JP2001116921A

JP2001116921A - 光学部品及びその製造方法並びに光学部品の製造装置

Info

Publication number: JP2001116921A
Application number: JP29440599A
Authority: JP
Inventors: Hirokazu Ishikawa; 博一石川; Kazuto Shimoda; 和人下田; Masayasu Kakinuma; 正康柿沼; Toshitaka Kawashima; 利孝河嶋; Teiji Honjo; 禎治本庄
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1999-10-15
Filing date: 1999-10-15
Publication date: 2001-04-27
Also published as: EP1092991A3; EP1092991A2

Abstract

(57)【要約】【課題】複数層の光学薄膜を支持体上に形成した密着
性の良好な光学部品、その製造法及び光学部品の製造装
置を提供すること。【解決手段】透明又は半透明の支持体１１に珪素より
なる密着層１２を介して光学薄膜層１３の多数層を積層
することを特徴とする光学部品１０。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学部品、これら
の製造方法及び光学部品の製造装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、反射防止コート、高反射ミラー、
エッジフィルター、帯域フィルター、ダイクロイックフ
ィルター等の光学部品の需要が著しく増大してきた。こ
れらの光学部品は、一般にガラス基板上に成膜されてい
るが、コストの点から可撓性のある支持体である例え
ば、プラスチックフィルム等の上に反射防止コート、高
反射ミラー、エッジフィルター、帯域フィルター、ダイ
クロイックフィルター等の機能を奏させるための光学薄
膜を複数層積層させ、形成されたものも開発され、一部
は上市されている。このようにして形成された光学部品
はプラスチックフィルム上の光学薄膜の層数が多くなる
ほど、前記プラスチックフィルムと前記複数層からなる
光学薄膜との間が剥離し易くなるという問題があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来、この問題点を解
決するために、種々の試験研究が行われてきた。例え
ば、特開昭６３−８１４０２号公報、特開昭６３−８１
４０３号公報、特開昭６３−８１４０４号公報には、酸
化セリウム材料を密着層としてプラスチック支持体上に
設け、その上に酸化珪素よりなる反射防止層を成膜し、
光学薄膜層とプラスチックフィルムとの密着性の向上し
た反射防止フィルターが開示されている。しかし、セリ
ウムはスパッタ用材料としては一般的でなく、また材料
コストも高価であることが問題となっていた。更に、特
開平１−２８０７０１号公報では、プラスチックフィル
ム上にアクリル系架橋性硬化樹脂を塗布して紫外線硬化
させたプラスチック支持体上に光学薄膜を多数積層して
反射防止膜を成膜して光学薄膜の支持体との密着性を増
強している。しかし、この方法は塗布工程を必要とする
ので、工業的には極めて煩雑となってしまう。さらに特
開平１０−４８４０２号公報には、プラスチック支持体
上にＳｉＯ2(Ｏ＜Ｘ＜２）の密着層を設け、その上にＳ
ｉＯ2 よりなる光学薄膜層を積層させた反射防止膜に関
する技術が開示されている。しかし、ＳｉＯ2(Ｏ＜Ｘ＜
２）を密着層とする場合、成膜の条件によって変動し易
いＸの値を一定に保つのが容易でなく、作製された光学
部品の光学特性がが一定になりにくいという問題があっ
た。

【０００４】本発明は、以上の点に鑑み、複数層の光学
薄膜を支持体上に形成した密着性の良好な光学部品、そ
の製造法及び光学部品の製造装置を提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】前記目的は、請求項１の
発明によれば、透明又は半透明の支持体上の珪素よりな
る密着層と、その密着層上の複数層からなる光学薄膜層
とを有することを特徴とする光学部品により、達成され
る。

【０００６】前記構成によれば、透明又は半透明の支持
体に珪素よりなる密着層を介して光学薄膜層の多数層を
積層されているため、前記支持体と前記光学薄膜層との
密着性が良好となる。

【０００７】また、好ましくは、請求項７の発明によれ
ば、請求項１の構成において、前記密着層が略１ｎｍ乃
至略１０ｎｍの厚さを有する光学部品である。

【０００８】そして、好ましくは、請求項８の発明によ
れば、請求項１の構成において、前記密着層が略１ｎｍ
乃至略５ｎｍの厚さを有する光学部品である。

【０００９】前記構成によれば、前記密着層が略１ｎｍ
乃至略１０ｎｍ又は略１ｎｍ乃至略５ｎｍの厚さである
ため、この密着層の厚さが薄くなり、且つ密着強度は充
分に保たれ、しかも光学部品の光学特性に何ら影響をあ
たえない。

【００１０】また、前記目的は、請求項１８の発明によ
れば、支持体上に珪素のメタルターゲットを用いて密着
層をスパッタにより形成する工程と、前記密着層上に光
学薄膜原材料のターゲットを用いて複数層からなる光学
薄膜を形成することを特徴とする光学部品の製造方法に
より、達成される。

【００１１】前記方法によれば、支持体上に珪素のメタ
ルターゲットを用いて密着層をスパッタにより形成する
工程と、この密着層上に光学薄膜原材料のターゲットを
用いて複数層からなる光学薄膜層を形成するので、前記
支持体と前記光学薄膜層との密着性が極めて向上し、耐
久性も良好となる。

【００１２】前記目的は、請求項２２の発明によれば、
支持体を保持する第１の保持部と、前記第１の保持部か
ら送出される前記支持体を受け取るための第２の保持部
と、前記第１の保持部と前記第２の保持部との間に配置
されると共に、前記支持体に対してスパッタするための
珪素のメタルターゲットと、を有することを特徴とする
光学部品の製造装置により、達成される。

【００１３】前記構成によれば、前記光学部品の製造装
置は、支持体を保持する第１の保持部と、前記第１の保
持部から送出される前記支持体を受け取るための第２の
保持部と、前記第１の保持部と前記第２の保持部との間
に配置されると共に、前記支持体に対してスパッタする
ための珪素のメタルターゲットとを有するので、前記支
持体上に前記珪素のメタルターゲットで密着層を形成す
ることができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施の形
態を図１及び図２を参照しながら、詳細に説明する。な
お、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例
であるから、技術的に好ましい種々限定が付されている
が、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を
限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られる
ものではない。

【００１５】図１は、本発明の実施の形態である光学部
品、例えばダイクロイックフィルターの構成を示す図で
ある。図１に示すようにダイクロイックフィルター１０
は、先ず、支持体１１を有している。この支持体１１
は、例えばプラスチックフィルム１１ａと、このプラス
チックフィルム１１ａを保護するためのハードコート層
１１ｂとを有している。このプラスチックフィルム１１
ａは、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、
ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタアクリレー
ト、ポリカーボネート又はアモルファスポリオレフィン
（ＡＰＯ）等のプラスチックフィルムが好適である。ま
た、前記ハードコート層は、シリコーン樹脂又はエポキ
シ樹脂等により形成されている。そして、前記プラスチ
ックフィルム１１ａは、その厚みが例えば１８８μｍで
あり、前記ハードコート層１１ｂの厚みが、例えば６μ
ｍである。

【００１６】このように構成される支持体１１の上に
は、図１に示すように密着層１２が形成されている。こ
の密着層１２は、珪素（Ｓｉ）より形成されている。厚
みは、例えば１ｎｍ乃至１０ｎｍであり、好適な範囲
は、１ｎｍ乃至５ｎｍである。図１に示すように本実施
の形態に係るダイクロイックフィルター１０は、２ｎｍ
ｎの厚みで珪素（Ｓｉ）を形成している。このように珪
素（Ｓｉ）の密着層１２の厚さを薄くしても、密着強度
は充分であり、しかもダイクロイックフィルター１０の
光学特性も良好であった。この密着層１２によって密着
されるのが図１に示す光学薄膜層１３である。この光学
薄膜層１３は、ダイクロイックフィルター１０の場合
は、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ 2Ｏ 3）のような高屈折率
層と酸化珪素（ＳｉＯ 2）のような低屈折率層とをそれ
ぞれ交互に成膜し、全体で２１層とした光学薄膜層であ
る。このように、２１層、積層した場合でも、密着層１
２である珪素（Ｓｉ）の密着強度は充分で、光学薄膜１
３が剥離することがなかった。図１では、酸化ニオブ
（Ｎｂ 2Ｏ 3）を用いているが、それ以外にも酸化チタ
ン、酸化タルタル、インジウムティンオキサイド（ＩＴ
Ｏ）、酸化錫又は酸化セリウム等であってもよい。

【００１７】光学薄膜層１３として、ダイクロイックフ
ィルター１０ではなく、反射防止膜を形成する場合は、
酸化珪素を例えば４層乃至８層、積層した光学薄膜層が
用いられる。また、光学薄膜層として、高反射ミラーを
形成する場合は、例えば酸化ニオブ（ｎ＝２．４高屈
折材料Ｈ）及び二酸化珪素（ｎ＝１．４６，低屈折材料
Ｌ）を用いた場合、基板（支持体）／密着層／（Ｈ／２
・Ｌ・Ｈ／２）・６の１３層で反射率は、９９％以上と
なる。このとき、Ｌ及びＨは、λ／４の光学薄膜であ
る。そして、光学薄膜層として、帯域フィルターを形成
する場合は、基板（支持体）／密着層／（Ｈ／４・Ｌ／
２・Ｈ／４）・４（Ｌ／２・Ｈ・Ｌ／２）・４の１８
層で、設計波長８００ｎｍとして場合、図３の実線及び
破線に示すように、５２５ｎｍ乃至６２５ｎｍに対して
良好な帯域フィルターとなる。このような帯域フィルタ
ーを最適化して示したのが図４である。さらに、光学薄
膜層として、エッジフィルターを形成する場合は、基板
（支持体）／密着層／（Ｌ／２・Ｈ・Ｌ／２）・７の１
５層で、設計波長６８０ｎｍとすれば、図５のａ及びｂ
に示すように、４００ｎｍ乃至５５０ｎｍを透過、６０
０ｎｍ乃至７５０ｎｍを阻止帯とするエッジフィルター
ができる。このような図５に示すａ及びｂのエッジフィ
ルターを最適化して示したのが図６である。以上のよう
に各種光学薄膜層を９層乃至１５層以上にわたって積層
し、これを支持体１１に形成した珪素（Ｓｉ）の密着層
１２で密着させた場合でも、支持体１１との剥離は見ら
れなかった。

【００１８】本発明の実施の形態に係るダイクロイック
フィルター１０は、以上のように構成されており、図１
に示す支持体１１と２１層からなる光学薄膜層１３との
密着性が著しく改善された。以下、このダイクロイック
フィルター１０の剥離試験の結果を示す。ダイクロイックフィルターの剥離試験（テスト内容）ダイクロイックフィルター１０の表面に
粘着テープ（例えばスコッチテープ等）を貼り、この粘
着テープをダイクロイックフィルター１０の表面に対し
て垂直方向に引き上げても、光学薄膜層１３は支持体１
１から剥離することがなかった。

【００１９】次に、上述のダイクロイックフィルター１
０を製造する方法及びその製造装置について説明する。
図２は、本発明の実施の形態に係る光学部品の製造装置
である光学薄膜層形成装置２０を示す図である。この光
学薄膜形成装置２０は、外気雰囲気と内部雰囲気を隔離
し得る筐体２１を有している。この筐体２１には、筐体
２１内部を不純物（ガス等）の真空に保つためのターボ
ポンプ３１が設けられていると共に、図示しない水分除
去手段をも有している。また、この筐体２１内部には、
支持体１１を巻き出すための第１の保持部である巻きだ
しロール２４を有している。この巻きだしロール２４の
近傍には、巻きだしロール２４から巻き出された支持体
１１を、筐体２１に設けられたＲＦエッチ２８に案内す
るためのガイドロール２５ａ，２５ｂが設けられてい
る。ここでＲＦエッチ２８は、高周波（ＲａｄｉｏＦ
ｒｅｑｕｅｎｃｙ）プラズマエッチングのことであり、
アルゴン若しくは酸素雰囲気中で、プラズマをたてて、
プラスチック製の支持体１１の表面をエッチングするこ
とで、きれいな表面を形成させるものである。

【００２０】また、この光学薄膜装置２０は、図２に示
すように冷却ドラム２７を有している。この冷却ドラム
２７は、前記支持体１１の温度上昇を押さえるためのも
のである。そして、この冷却ドラム２７に支持体１１を
案内するためのガイドロール２５ｃ、２５ｅが、図２に
示すように配置されている。図２において冷却ドラム２
７の左側に相当する筐体２１側には、ニオブ（Ｎｂ）を
支持体１１にスパッタするためのメタルターゲットであ
るＮｂスパッタ２２が配置されている。また、図２にお
いて冷却ドラム２７の右側に相当する筐体２１側には、
珪素（Ｓｉ）を交流又は直流で支持体１１にスパッタす
るためのメタルターゲットであるＳｉスパッタ２３が配
置されている。このＳｉスパッタ２３の図において上部
の筐体２１側には、ガス導入バルブ２９が設けられてい
る。このガス導入バルブ２９は、Ｎｂスパッタ２２やＳ
ｉスパッタ２３によってニオブ（Ｎｂ）や珪素（Ｓｉ）
を支持体１１にスパッタする際に、このスパッタを誘導
するための例えばアルゴン又は窒素等の不活性ガス、若
しくはその他の反応ガスを導入するためのものである。

【００２１】すなわち、スパッタで形成する光学薄膜が
例えば、図１に示す酸化珪素（ＳｉＯ 2）や五酸化ニオ
ブ（Ｎｂ 2Ｏ 5）の場合は、Ｎｂスパッタ２２とＳｉス
パッタ２３で、それぞれ、ニオブ（Ｎｂ）や珪素（Ｓ
ｉ）を用いると共に、ガス導入バルブ２９からアルゴン
と共に酸素を導入することで、酸化珪素（ＳｉＯ 2）や
五酸化ニオブ（Ｎｂ 2Ｏ 5）の光学薄膜を形成すること
になる。このガス導入バルブ２９の図２の上部で、冷却
ドラム２７と支持体１１を巻き取るための第２の保持部
である巻き取りロール２６との間には、透過率モニター
３０が設けられている。また、冷却ドラム２７から支持
体１１を、透過率モニター３０及び巻き取りロール２６
に案内するためのガイドロール２５ｆが設けられてい
る。この透過率モニター３０では、必要に応じて、支持
体１１に成膜された光学膜の膜厚が、予め設計された透
過率特性を満たしているか否かをモニターし、その結果
を外部の図示しない表示部に表示するようになってい
る。図２において、この透過率モニター３０の上部に
は、上述した巻き取りロール２６が配置され、最終的
に、この巻き取りロール２６で巻き取ることになる。ま
た、密着層１２をスパッタにより形成する際、筐体２１
内の残留水分により珪素が酸化されるのを防ぐため、筐
体２１内部あるいは外部に接続した上述の図示しない水
分除去手段によって、筐体２１内の水分を除去すること
が望ましい。

【００２２】本実施の形態に係る光学薄膜形成装置２０
は、以上のように構成されているが、この光学薄膜形成
装置２０を用いた光学部品の製造方法を、例えばダイク
ロイックフィルター１０について以下、説明する。先
ず、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）より
成り、その厚みが例えば１８８μｍである帯状の可撓性
プラスチックフィルム１１ａを用いる。このプラスチッ
クフィルム１１ａ上には、図１に示すように、シリコー
ン樹脂より成るハードコート層１１ｂを例えば厚さ６μ
ｍで形成し、前記支持体１１を形成する。このように形
成された、支持体１１をロール状にして、図２の巻きだ
しロール２４に設置し、支持体１１の一端部が巻き取り
ロール２６に係合するようにする。このように配置する
ことで、支持体１１は、巻きだしロール２４からガイド
ロール２５ａ，２５ｂ、２５ｃを介し、冷却ドラム２７
を経て、ガイドロール２５ｅ、２５ｆを介し、巻き取り
ロール２６に巻き取られることになる。密着層１２を成
膜するときの支持体１１の走行速度は、例えば２．５ｍ
／ｍｉｎである。また、光学薄膜層１３を成膜する場合
は、例えば０．２ｍ／ｍｉｎである。上記の配置された
支持体１１上に密着層である珪素（Ｓｉ）を成膜するこ
とになる。具体的には、先ず筐体２１内にガス導入バル
ブ２９からアルゴンガスを注入し、筐体２１内をアルゴ
ンガス雰囲気とする。このときのアルゴンガスの流量
は、例えば２００ｓｃｃｍである。この状態で、図２の
Ｓｉスパッタ２３を用いて上述のように、珪素（Ｓｉ）
薄膜を、例えば２ｎｍの厚みで、支持体１１上に形成す
る。このときのスパッタ電力は、例えば０．８ｋｗであ
る。

【００２３】支持体１１上に、珪素（Ｓｉ）の成膜が終
了すると、このように珪素（Ｓｉ）が成膜されている支
持体１１を巻き取りロール２６から取り外し、巻きだし
ロール２４に取り付ける。このように取り付けられた珪
素（Ｓｉ）が成膜されている支持体１１の一端部を上述
と同様に巻き取りロール２６に配置する。そして、次
に、図１に示す酸化珪素（ＳｉＯ 2）を成膜する。具体
的には、筐体２１に付いている真空排気装置であるター
ボポンプ３１で排気し、ガス導入バルブ２９から、酸素
とアルゴンを注入し、筐体２１内を酸素／アルゴン雰囲
気とする。その後、図２に示すＳｉスパッタ２２を用い
て酸化珪素（ＳｉＯ 2）の薄膜を例えば１５１．４ｎｍ
成膜する。この酸化珪素（ＳｉＯ 2）の薄膜形成が終了
した後、この珪素（Ｓｉ）と酸化珪素（ＳｉＯ 2）が成
膜されている支持体１１を巻きだしロール２４に配置
し、筐体２１の雰囲気をガス導入バルブ２９を用いて酸
素／アルゴン雰囲気とし、図２に示すＮｂスパッタ２２
を用いて五酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）の薄膜を例えば、
９５．９ｎｍの厚みで成膜する。このようにして、図１
に示す順番通りに、酸化珪素（ＳｉＯ 2）の薄膜と五酸
化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）の薄膜を例えば２１層積層し光
学薄膜層１３が完成することになる。

【００２４】そして、それぞれの薄膜の厚みは、例えば
図１に示す厚みとなる。ところで、このように積層され
る薄膜のうち、酸化珪素（ＳｉＯ 2）層は、低透過率層
であり、五酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）層は、高透過率層
である。このように低透過率層の酸化珪素（ＳｉＯ 2）
層と高透過率層の五酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）層を１組
として、図１に示すように例えば１０組積層することで
ダイクロイックフィルター１０が製造されることにな
る。

【００２５】以上のようにして製造されたダイクロイッ
クフィルター１０は、２１層も支持体１１上に積層して
も、上述のテストの結果のとおり光学薄膜層１３が支持
体１１から剥離することがなかった。また、密着層であ
る珪素（Ｓｉ）層は２ｎｍという薄さでも充分、密着層
としての役割を果たすため、その上に積層された光学薄
膜層１３の光学特性にも影響がなく、良好なダイクロイ
ックフィルター１０を製造することができた。

【００２６】なお、本実施の形態においては、低透過率
層として酸化珪素（ＳｉＯ 2）を用いたが、酸化珪素
（ＳｉＯ 2）に代えて、弗化マグネシウム層としてもよ
い。この場合、一般には、マグネシウムを材料として、
電子ビームによる蒸着を行う。

【００２７】

【発明の効果】以上のべたように、本発明によれば、多
数層の光学薄膜を支持体上に形成した密着性の良い光学
部品、その製造法及び光学部品の製造装置を提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係るダイクロイックフィ
ルターの概略断面図である。

【図２】本発明の実施の形態に係る光学薄膜形成装置２
０を示す概略断面図である。

【図３】帯域フィルターの特性を示した図である。

【図４】帯域フィルターの形成例を示す図である。

【図５】エッジフィルターの特性を示した図である。

【図６】エッジフィルターの形成例を示す図である。

【符号の説明】１０・・・ダイクロイックフィルター、１１・・・支持
体、１１ａ・・・プラスチックフィルター、１１ｂ・・
・ハードコート層、１２・・・密着層、１３・・・光学
薄膜層、２０・・・光学薄膜層形成装置、２１・・・筐
体、２２・・・Ｎｂスパッタ、Ｓｉスパッタ、２４・・
・巻きだしロール、２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｅ，
２５ｆ・・・ガイドロール、２６・・・巻き取りロー
ル、２７・・・冷却ドラム、２８・・・ＲＦエッチ、２
９・・・ガス導入バルブ、３０・・・透過率モニター、
３１・・・ターボポンプ

フロントページの続き (72)発明者柿沼正康東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内 (72)発明者河嶋利孝東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内 (72)発明者本庄禎治東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内Ｆターム(参考） 2H048 GA04 GA09 GA13 GA14 GA19 GA27 GA34 GA36 GA60 2K009 AA15 BB24 CC01 CC33 CC42 DD04 DD09 EE00 4K029 AA11 AA25 BA42 BA43 BA45 BA46 BA47 BA48 BA50 BB02 BC07 BD09 CA05 DC02 EA00 EA01 EA04 EA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明又は半透明の支持体上の珪素よりな
る密着層と、その密着層上の複数層から成る光学薄膜層とを有するこ
とを特徴とする光学部品。
【請求項２】前記支持体が可撓性のある支持体である
ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項３】前記支持体が有機物であることを特徴と
する請求項１に記載の光学部品。
【請求項４】前記可撓性のある支持体がプラスチック
フィルムであることを特徴とする請求項２に記載の光学
部品。
【請求項５】前記支持体がポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタアクリ
レート、ポリカーボネート又はアモルファスポリオレフ
ィンのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載
の光学部品。
【請求項６】前記支持体が、その表面にハードコート
層を持つプラスチックフィルムであることを特徴とする
請求項１に記載の光学部品。
【請求項７】前記密着層が略１ｎｍ乃至略１０ｎｍの
厚さを有することを特徴とする請求項１に記載の光学部
品。
【請求項８】前記密着層が略１ｎｍ乃至略５ｎｍの厚
さを有することを特徴とする請求項１に記載の光学部
品。
【請求項９】前記光学部品が反射防止ミラー、高反射
ミラー又はフィルターであることを特徴する請求項１に
記載の光学部品。
【請求項１０】前記フィルターがエッジフィルター、
帯域フィルター又はダイクロイックフィルターであるこ
とを特徴とする請求項９に記載の光学部品。
【請求項１１】前記密着層を含む前記多層膜の膜数が
４乃至８であり、且つ反射防止機能を有することを特徴
とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項１２】前記密着層を含む前記多層膜の膜数が
９以上であることを特徴とする請求項１に記載の光学部
品。
【請求項１３】前記支持体上に前記密着層を設け、そ
の上に低屈折率層上に高層折率層が積層された組又は高
屈折率層上に低屈折率層が積層された組が４組以上積層
されたことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項１４】前記支持体上に前記密着層を設け、そ
の上に低屈折率層上に高層折率層が積層された組が４組
以上積層された最外層に低屈折率層を設けたことを特徴
とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項１５】前記支持体上に前記密着層を設け、そ
の上に高屈折率層上に低屈折率層が積層された組が４粗
以上積層された最外層に高屈折率層を設けたことを特徴
とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項１６】前記低屈折率層が酸化珪素又は弗化マ
グネシウムであることを特徴とする請求項１５に記載の
光学部品。
【請求項１７】前記高層折率層が酸化チタン、酸化タ
ンタル、酸化ニオブ、インジウムティンオキサイ
ト、酸化錫又は酸化セリウムであることを特徴とする請
求項１５に記載の光学部品。
【請求項１８】支持体上に珪素のメタルターゲットを
用いて密着層をスパッタにより形成する工程と、前記密着層上に光学薄膜原材料のターゲットを用いて複
数層から成る光学薄膜を形成する工程とを有することを
特徴とするする光学部品の製造方法。
【請求項１９】前記交流又は直流スパッタ時にアルゴ
ン又は窒素を成膜室に導入して前記密着層を形成するこ
とを特徴とする請求項１８に記載の光学部品の製造方
法。
【請求項２０】前記アルゴン又は前記窒素の導入量を
制御しながら前記密着層を形成することを特徴とする請
求項１９に記載の光学部品の製造方法。
【請求項２１】前記密着層の形成後にこの密着層の光
の透過率をモニターしながら前記アルゴン又は前記窒素
の導入量を制御することを特徴とする請求項２０に記載
の光学部品の製造方法。
【請求項２２】支持体を保持する第１の保持部と、前記第１の保持部から送出される前記支持体を受け取る
ための第２の保持部と、前記第１の保持部と前記第２の保持部との間に配置され
ると共に、前記支持体に対してスパッタするための珪素
のメタルターゲットと、を有することを特徴とする光学
部品の製造装置。