち、含フッ素エステル化合物およびその分解反応生成物）以外の液状混合物をいう。
含フッ素エステル化合物の供給速度と、分解反応の反応生成物の抜き出し速度は、含フッ素エステル化合物の反応性、装置の種類、反応条件等により適宜変更されうる。たとえば含フッ素エステル化合物がエステル結合の分解反応温度よりも低沸点の化合物である場合には、気相反応の反応形式でエステル結合の分解反応を行うことができる。
気相反応の反応形式で実施する場合には、ＫＦを固定床または流動層とする反応装置内に、気体の含フッ素エステル化合物を通過させればよい。一方、含フッ素エステル化合物の沸点がエステル結合の分解反応温度以上である場合には、液相反応の反応方式で行うのが好ましい。液相反応の反応形式で実施する場合には、反応槽中にＫＦと含フッ素エステル化合物を充填して撹拌し、そこに含フッ素エステル化合物を供給して反応を行うのが好ましい。このとき分解反応生成物を効率よく抜き出すために、反応温度は目的とする分解反応生成物の沸点以上にするのが好ましい。さらにこの場合、蒸留等を付けた反応装置を用いて、反応と蒸留を同時に行うことにより、反応生成物を反応の場から連続的に留去しながら反応を行うのが好ましい。エステル結合の分解反応生成物は、通常は化合物（４）よりも低沸点となるので、蒸留により連続的に効率良く抜き出すことができる。
エステル結合の分解反応は、ＫＦの存在下に行う。ＫＦは求核剤として作用し、ＫＦに由来するＦ−は、化合物（４）のエステル結合中に存在するカルボニル基に求核的に付加し、ＲＡＦＲＢＦＣＦＯ−が脱離すると共に化合物（６）が生成する。ＲＡＦＲＢＦＣＦＯ−からはさらにＦ−が脱離して化合物（５）が生成する。脱離したＦ−は別の化合物（４）の分子と同様に反応する。したがって、反応の最初に用いるＫＦは触媒量であってもよく、過剰に用いてもよい。すなわち、ＫＦの量は化合物（４）に対して１〜５００モル％が好ましく、とりわけ５〜５０モル％が好ましい。
本発明においては、ＫＦを用いて反応を行うことにより、ＮａＦ等の他のアルカリ金属フッ化物を用いる場合よりも低い温度で効率的に分解反応生成物が得られる。反応温度の上限は２００℃であり、１５０℃が好ましく、１００℃が特に好ましい。気相反応における反応温度の下限は分解反応の反応生成物の沸点であるのが好ましく、特に−２０℃であるのが好ましい。本発明のエステル結合の分解反応は、低い反応温度で実施できることから、製造上有利であり、工業的製造方法として適した方法である。
また、含フッ素エステル化合物が分解反応条件において液体状であった場合には、該化合物自身が液相を形成することから溶媒を必要としない。また気体状であった場合には溶媒を用いずに反応ができる。すなわち、従来のエステル結合の分解反応が、溶媒の存在下に液相で行われていたのに対して、本発明の方法は、溶媒を実質的に用いることなく無溶媒で実施できるため容積効率や副生物抑制の観点から有利である。また気相反応で実施する場合にも液相反応で実施する場合にも低い反応温度で反応を実施できる。
さらに、本発明の方法によればＫＦの存在下に反応を行うことにより、エステル結合の分解反応の反応速度が顕著に向上する。よって、分解反応を連続的に行った場合の単位時間当たりの目的化合物の製造量が飛躍的に向上し、生産効率の点において極めて有利である。
本発明においては、エステル結合の分解反応の反応生成物から目的とする化合物を得る。該反応生成物中としては、末端構造が−ＣＯＦである化合物や、ケトン化合物が挙げられ、たとえば、化合物（４）のエステル結合の分解反応では、下記化合物（５）および／または化合物（６）が生成しうる。
ＲＡＦＲＢＦＣ＝Ｏ （５）
ＲＣＦＣＯＦ （６）
ここで、ＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦは、化合物（４）に対応する同一の基であり、好ましい態様も同一である。
化合物（５）の具体例としては、下記化合物が挙げられる。化合物（６）の具体例としては、化合物（５）の上記具体例として挙げた化合物のうち、Ｒ１Ｆがフッ素原子である化合物が挙げられる。ただし、下記式中Ｒ１Ｆはフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示す。
さらに、化合物（５）におけるＲＡＦがフッ素原子である場合には、エステル結合の分解反応により生成する化合物（５）と化合物（６）とが同一構造になるようにするのが好ましい。化合物（５）と化合物（６）とが同一構造である場合には、分解反応生成物の精製工程を大幅に簡略化でき、効率的な製造方法が達成できる。
このような、化合物（４）としては、下記化合物（４Ａ）が好ましい。化合物（４Ａ）は後述する化合物（３Ａ）のフッ素化反応により入手できる。
ＲＢＦＣＯＯＣＦ２ＲＢＦ （４Ａ）
ただし、ＲＢＦは上記と同じ意味を示し、好ましい態様も同じである。
化合物（４）の入手方法としては、化合物（１）と化合物（２）とを反応させて化合物（３）とし、該化合物（３）を液相中でフッ素と反応させることにより製造された化合物（４）が好ましい。該方法は、本発明者らによるＷＯ００／５６６９４の方法にしたがって実施でき、任意の構造の化合物が入手できる。
化合物（１）としては、フッ素を含まないアルコール類が容易に入手できる理由から、ＲＡおよびＲＢとしては、水素原子、１価飽和炭化水素基、部分クロロ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、または部分クロロ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基が好ましく、ＲＡとしては前記に加えて水素原子も好ましい。さらにＲＡおよびＲＢとしては、アルキル基、部分クロロアルキル基、アルコキシアルキル基、部分クロロアルコキシアルキル基が特に好ましく、ＲＡとしては前記に加えて水素原子もまた好ましい。
または、化合物（１）のＲＡとＲＢは共同で、２価飽和炭化水素基、部分クロロ（２価飽和炭化水素）基、エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素基、部分クロロ（エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素）基を形成しているのが好ましく、特にアルキレン基、部分クロロアルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基、部分クロロ（アルキレンオキシアルキレン）基を形成しているのが好ましい。化合物（１）は、種々の構造の化合物が容易に入手できる理由から、化合物（４）の構造に応じた化合物（１）を容易に入手して、任意の構造を有する化合物（４）を容易に製造できる。
化合物（１）の具体例として下記式で表わされる化合物が挙げられる。ただし、下記式中、Ｃｙはシクロヘキシル基を示し、Ｒ１は水素原子またはメチル基を示す。
また、化合物（２）におけるＲＣはフッ素原子を有する１価有機基であるのが好ましく、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基が好ましく、特にペルフルオロ１価飽和炭化水素基、ペルフルオロ（部分クロロ（１価飽和炭化水素））基、ペルフルオロ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基、ペルフルオロ（部分クロロ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素））基が好ましく、とりわけペルフルオロアルキル基、ペルフルオロ（部分クロロアルキル）基、ペルフルオロアルコキシアルキル基、ペルフルオロ（部分クロロ（アルコキシアルキル））基が好ましい。
化合物（２）の具体例としては、化合物（６）と同様の化合物が挙げられる。ＲＡＦがフッ素原子である化合物（５）を得る場合において、化合物（１）としては、下記化合物（１Ａ）が、化合物（２）としては下記化合物（２Ａ）が好ましく、化合物（１Ａ）と化合物（２Ａ）の反応では下記化合物（３Ａ）が生成する。
ＲＢＣＨ２ＯＨ （１Ａ）
ＲＢＦＣＯＦ （２Ａ）
ＲＢＣＯＯＣＨ２ＲＢＦ（３Ａ）
つぎに、化合物（１）と化合物（２）との反応により生成する化合物（３）を液相中でフッ素と反応させることにより化合物（４）を得る。化合物（１）と化合物（２）との反応は、公知のエステル反応の方法および条件を適用して実施できる。
化合物（１）と化合物（２）との反応では、ＨＦが発生するため、ＨＦ捕捉剤としてアルカリ金属フッ化物（ＮａＦ、ＫＦが好ましい）やトリアルキルアミンを反応系中に存在させてもよい。ＨＦ捕捉剤は、化合物（１）または化合物（２）が酸に不安定な化合物である場合には、使用した方がよい。また、ＨＦ捕捉剤を使用しない場合には、ＨＦを窒素気流に同伴させて反応系外に排出するのが好ましい。アルカリ金属フッ化物を用いる場合は、化合物（２）に対して１〜１０倍モルとするのが好ましい。
化合物（１）と化合物（２）との反応温度は、通常の場合、−５０℃以上であるのが好ましく、＋１００℃以下または溶媒の沸点温度以下が好ましい。また該反応の反応時間は、原料の供給速度と、反応に用いる化合物量に応じて適宜変更され得る。反応圧力（ゲージ圧、以下同様）は０〜２ＭＰａが好ましい。
化合物（１）と化合物（２）の量比は、化合物（１）に対する化合物（２）の量を０．５〜５倍モルとするのが好ましく、特に１〜２倍モルとするのが好ましい。
化合物（１）と化合物（２）との反応で生成した化合物（３）を含む粗生成物は、目的に応じて精製を行っても、そのまま、つぎの反応等に用いてもよく、次の工程におけるフッ素化反応を安定に行う観点から、分離精製するのが望ましい。
化合物（１）と化合物（２）を反応させて得られる化合物（３）のフッ素含有量（フッ素含有量とは、分子量に対するフッ素原子の質量の割合）は３０質量％以上であることが好ましい。このフッ素含有量は、好ましくは３０〜８４質量％であり、特に３０〜７６質量％であるのが好ましい。フッ素含有量が少なすぎると化合物（３）の液相中への溶解性が極端に低くなり、フッ素化反応の際の反応系が不均一になり、連続反応で実施するときに化合物（３）をうまく反応系中にフィードできない問題が生じる。また、フッ素含有量の上限は特に限定されないが、あまりに高すぎるものは、入手が困難であり、価格が高く経済的ではない。
また、化合物（３）の分子量は２００〜１０００であるのが、気相中での好ましくないフッ素化反応を防止し、液相中でのフッ素化反応を円滑に行い得る点で好ましい。分子量が小さすぎると、化合物（３）が気化し易くなるため、液相でのフッ素化反応時に気相中で分解反応が起こる恐れがある。一方、分子量が大きすぎると、化合物（３）の精製が困難になる恐れがある。
化合物（３）の具体例として下記式で表わされる化合物が挙げられる。ただし、下記式中、Ｃｙはシクロアルキル基を示し、Ｒ１は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ２Ｆはフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示す。
上記化合物（３）は、次いでフッ素化して化合物（４）を得る。このフッ素化は、化合物（３）を液相中でフッ素と反応させるフッ素化反応により行われる。ここでいうフッ素化反応とは、化合物（３）の分子中に少なくともフッ素原子が１原子結合する反応である。化合物（４）におけるＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦは、化合物（３）における置換基ＲＡ、ＲＢ、ＲＣにそれぞれ対応する基であり、これらの基においてはフッ素化反応の前後で炭素原子の並び方に変更はない。また、化合物（４）のＲＡＦ、ＲＢＦ、またはＲＡＦとＲＢＦから形成される２価有機基は、それぞれＲＡ、ＲＢ、またはＲＡとＲＢから形成される２価有機基と異なる基であるのが好ましく、これらの基がフッ素化された基であるのが好ましい。フッ素化反応では、炭素原子に結合する水素原子がフッ素に置換される。また炭素−炭素不飽和結合には、フッ素原子が付加する。該フッ素化反応は、フッ素化されうる構造の一部におきても、全部におきてもよく、全部におきるのが好ましい。
化合物（４）は、ＲＡＦが１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基またはフッ素原子であるのが好ましく、フッ素原子またはＲＡに存在する水素原子の全てがフッ素化された基であるのが特に好ましい。また、ＲＢＦが１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であるのが好ましく、ＲＢに存在する水素原子の全てがフッ素化された基であるのが特に好ましい。ＲＣＦはＲＣと同一の基であって、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であるのが好ましく、特に全てがフッ素化されたこれらの基であるのが好ましい。
化合物（３）を液相中でフッ素化する場合には、フッ素ガスを、化合物（３）が存在する溶媒中に導入して行うのが好ましい。フッ素ガスは、そのままを用いても、不活性ガスで希釈されたフッ素ガスを用いてもよい。不活性ガスとしては、窒素ガス、ヘリウムガスが好ましく、経済的な理由から窒素ガスが特に好ましい。窒素ガス中のフッ素ガス量は特に限定されず、１０体積％以上とするのが効率の点で好ましく、２０体積％以上とするのが特に好ましい。
液相としては、フッ素（Ｆ２）を溶解し得る溶媒を用いるのが好ましい。該溶媒としては、Ｃ−Ｈ結合を含まずＣ−Ｆ結合を必須とする溶媒が好ましく、さらに、ペルフルオロアルカン類、または、塩素原子、窒素原子、および酸素原子から選ばれる１種以上の原子を構造中に有する公知の有機溶剤をペルフルオロ化した有機溶剤が好ましい。さらに、溶媒としては、化合物（３）の溶解性が高い溶媒を用いるのが好ましく、特に化合物（４）、化合物（５）または化合物（６）を用いると反応後の後処理が容易になる利点があり好ましい。
溶媒の使用量は、化合物（３）に対して、５倍質量以上が好ましく、特に１０〜１００倍質量が好ましい。
フッ素化反応の反応形式は、バッチ方式より連続方式が好ましく、特に、反応収率と選択率の点から、つぎの連続方法が好ましい。すなわち反応器に溶媒を仕込み、撹拌を開始する。次に、所定の反応温度と反応圧力下で、化合物（３）とフッ素ガスとを反応器中の液相に所定のモル比で連続的かつ同時に供給する連続方法である。化合物（３）を供給する際には、溶媒で希釈してもしなくてもよいが、選択率を向上させ、副生成物量を抑制させるためには、溶媒で希釈した化合物（３）を供給することが好ましい。また、化合物（３）を溶媒で希釈する際には、化合物（３）に対する溶媒の量を５倍質量以上とするのが好ましく、特に１０倍質量以上とするのが好ましい。
フッ素化反応に用いるフッ素量は、バッチ方式で反応を実施する場合にも連続方式で実施する場合にも、化合物（３）中の水素原子に対して、フッ素の量が常に過剰当量となるようにフッ素を用いるのが好ましく、特に１．５倍当量以上（すなわち、１．５倍モル以上）となるようにフッ素を用いるのが選択率の点から好ましい。フッ素量の上限は３．０倍モル以下であるのが好ましい。
フッ素化反応の反応温度は、通常は−６０℃以上かつ化合物（３）の沸点以下が好ましく、反応収率、選択率、および工業的実施のし易さの点から−５０℃〜＋１００℃が特に好ましく、−２０℃〜＋５０℃がとりわけ好ましい。フッ素化反応の反応圧力は特に限定されず、０〜２ＭＰａ（ケージ圧。以下同様。）が、反応収率、選択率、工業的な実施のし易さの観点から特に好ましい。
さらに、フッ素化を効率的に進行させるためには、反応系中にＣ−Ｈ結合含有化合物を添加する、または、紫外線照射を行う、のが好ましい。すなわち、フッ素化反応後期にＣ−Ｈ結合含有化合物を反応系中に添加する、または、反応の後段において紫外線照射を行う、のが好ましい。これにより、反応系中に存在する化合物（３）を効率的にフッ素化でき、反応率を飛躍的に向上させ得る。
Ｃ−Ｈ結合含有化合物としては、特にベンゼン、トルエン等が好ましい。該Ｃ−Ｈ結合含有化合物の添加量は、化合物（３）中の水素原子に対して０．１〜１０モル％であるのが好ましく、特に０．１〜５モル％であるのが好ましい。
Ｃ−Ｈ結合含有化合物は、反応系中にフッ素ガスが存在する状態で添加するのが好ましい。さらに、Ｃ−Ｈ結合含有化合物を加えた場合には、反応系を加圧するのが好ましい。加圧時の圧力としては、０．０１〜５ＭＰａが好ましい。
フッ素化反応においては、ＨＦが副生するため、ＨＦを除去する目的で反応系中にＨＦ捕捉剤を共存させる、または反応器ガス出口でＨＦ捕捉剤と出口ガスを接触させるのが好ましい。該ＨＦ捕捉剤としては、ＮａＦが好ましい。反応系中にＨＦ捕捉剤を共存させる場合の量は、化合物（３）中に存在する全水素原子量に対して１〜２０倍モルが好ましく、１〜５倍モルがさらに好ましい。反応器ガス出口にＨＦ捕捉剤をおく場合には、（イ）冷却器（１０℃〜室温に保持するのが好ましく、特には２０℃程度に保持するのが好ましい。）（ロ）ＮａＦペレット充填層、および（ハ）冷却器（−７８℃〜＋１０℃に保持するのが好ましく、−３０℃〜０℃に保持するのがさらに好ましい）を（イ）−（ロ）−（ハ）の順に直列に設置するのが好ましい。なお、（ハ）の冷却器からは凝集した液を反応器に戻すための液体返送ラインを設置してもよい。
この化合物（３）のフッ素化は、この化合物（３）が実質的にペルフルオロ化されるまで、特にはペルフルオロ化されるまで行うのが好ましい。
また、フッ素化反応で得た化合物（４）を含む粗生成物は、そのまま次の工程に用いてもよく、精製して高純度のものにしてもよい。精製方法としては、粗生成物をそのまま常圧または減圧下に蒸留する方法等が挙げられる。
本発明の製造方法によって、化合物（５）および／または化合物（６）を得る工業的なプロセスとしての最良の方法は、以下の方法である。
すなわち、化合物（１Ａ）と化合物（２Ａ）を反応させて化合物（３Ａ）とし、該化合物（３Ａ）を液相中でフッ素と反応させて化合物（４Ａ）とし、該化合物（４Ａ）において、上記エステル結合の分解反応を行った反応生成物から化合物（２Ａ）を得る方法である。さらに化合物（２Ａ）を再び化合物（１Ａ）と反応させれば、化合物（２Ａ）を連続的に効率良く製造できる。
＜実施例＞
以下に本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、これらによって本発明は限定されない。なお、以下において、１，１，２−トリクロロトリフルロオエタンをＲ−１１３、ガスクロマトグラフィをＧＣと記す。
［例１（実施例）］
２Ｌ容量の撹拌機付きステンレス製オートクレーブに純度９７％のＣＦ３（ＣＦ２）２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＣＦ３粗液（以下「ペルフルオロエステル粗液」と略す。１８００ｇ）、さらにスプレードライ法で製造したＫＦ粉末（３０ｇ）を仕込み、撹拌しながら７０℃まで昇温した。所定温度に達したところでペルフルオロエステル粗液を１１５ｇ／ｈの速度で連続フィードした。反応器上部に備え付けた６０℃で加温したステンレス製のジャケット付きカラムを通して発生するガスを連続的に抜き出し、ドライアイストラップで捕捉した。捕捉した生成物の重量とＧＣによる分析からＣＦ３（ＣＦ２）２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦ（以下「（ＨＦＰＯ）２」と略す。）が１１０ｇ／ｈの速度で生成していることを確認した。（ＨＦＰＯ）２の収率は９９％であった。
［例２（実施例）］
反応温度を７３℃、ペルフルオロエステル粗液のフィード量を２１５ｇ／ｈとすること以外は例１と同様に操作を行った。ドライアイストラップで捕捉した生成物の重量とＧＣによる分析から（ＨＦＰＯ）２が２６０ｇ／ｈの速度で生成していることを確認した。（ＨＦＰＯ）２の収率は９９％であった。
［例３（比較例）］
例１と同じ装置を用いて反応器にペルフルオロエステル粗液を１７００ｇ、ＮａＦ粉末（森田化学工業（株）製）を５５ｇ仕込み、撹拌しながら１４０℃まで昇温した。ＮａＦ粉末は、使用前に１２０℃で２時間熱処理を行った。所定温度に達したところでペルフルオロエステル粗液を６０ｇ／ｈの速度で連続フィードした。ドライアイストラップで捕捉した生成物の重量とＧＣによる分析から（ＨＦＰＯ）２が５７ｇ／ｈの速度で生成していることを確認した。（ＨＦＰＯ）２の収率は９９％であった。
［例４（実施例）］ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３の製造例
（例４−１）ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３の製造例
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＨ（６２０ｇ）をフラスコに入れ、窒素ガスをバブリングしながら撹拌した。ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦ（３６０４ｇ）を内温を２５〜３５℃に保ちながら８時間かけて滴下した。滴下終了後、標記化合物とＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとを含む反応混合物に、窒素ガスをバブリングし続けながら室温で２時間撹拌した。得られた反応混合物を例４−２の反応に用いた。
（例４−２）ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３の製造例
３０００ｍＬのニッケル製オートクレーブに、例４−１で得たＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦ（２３４０ｇ）を加えて撹拌し、２５℃に保った。オートクレーブガス出口には、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。なお、−１０℃に保持した冷却器からは凝集した液をオートクレーブに戻すための液体返送ラインを設置した。窒素ガスを１．５時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、希釈フッ素ガスと略記する。）を流速８．９１Ｌ／ｈで３時間吹き込んだ。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例４−１で得た反応混合物（１０６ｇ）を４５．６時間かけて注入した。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、ベンゼン濃度が０．０１ｇ／ｍＬであるＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦ溶液（１８ｍＬ）を２５℃から４０℃にまで昇温しながら注入し、オートクレーブのベンゼン注入口バルブを閉じ、さらにオートクレーブの出口バルブを閉じ、圧力が０．２ＭＰａになったところで、オートクレーブのフッ素ガス入口バルブを閉めて１時間撹拌を続けた。つぎに圧力を常圧にし、反応器内温度を４０℃に保ちながら、上記のベンゼン溶液（６ｍＬ）を注入し、オートクレーブのベンゼン注入口バルブを閉じ、さらにオートクレーブの出口バルブを閉じ、圧力が０．２ＭＰａになったところで、オートクレーブのフッ素ガス入口バルブを閉めて１時間撹拌を続けた。さらにベンゼンの注入操作を同様に１回くり返した。
ベンゼンの注入総量は０．３０９ｇ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの注入総量は３０ｍＬであった、さらに、窒素ガスを２．０時間吹き込んだ。反応後、蒸留精製して標記化合物（８５．３ｇ）とＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとを含む生成物を得た。
［例５］
（例５−１）下記化合物の製造例
テトラハイドロフルフリルアルコール（２０ｇ）とトリエチルアミン（２１．８ｇ）をフラスコに入れ、氷浴下撹拌した。ＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３（７１．５ｇ）を内温を１０℃以下に保ちながら１時間かけて滴下した。滴下終了後、室温で２時間撹拌し、水５０ｍＬを内温１５℃以下で加えた。
得られた粗液を分液し、下層を水５０ｍＬで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。減圧蒸留で目的のエステル化合物（６６．３ｇ）を８８〜８９℃／２．７ｋＰａの留分として得た。ＧＣ純度は９８％であった。
（例５−２）下記化合物の製造例
３０００ｍＬのニッケル製オートクレーブに、Ｒ−１１３（１６１４ｇ）を加えて撹拌し、２５℃に保った。オートクレーブガス出口には、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。なお、−１０℃に保持した冷却器からは凝集した液をオートクレーブに戻すための液体返送ラインを設置した。窒素ガスを１．０時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、希釈フッ素ガスと略記する。）を流速１７．０４Ｌ／ｈで１時間吹き込んだ。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例５−１で得た反応粗液（５４ｇ）をＲ−１１３（５１０ｇ）に溶解した溶液１４．７時間かけて注入した。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、なおかつ反応器圧力を０．１５ＭＰａに保ちながら、ベンゼン濃度が０．０５ｇ／ｍＬのＲ−１１３溶液を２５℃から４０℃にまで昇温しながら３０ｍＬ注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、０．３時間撹拌を続けた。つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、反応器圧力を０．１５ＭＰａに、反応器内温度を４０℃に保ちながら、上記のベンゼン溶液を２０ｍＬ注入し、０．３時間撹拌を続けた。同様の操作を３回くり返し、さらに２．０時間撹拌を続けた。ベンゼンの注入総量は５．００ｇ、Ｒ−１１３の注入総量は１１１ｍＬであった。目的物を１９Ｆ−ＮＭＲで定量（内部標準：Ｃ６Ｆ６）したところ、標記化合物の収率は７５％であった。
（例５−３）下記化合物の製造例
例５−２で得た反応粗液５６．５ｇを０．９５ｇのＫＦ粉末と共にフラスコに仕込み、激しく撹拌を行いながらオイルバス中で９０〜１１０℃で４時間加熱した。フラスコ上部には５℃に温度調節した還流器を設置し、還流器出口にてドライアイス・エタノールトラップにて液状サンプルを回収した。冷却後４４．０ｇの液状サンプルを回収した。ＧＣ−ＭＳにより分析した結果、ＣＦ３ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＣＯＦ及び標記化合物が主生成物として確認された。ＮＭＲにより標記化合物の収率を求めたところ、８７％であった。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２６．３（１Ｆ），−８２．８（１Ｆ），−８３．６（１Ｆ），−１１８．１（１Ｆ），−１２５．９（１Ｆ），−１２６．８（１Ｆ），−１２９．３（１Ｆ），−１３４．８（１Ｆ）。
［例６］
（例６−１）化合物Ａ−２および化合物Ｂ−２の製造例
化合物Ａ−１と化合物Ｂ−１の５９：４１（モル比）の混合物（１００．０ｇ）とトリエチルアミン（１０．７ｇ）をフラスコに入れ、内温１０℃以下で撹拌した。ＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３（３５１．０ｇ）を、内温を１０℃以下に保ちながら、４００分かけて滴下した。滴下終了後、室温で１時間撹拌し、水（５００ｍＬ）を内温を１５℃を超えないようにしながら添加した。得られた粗液にジクロロペンタフルオロプロパン（１０００ｍＬ、旭硝子社製商品名：ＡＫ２２５）を加えて分液し、下層を得た。さらに下層を水（５００ｍＬ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。粗液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留して、５９〜６２℃／０．４ｋＰａの留分（３２８．０ｇ）を得た。ＧＣ純度は、９９．６％であった。
［例６−２］化合物Ａ−３および化合物Ｂ−３の製造例
例５−２と同じ反応装置を用い、Ｒ−１１３（１７０１ｇ）を加えて撹拌し、２５℃に保った。希釈フッ素ガスを流速１７．０４Ｌ／ｈで１時間吹き込んだ。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例６−１で得た反応粗液（１１５ｇ）をＲ−１１３（８６３ｇ）に溶解した溶液２４．８時間かけて注入した。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、なおかつ反応器圧力を０．１５ＭＰａに保ちながら、ベンゼン濃度が０．０４ｇ／ｍＬのＲ−１１３溶液を２５℃から４０℃にまで昇温しながら３０ｍＬ注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、０．３時間撹拌を続けた。つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、反応器圧力を０．１５ＭＰａに、反応器内温度を４０℃に保ちながら、上記のベンゼン溶液を２０ｍＬ注入し、０．３時間撹拌を続けた。同様の操作を１回くり返し、さらに１．０時間撹拌を続けた。ベンゼンの注入総量は３．１４ｇ、Ｒ−１１３の注入総量は７０ｍＬであった。目的物を１９Ｆ−ＮＭＲで定量（内部標準：Ｃ６Ｆ６）したところ、化合物Ａ−３の収率は６８％、化合物Ｂ−３の収率は９３％であった。
［例６−３］下記化合物Ｂ−４の製造例
例５−３と同じ反応装置を用いて反応を行った。例６−２で得た反応粗液１３５．１ｇを２．９８ｇのＫＦ粉末と共にフラスコに仕込み、激しく撹拌を行いながらオイルバス中で９１℃で５時間加熱した。還流器出口で１１８．８ｇの液状サンプルを回収した。ＧＣ−ＭＳにより分析した結果、ＣＦ３ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＣＯＦ及び標記化合物が主生成物として確認された。ＮＭＲにより標記化合物の収率を求めたところ、標記化合物Ａ−４の収率は６２％、化合物Ｂ−４の収率は８３％であった。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３、内部標準：Ｃ６Ｆ６）δ（ｐｐｍ）
化合物Ａ−４：−５１．２（２Ｆ），−７９．９（４Ｆ）。
化合物Ｂ−４：２６．２（１Ｆ），−５３．０（１Ｆ），−５７．６（１Ｆ），−７６．８（１Ｆ），−８７．７（１Ｆ），−１１７．８（１Ｆ）。
＜産業上の利用の可能性＞
本発明の方法によれば、含フッ素エステル化合物のエステル結合を、低い反応温度で分解させることができる。しかも、本発明の方法によれば、反応温度が低くしても反応速度を低下させずに、予想外の速い反応速度で、効率良く反応を実施できる。すなわち、本発明の方法は、工業的実施において、きわめて有利な方法である。
さらに本発明によれば、任意の含フッ素エステル化合物を有利な方法で製造しながら、エステル結合の分解反応が実施できる。
本発明は、エステル結合分解反応生成物、特には有用な含フッ素化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、含フッ素エステル化合物のエステル結合を効率良く分解して分解反応生成物を製造する方法に関し、さらには、該方法に用いる含フッ素エステル化合物を効率良く製造する方法に関する。
＜背景技術＞
従来より、Ｃ−Ｈ含有化合物中のＣ−Ｈ部分の全てをＣ−Ｆにフッ素化する方法として、三フッ化コバルトを用いる方法、フッ素ガスを用いて直接フッ素化する方法、または、フッ化水素を電気分解してフッ素化反応を行う方法（ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ ｆｌｕｏｒｉｎａｔｉｏｎ、以下「ＥＣＦ法」と称する。）が知られている。これらの方法のうち、フッ素ガスを用いて直接フッ素化する方法には、気相で行う方法と、液相で行う方法が知られている。しかし、気相で行う方法では、フッ素化反応中にＣ−Ｃ単結合の切断が起こり、多種類の副生成物が生じる問題があり、液相で行う方法が有利である（ＷＯ００／５６６９４）。
また、（１）ペルフルオロエステル化合物のエステル結合を２２４〜２５４℃で分解する方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９８，１２０，７１１７）、（２）ペルフルオロエステル化合物をＮａＦの存在下に８０〜２００℃でエステル分解反応する方法（ＵＳ３９００３７２）、（３）ペルフルオロエステルを、溶媒とＮａＦやＫＦの存在下に、バッチ式反応でエステル分解反応する方法（ＵＳ５４６６８７７）、が知られている。
しかし、（１）の文献には、アルカリ金属フッ化物の存在下に反応させることは記載もなく示唆もない。また、（１）の文献に記載される方法は反応温度が高く、反応を実施できる基質が限定される問題がある。（２）や（３）の文献に記載の方法では収率が低く反応速度が低い問題がある。（３）の文献には、溶媒を存在させずに反応を行った場合には、反応が進まない例が記載されている。
＜発明の開示＞
本発明は、上記の問題を解決する目的でなされた発明であり、含フッ素エステル化合物のエステル結合を効果的に分解して連続的に分解反応生成物を製造する方法を提供する。さらに本発明は、該方法に用いる含フッ素エステル化合物をも効率良く製造する方法を提供する。
すなわち本発明は、以下の製造方法を提供する。
１．エステル結合が分解されうる含フッ素エステル化合物のエステル結合を分解することにより分解反応生成物を得る方法において、エステル結合の分解反応を溶媒を実質的に用いずにＫＦの存在下に２００℃以下の反応温度で行い、かつ、前記含フッ素エステル化合物を反応域に連続供給し、分解反応生成物を反応域から連続的に抜き出しながら反応を行うことを特徴とする分解反応生成物の製造方法。
２．含フッ素エステル化合物が式（４）で表される化合物であり、分解反応生成物が式（５）で表される化合物および／または式（６）で表される化合物である上記製造方法。
ＲＣＦＣＯＯＣＦＲＡＦＲＢＦ（４）
ＲＡＦＲＢＦＣ＝Ｏ （５）
ＲＣＦＣＯＦ （６）
ここで、ＲＡＦはフッ素原子または１価有機基であり、ＲＢＦは１価有機基であり、またはＲＡＦとＲＢＦは互いに結合して２価有機基を形成していてもよく、ＲＣＦは１価有機基であり、かつ、ＲＡＦ、ＲＢＦ、およびＲＣＦから選ばれる少なくとも１つの基中にはフッ素原子が存在する。
３．式（４）で表される化合物が、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物とを反応させて式（３）で表される化合物とし、該式（３）で表される化合物を液相中でフッ素と反応させることにより製造された化合物である上記製造方法。
ＨＯＣＨＲＡＲＢ （１）
ＲＣＣＯＸ （２）
ＲＣＣＯＯＣＨＲＡＲＢ （３）
ここで、ＲＡＦがフッ素原子である場合のＲＡは水素原子であり、ＲＡとＲＡＦとが同一の１価有機基である場合のＲＡはフッ素化されない１価有機基であり、ＲＡとＲＡＦとが異なる１価有機基である場合のＲＡはフッ素化される１価有機基であり、ＲＢとＲＢＦとが同一の１価有機基である場合のＲＢはフッ素化されない１価有機基であり、ＲＢとＲＢＦとが異なる１価有機基である場合のＲＢはフッ素化される１価有機基である。
また、ＲＡＦとＲＢＦが互いに結合して２価有機基を形成している場合のＲＡとＲＢは、互いに結合して２価有機基を形成しており、ＲＡとＲＢから形成される２価有機基が、ＲＡＦとＲＢＦから形成される２価有機基と同一である場合のＲＡとＲＢから形成される２価有機基はフッ素化されない２価有機基であり、異なる場合のＲＡとＲＢから形成される２価有機基はフッ素化される２価有機基である。
ＲＣとＲＣＦとが同一の１価有機基である場合のＲＣはフッ素化されない１価有機基であり、ＲＣとＲＣＦとが異なる１価有機基である場合のＲＣはフッ素化される１価有機基である。
Ｘはハロゲン原子である。
４．式（３）で表わされる化合物のフッ素原子含有量が３０〜８４質量％である上記製造方法。
５．ＲＡが、水素原子、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、または部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基）基であり、ＲＡＦがフッ素原子またはＲＡに存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であり、
ＲＢが、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、または部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基であり、ＲＢＦがＲＢに存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であり、
または、ＲＡとＲＢが互いに結合して２価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ２価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素基、または部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素）基を形成し、ＲＡＦとＲＢＦがＲＡとＲＢから形成される基中の水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であり、
ＲＣおよびＲＣＦが同一の基であって、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基の基中に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基である上記製造方法。
６．式（３）で表わされる化合物の分子量が２００〜１０００である上記製造方法。
７．エステル結合の分解反応を液相反応で行う上記製造方法。
８．エステル結合の分解反応を、分解反応生成物の沸点以上であり、かつ１００℃以下の反応温度で気相反応で行う上記製造方法。
＜発明を実施するための最良の形態＞
本明細書の以下の説明においては、式（４）で表される化合物を化合物（４）のように記す。他の式で表される化合物についても同様に記す。
本明細書において、有機基とは、炭素原子を必須とする基をいい、飽和、不飽和のいずれの構造のものも含む。
有機基としては、炭化水素基、ハロゲノ炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、またはハロゲノ（ヘテロ原子含有炭化水素）基が好ましい。これらの有機基は、フッ素化反応時に用いる液相への溶解性の観点からは、炭素数が１〜２０である基が好ましく、特に炭素数が１〜１０である基が好ましい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基であっても芳香族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基が好ましく、飽和の脂肪族炭化水素基が好ましい。１価飽和脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、またはシクロアルキル基が挙げられ、アルキル基の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環である構造のいずれであってもよい。２価飽和炭化水素基としては、アルキレン基またはシクロアルキレン基が挙げられ、アルキレン基の構造は、直鎖構造、分岐構造、または環部分を有する構造、のいずれであってもよい。
アルキル基またはアルキレン基の炭素数は１〜１０が好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロアルキルアルキル基、またはシクロアルキル基部分がさらにアルキル基で置換されたシクロアルキルアルキル基が挙げられる。
また、アルキレン基としては、上記アルキル基の水素原子の１個が結合手となった基が挙げられ、直鎖または分岐構造のアルキレン基が好ましい。
また、シクロアルキル基としては、３〜６員環のシクロアルキル基が挙げられ、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が好ましい。シクロアルキレン基としてはシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基が好ましい。
本明細書において、ハロゲノ基とは、水素原子の１個以上がハロゲン原子に置換された基をいう。ハロゲノ基は、水素原子が存在する基であってもよく、存在しない基であってもよい。部分ハロゲノ基とは水素原子の一部がハロゲン原子に置換された基をいう。すなわち、部分ハロゲノ基は、水素原子が存在する基である。ペルハロゲノ基は水素原子の全てがフッ素化された基であり、水素原子が存在しない基である。ハロゲノ、部分ハロゲノ、ペルハロゲノの用語の意味は、ハロゲン原子が特定された場合においても同様の意味を示す。
ハロゲノ基におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子が好ましく、とりわけ化合物の有用性の観点からフッ素原子のみ、またはフッ素原子と塩素原子からなるのが好ましい。
ハロゲノ炭化水素基とは、炭化水素基中に存在する水素原子の１個以上がハロゲン原子によって置換された基をいう。
１価ハロゲノ飽和炭化水素基としては、フルオロアルキル基またはフルオロ（部分クロロアルキル）基等が好ましく、ペルフルオロアルキル基またはペルフルオロ（部分クロロアルキル）基（すなわち、部分クロロアルキル基中の水素原子の全てがフッ素原子に置換された基）が好ましい。２価ハロゲノ飽和炭化水素基としては、フルオロアルキレン基またはフルオロ（部分クロロアルキレン）基等が好ましく、ペルフルオロアルキレン基またはペルフルオロ（部分クロロアルキレン）基（すなわち、部分クロロアルキレン基中の水素原子の全てがフッ素原子に置換された基）が好ましい。なお、ペルフルオロ（部分フルオロアルキル）基は、ペルフルオロアルキル基と同じであり、ペルフルオロ（部分フルオロアルキレン）基は、ペルフルオロアルキレン基と同じである。
ヘテロ原子含有炭化水素基とは、酸素原子、窒素原子、または硫黄原子等のヘテロ原子と、炭素原子と、水素原子とからなる基をいう。ヘテロ原子としては、エーテル性酸素原子（Ｃ−Ｏ−ＣのＯ）が特に好ましい。ヘテロ原子は、炭化水素基の炭素−炭素原子間または前記炭化水素基の結合末端に存在するのが好ましい。
ヘテロ原子含有炭化水素基としては、化合物の有用性、入手しやすさ、製造しやすさ、および生成物の有用性の点から、１価の基としてはエーテル性酸素原子を含むアルキル基（たとえば、アルコキシアルキル基等。）が好ましく、２価の基としてはエーテル性酸素原子を含むアルキレン基（たとえば、ポリオキシアルキレン基）が好ましい。
アルコキシアルキル基としては、アルコキシ基部分の炭素数が１〜１０である基が好ましい。アルコキシアルキル基としては、エトキシメチル基、１−プロポキシエチル基、２−プロポキシエチル基等が挙げられる。ポリオキシアルキレン基としては、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基が好ましい。
ハロゲノ（ヘテロ原子含有炭化水素）基とは、前記ヘテロ原子含有炭化水素基の水素原子の１個以上が、ハロゲン原子に置換された基、をいう。１価の基としてはフルオロ（アルコキシアルキル）基またはフルオロ（部分クロロ（アルコキシアルキル））基が好ましく、ペルフルオロ（アルコキシアルキル）基またはペルフルオロ（部分クロロ（アルコキシアルキル））基がとりわけ好ましい。２価の基としては、フルオロ（ポリオキシアルキレン）基が好ましく、特にペルフルオロ（ポリオキシアルキレン）基、が好ましい。
本発明においては、エステル結合が分解反応されうる含フッ素エステル化合物のエステル結合を分解する。エステル結合が分解されうる含フッ素エステル化合物としては、エステル結合を形成する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合した部分構造（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＣＦ−）を有する化合物が挙げられる。この部分構造中のフッ素原子が結合する炭素原子には、さらに結合手が存在する。該結合手には、１価原子（フッ素原子が入手しやすさの点で好ましい。）または１価有機基（トリフルオロメチル基が入手しやすさの点で好ましい。）が結合していてもよい。または、該フッ素原子が結合する炭素原子は環を形成する炭素原子であってもよい。また、含フッ素エステル化合物中の該部分構造は１個以上であり、１〜１０個が好ましく、特に化合物の有用性の観点や反応操作のしやすさの点から１または２個が好ましい。
以下、分解されうるエステル結合が１個である化合物を例に挙げて説明する。分解されうるエステル結合が１個である含フッ素エステル化合物としては、下記化合物（４）が好ましい。
ＲＣＦＣＯＯＣＦＲＡＦＲＢＦ（４）
ここで、ＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦは前記のとおりである。化合物（４）は実質的にペルフルオロ化された化合物であるのが好ましい。実質的にペルフルオロ化された化合物とは、フッ素化されない水素原子が存在したとしても、化合物としての性質がペルフルオロ化された化合物と同等である化合物をいう。さらにＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦは、ペルフルオロ１価飽和炭化水素基、ペルフルオロ（部分クロロ（１価飽和炭化水素））基、ペルフルオロ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基、ペルフルオロ（部分クロロ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素））基が好ましく、ＲＡＦにおいては、前記に加えてフッ素原子もまた好ましい。
さらにＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦとしては、ペルフルオロアルキル基、ペルフルオロ（部分クロロアルキル））基、ペルフルオロアルコキシアルキル基、ペルフルオロ（部分クロロ（アルコキシアルキル））基が特に好ましく、またＲＡＦにおいては、前記に加えてフッ素原子もまた好ましい。
また、ＲＡＦとＲＢＦは共同で、ペルフルオロ２価飽和炭化水素基、ペルフルオロ（部分ハロゲノ（２価飽和炭化水素））基、ペルフルオロ（エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素）基、またはペルフルオロ（部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素））基が好ましく、特にペルフルオロアルキレン基、ペルフルオロ（部分クロロアルキレン））基、ペルフルオロアルキレンオキシアルキレン基、またはペルフルオロ（部分クロロ（アルキレンオキシアルキレン））基が好ましい。
化合物（４）の具体例としては下式で表わされる化合物が挙げられる。ただし、下記式中、ＣｙＦはペルフルオロシクロヘキシル基、Ｒ１ＦおよびＲ２Ｆはそれぞれ独立してフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示す。
本発明の反応は、溶媒を実質的に用いずに反応を行う。ここで、溶媒とは、反応に関与する化合物（すなわち、含フッ素エステル化合物およびその分解反応生成物）以外の液状混合物をいう。
含フッ素エステル化合物の供給速度と、分解反応の反応生成物の抜き出し速度は、含フッ素エステル化合物の反応性、装置の種類、反応条件等により適宜変更されうる。たとえば含フッ素エステル化合物がエステル結合の分解反応温度よりも低沸点の化合物である場合には、気相反応の反応形式でエステル結合の分解反応を行うことができる。
気相反応の反応形式で実施する場合には、ＫＦを固定床または流動層とする反応装置内に、気体の含フッ素エステル化合物を通過させればよい。一方、含フッ素エステル化合物の沸点がエステル結合の分解反応温度以上である場合には、液相反応の反応方式で行うのが好ましい。液相反応の反応形式で実施する場合には、反応槽中にＫＦと含フッ素エステル化合物を充填して撹拌し、そこに含フッ素エステル化合物を供給して反応を行うのが好ましい。このとき分解反応生成物を効率よく抜き出すために、反応温度は目的とする分解反応生成物の沸点以上にするのが好ましい。さらにこの場合、蒸留等を付けた反応装置を用いて、反応と蒸留を同時に行うことにより、反応生成物を反応の場から連続的に留去しながら反応を行うのが好ましい。エステル結合の分解反応生成物は、通常は化合物（４）よりも低沸点となるので、蒸留により連続的に効率良く抜き出すことができる。
エステル結合の分解反応は、ＫＦの存在下に行う。ＫＦは求核剤として作用し、ＫＦに由来するＦ−は、化合物（４）のエステル結合中に存在するカルボニル基に求核的に付加し、ＲＡＦＲＢＦＣＦＯ−が脱離すると共に化合物（６）が生成する。ＲＡＦＲＢＦＣＦＯ−からはさらにＦ−が脱離して化合物（５）が生成する。脱離したＦ−は別の化合物（４）の分子と同様に反応する。したがって、反応の最初に用いるＫＦは触媒量であってもよく、過剰に用いてもよい。すなわち、ＫＦの量は化合物（４）に対して１〜５００モル％が好ましく、とりわけ５〜５０モル％が好ましい。
本発明においては、ＫＦを用いて反応を行うことにより、ＮａＦ等の他のアルカリ金属フッ化物を用いる場合よりも低い温度で効率的に分解反応生成物が得られる。反応温度の上限は２００℃であり、１５０℃が好ましく、１００℃が特に好ましい。気相反応における反応温度の下限は分解反応の反応生成物の沸点であるのが好ましく、特に−２０℃であるのが好ましい。本発明のエステル結合の分解反応は、低い反応温度で実施できることから、製造上有利であり、工業的製造方法として適した方法である。
また、含フッ素エステル化合物が分解反応条件において液体状であった場合には、該化合物自身が液相を形成することから溶媒を必要としない。また気体状であった場合には溶媒を用いずに反応ができる。すなわち、従来のエステル結合の分解反応が、溶媒の存在下に液相で行われていたのに対して、本発明の方法は、溶媒を実質的に用いることなく無溶媒で実施できるため容積効率や副生物抑制の観点から有利である。また気相反応で実施する場合にも液相反応で実施する場合にも低い反応温度で反応を実施できる。
さらに、本発明の方法によればＫＦの存在下に反応を行うことにより、エステル結合の分解反応の反応速度が顕著に向上する。よって、分解反応を連続的に行った場合の単位時間当たりの目的化合物の製造量が飛躍的に向上し、生産効率の点において極めて有利である。
本発明においては、エステル結合の分解反応の反応生成物から目的とする化合物を得る。該反応生成物中としては、末端構造が−ＣＯＦである化合物や、ケトン化合物が挙げられ、たとえば、化合物（４）のエステル結合の分解反応では、下記化合物（５）および／または化合物（６）が生成しうる。
ＲＡＦＲＢＦＣ＝Ｏ （５）
ＲＣＦＣＯＦ （６）
ここで、ＲＡＦ、ＲＢＦ、ＲＣＦは、化合物（４）に対応する同一の基であり、好ましい態様も同一である。
化合物（５）の具体例としては、下記化合物が挙げられる。化合物（６）の具体例としては、化合物（５）の上記具体例として挙げた化合物のうち、Ｒ１Ｆがフッ素原子である化合物が挙げられる。ただし、下記式中Ｒ１Ｆはフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示す。
このような、化合物（４）としては、下記化合物（４Ａ）が好ましい。化合物（４Ａ）は後述する化合物（３Ａ）のフッ素化反応により入手できる。
ＲＢＦＣＯＯＣＦ２ＲＢＦ （４Ａ）
ただし、ＲＢＦは上記と同じ意味を示し、好ましい態様も同じである。
化合物（４）の入手方法としては、化合物（１）と化合物（２）とを反応させて化合物（３）とし、該化合物（３）を液相中でフッ素と反応させることにより製造された化合物（４）が好ましい。該方法は、本発明者らによるＷＯ００／５６６９４の方法にしたがって実施でき、任意の構造の化合物が入手できる。
化合物（１）としては、フッ素を含まないアルコール類が容易に入手できる理由から、ＲＡおよびＲＢとしては、水素原子、１価飽和炭化水素基、部分クロロ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、または部分クロロ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基が好ましく、ＲＡとしては前記に加えて水素原子も好ましい。さらにＲＡおよびＲＢとしては、アルキル基、部分クロロアルキル基、アルコキシアルキル基、部分クロロアルコキシアルキル基が特に好ましく、ＲＡとしては前記に加えて水素原子もまた好ましい。
または、化合物（１）のＲＡとＲＢは共同で、２価飽和炭化水素基、部分クロロ（２価飽和炭化水素）基、エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素基、部分クロロ（エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素）基を形成しているのが好ましく、特にアルキレン基、部分クロロアルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基、部分クロロ（アルキレンオキシアルキレン）基を形成しているのが好ましい。化合物（１）は、種々の構造の化合物が容易に入手できる理由から、化合物（４）の構造に応じた化合物（１）を容易に入手して、任意の構造を有する化合物（４）を容易に製造できる。
化合物（１）の具体例として下記式で表わされる化合物が挙げられる。ただし、下記式中、Ｃｙはシクロヘキシル基を示し、Ｒ１は水素原子またはメチル基を示す。
化合物（２）の具体例としては、化合物（６）と同様の化合物が挙げられる。ＲＡＦがフッ素原子である化合物（５）を得る場合において、化合物（１）としては、下記化合物（１Ａ）が、化合物（２）としては下記化合物（２Ａ）が好ましく、化合物（１Ａ）と化合物（２Ａ）の反応では下記化合物（３Ａ）が生成する。
ＲＢＣＨ２ＯＨ （１Ａ）
ＲＢＦＣＯＦ （２Ａ）
ＲＢＣＯＯＣＨ２ＲＢＦ（３Ａ）
つぎに、化合物（１）と化合物（２）との反応により生成する化合物（３）を液相中でフッ素と反応させることにより化合物（４）を得る。化合物（１）と化合物（２）との反応は、公知のエステル反応の方法および条件を適用して実施できる。
化合物（１）と化合物（２）との反応では、ＨＦが発生するため、ＨＦ捕捉剤としてアルカリ金属フッ化物（ＮａＦ、ＫＦが好ましい）やトリアルキルアミンを反応系中に存在させてもよい。ＨＦ捕捉剤は、化合物（１）または化合物（２）が酸に不安定な化合物である場合には、使用した方がよい。また、ＨＦ捕捉剤を使用しない場合には、ＨＦを窒素気流に同伴させて反応系外に排出するのが好ましい。アルカリ金属フッ化物を用いる場合は、化合物（２）に対して１〜１０倍モルとするのが好ましい。
化合物（１）と化合物（２）との反応温度は、通常の場合、−５０℃以上であるのが好ましく、＋１００℃以下または溶媒の沸点温度以下が好ましい。また該反応の反応時間は、原料の供給速度と、反応に用いる化合物量に応じて適宜変更され得る。反応圧力（ゲージ圧、以下同様）は０〜２ＭＰａが好ましい。
化合物（１）と化合物（２）の量比は、化合物（１）に対する化合物（２）の量を０．５〜５倍モルとするのが好ましく、特に１〜２倍モルとするのが好ましい。
化合物（１）と化合物（２）との反応で生成した化合物（３）を含む粗生成物は、目的に応じて精製を行っても、そのまま、つぎの反応等に用いてもよく、次の工程におけるフッ素化反応を安定に行う観点から、分離精製するのが望ましい。
化合物（１）と化合物（２）を反応させて得られる化合物（３）のフッ素含有量（フッ素含有量とは、分子量に対するフッ素原子の質量の割合）は３０質量％以上であることが好ましい。このフッ素含有量は、好ましくは３０〜８４質量％であり、特に３０〜７６質量％であるのが好ましい。フッ素含有量が少なすぎると化合物（３）の液相中への溶解性が極端に低くなり、フッ素化反応の際の反応系が不均一になり、連続反応で実施するときに化合物（３）をうまく反応系中にフィードできない問題が生じる。また、フッ素含有量の上限は特に限定されないが、あまりに高すぎるものは、入手が困難であり、価格が高く経済的ではない。
また、化合物（３）の分子量は２００〜１０００であるのが、気相中での好ましくないフッ素化反応を防止し、液相中でのフッ素化反応を円滑に行い得る点で好ましい。分子量が小さすぎると、化合物（３）が気化し易くなるため、液相でのフッ素化反応時に気相中で分解反応が起こる恐れがある。一方、分子量が大きすぎると、化合物（３）の精製が困難になる恐れがある。
化合物（３）の具体例として下記式で表わされる化合物が挙げられる。ただし、下記式中、Ｃｙはシクロアルキル基を示し、Ｒ１は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ２Ｆはフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示す。
化合物（４）は、ＲＡＦが１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基またはフッ素原子であるのが好ましく、フッ素原子またはＲＡに存在する水素原子の全てがフッ素化された基であるのが特に好ましい。また、ＲＢＦが１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であるのが好ましく、ＲＢに存在する水素原子の全てがフッ素化された基であるのが特に好ましい。ＲＣＦはＲＣと同一の基であって、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であるのが好ましく、特に全てがフッ素化されたこれらの基であるのが好ましい。
化合物（３）を液相中でフッ素化する場合には、フッ素ガスを、化合物（３）が存在する溶媒中に導入して行うのが好ましい。フッ素ガスは、そのままを用いても、不活性ガスで希釈されたフッ素ガスを用いてもよい。不活性ガスとしては、窒素ガス、ヘリウムガスが好ましく、経済的な理由から窒素ガスが特に好ましい。窒素ガス中のフッ素ガス量は特に限定されず、１０体積％以上とするのが効率の点で好ましく、２０体積％以上とするのが特に好ましい。
液相としては、フッ素（Ｆ２）を溶解し得る溶媒を用いるのが好ましい。該溶媒としては、Ｃ−Ｈ結合を含まずＣ−Ｆ結合を必須とする溶媒が好ましく、さらに、ペルフルオロアルカン類、または、塩素原子、窒素原子、および酸素原子から選ばれる１種以上の原子を構造中に有する公知の有機溶剤をペルフルオロ化した有機溶剤が好ましい。さらに、溶媒としては、化合物（３）の溶解性が高い溶媒を用いるのが好ましく、特に化合物（４）、化合物（５）または化合物（６）を用いると反応後の後処理が容易になる利点があり好ましい。
溶媒の使用量は、化合物（３）に対して、５倍質量以上が好ましく、特に１０〜１００倍質量が好ましい。
フッ素化反応の反応形式は、バッチ方式より連続方式が好ましく、特に、反応収率と選択率の点から、つぎの連続方法が好ましい。すなわち反応器に溶媒を仕込み、撹拌を開始する。次に、所定の反応温度と反応圧力下で、化合物（３）とフッ素ガスとを反応器中の液相に所定のモル比で連続的かつ同時に供給する連続方法である。化合物（３）を供給する際には、溶媒で希釈してもしなくてもよいが、選択率を向上させ、副生成物量を抑制させるためには、溶媒で希釈した化合物（３）を供給することが好ましい。また、化合物（３）を溶媒で希釈する際には、化合物（３）に対する溶媒の量を５倍質量以上とするのが好ましく、特に１０倍質量以上とするのが好ましい。
フッ素化反応に用いるフッ素量は、バッチ方式で反応を実施する場合にも連続方式で実施する場合にも、化合物（３）中の水素原子に対して、フッ素の量が常に過剰当量となるようにフッ素を用いるのが好ましく、特に１．５倍当量以上（すなわち、１．５倍モル以上）となるようにフッ素を用いるのが選択率の点から好ましい。フッ素量の上限は３．０倍モル以下であるのが好ましい。
フッ素化反応の反応温度は、通常は−６０℃以上かつ化合物（３）の沸点以下が好ましく、反応収率、選択率、および工業的実施のし易さの点から−５０℃〜＋１００℃が特に好ましく、−２０℃〜＋５０℃がとりわけ好ましい。フッ素化反応の反応圧力は特に限定されず、０〜２ＭＰａ（ケージ圧。以下同様。）が、反応収率、選択率、工業的な実施のし易さの観点から特に好ましい。
さらに、フッ素化を効率的に進行させるためには、反応系中にＣ−Ｈ結合含有化合物を添加する、または、紫外線照射を行う、のが好ましい。すなわち、フッ素化反応後期にＣ−Ｈ結合含有化合物を反応系中に添加する、または、反応の後段において紫外線照射を行う、のが好ましい。これにより、反応系中に存在する化合物（３）を効率的にフッ素化でき、反応率を飛躍的に向上させ得る。
Ｃ−Ｈ結合含有化合物としては、特にベンゼン、トルエン等が好ましい。該Ｃ−Ｈ結合含有化合物の添加量は、化合物（３）中の水素原子に対して０．１〜１０モル％であるのが好ましく、特に０．１〜５モル％であるのが好ましい。
Ｃ−Ｈ結合含有化合物は、反応系中にフッ素ガスが存在する状態で添加するのが好ましい。さらに、Ｃ−Ｈ結合含有化合物を加えた場合には、反応系を加圧するのが好ましい。加圧時の圧力としては、０．０１〜５ＭＰａが好ましい。
フッ素化反応においては、ＨＦが副生するため、ＨＦを除去する目的で反応系中にＨＦ捕捉剤を共存させる、または反応器ガス出口でＨＦ捕捉剤と出口ガスを接触させるのが好ましい。該ＨＦ捕捉剤としては、ＮａＦが好ましい。反応系中にＨＦ捕捉剤を共存させる場合の量は、化合物（３）中に存在する全水素原子量に対して１〜２０倍モルが好ましく、１〜５倍モルがさらに好ましい。反応器ガス出口にＨＦ捕捉剤をおく場合には、（イ）冷却器（１０℃〜室温に保持するのが好ましく、特には２０℃程度に保持するのが好ましい。）（ロ）ＮａＦペレット充填層、および（ハ）冷却器（−７８℃〜＋１０℃に保持するのが好ましく、−３０℃〜０℃に保持するのがさらに好ましい）を（イ）−（ロ）−（ハ）の順に直列に設置するのが好ましい。なお、（ハ）の冷却器からは凝集した液を反応器に戻すための液体返送ラインを設置してもよい。
この化合物（３）のフッ素化は、この化合物（３）が実質的にペルフルオロ化されるまで、特にはペルフルオロ化されるまで行うのが好ましい。
また、フッ素化反応で得た化合物（４）を含む粗生成物は、そのまま次の工程に用いてもよく、精製して高純度のものにしてもよい。精製方法としては、粗生成物をそのまま常圧または減圧下に蒸留する方法等が挙げられる。
本発明の製造方法によって、化合物（５）および／または化合物（６）を得る工業的なプロセスとしての最良の方法は、以下の方法である。
すなわち、化合物（１Ａ）と化合物（２Ａ）を反応させて化合物（３Ａ）とし、該化合物（３Ａ）を液相中でフッ素と反応させて化合物（４Ａ）とし、該化合物（４Ａ）において、上記エステル結合の分解反応を行った反応生成物から化合物（２Ａ）を得る方法である。さらに化合物（２Ａ）を再び化合物（１Ａ）と反応させれば、化合物（２Ａ）を連続的に効率良く製造できる。
＜実施例＞
以下に本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、これらによって本発明は限定されない。なお、以下において、１，１，２−トリクロロトリフルロオエタンをＲ−１１３、ガスクロマトグラフィをＧＣと記す。
［例１（実施例）］
２Ｌ容量の撹拌機付きステンレス製オートクレーブに純度９７％のＣＦ３（ＣＦ２）２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＣＦ３粗液（以下「ペルフルオロエステル粗液」と略す。１８００ｇ）、さらにスプレードライ法で製造したＫＦ粉末（３０ｇ）を仕込み、撹拌しながら７０℃まで昇温した。所定温度に達したところでペルフルオロエステル粗液を１１５ｇ／ｈの速度で連続フィードした。反応器上部に備え付けた６０℃で加温したステンレス製のジャケット付きカラムを通して発生するガスを連続的に抜き出し、ドライアイストラップで捕捉した。捕捉した生成物の重量とＧＣによる分析からＣＦ３（ＣＦ２）２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦ（以下「（ＨＦＰＯ）２」と略す。）が１１０ｇ／ｈの速度で生成していることを確認した。（ＨＦＰＯ）２の収率は９９％であった。
［例２（実施例）］
反応温度を７３℃、ペルフルオロエステル粗液のフィード量を２１５ｇ／ｈとすること以外は例１と同様に操作を行った。ドライアイストラップで捕捉した生成物の重量とＧＣによる分析から（ＨＦＰＯ）２が２６０ｇ／ｈの速度で生成していることを確認した。（ＨＦＰＯ）２の収率は９９％であった。
［例３（比較例）］
例１と同じ装置を用いて反応器にペルフルオロエステル粗液を１７００ｇ、ＮａＦ粉末（森田化学工業（株）製）を５５ｇ仕込み、撹拌しながら１４０℃まで昇温した。ＮａＦ粉末は、使用前に１２０℃で２時間熱処理を行った。所定温度に達したところでペルフルオロエステル粗液を６０ｇ／ｈの速度で連続フィードした。ドライアイストラップで捕捉した生成物の重量とＧＣによる分析から（ＨＦＰＯ）２が５７ｇ／ｈの速度で生成していることを確認した。（ＨＦＰＯ）２の収率は９９％であった。
［例４（実施例）］ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３の製造例
（例４−１）ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３の製造例
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＨ（６２０ｇ）をフラスコに入れ、窒素ガスをバブリングしながら撹拌した。ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦ（３６０４ｇ）を内温を２５〜３５℃に保ちながら８時間かけて滴下した。滴下終了後、標記化合物とＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとを含む反応混合物に、窒素ガスをバブリングし続けながら室温で２時間撹拌した。得られた反応混合物を例４−２の反応に用いた。
（例４−２）ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３の製造例
３０００ｍＬのニッケル製オートクレーブに、例４−１で得たＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦ（２３４０ｇ）を加えて撹拌し、２５℃に保った。オートクレーブガス出口には、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。なお、−１０℃に保持した冷却器からは凝集した液をオートクレーブに戻すための液体返送ラインを設置した。窒素ガスを１．５時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、希釈フッ素ガスと略記する。）を流速８．９１Ｌ／ｈで３時間吹き込んだ。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例４−１で得た反応混合物（１０６ｇ）を４５．６時間かけて注入した。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、ベンゼン濃度が０．０１ｇ／ｍＬであるＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦ溶液（１８ｍＬ）を２５℃から４０℃にまで昇温しながら注入し、オートクレーブのベンゼン注入口バルブを閉じ、さらにオートクレーブの出口バルブを閉じ、圧力が０．２ＭＰａになったところで、オートクレーブのフッ素ガス入口バルブを閉めて１時間撹拌を続けた。つぎに圧力を常圧にし、反応器内温度を４０℃に保ちながら、上記のベンゼン溶液（６ｍＬ）を注入し、オートクレーブのベンゼン注入口バルブを閉じ、さらにオートクレーブの出口バルブを閉じ、圧力が０．２ＭＰａになったところで、オートクレーブのフッ素ガス入口バルブを閉めて１時間撹拌を続けた。さらにベンゼンの注入操作を同様に１回くり返した。
ベンゼンの注入総量は０．３０９ｇ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの注入総量は３０ｍＬであった、さらに、窒素ガスを２．０時間吹き込んだ。反応後、蒸留精製して標記化合物（８５．３ｇ）とＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとを含む生成物を得た。
［例５］
（例５−１）下記化合物の製造例
得られた粗液を分液し、下層を水５０ｍＬで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。減圧蒸留で目的のエステル化合物（６６．３ｇ）を８８〜８９℃／２．７ｋＰａの留分として得た。ＧＣ純度は９８％であった。
（例５−２）下記化合物の製造例
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例５−１で得た反応粗液（５４ｇ）をＲ−１１３（５１０ｇ）に溶解した溶液１４．７時間かけて注入した。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、なおかつ反応器圧力を０．１５ＭＰａに保ちながら、ベンゼン濃度が０．０５ｇ／ｍＬのＲ−１１３溶液を２５℃から４０℃にまで昇温しながら３０ｍＬ注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、０．３時間撹拌を続けた。つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、反応器圧力を０．１５ＭＰａに、反応器内温度を４０℃に保ちながら、上記のベンゼン溶液を２０ｍＬ注入し、０．３時間撹拌を続けた。同様の操作を３回くり返し、さらに２．０時間撹拌を続けた。ベンゼンの注入総量は５．００ｇ、Ｒ−１１３の注入総量は１１１ｍＬであった。目的物を１９Ｆ−ＮＭＲで定量（内部標準：Ｃ６Ｆ６）したところ、標記化合物の収率は７５％であった。
（例５−３）下記化合物の製造例
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２６．３（１Ｆ），−８２．８（１Ｆ），−８３．６（１Ｆ），−１１８．１（１Ｆ），−１２５．９（１Ｆ），−１２６．８（１Ｆ），−１２９．３（１Ｆ），−１３４．８（１Ｆ）。
［例６］
（例６−１）化合物Ａ−２および化合物Ｂ−２の製造例
［例６−２］化合物Ａ−３および化合物Ｂ−３の製造例
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例６−１で得た反応粗液（１１５ｇ）をＲ−１１３（８６３ｇ）に溶解した溶液２４．８時間かけて注入した。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、なおかつ反応器圧力を０．１５ＭＰａに保ちながら、ベンゼン濃度が０．０４ｇ／ｍＬのＲ−１１３溶液を２５℃から４０℃にまで昇温しながら３０ｍＬ注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、０．３時間撹拌を続けた。つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、反応器圧力を０．１５ＭＰａに、反応器内温度を４０℃に保ちながら、上記のベンゼン溶液を２０ｍＬ注入し、０．３時間撹拌を続けた。同様の操作を１回くり返し、さらに１．０時間撹拌を続けた。ベンゼンの注入総量は３．１４ｇ、Ｒ−１１３の注入総量は７０ｍＬであった。目的物を１９Ｆ−ＮＭＲで定量（内部標準：Ｃ６Ｆ６）したところ、化合物Ａ−３の収率は６８％、化合物Ｂ−３の収率は９３％であった。
［例６−３］下記化合物Ｂ−４の製造例
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３、内部標準：Ｃ６Ｆ６）δ（ｐｐｍ）
化合物Ａ−４：−５１．２（２Ｆ），−７９．９（４Ｆ）。
化合物Ｂ−４：２６．２（１Ｆ），−５３．０（１Ｆ），−５７．６（１Ｆ），−７６．８（１Ｆ），−８７．７（１Ｆ），−１１７．８（１Ｆ）。
＜産業上の利用の可能性＞
本発明の方法によれば、含フッ素エステル化合物のエステル結合を、低い反応温度で分解させることができる。しかも、本発明の方法によれば、反応温度が低くしても反応速度を低下させずに、予想外の速い反応速度で、効率良く反応を実施できる。すなわち、本発明の方法は、工業的実施において、きわめて有利な方法である。
さらに本発明によれば、任意の含フッ素エステル化合物を有利な方法で製造しながら、エステル結合の分解反応が実施できる。
Claims (8)
- エステル結合が分解されうる含フッ素エステル化合物のエステル結合を分解することにより分解反応生成物を得る方法において、エステル結合の分解反応を溶媒を実質的に用いずにＫＦの存在下に２００℃以下の反応温度で行い、かつ、前記含フッ素エステル化合物を反応域に連続供給し、分解反応生成物を反応域から連続的に抜き出しながら反応を行うことを特徴とする分解反応生成物の製造方法。
- 含フッ素エステル化合物が式（４）で表される化合物であり、分解反応生成物が式（５）で表される化合物および／または式（６）で表される化合物である請求項１に記載の製造方法。
ＲＣＦＣＯＯＣＦＲＡＦＲＢＦ（４）
ＲＡＦＲＢＦＣ＝Ｏ （５）
ＲＣＦＣＯＦ （６）
ここで、ＲＡＦはフッ素原子または１価有機基であり、ＲＢＦは１価有機基であり、またはＲＡＦとＲＢＦは互いに結合して２価有機基を形成していてもよく、ＲＣＦは１価有機基であり、かつ、ＲＡＦ、ＲＢＦ、およびＲＣＦから選ばれる少なくとも１つの基中にはフッ素原子が存在する。 - 式（４）で表される化合物が、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物とを反応させて式（３）で表される化合物とし、該式（３）で表される化合物を液相中でフッ素と反応させることにより製造された化合物である請求項２に記載の製造方法。
ＨＯＣＨＲＡＲＢ （１）
ＲＣＣＯＸ （２）
ＲＣＣＯＯＣＨＲＡＲＢ （３）
ここで、ＲＡＦがフッ素原子である場合のＲＡは水素原子であり、ＲＡとＲＡＦとが同一の１価有機基である場合のＲＡはフッ素化されない１価有機基であり、ＲＡとＲＡＦとが異なる１価有機基である場合のＲＡはフッ素化される１価有機基であり、ＲＢとＲＢＦとが同一の１価有機基である場合のＲＢはフッ素化されない１価有機基であり、ＲＢとＲＢＦとが異なる１価有機基である場合のＲＢはフッ素化される１価有機基である。
また、ＲＡＦとＲＢＦが互いに結合して２価有機基を形成している場合のＲＡとＲＢは、互いに結合して２価有機基を形成しており、ＲＡとＲＢから形成される２価有機基が、ＲＡＦとＲＢＦから形成される２価有機基と同一である場合のＲＡとＲＢから形成される２価有機基はフッ素化されない２価有機基であり、異なる場合のＲＡとＲＢから形成される２価有機基はフッ素化される２価有機基である。
ＲＣとＲＣＦとが同一の１価有機基である場合のＲＣはフッ素化されない１価有機基であり、ＲＣとＲＣＦとが異なる１価有機基である場合のＲＣはフッ素化される１価有機基である。
Ｘはハロゲン原子である。 - 式（３）で表される化合物のフッ素原子含有量が３０〜８４質量％である請求項３に記載の製造方法。
- ＲＡが、水素原子、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、または部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基であり、ＲＡＦがフッ素原子またはＲＡに存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であり、
ＲＢが、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、または部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基であり、ＲＢＦがＲＢに存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であり、
または、ＲＡとＲＢが互いに結合して２価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ２価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素基、または部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有２価飽和炭化水素）基を形成し、ＲＡＦとＲＢＦがＲＡとＲＢから形成される基に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基であり、
ＲＣおよびＲＣＦが同一の基であって、１価飽和炭化水素基、部分ハロゲノ１価飽和炭化水素基、エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素基、および部分ハロゲノ（エーテル性酸素原子含有１価飽和炭化水素）基から選ばれる基に存在する水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された基である請求項３または４に記載の製造方法。 - 式（３）で表わされる化合物の分子量が２００〜１０００である請求項３、４、または５に記載の製造方法。
- エステル結合の分解反応を液相反応で行う請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
- エステル結合の分解反応を分解反応生成物の沸点以上であり、かつ１００℃以下の反応温度で気相反応で行う請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
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