JP2001108949A - コンタクトレンズの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表面の水濡れ性を恒久的に維持し、さらに耐
汚染性に優れることで、装用感が良好なコンタクトレン
ズにおいて、外観上均一に形成された重合膜を有するレ
ンズを安定的に提供する。 【解決手段】 シリコンあるいはフッ素を含有する化合
物を組成成分として作製されたコンタクトレンズ基材表
面に薄膜形成する際に、基材加工直後に表面均一化工
程、表面親水化膜形成直後に表面クリーニング工程を導
入する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はコンタクトレンズの
製造方法に関し、特に表面の水濡れ性を恒久的に維持
し、さらに耐汚染性に優れることで、装用感が良好なコ
ンタクトレンズの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】コンタクトレンズは、その材質の硬さに
よって、ハードコンタクトレンズとソフトコンタクトレ
ンズに分類される。さらに、ソフトコンタクトレンズ
は、水分を含有するか否かによって、含水ソフトコンタ
クトレンズと非含水ソフトコンタクトレンズに分類でき
る。

【０００３】コンタクトレンズ表面の濡れ性を向上する
手段としては、種々の方法が提案されてきており、例え
ば、（１）特公昭５８−４３０１５号公報、（２）特公
平１−６００５２号公報、（３）特開平３−１５８１６
号公報にはコンタクトレンズ表面に放電処理を行う方法
が開示されている。

【０００４】さらに、（４）特公昭６２−３７３７０号
公報、（５）特公平４−４１１７９号公報、（６）特公
平２−２９０９４号公報、（７）特開平２−２７８２２
４号公報には表面に薄膜を形成する方法が開示されてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術にあっ
て、（１）、（２）、（３）の公報に記載のコンタクト
レンズあるいはその製造方法は、コンタクトレンズ表面
を、空気、酸素、アルゴン、窒素等のガス雰囲気中にて
放電処理を行う方法であり、具体的には、コンタクトレ
ンズ表面に活性な化学種を衝突させることで、表面近傍
の化学結合を切断し、そこに親水性の官能基を導入する
反応であると考えられている。

【０００６】しかしながら、これらの方法によって得ら
れるコンタクトレンズは、空気に接触させた状態で長時
間放置するとレンズ表面の濡れ性が低下するという欠点
を有していた。また、コンタクトレンズのケアとして一
般的に行われている擦り洗浄等によっても、濡れ性が低
下するという問題点を有し、表面の水濡れ性を恒久的に
維持するという点から満足のいくものは得られていな
い。

【０００７】また、前記（４）、（５）の公報に記載の
コンタクトレンズは、その表面に親水性薄膜を形成する
ことでレンズ表面の濡れ性を向上させる方法であって、
時間経過に伴う濡れ性の悪化は少ないものの、装用時、
コンタクトレンズ表面への汚れ付着が見られ、良好な装
用感を得るという点からは不十分であった。

【０００８】そこで、前記（６）、（７）の公報におい
ては、プラズマ処理した後に、重合性モノマーと接触さ
せることで、レンズ表面にグラフト重合膜を形成したコ
ンタクトレンズを得ている。この技術によると、表面の
水濡れ性を恒久的に維持し、さらにレンズ使用時の耐汚
染性に優れることで、良好な装用感を得ることが可能に
なった。しかしながら前記（６）、（７）記載のコンタ
クトレンズ製造方法は得られたレンズの中に、重合膜が
ポツ、ヌケ、まだら等外観上不均一な膜形成となるもの
が見受けられ、商品品質、生産性の観点から均一な重合
膜が、安定的に得られる方法が求められていた。

【０００９】そこで本発明は、以上の表面処理されたコ
ンタクトレンズの抱える問題点を解決するもので、その
目的とするところは、表面の水濡れ性を恒久的に維持
し、さらに耐汚染性に優れ、装用感が良好なコンタクト
レンズにおいて、外観上均一に形成された重合膜を有す
るレンズを安定的に提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のコンタクトレンズの製造方法は、シリコン含
有（メタ）アクリレート、フッ素含有（メタ）アクリレ
ート、あるいはフッ素含有フマレートのうち、少なくと
も１つの化合物を組成成分として含有する重合体から作
製されたコンタクトレンズにおいて、少なくとも（ａ）
コンタクトレンズ形状に加工するレンズ加工工程と、
（ｂ）加工されたコンタクトレンズ表面両面の状態を均
一にする表面均一化工程と、（ｃ）コンタクトレンズ基
材表面の活性化処理を行うコンタクトレンズ基材表面活
性化工程と、（ｄ）コンタクトレンズ基材を親水性モノ
マーを含有する溶液に浸漬しこのコンタクトレンズ基材
表面に親水性モノマーをグラフト重合するグラフト重合
工程と、（ｅ）コンタクトレンズ基材表面の残留物を洗
浄・除去する表面クリーニング工程と、をこの順序で有
することを特徴とする。

【００１１】さらに本発明は、前記（ｂ）の表面均一化
工程が少なくとも水を含むウェット工程から成ることを
特徴とする。さらに本発明は、前記（ｂ）の表面均一化
工程が少なくとも溶剤を用いる超音波洗浄を行う工程か
ら成ることを特徴とする。

【００１２】さらに本発明は、前記（ｅ）の表面クリー
ニング工程が少なくとも水を含むウェット工程から成る
ことを特徴とする。さらに本発明は、前記（ｅ）の表面
クリーニング工程が少なくとも溶剤を用いる超音波洗浄
を行う工程から成ることを特徴とする。

【００１３】上記構成によれば、表面に親水性薄膜を形
成することにより、表面の水濡れ性を恒久的に維持し、
さらにレンズ使用時の耐汚染性に優れ、良好な装用感が
得られるコンタクトレンズの製造が可能となる。

【００１４】さらに上記構成によれば、重合前に、レン
ズ加工による表面状態の部分的な差異が表面均一化工程
によりキャンセルされ、また、重合後の表面残留物が表
面クリーニング工程によりに除去されるることで、重合
膜にポツ、ヌケ、まだら等が無く外観上均一な膜形成が
可能となる。

【００１５】また本発明のコンタクトレンズの製造方法
は、前記コンタクトレンズ基材表面活性化工程を、常圧
又は減圧下でコンタクトレンズ基材表面を放電処理する
ことによって行うことを特徴とする。

【００１６】上記構成によれば、基材表面活性化の再現
性が良いため、安定した重合膜の形成が可能になる。

【００１７】また本発明のコンタクトレンズの製造方法
は、前記シリコン含有（メタ）アクリレートが、下記一
般式（１）で表される化合物であることを特徴とする。

【００１８】

【化５】

【００１９】（式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を
示し、ＸおよびＹは炭素数１〜５のアルキル基、フェニ
ル基またはＺ基からなる群より選ばれる有機基であり、
ａは１〜３の整数を示す） ここでＺは、下記一般式（２）で表される基を示すもの
とする。

【００２０】

【化６】

【００２１】（式中、Ａは炭素数１〜５のアルキル基ま
たはフェニル基を示し、ｂは０〜５の整数を示す） 上記構成によれば、コンタクトレンズ内部にシロキサン
基が存在することで、酸素透過性が向上し、装用時の角
膜への負担が低減される。また本発明のコンタクトレン
ズの製造方法は、前記フッ素含有（メタ）アクリレート
が、下記一般式（３）で表される化合物であることを特
徴とする。

【００２２】

【化７】

【００２３】（式中、Ｒ²は水素原子またはメチル基、
−Ｃ_iＨ_jＦ_2i+1-jは直鎖状または分岐状のフッ素含有基
を示し、ｉは１〜１８の整数、ｊは１〜２ｉの整数を示
す） 上記構成によれば、コンタクトレンズの内部にフルオロ
アルキル基が存在することで、酸素透過性が向上し、装
用時の角膜への負担が低減される。

【００２４】また本発明のコンタクトレンズの製造方法
は、前記フッ素含有フマレートが、下記一般式（４）で
表される化合物であることを特徴とする。

【００２５】

【化８】

【００２６】（式中、Ｒ³およびＲ⁴は同一または異なる
基であって、 Ｒ³およびＲ⁴の少なくとも一方の基が−
Ｃ_mＨ_nＦ_2m+1-nで示される直鎖状または分岐状のフッ素
含有基を示し、ｍは１〜１８の整数、ｎは１〜２ｍの整
数を表し、また一方のみが−Ｃ _mＨ_nＦ_2m+1-nの場合、他
方は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のア
ルケニル基、または炭素数３〜１２のシクロアルキル基
を示す） 上記構成によれば、コンタクトレンズの内部にフルオロ
アルキル基が存在することで、酸素透過性が向上し、装
用時の角膜への負担が低減されるとともに、強度が向上
し、装用中もしくはハンドリングの際に破損することが
ないため、安全に使用できる。

【００２７】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態のコン
タクトレンズの製造方法を図面を参照して説明する。

【００２８】本発明の製造方法によるコンタクトレンズ
１は視力矯正能力を有するレンズ基材３と、表面の水濡
れ性を恒久的に維持する親水性薄膜２とから構成される
（図１）。

【００２９】表面の親水性薄膜形成に使用する化合物
は、（メタ）アクリルアミド、N−メチル（メタ）アク
リルアミド、N−エチル（メタ）アクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、N，N−ジメチ
ル（メタ）アクリルアミド、N，N−ジエチル（メタ）ア
クリルアミド、N−エチルアミノエチル（メタ）アクリ
ルアミドなどの（メタ）アクリルアミド系モノマー、
（メタ）アクリル酸、N−ビニルピロリドン、N−（メ
タ）アクリロイルピロリドンなどのN−ビニルラクラム
類、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレートなどの水酸基含有アルキル（メ
タ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメタク
リレート、ポリエチレングリコールモノアクリレートな
どのエーテル基含有アルキル（メタ）アクリレート、ポ
リビニルアルコール等が挙げられ、これらの化合物は、
単独もしくは２種以上を混合して使用することができ
る。

【００３０】また、架橋剤として、１，２−エチレング
リコール、１，２−及び１，３−プロパンジオール、並
びに１，３−及び１，４−ブタン、１，５−ペンタン及
び１，６−ヘキサンジオールのジアクリレート類及びジ
メタクリレート類；ジエチレン−、トリエチレン−及び
テトラエチレングリコール、並びにネオペンチルグリコ
ール、ジ（２−ヒドロキシエチル）スルホン及びチオジ
エチレングリコールのジアクリレート類及びジメタクリ
レート類；トリメチロールプロパントリアクリレート及
びトリメタクリレート、ジ−トリメチロールプロパンテ
トラアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリ
レート及びテトラメタクリレート、ジ−ペンタエリトリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート；ビスフェノ
ール−A−及びエトキシル化ビスフェノール−A−ジメタ
クリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレートトリアクリレート；アリルアクリレート及びメ
タクリレート；ジアリルフタレート、トリアリルメラミ
ン；N，N’−メチレンビスアクリルアミド、またはN，
N’−メチレンビスメタクリルアミド、エチレンビスメ
タクリルアミド、ジビニルベンゼン、ジビニルトルエ
ン、ジビニルスルホン、ジビニルエーテル、ブタンジオ
ールジビニルエーテル；等が挙げられ、これらの化合物
は、単独もしくは２種以上を混合して使用することがで
きる。

【００３１】まず、レンズ加工工程について説明する。
生地レンズの加工方法はコンタクトレンズ材質、及び要
求性能等に応じて、棒状またはボタン状原料材料から切
削・研磨により作製するレースカット法、レンズ成形型
に原料を注入し固めるモールド法、型を注入した原料と
ともに回転させレンズを得るスピンキャスト法等、任意
に選択することができる。

【００３２】上記方法でコンタクトレンズ形状に加工さ
れた生地レンズは引き続き表面均一化工程により、薄膜
形成する前のレンズの表面両面の状態を均一にする。そ
の方法としては、洗浄、研磨、アルカリ処理等が挙げら
れる。特に処理の簡便性から水を含むウェット工程での
洗浄が好ましく用いられる。また洗浄はレンズ片面毎、
又は両面同時に行うことができる。

【００３３】超音波洗浄機を用いたウェット工程の一例
を以下に説明する。加工方法により、レンズ形成型又は
レンズ支持ツールから取り出されたレンズを超音波洗浄
機等に浸漬し、所定時間洗浄する。この際、必要に応じ
水中に界面活性剤を添加することもできる。超音波洗浄
機は特に限定されるものではないが、周波数２５ｋＨz
から８０ｋＨzの範囲の装置で行うことが好ましい。こ
の範囲外では本加工方法においては十分な表面の均一化
が行われず、またレンズ自体にキズ等の損傷を生じさせ
る場合があり好ましくない。洗浄時間は生産性を考慮し
て、1時間以内の範囲で設定する。洗浄中の槽の温度は
レンズのダメージを考慮して６０℃以下で行うことが好
ましい。出力は処理するレンズの枚数、装置の大きさに
応じて最適条件に設定する。

【００３４】生地加工終了から上記表面均一化工程は一
連の工程として時間をおかず行うのが好ましく、作業の
事情で加工レンズをライン中に保留しておく場合でも、
２４時間以内に処理することが好ましい。表面均一化工
程を通さず長期に放置した場合、表面に形成された膜が
外観上部分的にムラが生じ、不良となる場合があり、好
ましくない。

【００３５】また他の装置としては、界面活性剤を含む
水と共に表面を高圧ジェット洗浄、ブラッシング洗浄、
スポンジ、不織布、不織紙等での擦り洗浄を行い均一化
を行うことも可能である。

【００３６】また、特定の装置を使用しない場合は、界
面活性剤の種類、量、浸漬時間を最適化し浸漬のみで均
一化することもできる。続いて薄膜形成の形態について
説明する。

【００３７】まず、活性点の導入方法について説明す
る。本発明に使用する装置の一例を図２に示す。本装置
は、処理を行うプラズマチャンバー４、プラズマチャン
バー内の気体を排気するための真空ポンプ５、放電させ
るための電源装置６、から構成されている。さらに、プ
ラズマチャンバー４には、プラズマチャンバー内にガス
を導入するためのガス導入部８が接続されており、バル
ブ１４を介してチャンバーに接続されている。真空ポン
プ５は、メインバルブ１０を間にはさんで、排気管１１
によってプラズマチャンバー４と接続されている。排気
管１１はまた、リークバルブ１５を介してリークポート
９へ接続されている。プラズマチャンバー内に設置され
た電極１２は、電源装置６と接続しており、金属製のプ
ラズマチャンバーは、アース１３に接続されている。同
じくプラズマチャンバー内に設置された試料台（基板）
７はプラズマチャンバーとは電気的に絶縁されている。

【００３８】シリコン含有化合物あるいはフッ素含有化
合物のうち、少なくとも一つの化合物をその組成成分と
し、常法により作製されたコンタクトレンズを、試料台
７上に置く。試料台上への置き方は、どのような形態で
もかまわないが、例えば、コンタクトレンズを凸面（以
下、ＦＣ面と称す）を上にして処理した後、反転して凹
面（以下、ＢＣ面と称す）を上にして処理する方法、コ
ンタクトレンズ表面を覆う面積を最小限にした固定治具
を使用し、それにコンタクトレンズを固定する方法、等
がある。特に、後者の方法は、コンタクトレンズの両面
を同時に処理できる点で有利である。この方法でコンタ
クトレンズを固定する場合、レンズを垂直方向に立てた
形態で処理するが、レンズを任意の角度に傾けて処理し
てもよい。こうすることで、レンズの形状による影響、
つまり、ＦＣ面とＢＣ面で処理レベルが異なる現象を、
レンズの傾斜角を最適化することによって、キャンセル
できることがわかっている。

【００３９】つぎに、リークバルブ１５を閉じメインバ
ルブ１０を開いてプラズマチャンバー内の気体を十分排
気した後、バルブ１４を開いて、ガス導入管より酸素を
導入する。

【００４０】導入ガスの流量あるいは排気量を調整して
プラズマチャンバー内を所望の圧力とし、圧力が安定し
たところで、電圧を印可して放電処理を行う。

【００４１】放電処理の処理圧力は限定されるものでは
ないが、０．０１Ｔｏｒｒから５Ｔｏｒｒの範囲で行う
ことが好ましい。処理圧力が０．０１Ｔｏｒｒより小さ
くなると、コンタクトレンズ表面へのダメージが大きく
なり、面アレや変色、場合によっては強度の低下を招く
ため好ましくない。一方、処理圧力が５Ｔｏｒｒより大
きくなると、安定した放電状態の維持が困難となるため
好ましくない。

【００４２】放電処理に使用する電源は、直流でも交流
でも可能であるが、安定した放電状態を維持するために
は、例えば１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いること
が適している。放電時の電力密度としては、０．０１Ｗ
／ｃｍ²から１Ｗ／ｃｍ²の範囲で行うのが好ましく、
０．０１Ｗ／ｃｍ²より低いと、処理されにくくなり、
反対に１Ｗ／ｃｍ²より高いとコンタクトレンズ表面へ
のダメージが大きくなるため好ましくない。

【００４３】その他、処理レベルに関係するパラメータ
ーとしては、処理時間、電極基板間距離、ガス流量等が
挙げられるが、それらは、コンタクトレンズ材質、要求
性能等に応じて最適条件に設定する。

【００４４】次に、グラフト重合処理について説明す
る。まず重合用原料として水溶性モノマーを所定の割合
で溶解する。水溶性モノマーは、単独もしくは２種以上
を混合して使用することができる。またこの際、架橋剤
を１種又は２種以上加えることができる。また低温で重
合を行うために必要に応じ硫酸第一鉄アンモニウム（モ
ール塩）等の還元剤を所定量加え、溶解して使用するこ
とができる。

【００４５】重合反応を行う容器はどの様な形状でも構
わないが、例えば試験管状、ビーカー状のものが使用で
きる。所定の割合に調製されたモノマー溶液を重合容器
に所定量注入し、放電処理されたコンタクトレンズを溶
液中に浸漬し、系内を十分脱気する。系内の温度は放電
処理の方法、重合性モノマーの種類・量によって異なる
が、２５℃〜６０℃の範囲で行うことが望ましい。温度
が２５℃より低くなると生産性が悪化するばかりでな
く、水濡れ性の悪いレンズも見受けられるようになり、
また６０℃より高くなると、コンタクトレンズ基材への
ダメージが現れ、表面もポップコーン状の重合ムラが発
生してくるようになるため好ましくない。重合時間は他
の処理条件に応じて最適に設定されるが、安定性及び生
産性を考慮して１０分から１０時間の範囲で行うことが
望ましい。また重合中は必要に応じ容器内を撹拌するこ
ともできる。

【００４６】重合が終了したレンズは系外に取り出し、
続いて表面クリーニング工程においてレンズ表面に残留
している未反応物を超音波洗浄、温水等を用いて十分洗
浄・除去し、これにより所望の、表面に膜形成されたコ
ンタクトレンズを得ることができる。

【００４７】表面クリーニング工程において用いる超音
波洗浄機は特に限定されるものではないが、周波数２５
ｋＨzから８０ｋＨzの範囲の装置で行うことが好まし
い。この範囲外では本加工方法においては十分な表面の
クリーニングが行われず、またレンズ自体にキズ等の損
傷を生じさせる場合があり好ましくない。洗浄時間は生
産性を考慮して、1時間以内の範囲で設定する。洗浄中
の槽の温度はレンズのダメージを考慮して６０℃以下で
行うことが好ましい。出力は処理するレンズの枚数、装
置の大きさに応じて最適条件に設定する。また必要に応
じ界面活性剤を水中に添加することもできる。さらに、
界面活性剤を含む槽、水のみの槽と、分離してクリーニ
ングすることも可能である。

【００４８】また超音波洗浄機等の特別の機械を用いな
い場合は、温水を用いて抽出することもできる。未反応
モノマーの抽出効率を上げるために必要に応じ温水を撹
拌することや、温水中に界面活性剤、アルコール等を添
加することもできる。槽の温度は超音波洗浄機を使用す
る場合と同じく、レンズのダメージを考慮して６０℃以
下で行うことが好ましい。

【００４９】続いて、コンタクトレンズ基材を構成する
成分について詳細に説明する。現在上市されているコン
タクトレンズの多くは、（メタ）アクリル酸エステルを
主成分としており、それらの単独、もしくは複数のモノ
マーを、共重合することによって得られる。（メタ）ア
クリル酸エステルの種類は非常に多く、その中からコン
タクトレンズとしての性能を十分発揮できるモノマーを
選択し、さらにその組成比を最適化することで、性能向
上を図ってきた。

【００５０】その中で、主に酸素透過性を向上する目的
で使用されるのがシリコン含有（メタ）アクリレートで
ある。シリコン含有（メタ）アクリレートは、下記一般
式（１）で示されるものを挙げることができる。

【００５１】

【化９】

【００５２】（式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を
示し、ＸおよびＹは炭素数１〜５のアルキル基、フェニ
ル基またはＺ基からなる群より選ばれる有機基であり、
ａは１〜３の整数を示す） ここでＺは、下記一般式（２）で表される基を示すもの
とする。

【００５３】

【化１０】

【００５４】（式中、Ａは炭素数１〜５のアルキル基ま
たはフェニル基を示し、ｂは０〜５の整数を示す） また、アルキル基中に水酸基を有する化合物や、シロキ
サニル基の両末端に（メタ）アクリル基を含有する化合
物も有用である。

【００５５】シリコン含有（メタ）アクリレートの例と
しては、トリメチルシリルメチル（メタ）アクリレー
ト、ペンタメチルジシロキサニルメチル（メタ）アクリ
レート、メチルビス（トリメチルシロキシ）シリルメチ
ル（メタ）アクリレート、トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルメチル（メタ）アクリレート、ビス（トリメ
チルシロキシ）（ペンタメチルジシロキサニルオキシ）
シリルメチル（メタ）アクリレート、トリメチルシロキ
シビス（ペンタメチルジシロキサニルオキシ）シリルメ
チル（メタ）アクリレート、トリス（ペンタメチルジシ
ロキサニルオキシ）シリルメチル（メタ）アクリレー
ト、トリメチルシリルエチル（メタ）アクリレート、ペ
ンタメチルジシロキサニルエチル（メタ）アクリレー
ト、メチルビス（トリメチルシロキシ）シリルエチル
（メタ）アクリレート、トリス（トリメチルシロキシ）
シリルエチル（メタ）アクリレート、ビス（トリメチル
シロキシ）（ペンタメチルジシロキサニルオキシ）シリ
ルエチル（メタ）アクリレート、トリメチルシロキシビ
ス（ペンタメチルジシロキサニルオキシ）シリルエチル
（メタ）アクリレート、トリス（ペンタメチルジシロキ
サニルオキシ）シリルエチル（メタ）アクリレート、ト
リメチルシリルプロピル（メタ）アクリレート、ペンタ
メチルジシロキサニルプロピル（メタ）アクリレート、
メチルビス（トリメチルシロキシ）シリルプロピル（メ
タ）アクリレート、トリス（トリメチルシロキシ）シリ
ルプロピル（メタ）アクリレート、ビス（トリメチルシ
ロキシ）（ペンタメチルジシロキサニルオキシ）シリル
プロピル（メタ）アクリレート、トリメチルシロキシビ
ス（ペンタメチルジシロキサニルオキシ）シリルプロピ
ル（メタ）アクリレート、トリス（ペンタメチルジシロ
キサニルオキシ）シリルプロピル（メタ）アクリレー
ト、１，３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチル−
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−
ビス（メタ）アクリロイルオキシプロピル−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサン等が挙げられ、これ
らの化合物は、単独もしくは２種以上を混合して使用す
ることができる。

【００５６】フッ素含有（メタ）アクリレートも、酸素
透過性の向上に極めて有効な成分であり、上記のシリコ
ン含有（メタ）アクリレートと併用することで、酸素透
過性が大幅に向上するため、特に好ましい。フッ素含有
（メタ）アクリレートは、下記一般式（３）で示される
ものを挙げることができる。

【００５７】

【化１１】

【００５８】（式中、Ｒ²は水素原子またはメチル基、
−Ｃ_iＨ_jＦ_2i+1-jは直鎖状または分岐状のフッ素含有基
を示し、ｉは１〜１８の整数、ｊは１〜２ｉの整数を示
す） ｉの値が大きくなると、また分岐が多くなるほど酸素透
過性が高くなるが、それに伴って形状安定性が低下する
上に、製造が困難となるため好ましくない。また、ｊが
大きくなると、すなわちフッ素原子が少なくなると、酸
素透過性が低下し、一方ｊが０の場合はモノマーの化学
的安定性が悪くなるため、ｊは１〜２ｉであることが好
ましい。

【００５９】フッ素含有（メタ）アクリレートの例とし
ては、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリ
レート、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロ
メチルエチル（メタ）アクリレート、３，３，４，４，
５，５，５−ヘプタフルオロペンチル（メタ）アクリレ
ート、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフル
オロヘキシル（メタ）アクリレート、３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオ
ロオクチル（メタ）アクリレート、３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレ
ート、１，１，２，２−テトラヒドロパーフルオロオク
タデシル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テト
ラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９−ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレー
ト、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１−エイコ
サフルオロウンデシル（メタ）アクリレート等が挙げら
れ、これらの化合物は、単独もしくは２種以上を混合し
て使用することができる。

【００６０】フッ素含有フマレートについても上述の成
分と同様、酸素透過性を向上するためには有効な成分で
ある。しかも、本成分を組成成分の一つとして含有する
重合体から作製したコンタクトレンズの、強度が向上す
るとの知見が得られている。フッ素含有フマレートは、
下記一般式（４）で示されるものを挙げることができ
る。

【００６１】

【化１２】

【００６２】（式中、Ｒ³およびＲ⁴は同一または異なる
基であって、 Ｒ³およびＲ⁴の少なくとも一方の基が−
Ｃ_mＨ_nＦ_2m+1-nで示される直鎖状または分岐状のフッ素
含有基を示し、ｍは１〜１８の整数、ｎは１〜２ｍの整
数を表し、また一方のみが−Ｃ _mＨ_nＦ_2m+1-nの場合、他
方は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のア
ルケニル基、または炭素数３〜１２のシクロアルキル基
を示す） ｍの値が大きくなると、また分岐が多くなるほど酸素透
過性が高く、耐汚染性が向上するが、それに伴って形状
安定性が低下する上に、製造が困難となるため好ましく
ない。また、ｎが大きくなると、すなわちフッ素原子が
少なくなると、酸素透過性が低下し、一方ｎが０の場合
はモノマーの化学的安定性が悪くなるため、ｎは１〜２
ｍであることが好ましい。また、一方のみが−Ｃ_mＨ_nＦ
_2m+1-nの場合、他方のアルキル基、アルケニル基、また
はシクロアルキル基の炭素数が１３以上である場合には
製造が困難となるため好ましくない。

【００６３】フッ素含有フマレートの例としては、メチ
ル−２，２，２−トリフルオロエチルフマレート、メチ
ル−２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチ
ルエチルフマレート、メチル−３，３，４，４，５，
５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルフマレート、ア
リル−２，２，２−トリフルオロエチルフマレート、ア
リル−２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメ
チルエチルフマレート、アリル−３，３，４，４，５，
５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルフマレート、イ
ソプロピル−２，２，２−トリフルオロエチルフマレー
ト、イソプロピル−２，２，２−トリフルオロ−１−ト
リフルオロメチルエチルフマレート、イソプロピル−
３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルフマレー
ト、イソプロピル−３，３，４，４，５，５，６，６，
６−ノナフルオロヘキシルフマレート、イソプロピル−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８
−トリデカフルオロオクチルフマレート、イソプロピル
−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル
フマレート、イソプロピル−２，２，３，３−テトラフ
ルオロプロピルフマレート、イソプロピル−２，２，
３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルフマ
レート、ｔ−ブチル−２，２，２−トリフルオロエチル
フマレート、ｔ−ブチル−２，２，２−トリフルオロ−
１−トリフルオロメチルエチルフマレート、ｔ−ブチル
−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルフマレー
ト、ｔ−ブチル−３，３，４，４，５，５，６，６，６
−ノナフルオロヘキシルフマレート、ｔ−ブチル−３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ト
リデカフルオロオクチルフマレート、ｔ−ブチル−３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシルフマ
レート、ｔ−ブチル−２，２，３，３−テトラフルオロ
プロピルフマレート、ｔ−ブチル−２，２，３，３，
４，４，５，５−オクタフルオロペンチルフマレート、
２−エチルヘキシル−２’，２’，２’−トリフルオロ
エチルフマレート、２−エチルヘキシル−２’，２’，
２’−トリフルオロ−１’−トリフルオロメチルエチル
フマレート、２−エチルヘキシル−３’，３’，４’，
４’，４’−ペンタフルオロブチルフマレート、２−エ
チルヘキシル−３’，３’，４’，４’，５’，５’，
６’，６’，６’−ノナフルオロヘキシルフマレート、
２−エチルヘキシル−３’，３’，４’，４’，５’，
５’，６’，６’，７’，７’，８’，８’，８’−ト
リデカフルオロオクチルフマレート、２−エチルヘキシ
ル−３’，３’，４’，４’，５’，５’，６’，
６’，７’，７’，８’，８’，９’，９’，１０’，
１０’，１０’−ヘプタデカフルオロデシルフマレー
ト、２−エチルヘキシル−２’，２’，３’，３’−テ
トラフルオロプロピルフマレート、２−エチルヘキシル
−２’，２’，３’，３’，４’，４’，５’，５’−
オクタフルオロペンチルフマレート、シクロヘキシル−
２，２，２−トリフルオロエチルフマレート、シクロヘ
キシル−２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロ
メチルエチルフマレート、シクロヘキシル−３，３，
４，４，４−ペンタフルオロブチルフマレート、シクロ
ヘキシル−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナ
フルオロヘキシルフマレート、シクロヘキシル−３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ト
リデカフルオロオクチルフマレート、シクロヘキシル−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル
フマレート、シクロヘキシル−２，２，３，３−テトラ
フルオロプロピルフマレート、シクロヘキシル−２，
２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル
フマレート、ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）
フマレート、ビス（２，２，２−トリフルオロ−１−ト
リフルオロメチルエチル）フマレート、ビス（３，４，
４，４−ペンタフルオロブチル）フマレート、ビス
（３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロ
ヘキシル）フマレート、ビス（３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオ
クチル）フマレート、ビス（３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−
ヘプタデカフルオロデシル）フマレート、ビス（２，
２，３，３−テトラフルオロプロピル）フマレート、ビ
ス（２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ
ペンチル）フマレート等が挙げられ、これらの化合物
は、単独もしくは２種以上を混合して使用することがで
きる。

【００６４】以下、本発明の実施の形態の具体例を説明
するが、本発明は、下記の実施の形態の具体的条件に限
定されるものではない。

【００６５】（実施例１）トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルメタクリレート４８重量％、２，
２，２−トリフルオロエチルメタクリレート２２重量
％、メチルメタクリレート２０重量％、メタクリル酸２
重量％、テトラエチレングリコールジメタクリレート７
重量％、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロ
ニトリル）１重量％をよく混合し、脱気、窒素置換を繰
り返した後、ガラス製重合管に注入した。この重合管を
温水重合槽に投入し、３０℃から７０℃まで１２時間か
けて昇温して重合した後、大気炉中にて１００℃、２時
間のアニールを行い、円筒状のバー材を得た。このバー
材からレースカット法によってコンタクトレンズを作製
した。

【００６６】こうして得られたコンタクトレンズは両面
が研磨された後直ちに、レンズ支持ツールからはずし、
レンズを超音波洗浄機等に浸漬し、所定時間洗浄した。
本実施例では使用した超音波洗浄条件を表1のように設
定し、洗浄機出力：１００Ｗ、洗浄槽温度：４０℃中で
処理した。処理後純水中で十分にすすぎを行い、乾燥さ
せた。

【００６７】表面均一化工程を通過したコンタクトレン
ズは、図２に示したプラズマチャンバー内の試料台７上
に、固定治具を使用して、水平方向から４５°の角度に
設定して固定した。本実施例に使用したプラズマチャン
バーは、容量：４５Ｌ、電極表面積：４００ｃｍ²、電
極基板間距離：１５ｃｍであり、電源は、１３.５６Ｍ
Ｈｚの高周波電源を使用した。プラズマチャンバー内の
圧力が１×１０^-3Ｔｏｒｒ以下になるまで排気した後、
酸素をガス導入部５より導入し、１Ｔｏｒｒに安定させ
た。その後、電圧を印可して、電力密度が１.５×１０
^-1Ｗ／ｃｍ²となるように設定し、この状態で３０分間
放電処理を行った。処理が完了したコンタクトレンズを
プラズマチャンバーから取り出し、超音波洗浄を行っ
た。次に上記レンズを以下の手順で浸漬・反応させた。

【００６８】アクリルアミド７gとN、N’−メチレンビ
スアクリルアミド１gを水１２gに溶解し、モノマー水溶
液とした。モノマー水溶液を２．５mL試験管に分取し
て、硫酸第一鉄アンモニウム（モール塩）を０．０３６
１g加えて撹拌し、溶解した。そこへ放電処理したレン
ズを入れ、窒素ガス置換後、減圧封管した。試験管を３
５℃の恒温槽中に６０分間攪拌しながら浸漬し、レンズ
表面にモノマーをグラフト重合した。続いて表面クリー
ニング工程においてレンズ表面に残留している未反応物
を超音波洗浄機、温水攪拌槽により洗浄・除去した。本
実施例に使用した超音波洗浄機は、周波数：４０ｋＨ
z、出力：１００Ｗであり界面活性剤１%溶液４０℃中で
１０分処理した。その後レンズをすすぎ、５０℃温水攪
拌槽を用いて十分洗浄し、これにより所望の、表面に膜
形成されたコンタクトレンズを得た。

【００６９】

【表１】

【００７０】こうして得られたコンタクトレンズについ
て、以下の評価を行った。

【００７１】（１）真空乾燥後の静的接触角評価 コンタクトレンズ表面の水濡れ性の評価として液滴式の
静的接触角を測定した。本評価では、水濡れ性の維持を
ポイントに評価するため、製造後及びコンタクトレンズ
を真空乾燥器中にて、６０℃、１００時間の乾燥処理を
行った後とで測定した。

【００７２】（２）作製レンズの装用感評価 コンタクトレンズ装用経験のある1０名のモニターに、
従来の表面処理されていないレンズと、上記作製したコ
ンタクトレンズとを別々に左右眼に装着し、自覚・他覚
所見を観察し、下記の基準にて評価を行った。 ○：自覚・他覚とも問題なし。 △：未処理のレンズと比べ、やや違和感があるが装用上
問題なし。 ×：未処理のレンズと比べ、違和感があり、装用をやめ
たい。 レンズの外観評価 コンタクトレンズの表面修飾後の外観を蛍光灯下の暗箱
で観察し、ムラ、キズ等の不具合を限度サンプルとの比
較で評価した。以上の評価結果を下記に記す。

【００７３】

【表２】

【００７４】その結果、今回の製造方法で流動したレン
ズは外観上均一であり、また水濡れ性に優れ、装用感も
良好であった。

【００７５】（実施例２）実施例１の表面均一化工程に
おいて、両面研磨されたレンズをレンズ支持ツールから
はずし、石油系の溶剤を使用して超音波洗浄し、その後
界面活性剤で再度超音波洗浄して表面を均一化した以外
は実施例１と同様の方法で処理した。洗浄の条件を表3
に記す。得られたコンタクトレンズを実施例１と同様に
評価したところ、膜の均一性が確認され、またそのレン
ズは水濡れ性に優れ、装用感も良好であった。

【００７６】

【表３】

【００７７】（実施例３）実施例１の表面クリーニング
工程において、超音波洗浄条件、温水槽洗浄条件を表4
に設定した以外は実施例１と同様の方法で処理した。得
られたコンタクトレンズを実施例１と同様に評価したと
ころ、膜の均一性が確認され、またそのレンズは水濡れ
性に優れ、装用感も良好であった。

【００７８】

【表４】

【００７９】（実施例４）実施例１と同様な手順で放電
処理されたレンズを用意し、以下の手順で浸漬・反応さ
せた。アクリルアミド７０gとN、N’−メチレンビスア
クリルアミド１０gを水１２０gに溶解し、モノマー水溶
液とした。該モノマー水溶液を容量５００ccのビーカー
状重合容器に注入し、硫酸第一鉄アンモニウム（モール
塩）を２.７５g加えて撹拌し、溶解した。そこへ放電処
理したレンズを入れ、該重合容器を３５℃の恒温槽中に
置き、ガス供給部から窒素ガスを重合容器中に導入し、
６０分間脱気を行いながら同時に重合処理し、レンズ表
面にモノマーをグラフト重合した。重合終了後容器から
レンズを取り出し、レンズ表面に残留している未反応物
を十分洗浄・除去し、所望の、表面に膜形成されたコン
タクトレンズを得た。得られたコンタクトレンズを実施
例１と同様に評価したところ、今回のレンズは水濡れ性
に優れ、装用感も良好であった。

【００８０】（実施例５）トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルメタクリレート４０重量％、イソプ
ロピル−２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロ
メチルエチルフマレート４０重量％、メチルメタクリレ
ート１４重量％、テトラエチレングリコールジメタクリ
レート５重量％、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチ
ルバレロニトリル）１重量％をよく混合し、脱気、窒素
置換を繰り返した後、ガラス製重合管に注入した。この
重合管を温水重合槽に投入し、３０℃から７０℃まで１
２時間かけて昇温して重合した後、大気炉中にて１００
℃、２時間のアニールを行い、円筒状のバー材を得た。
このバー材からレースカット法によってコンタクトレン
ズを作製した。

【００８１】本実施例には、実施例１と同様のプラズマ
チャンバーおよび電源を用いた。得られたコンタクトレ
ンズを、図２に示したプラズマチャンバー内の試料台４
上に、固定治具を使用して、水平方向からの角度を４５
°に設定して固定した。プラズマチャンバー内の圧力が
１×１０^-3Ｔｏｒｒ以下になるまで排気した後、酸素を
ガス導入部５より導入し、１Ｔｏｒｒに安定させた。そ
の後、電圧を印可して、電力密度が０．１Ｗ／ｃｍ²と
なるように設定し、この状態で２０分間処理を行った。
処理が完了したコンタクトレンズをプラズマチャンバー
から取り出し、超音波洗浄を行った。

【００８２】次に上記レンズを実施例４と同様な方法で
浸漬・反応させ、所望の表面に膜形成されたコンタクト
レンズを得た。得られたコンタクトレンズを実施例１と
同様に評価したところ、今回の基材を用いて上記の方法
で得られたレンズも外観が均一で、水濡れ性に優れ、装
用感も良好であった。

【００８３】（比較例１）実施例１と同様な手順で薄膜
形成されたコンタクトレンズを作製した。この際、レン
ズ加工終了後、レンズを支持ツールから剥がした後の表
面均一化工程を省略し流動した。

【００８４】得られたコンタクトレンズを実施例１と同
様に評価したところ、水濡れ性は問題ないものの、膜の
濃淡やムラ等、外観上均一性が十分でなく、また装用試
験時にくもり感や異物感を訴える症例が見受けられた。

【００８５】（比較例２）実施例１と同様な手順で薄膜
形成されたコンタクトレンズを作製した。この際、表面
を親水化膜で修飾後、室温の純水槽中で十分にレンズ表
面の未反応物を除去した以外は特に表面のクリーニング
工程を行わなかった。

【００８６】得られたコンタクトレンズを実施例１と同
様に評価したところ、水濡れ性は問題ないものの、レン
ズ表面にポツムラが観察され、外観上十分な品質が得ら
れなかった。

【００８７】

【発明の効果】本発明のコンタクトレンズの製造方法に
よれば、表面を親水性の高分子膜で修飾する前にレンズ
表面両面の状態を均一にし、さらに表面修飾後直ちに表
面の未反応物を除去することで、外観上均一に形成され
た重合膜を有するコンタクトレンズを安定的に得ること
が可能となった。

【００８８】これにより表面の水濡れ性を恒久的に維持
し、さらに耐汚染性に優れ、装用感の良好なコンタクト
レンズを確実に提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る表面に薄膜形成されたコンタクト
レンズの構成を模式的に示す断面図である。

【図２】本発明のコンタクトレンズ製造に用いる装置の
一実施形態を示す図である。

【符号の説明】

１…薄膜を有するコンタクトレンズ ２…高分子薄膜 ３…レンズ基材 ４…プラズマチャンバー ５…真空ポンプ ６…電源装置 ７…試料台（基板） ８…ガス導入部 ９…リークポート １０…メインバルブ １１…排気管 １２…電極 １３…アース １４…バルブ １５…バルブ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 267/06 Ｃ０８Ｆ 267/06 ４Ｊ１００ Ｃ０８Ｊ 7/00 ３０２ Ｃ０８Ｊ 7/00 ３０２ ３０３ ３０３ 7/02 7/02 Ａ 7/04 ＣＥＹ 7/04 ＣＥＹＴ 7/16 7/16 Ｃ１１Ｄ 7/50 Ｃ１１Ｄ 7/50 // Ｃ０８Ｌ 33:04 Ｃ０８Ｌ 33:04 Ｆターム(参考） 2H006 BB06 BB10 BC05 BC07 DA08 4F006 AA22 AA58 AB24 BA10 CA05 EA03 4F073 AA01 AA08 AA10 AA25 AA28 BA18 BA34 BB02 CA01 CA21 CA53 CA62 CA63 CA65 EA03 EA11 EA13 4H003 DA16 DC04 ED04 4J026 AA47 AA48 AA55 AC25 AC31 AC36 BA13 BA25 BA29 BA30 BA32 BA40 BB09 CA08 CA09 4J100 AL02R AL03R AL08P AL08Q AL39P AL39Q BA71P BA72P BA81P BB17P BB17Q BB18P BB18Q CA01 CA04 CA05 FA03 JA34

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】シリコン含有（メタ）アクリレート、フッ
   素含有（メタ）アクリレート、及びフッ素含有フマレー
   トのうち、少なくとも１つの化合物を組成成分として含
   有する重合体から作製されたコンタクトレンズにおい
   て、少なくとも（ａ）コンタクトレンズ形状に加工する
   レンズ加工工程と、（ｂ）加工されたコンタクトレンズ
   表面両面の状態を均一にする表面均一化工程と、（ｃ）
   コンタクトレンズ基材表面の活性化処理を行うコンタク
   トレンズ基材表面活性化工程と、（ｄ）コンタクトレン
   ズ基材を親水性モノマーを含有する溶液に浸漬しこのコ
   ンタクトレンズ基材表面に親水性モノマーをグラフト重
   合するグラフト重合工程と、（ｅ）コンタクトレンズ基
   材表面の残留物を洗浄・除去する表面クリーニング工程
   と、をこの順序で有することを特徴とするコンタクトレ
   ンズの製造方法。
2. 【請求項２】請求項１記載のコンタクトレンズの製造方
   法において、前記（ｂ）表面均一化工程が少なくとも水
   を含むウェット工程から成ることを特徴とするコンタク
   トレンズの製造方法。
3. 【請求項３】請求項１記載のコンタクトレンズの製造方
   法において、前記（ｂ）表面均一化工程が少なくとも溶
   剤を用いる超音波洗浄を行う工程から成ることを特徴と
   するコンタクトレンズの製造方法。
4. 【請求項４】請求項１記載のコンタクトレンズの製造方
   法において、 前記（ｃ）コンタクトレンズ基材表面活性化工程を、常
   圧又は減圧下でコンタクトレンズ基材表面を放電処理す
   ることによって行うことを特徴とするコンタクトレンズ
   の製造方法。
5. 【請求項５】請求項１記載のコンタクトレンズの製造方
   法において、前記（ｅ）表面クリーニング工程が少なく
   とも水を含むウェット工程から成ることを特徴とするコ
   ンタクトレンズの製造方法。
6. 【請求項６】請求項１記載のコンタクトレンズの製造方
   法において、前記（ｅ）表面クリーニング工程が少なく
   とも溶剤を用いる超音波洗浄を行う工程から成ることを
   特徴とするコンタクトレンズの製造方法。
7. 【請求項７】前記シリコン含有（メタ）アクリレート
   が、下記一般式（１）で表される化合物であることを特
   徴とする、請求項１記載のコンタクトレンズの製造方
   法。 【化１】 （式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示し、Ｘおよ
   びＹは炭素数１〜５のアルキル基、フェニル基またはＺ
   基からなる群より選ばれる有機基であり、ａは１〜３の
   整数を示す） ここでＺは、下記一般式（２）で表される基を示すもの
   とする。 【化２】 （式中、Ａは炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル
   基を示し、ｂは０〜５の整数を示す）
8. 【請求項８】前記フッ素含有（メタ）アクリレートが、
   下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴と
   する、請求項１記載のコンタクトレンズの製造方法。 【化３】 （式中、Ｒ²は水素原子またはメチル基、−Ｃ_iＨ_jＦ
   _2i+1-jは直鎖状または分岐状のフッ素含有基を示し、ｉ
   は１〜１８の整数、ｊは１〜２ｉの整数を示す）
9. 【請求項９】前記フッ素含有フマレートが、下記一般式
   （４）で表される化合物であることを特徴とする、請求
   項１記載のコンタクトレンズの製造方法。 【化４】 （式中、Ｒ³およびＲ⁴は同一または異なる基であって、
   Ｒ³およびＲ⁴の少なくとも一方の基が−Ｃ_mＨ_nＦ
   _2m+1-nで示される直鎖状または分岐状のフッ素含有基を
   示し、ｍは１〜１８の整数、ｎは１〜２ｍの整数を表
   し、また一方のみが−Ｃ _mＨ_nＦ_2m+1-nの場合、他方は炭
   素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニ
   ル基、または炭素数３〜１２のシクロアルキル基を示
   す）