JP2001117072A - アクティブマトリクス型液晶表示装置 - Google Patents
アクティブマトリクス型液晶表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 互いに画素領域の大きさが異なる主表示エリ
アと副表示エリアを有するアクティブマトリクス液晶表
示装置において、フリッカや焼き付きの発生を防止す
る。 【解決手段】 主表示エリアと副表示エリアに対応する
対向電極を分割して設け、主表示エリア用の対向電極と
副表示エリア用の対向電極に、画素領域の大きさに応じ
たそれぞれに最適な電圧を印加するようにする。
アと副表示エリアを有するアクティブマトリクス液晶表
示装置において、フリッカや焼き付きの発生を防止す
る。 【解決手段】 主表示エリアと副表示エリアに対応する
対向電極を分割して設け、主表示エリア用の対向電極と
副表示エリア用の対向電極に、画素領域の大きさに応じ
たそれぞれに最適な電圧を印加するようにする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置に関する。より詳細には、互いに画
素領域の大きさが異なる主表示エリアと副表示エリアを
具備するアクティブマトリクス型液晶表示装置の対向電
極構造に関する。
クス型液晶表示装置に関する。より詳細には、互いに画
素領域の大きさが異なる主表示エリアと副表示エリアを
具備するアクティブマトリクス型液晶表示装置の対向電
極構造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、アクティブマトリクス方式の液晶
表示装置としては、図6に示すものが知られている。図
6は薄膜トランジスタ( Thin Film Transistor: 以
下、TFTと略記する)アレイ基板140の平面図であ
る。従来のアクティブマトリクス装置のTFTアレイ基
板140には、画素を構成する画素領城132がマトリ
クス状に配列された表示エリア130、この表示エリア
130の走査線101から外付けのゲートドライバIC
に接続するための走査線の引き出し配線134と走査線
端子136、表示エリア130の信号線119から外付
けのソースドライバICに接続するための信号線の引き
出し配線135と信号線端子137がそれぞれ形成され
ている。
表示装置としては、図6に示すものが知られている。図
6は薄膜トランジスタ( Thin Film Transistor: 以
下、TFTと略記する)アレイ基板140の平面図であ
る。従来のアクティブマトリクス装置のTFTアレイ基
板140には、画素を構成する画素領城132がマトリ
クス状に配列された表示エリア130、この表示エリア
130の走査線101から外付けのゲートドライバIC
に接続するための走査線の引き出し配線134と走査線
端子136、表示エリア130の信号線119から外付
けのソースドライバICに接続するための信号線の引き
出し配線135と信号線端子137がそれぞれ形成され
ている。
【0003】従来のアクティブマトリクス型液晶表示装
置に対して新たな機能を付加できるとの観点から、図1
に示すように、表示エリア30(以後、主表示エリアと
言う)のほかに、例えば文字情報を表示させることを目
的とした他の表示エリア31(以後、副表示エリアと言
う)を設ける必要性が唱えられている。この場合、主表
示エリア30には精細度の高い表示が要求されるために
画素領域32を小さくするが、副表示エリア31ではそ
の表示目的から、必ずしも画素領域33の大きさを主表
示エリアのそれと一致させる必要はない。むしろ、例え
ば文字は大きく表示させて見やすくしたいとの要求か
ら、副表示エリア31の画素領域33の大きさは、主表
示エリア30の画素領域32の大きさに比べて大きく設
計する。また、従来の副表示エリアを有する液晶表示装
置では、対向電極は図7に示すように対向基板41の全
面に共通した1個の対向電極13が形成されていた。
置に対して新たな機能を付加できるとの観点から、図1
に示すように、表示エリア30(以後、主表示エリアと
言う)のほかに、例えば文字情報を表示させることを目
的とした他の表示エリア31(以後、副表示エリアと言
う)を設ける必要性が唱えられている。この場合、主表
示エリア30には精細度の高い表示が要求されるために
画素領域32を小さくするが、副表示エリア31ではそ
の表示目的から、必ずしも画素領域33の大きさを主表
示エリアのそれと一致させる必要はない。むしろ、例え
ば文字は大きく表示させて見やすくしたいとの要求か
ら、副表示エリア31の画素領域33の大きさは、主表
示エリア30の画素領域32の大きさに比べて大きく設
計する。また、従来の副表示エリアを有する液晶表示装
置では、対向電極は図7に示すように対向基板41の全
面に共通した1個の対向電極13が形成されていた。
【0004】ー方、アクティブマトリクス型液晶表示装
置では、対向配置された一対の基板の間に液晶層を狭持
してこれを表示媒体として用いており、液晶層の焼き付
きを防止するために液晶層には直流電圧が重畳しない交
流電圧を印加し、これを表示電圧として用いる。この交
流電圧は、信号線から画素領域を主として成す画素電極
へ、走査線からのゲート電圧でオン状態となったTFT
を介して印加される。この画素電極と液晶層を介して対
向する対向電極には、ー定の直流電圧を印加する。これ
により、液晶層に電界を与えてその屈折率を変化させる
ことにより、液晶層は表示媒体として使用可能となる。
置では、対向配置された一対の基板の間に液晶層を狭持
してこれを表示媒体として用いており、液晶層の焼き付
きを防止するために液晶層には直流電圧が重畳しない交
流電圧を印加し、これを表示電圧として用いる。この交
流電圧は、信号線から画素領域を主として成す画素電極
へ、走査線からのゲート電圧でオン状態となったTFT
を介して印加される。この画素電極と液晶層を介して対
向する対向電極には、ー定の直流電圧を印加する。これ
により、液晶層に電界を与えてその屈折率を変化させる
ことにより、液晶層は表示媒体として使用可能となる。
【0005】ところが、液晶の誘電率が電界強度に応じ
て変化すること、TFTのゲート電極とドレイン電極と
の間に寄生容量を有すること、および走査線と画素電極
との間に寄生容量を有することなどに起因して、TFT
をオフ状態にすベくゲート電圧を変化させたときに、画
素電極の電位Vpに動的な電圧降下が生ずる。図5は液
晶表示装置の駆動電圧を示す概略図である。図5(a)
はTFTのゲート電極に印加する電圧Vgを、図5
(b)はTFTのソース電極に印加する電圧Vsを、図
5(c)はTFTのドレイン電極、すなわち、画素電極
の電圧Vpを示している。図5(c)のVscはソース電
極に印加する交流電圧の中心電圧を、図5(c)のVco
m は対向電極に印加される電圧をそれぞれ示している。
対向電極と画素電極にそれぞれ電圧Vcom とVp を印加
することにより、液晶層に実効的な電位が与えられ表示
媒体として作動するようになる。図5の横軸には時間を
とり、Vg、Vs、Vp のタイミングを示している。図5
(a)に示す電圧の高電位がTFTをオン状態にする期
間、低電位がTFTをオフ状態にする期間をそれぞれ示
している。
て変化すること、TFTのゲート電極とドレイン電極と
の間に寄生容量を有すること、および走査線と画素電極
との間に寄生容量を有することなどに起因して、TFT
をオフ状態にすベくゲート電圧を変化させたときに、画
素電極の電位Vpに動的な電圧降下が生ずる。図5は液
晶表示装置の駆動電圧を示す概略図である。図5(a)
はTFTのゲート電極に印加する電圧Vgを、図5
(b)はTFTのソース電極に印加する電圧Vsを、図
5(c)はTFTのドレイン電極、すなわち、画素電極
の電圧Vpを示している。図5(c)のVscはソース電
極に印加する交流電圧の中心電圧を、図5(c)のVco
m は対向電極に印加される電圧をそれぞれ示している。
対向電極と画素電極にそれぞれ電圧Vcom とVp を印加
することにより、液晶層に実効的な電位が与えられ表示
媒体として作動するようになる。図5の横軸には時間を
とり、Vg、Vs、Vp のタイミングを示している。図5
(a)に示す電圧の高電位がTFTをオン状態にする期
間、低電位がTFTをオフ状態にする期間をそれぞれ示
している。
【0006】TFTをオフ状態にすべくゲート電圧Vg
を変化させたときに、図5(c)に示すように画素電極
の電位Vpに動的な電圧降下△Vpが生ずる。これは、T
FTをオフ状態にすべくゲート電圧Vgを変化させたと
きに、一対の基板間の液晶層による容量、走査線とその
上のゲート絶縁膜及び容量電極とからなる蓄積容量およ
び上記寄生容量との間で電荷の分配が生じて、画素電極
の電位Vp に電圧降下△Vpが生ずるものである。
を変化させたときに、図5(c)に示すように画素電極
の電位Vpに動的な電圧降下△Vpが生ずる。これは、T
FTをオフ状態にすべくゲート電圧Vgを変化させたと
きに、一対の基板間の液晶層による容量、走査線とその
上のゲート絶縁膜及び容量電極とからなる蓄積容量およ
び上記寄生容量との間で電荷の分配が生じて、画素電極
の電位Vp に電圧降下△Vpが生ずるものである。
【0007】画素電極11の電位の電圧降下△Vpは次
式(1)で示される。 △Vp =( Vgh ×( Cgdon + Cgp )- Vgl ×( Cgdoff + Cgp ) - Vs( Cgdon - Cgdoff ) )/( Cs + Clc + Cgdoff + Cgp ) ・・・・・・・・・・(1) ここで、 △Vp : 画素電極の電位の電圧降下 Vgh : ゲート電圧のハイ電位 Cgdon : TFTオン時の寄生容量 Cgp : 走査線と画素電極の間の寄生容量 Vgl : ゲート電圧ロウ電位 Cgdoff : TFTオフ時の寄生容量 Vs : 信号電圧の電位 Cs : 蓄積容量 Clc : 液晶層の容量 (1)式で示されるように、画素電極の電位の電圧降下
△Vp を発生させる因子としては、液晶層の容量Clc、
薄膜トランジスタの寄生容量Cgd、蓄積容量Cs等を含
んでいる。
式(1)で示される。 △Vp =( Vgh ×( Cgdon + Cgp )- Vgl ×( Cgdoff + Cgp ) - Vs( Cgdon - Cgdoff ) )/( Cs + Clc + Cgdoff + Cgp ) ・・・・・・・・・・(1) ここで、 △Vp : 画素電極の電位の電圧降下 Vgh : ゲート電圧のハイ電位 Cgdon : TFTオン時の寄生容量 Cgp : 走査線と画素電極の間の寄生容量 Vgl : ゲート電圧ロウ電位 Cgdoff : TFTオフ時の寄生容量 Vs : 信号電圧の電位 Cs : 蓄積容量 Clc : 液晶層の容量 (1)式で示されるように、画素電極の電位の電圧降下
△Vp を発生させる因子としては、液晶層の容量Clc、
薄膜トランジスタの寄生容量Cgd、蓄積容量Cs等を含
んでいる。
【0008】前記電圧降下△Vpを発生させる一方の要
因である液晶の誘電率が電界強度に応じて変化すること
は、液晶の物性に関わるもので避けられないものであ
る。また、他方の要因である、TFTのゲート電極とド
レイン電極との間の寄生容量及び走査線と画素電極との
間の寄生容量の2つの寄生容量のうち、TFTのゲート
電極とドレイン電極の間に寄生容量を有することは、前
記電極間に形成したゲート絶縁膜が容量を形成してしま
うことから、現在のアクティブマトリクス型液晶表示装
置では構造的に避けられないものである。
因である液晶の誘電率が電界強度に応じて変化すること
は、液晶の物性に関わるもので避けられないものであ
る。また、他方の要因である、TFTのゲート電極とド
レイン電極との間の寄生容量及び走査線と画素電極との
間の寄生容量の2つの寄生容量のうち、TFTのゲート
電極とドレイン電極の間に寄生容量を有することは、前
記電極間に形成したゲート絶縁膜が容量を形成してしま
うことから、現在のアクティブマトリクス型液晶表示装
置では構造的に避けられないものである。
【0009】このように画素電極の電位Vp に電圧降下
△Vp が生じると、画素電極の電位Vp の正と負の電圧
振幅に差が生じてしまう。電圧の極性によらず同じ電圧
が印加されれば、液晶は同じ透過率特性を有するので、
例えば電圧を印加しない状態で透過率の高いノーマリホ
ワイト型のアクティブマトリクス型液晶表示装置におい
ては、電圧振幅が大きい極性では透過率がより低く、電
圧振幅が小さい極性では透過率がより高くなる。このた
め、透過率に応じた明暗の繰り返しが生じ、これがフリ
ッカとして視認されてしまうことになる。また、正と負
の極性に対して電圧の振幅が非対称であると、いずれか
の画素電極に交流電圧に重畳して直流的な電圧が常に印
加されることになり、表示が残存するいわゆる焼き付き
現象が発生する。そこで従来は、液晶を駆動する交流電
圧の正と負の電圧振幅が等しくなるように対向電極の電
位を適正に調整すること、および、蓄積容量を液晶層に
よる容量に対して並列に形成することにより、前記フリ
ッカや焼き付きの解消をはかっていた。
△Vp が生じると、画素電極の電位Vp の正と負の電圧
振幅に差が生じてしまう。電圧の極性によらず同じ電圧
が印加されれば、液晶は同じ透過率特性を有するので、
例えば電圧を印加しない状態で透過率の高いノーマリホ
ワイト型のアクティブマトリクス型液晶表示装置におい
ては、電圧振幅が大きい極性では透過率がより低く、電
圧振幅が小さい極性では透過率がより高くなる。このた
め、透過率に応じた明暗の繰り返しが生じ、これがフリ
ッカとして視認されてしまうことになる。また、正と負
の極性に対して電圧の振幅が非対称であると、いずれか
の画素電極に交流電圧に重畳して直流的な電圧が常に印
加されることになり、表示が残存するいわゆる焼き付き
現象が発生する。そこで従来は、液晶を駆動する交流電
圧の正と負の電圧振幅が等しくなるように対向電極の電
位を適正に調整すること、および、蓄積容量を液晶層に
よる容量に対して並列に形成することにより、前記フリ
ッカや焼き付きの解消をはかっていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところが、主表示エリ
アのほかに画素領域の大きさの異なる副表示エリアを設
ける場合、前記液晶容量や前記寄生容量の値が画素領域
の大きさに応じて異なるので、主表示エリアと副表示エ
リアとで、それぞれの画素電極の電圧降下△Vpに差が
生じてくる。その結果、主表示エリアと副表示エリアで
対向電極に印加する最適な電位が異なるにもかかわら
ず、従来例のように共通の対向電極を用いた場合には、
どちらかの対向電極には適正電圧が印加されなくなるの
で、主表示エリアもしくは副表示エリアのいずれか一方
にフリッカが生ずるといった問題があった。また、主表
示エリアもしくは副表示エリアのいずれか一方に焼き付
き現象が生ずるといった問題もあった。
アのほかに画素領域の大きさの異なる副表示エリアを設
ける場合、前記液晶容量や前記寄生容量の値が画素領域
の大きさに応じて異なるので、主表示エリアと副表示エ
リアとで、それぞれの画素電極の電圧降下△Vpに差が
生じてくる。その結果、主表示エリアと副表示エリアで
対向電極に印加する最適な電位が異なるにもかかわら
ず、従来例のように共通の対向電極を用いた場合には、
どちらかの対向電極には適正電圧が印加されなくなるの
で、主表示エリアもしくは副表示エリアのいずれか一方
にフリッカが生ずるといった問題があった。また、主表
示エリアもしくは副表示エリアのいずれか一方に焼き付
き現象が生ずるといった問題もあった。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するためになされたもので、画素領域の大きさが異な
る主表示エリアと副表示エリアとを有するアクティブマ
トリクス型液晶表示装置において、主表示エリアと副表
示エリアとで対向電極を分割することにより、それぞれ
の対向電極に最適な電圧を印加することを可能とし、フ
リッカや焼き付の発生を防止する手段を採用したもので
ある。すなわち、図5(c)において、主表示エリアと
副表示エリアとで異なる電圧降下△Vpが発生する場合
に、それぞれの対向電極に適正な対向電極電圧Vcomを
印加して、それぞれの表示エリアで正と負の極性による
電圧振幅が等しくなるようにしたものである。
決するためになされたもので、画素領域の大きさが異な
る主表示エリアと副表示エリアとを有するアクティブマ
トリクス型液晶表示装置において、主表示エリアと副表
示エリアとで対向電極を分割することにより、それぞれ
の対向電極に最適な電圧を印加することを可能とし、フ
リッカや焼き付の発生を防止する手段を採用したもので
ある。すなわち、図5(c)において、主表示エリアと
副表示エリアとで異なる電圧降下△Vpが発生する場合
に、それぞれの対向電極に適正な対向電極電圧Vcomを
印加して、それぞれの表示エリアで正と負の極性による
電圧振幅が等しくなるようにしたものである。
【0012】本発明に係わるアクティブマトリクス型液
晶表示装置装置は、対向配置された一対の基板の間に液
晶層が狭持され、前記一方の基板の表面には複数の走査
線および複数の信号線がマトリクス状に交差して形成さ
れ、複数の走査線と信号線とが形成する交差部の近傍
に、前記走査線に接続するゲート電極を有する薄膜トラ
ンジスタと、該薄膜トランジスタに接続する画素電極
と、前記走査線と蓄積容量を形成する容量電極とがそれ
ぞれ形成されている。前記走査線と信号線で囲まれた画
素領域の大きさは互いに異なっており、主表示エリアと
副表示エリアとを構成している。一方、前記他方の対向
基板の液晶層側表面には対向電極が形成されておリ、主
表示エリアに対向する対向電極と副表示エリアに対向す
る対向電極とが、分割して構成してある。さらに、主表
示エリアと副表示エリアとの画素領域の大きさが異なる
場合に、すれぞれに対向する対向電極に画素領域の大き
さに応じて異なった電圧を印加するように、電圧印加手
段も分割して設けたものである。かかる液晶表示装置と
することにより、主表示エリアと副表示エリアの対向電
極に、それぞれの画素電極の大きさに応じた最適な電位
を印加するようにした。
晶表示装置装置は、対向配置された一対の基板の間に液
晶層が狭持され、前記一方の基板の表面には複数の走査
線および複数の信号線がマトリクス状に交差して形成さ
れ、複数の走査線と信号線とが形成する交差部の近傍
に、前記走査線に接続するゲート電極を有する薄膜トラ
ンジスタと、該薄膜トランジスタに接続する画素電極
と、前記走査線と蓄積容量を形成する容量電極とがそれ
ぞれ形成されている。前記走査線と信号線で囲まれた画
素領域の大きさは互いに異なっており、主表示エリアと
副表示エリアとを構成している。一方、前記他方の対向
基板の液晶層側表面には対向電極が形成されておリ、主
表示エリアに対向する対向電極と副表示エリアに対向す
る対向電極とが、分割して構成してある。さらに、主表
示エリアと副表示エリアとの画素領域の大きさが異なる
場合に、すれぞれに対向する対向電極に画素領域の大き
さに応じて異なった電圧を印加するように、電圧印加手
段も分割して設けたものである。かかる液晶表示装置と
することにより、主表示エリアと副表示エリアの対向電
極に、それぞれの画素電極の大きさに応じた最適な電位
を印加するようにした。
【0013】たとえば、主表示エリアは画像等を表示す
るためのもので高精度が要求され、副表示エリアは文字
等を表示するためのもので精度はあまり問題にならない
場合、主表示エリアの画素領域の大きさを副表示エリア
の画素領域の大きさよりも小さく構成し、各対向電極に
印加する電圧は、主表示エリアに対向する対向電極に印
加する電圧の方を低くする。すなわち式(1)におい
て、副表示エリアの方が画素領域の大きさが大きく、液
晶層の容量Clcが大きくなり、電圧降下△Vpは小さく
なる。したがって図5(c)において正と負の極性によ
る電圧振幅を等しくするには、対向電極に印加する電圧
は副表示エリアに対向する電極に印加する電圧の方を高
くすればよい。これにより各対向電極に画素領域の大き
さに見合った最適な電圧を印加することができるので、
フリッカや焼き付きを防止することが可能となる。各対
向電極に異なった電圧を印加するには、電圧印加手段も
それぞれに分割して持つようにして行なう。
るためのもので高精度が要求され、副表示エリアは文字
等を表示するためのもので精度はあまり問題にならない
場合、主表示エリアの画素領域の大きさを副表示エリア
の画素領域の大きさよりも小さく構成し、各対向電極に
印加する電圧は、主表示エリアに対向する対向電極に印
加する電圧の方を低くする。すなわち式(1)におい
て、副表示エリアの方が画素領域の大きさが大きく、液
晶層の容量Clcが大きくなり、電圧降下△Vpは小さく
なる。したがって図5(c)において正と負の極性によ
る電圧振幅を等しくするには、対向電極に印加する電圧
は副表示エリアに対向する電極に印加する電圧の方を高
くすればよい。これにより各対向電極に画素領域の大き
さに見合った最適な電圧を印加することができるので、
フリッカや焼き付きを防止することが可能となる。各対
向電極に異なった電圧を印加するには、電圧印加手段も
それぞれに分割して持つようにして行なう。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に従って説明する。図1に、本発明の一実施の形態に
係わるアクティブマトリクス型液晶表示装置におけるT
FTアレイ基板40の平面図を示す。本発明において
は、TFTアレイ基板40には主表示エリア30と副表
示エリア31にそれぞれ多数の画素領域32及び33が
マトリクス状に配列されている。ここで画素領域とは走
査線1と信号線19で囲まれた領域であり、主表示エリ
ア30と副表示エリア31にある画素領域とではその大
きさを異にしている。より具体的には、主表示エリア3
0の画素領域32の大きさは横幅40μm×縦長120
μm、副表示エリア31の画素領域33の大きさは横幅
40μm×縦長400μmである。本実施の形態では、
主表示エリア30の画素領域32の大きさに比ベて大き
い画素領域33から成る副表示エリア31が、走査線方
向で画素領域の幅が一致するように主表示エリア30の
上部に形成されている。
面に従って説明する。図1に、本発明の一実施の形態に
係わるアクティブマトリクス型液晶表示装置におけるT
FTアレイ基板40の平面図を示す。本発明において
は、TFTアレイ基板40には主表示エリア30と副表
示エリア31にそれぞれ多数の画素領域32及び33が
マトリクス状に配列されている。ここで画素領域とは走
査線1と信号線19で囲まれた領域であり、主表示エリ
ア30と副表示エリア31にある画素領域とではその大
きさを異にしている。より具体的には、主表示エリア3
0の画素領域32の大きさは横幅40μm×縦長120
μm、副表示エリア31の画素領域33の大きさは横幅
40μm×縦長400μmである。本実施の形態では、
主表示エリア30の画素領域32の大きさに比ベて大き
い画素領域33から成る副表示エリア31が、走査線方
向で画素領域の幅が一致するように主表示エリア30の
上部に形成されている。
【0015】また、これらの画素領域を走査する走査線
1と、信号を供給する信号線19とは格子状に形成され
ている。信号線19は画素領域の大きさが異なる主表示
エリア30と副表示エリア31で途切れることなく連続
して配線されている。そしてTFTアレイ基板40に対
向する対向基板41には、図4に示すように主表示エリ
ア30と副表示エリア31のそれぞれに対向する対向電
極13aと13bが配置され、それぞれ異なった電圧を
印加するようにしてある。
1と、信号を供給する信号線19とは格子状に形成され
ている。信号線19は画素領域の大きさが異なる主表示
エリア30と副表示エリア31で途切れることなく連続
して配線されている。そしてTFTアレイ基板40に対
向する対向基板41には、図4に示すように主表示エリ
ア30と副表示エリア31のそれぞれに対向する対向電
極13aと13bが配置され、それぞれ異なった電圧を
印加するようにしてある。
【0016】主表示エリア30および副表示エリア31
の周辺には、各表示エリア30、31の走査線1から外
付けのゲートドライバICに接続するために、走査線の
端子36まで引き出された走査線の引出し配線34と、
各表示エリア30、31の信号線19から外部のソース
ドライバICに接続するために、信号線の端子37まで
引き出された信号線の引出し配線35とがそれぞれ形成
されている。なお、本実施の形態とは異なる場合とし
て、同一TFTアレイ基板上に駆動回路が内蔵されてい
る場合があるが、この場合には、走査線の引出し配線と
前記信号線の引出し配線がこの駆動回路の出力に引き出
されていても構わない。
の周辺には、各表示エリア30、31の走査線1から外
付けのゲートドライバICに接続するために、走査線の
端子36まで引き出された走査線の引出し配線34と、
各表示エリア30、31の信号線19から外部のソース
ドライバICに接続するために、信号線の端子37まで
引き出された信号線の引出し配線35とがそれぞれ形成
されている。なお、本実施の形態とは異なる場合とし
て、同一TFTアレイ基板上に駆動回路が内蔵されてい
る場合があるが、この場合には、走査線の引出し配線と
前記信号線の引出し配線がこの駆動回路の出力に引き出
されていても構わない。
【0017】次に、図2に本実施の形態の液晶表示装置
の副表示エリア31の一画素領域33を取り出して拡大
した平面図を示す。また、図3に図2中のTFT21、
コンタクトホール18a及び容量電極9を貫くA−A’
線に沿った断面図を示す。なお、主表示エリア30の画
素領域32もその大きさが異なるのみで、構造は副表示
エリア31の画素領域33と同様である。図2に示すと
おり、この副表示エリア31の画素領域33は走査線1
と信号線19とに囲まれており、紙面の左下にTFT2
1が、又紙面上方に蓄積容量22が形成されている。紙
面中央部には画素電極11が配置されている。
の副表示エリア31の一画素領域33を取り出して拡大
した平面図を示す。また、図3に図2中のTFT21、
コンタクトホール18a及び容量電極9を貫くA−A’
線に沿った断面図を示す。なお、主表示エリア30の画
素領域32もその大きさが異なるのみで、構造は副表示
エリア31の画素領域33と同様である。図2に示すと
おり、この副表示エリア31の画素領域33は走査線1
と信号線19とに囲まれており、紙面の左下にTFT2
1が、又紙面上方に蓄積容量22が形成されている。紙
面中央部には画素電極11が配置されている。
【0018】立体的に見ると図3に示すように、このT
FTアレイ基板40を用いた液晶表示装置は、液晶層2
0を介してTFTアレイ基板40と対向して配置された
対向基板41がある。対向基板41には、遮光用のブラ
ックマトリクス15、カラーフィルタ14、及び画素電
極11と同様なインジウムとスズの酸化物( IndiumTin
Oxide :以下、ITOと略記する)からなる透明な対
向電極13を設けてある。液晶と接する面には配向膜1
2が形成されている。従って、画素電極11と対向電極
13との間に電圧を印加すると、液晶層20に電界が印
加され、液晶分子の配向制御ができるようになってい
る。また、この構造は画素電極11と対向電極13をそ
れぞれ電極に持ち、その間に誘電体である液晶層20を
有することから、容量と見なすことができる(以下、こ
れを液晶容量と呼ぶ)。
FTアレイ基板40を用いた液晶表示装置は、液晶層2
0を介してTFTアレイ基板40と対向して配置された
対向基板41がある。対向基板41には、遮光用のブラ
ックマトリクス15、カラーフィルタ14、及び画素電
極11と同様なインジウムとスズの酸化物( IndiumTin
Oxide :以下、ITOと略記する)からなる透明な対
向電極13を設けてある。液晶と接する面には配向膜1
2が形成されている。従って、画素電極11と対向電極
13との間に電圧を印加すると、液晶層20に電界が印
加され、液晶分子の配向制御ができるようになってい
る。また、この構造は画素電極11と対向電極13をそ
れぞれ電極に持ち、その間に誘電体である液晶層20を
有することから、容量と見なすことができる(以下、こ
れを液晶容量と呼ぶ)。
【0019】TFTは、図2及び図3に示すように、走
査線1から引き出して設けられたゲート電極2を設け、
その上にチッ化珪素からなるゲート絶縁膜3を設け、そ
の上にアモルファスシリコンからなる半導体膜4を設
け、更にその上にはアモルファシリコンにリンを添加し
たn+型アモルファスシリコンからなるオーミックコン
タクト膜5を設け、その上に導電体からなるドレイン電
極7とソース電極8とを設けて形成されている。このう
ちソース電極8は信号線19から引き出して設けられて
いる。そして更にドレイン電極7とソース電極8の上に
は、これらを覆うようにチッ化珪素からなるパッシベー
ション膜10を設け、ドレイン電極7上のパッシベーシ
ョン膜10にはコンタクトホール18aが形成されてい
る。そしてドレイン電極7とITOからなる透明な画素
電極11とがコンタクトホール18aを介して接続され
ている。
査線1から引き出して設けられたゲート電極2を設け、
その上にチッ化珪素からなるゲート絶縁膜3を設け、そ
の上にアモルファスシリコンからなる半導体膜4を設
け、更にその上にはアモルファシリコンにリンを添加し
たn+型アモルファスシリコンからなるオーミックコン
タクト膜5を設け、その上に導電体からなるドレイン電
極7とソース電極8とを設けて形成されている。このう
ちソース電極8は信号線19から引き出して設けられて
いる。そして更にドレイン電極7とソース電極8の上に
は、これらを覆うようにチッ化珪素からなるパッシベー
ション膜10を設け、ドレイン電極7上のパッシベーシ
ョン膜10にはコンタクトホール18aが形成されてい
る。そしてドレイン電極7とITOからなる透明な画素
電極11とがコンタクトホール18aを介して接続され
ている。
【0020】蓄積容量22は、走査線1を一方の電極と
し、その上のゲート絶縁膜3を誘電体として形成し、更
にその上に他方の電極となる容量電極9を形成してあ
る。容量電極9はドレイン電極7やソース電極8と同一
の導電体により形成してある。容量電極9の上にはTF
T21と同様、パッシベーション膜10が形成され、こ
のパッシベーション膜10にはコンタクトホール18b
を形成して、ITOからなる画素電極11を容量電極9
の上に引き出して設けて、容量電極9と画素電極11と
をコンタクトホール18bを介して接続してある。な
お、蓄積容量22は先に述べた液晶容量と並列接続の関
係にあり、ともにTFT21の負荷容量となる。
し、その上のゲート絶縁膜3を誘電体として形成し、更
にその上に他方の電極となる容量電極9を形成してあ
る。容量電極9はドレイン電極7やソース電極8と同一
の導電体により形成してある。容量電極9の上にはTF
T21と同様、パッシベーション膜10が形成され、こ
のパッシベーション膜10にはコンタクトホール18b
を形成して、ITOからなる画素電極11を容量電極9
の上に引き出して設けて、容量電極9と画素電極11と
をコンタクトホール18bを介して接続してある。な
お、蓄積容量22は先に述べた液晶容量と並列接続の関
係にあり、ともにTFT21の負荷容量となる。
【0021】本実施の形態では、それぞれ横幅40μm
×縦長l20μmの大きさの画素領域を有する主表示エ
リア30と、横幅40μm×縦長400μmの大きさの
画素領域を有する副表示エリア31の2つが同一のTF
Tアレイ基板40上に形成されいる。これらに対向する
対向電極13a及び13bは、図4に示すように一つの
対向基板41上に各表示エリア毎に分割して配置してあ
る。対向電極13a、13bも画素電極11と同一のI
TO膜で形成する。各対向電極13の大きさ(面積)
は、主表示エリア30と副表示エリア31の面積にほぼ
等しく構成する。
×縦長l20μmの大きさの画素領域を有する主表示エ
リア30と、横幅40μm×縦長400μmの大きさの
画素領域を有する副表示エリア31の2つが同一のTF
Tアレイ基板40上に形成されいる。これらに対向する
対向電極13a及び13bは、図4に示すように一つの
対向基板41上に各表示エリア毎に分割して配置してあ
る。対向電極13a、13bも画素電極11と同一のI
TO膜で形成する。各対向電極13の大きさ(面積)
は、主表示エリア30と副表示エリア31の面積にほぼ
等しく構成する。
【0022】この分割した各対向電極に最適な電圧を印
加するには、電圧印加手段として直流電圧を発生するた
めのDC/DCコンバーター(図示省略)を2系列に分
けて準備する。各DC/DCコンバーターにつきそれぞ
れの対向電極に最適な電圧に変換して、それぞれの対向
電極に印加すればよい。
加するには、電圧印加手段として直流電圧を発生するた
めのDC/DCコンバーター(図示省略)を2系列に分
けて準備する。各DC/DCコンバーターにつきそれぞ
れの対向電極に最適な電圧に変換して、それぞれの対向
電極に印加すればよい。
【0023】本実施の形態では、主表示エリア30の画
素領域32の大きさが副表示エリア31の画素領域33
の大きさよりも小さいので、主表示エリア30の対向電
極13aに印加する電圧は、副表示エリア31の対向電
極13bに印加する電圧よりも低くする。例えば本実施
の形態では、主表示エリア30の対向電極13aに印加
する電圧は3.7V、副表示エリア31の対向電極13
bに印加する電圧は4.0Vとする。
素領域32の大きさが副表示エリア31の画素領域33
の大きさよりも小さいので、主表示エリア30の対向電
極13aに印加する電圧は、副表示エリア31の対向電
極13bに印加する電圧よりも低くする。例えば本実施
の形態では、主表示エリア30の対向電極13aに印加
する電圧は3.7V、副表示エリア31の対向電極13
bに印加する電圧は4.0Vとする。
【0024】以上説明したとおり、本発明では画素領域
の大きさの異なる二つの表示エリアにある二つの対向電
極に異なる電圧を印加してある。つまり図5(c)にお
いて表示エリアの画素領域の大きさに応じてVcom の値
を変化させ、その結果正と負の極性による電圧振幅の差
を解消させるようにした。
の大きさの異なる二つの表示エリアにある二つの対向電
極に異なる電圧を印加してある。つまり図5(c)にお
いて表示エリアの画素領域の大きさに応じてVcom の値
を変化させ、その結果正と負の極性による電圧振幅の差
を解消させるようにした。
【0025】
【発明の効果】本発明に係わるアクティブマトリクス型
液晶表示装置は、対向電極を分割することにより、それ
ぞれの画素領域の大きさに応じて最適な電圧を印加する
ことが可能となり、その結果フリッカや焼き付きを防止
することができる。
液晶表示装置は、対向電極を分割することにより、それ
ぞれの画素領域の大きさに応じて最適な電圧を印加する
ことが可能となり、その結果フリッカや焼き付きを防止
することができる。
【図1】 本発明の一実施の形態に使用するTFTアレ
イ基板の平面図である。
イ基板の平面図である。
【図2】 図1に示したTFTアレイ基板の副表示エリ
アの一画素領域近傍を拡大して示す平面図である。
アの一画素領域近傍を拡大して示す平面図である。
【図3】 図2のA−A’線に沿った断面図である。
【図4】 本発明の対向電極を示す平面図である。
【図5】 液晶表示装置の駆動電圧を説明する図であ
る。
る。
【図6】 従来のTFTアレイ基板を示す平面図であ
る。
る。
【図7】 従来の対向電極を示す平面図である。
1・・・・・走査線、2・・・・・ゲート電極、3・・・・・ゲート絶
縁膜、4・・・・・半導体膜、5・・・・・オーミックコンタクト
膜、7・・・・・ドレイン電極、8・・・・ソース電極、9・・・・・
容量電極、10・・・・・パッシベーション膜、11・・・・・画
素電極、12・・・・・配向膜、13・・・・・対向電極、13a
・・・・・主表示エリアの対向電極、13b・・・・・副表示エリ
アの対向電極、14・・・・・カラーフィルタ、15・・・・ブ
ラックマトリクス、16、17・・・・・透明基板、18a,
18b・・・・コンタクトホール、19・・・・信号線、20・・
・・・液晶層、21・・・・・TFT、22・・・・・蓄積容量、3
0・・・・・主表示エリア、31・・・・・副表示エリア、32・・
・・・主表示エリアの画素領域、33・・・・副表示エリアの
画素領域、34・・・・・走査線側引出し線、35・・・・・信号
線側引出し線、36・・・・・走査線側端子、37・・・・・信号
線側端子、40・・・・TFTアレイ基板、41・・・・・対向
基板、101・・・・・走査線、119・・・・・信号線、130
・・・・・表示エリア、132・・・・・画素領域、134・・・・走
査線側引出し線、135・・・・・信号線側引出し線、13
6・・・・・走査線側端子、137・・・・信号線側端子、14
0・・・・・TFTアレイ基板
縁膜、4・・・・・半導体膜、5・・・・・オーミックコンタクト
膜、7・・・・・ドレイン電極、8・・・・ソース電極、9・・・・・
容量電極、10・・・・・パッシベーション膜、11・・・・・画
素電極、12・・・・・配向膜、13・・・・・対向電極、13a
・・・・・主表示エリアの対向電極、13b・・・・・副表示エリ
アの対向電極、14・・・・・カラーフィルタ、15・・・・ブ
ラックマトリクス、16、17・・・・・透明基板、18a,
18b・・・・コンタクトホール、19・・・・信号線、20・・
・・・液晶層、21・・・・・TFT、22・・・・・蓄積容量、3
0・・・・・主表示エリア、31・・・・・副表示エリア、32・・
・・・主表示エリアの画素領域、33・・・・副表示エリアの
画素領域、34・・・・・走査線側引出し線、35・・・・・信号
線側引出し線、36・・・・・走査線側端子、37・・・・・信号
線側端子、40・・・・TFTアレイ基板、41・・・・・対向
基板、101・・・・・走査線、119・・・・・信号線、130
・・・・・表示エリア、132・・・・・画素領域、134・・・・走
査線側引出し線、135・・・・・信号線側引出し線、13
6・・・・・走査線側端子、137・・・・信号線側端子、14
0・・・・・TFTアレイ基板
フロントページの続き Fターム(参考) 2H092 GA15 HA04 JA26 JB14 KA05 NA25 PA06 2H093 NA16 NC03 NC05 NC18 NC34 NC35 ND10 ND12 ND35 NE03 NH12 5C006 AF84 BB16 FA23 FA34 FA37 5C080 AA10 BB05 DD06 DD29 FF11 JJ04 JJ06 5C094 AA03 AA31 AA48 AA55 BA03 BA43 CA19 CA20 DA01 DB01 DB02 EA04 EA05 EA07 EA10 EB02 FA01 FB12 GA10
Claims (4)
- 【請求項1】 対向配置された一対の基板の間に液晶層
が狭持され、前記一方の基板の表面には複数の走査線お
よび複数の信号線がマトリクス状に交差して形成され、
複数の走査線と信号線とが形成する交差部の近傍に、前
記走査線に接続するゲート電極を有する薄膜トランジス
タと、該薄膜トランジスタに接続する画素電極と蓄積容
量とがそれぞれ形成されており、走査線と信号線で囲ま
れた画素領域の大きさが互い異なる主表示エリアと副表
示エリアとを具備し、前記他方の対向基板の液晶層側表
面には対向電極が形成されており、前記主表示エリアに
対向する対向電極と前記副表示エリアに対向する対向電
極とが分割して構成されていることを特徴とするアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項2】 前記主表示エリアの画素領域の大きさ
が、前記副表示エリアの画素領域の大きさよりも小さい
ことを特徴とする請求項1に記載のアクティブマトリク
ス型液晶表示装置。 - 【請求項3】 前記主表示エリアに対向する対向電極と
前記副表示エリアに対向する対向電極とに、異なる電圧
を印加するような電圧印加手段を備えたことを特徴とす
る請求項1に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装
置。 - 【請求項4】 前記主表示エリアの画素領域の大きさ
が、前記副表示エリアの画素領域の大きさよりも小さ
く、かつ前記主表示エリアに対向する対向電極に印加す
る電圧が、前記副表示エリアに対向する対向電極に印加
する電圧よりも低くなるような電圧印加手段を備えたこ
とを特徴とする請求項3に記載のアクティブマトリクス
型液晶表示装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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