JP2001105503A - ステレオリソグラフィを使用した物体を製造する装置および方法 - Google Patents

ステレオリソグラフィを使用した物体を製造する装置および方法

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JP2001105503A JP2000287047A JP2000287047A JP2001105503A JP 2001105503 A JP2001105503 A JP 2001105503A JP 2000287047 A JP2000287047 A JP 2000287047A JP 2000287047 A JP2000287047 A JP 2000287047A JP 2001105503 A JP2001105503 A JP 2001105503A
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ゼルビン ユルゲン
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステレオリソグラフィを使用する３次元物体
を製造する装置および方法において、精度の向上した物
体を製造する方法および装置を提供すること。 【解決手段】 ステレオリソグラフィによって物体を製
造する装置は、電磁放射を行うことによって固化される
液体或いは粉末材料の浴を入れるタンク（１）を備えて
いる。公知のように、この装置は、浴面（３）に関して
物体を位置付づけるためのサポート（４）と、電磁放射
を使用する浴面に隣接した材料（３）の層を固化するた
めの装置（８）を有している。層厚の正確な調整を可能
にするために、この装置は固化性材料（３）を供給する
供給装置（５１）を有しており、その供給装置は前記タ
ンクを横切って延在し、その底面で動作位置に放出開口
部（５３）を有し、その内部には前記放出開口部（５
３）に通じた溝が延在しており、その溝は導管（６２）
を介してポンプ（６３）と一点で結合している。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ステレオリソグラ
フィを使用した物体を製造する装置および方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】この種類の装置は、ドイツ特許第４１３
４２６５号に開示されている。その中で開示されている
ワイパーは、非粘着性の被覆を有するか、あるいは低粘
着特性を有する材料から形成されている。もし、このよ
うなワイパーの粘着力が低ければ、ワイパーと液体樹脂
材料の接触が、ワイピング操作の間に局部的に壊される
危険性がある。これは、いわゆる濡れの悪さ（デウエッ
ティング）を引き起こすことになる。しかしながら、も
しワイパーが大きな表面張力を有する材料から形成され
ていれば、樹脂材料がワイパーの後側で再度もち上がる
ので、不規則な塗布膜となる。
【０００３】ステレオリソグラフィのために、様々な塗
布方法が知られている。欧州特許第０１７１０６９号に
よれば、光硬化樹脂の液体層が、物体を液槽の中で所望
の層厚を越える量だけ降下させ、その後、その物体を液
槽の表面から所定の層厚だけ下の高さ位置まで上昇させ
ることによって、施される。欧州特許第０２５０１２１
では、一層分の材料を一つのインレットを使用して上か
ら供給する方法が開示されており、ＷＯ９１／１２１２
０号ではスプレーチューブが使用されている。上述の供
給方法では、所望の層厚の調整速度が最適化できない。
【０００４】速く層厚を達成するために、ワイパーを使
用した供給方法が知られている。ドイツ特許第４１３４
２６５号に記載されている最も簡単な方法では、形成さ
れるべき物体を支持するサポートが、光硬化樹脂材料の
液体の液槽内で所望の層厚に対応する量だけ降下され、
これにより、まだ硬化してない材料が前に硬化した層の
上にその端部から流れ込む。ワイパーを用いて所望の層
厚を達成する速度を増加するために、材料は前に硬化し
た層上に広げられる。その塗布操作は、また、液槽内で
サポートを所定の層厚より大きい量だけ降下させ、次に
ワイパーを使用して広げることによって、迅速に行われ
ることになる。しかしながら、これらの方法は、得られ
た層厚が所望の層厚よりも非常に大きいという欠点があ
る。出願人の知るところによれば、この問題は、液槽内
でサポートを降下させることによって排除された樹脂を
集め、それを、連続して稼働している低圧ポンプを用い
てワイピング動作中のワイパーの直前に再供給して見掛
上連続塗布を達成することによって、解決できる。良く
知られている他の供給方法は、いわゆるコーターチャン
ネル（塗布溝）方法といわれるものである。即ち、降下
操作によって排除された樹脂を、全て一度のポンプ動作
によって、ワイパーの操作方向即ち走行方向においてワ
イパーの前に配置された塗布溝に供給し、そこから、塗
布溝の出口を通ってワイパーの直前に供給する。塗布溝
からの樹脂の供給は量は、その時の塗布溝内の充填レベ
ルの関数として、塗布されるべき表面に亘って指数的と
なる。すなわち、塗布溝の中の樹脂が少なくなれば、供
給量は少なくなる。したがって、生成される層厚は塗布
距離とともに減少する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】公知のワイパーを使用
する時に遭遇する一般的な問題は、使用される樹脂ある
いはプラスチック材科とワイパーとの相互作用、即ち、
前記した濡れの悪さを生ずる相互作用である。さらに、
図９および図１０〜１２に示されるように、“閉容積”
（ｃｌｏｓｅｄ ｖｏｌｕｍｅｓ）１００即ち、固化し
た樹脂１０１によって囲まれている液体樹脂の領域内で
のワイパーの周囲の流れが、液槽の表面に片勾配を生じ
させ、これにより、物体の寸法、特に“閉容積”内の部
分の寸法が変化する（ＣＶ＋，ＣＶ−効果）。さらに、
ワイパーを使用する公知の塗布方法の欠点は、図１３に
示されているように、塗布中に、固化した層と固化して
いない樹脂との境界面に突出部１０２が生ずることであ
る。さらに、ワイパーの周囲の流れによって表面に凹凸
が生じ、物体の寸法が不正確となる。
【０００６】本発明の目的は、ステレオリソグラフィを
使用する３次元物体を製造する装置および方法におい
て、精度の向上した物体を製造する方法および装置を提
供することである。特に、層厚の調整を確実簡単にする
ことである。
【０００７】この目的は、以下に述べる本発明による装
置および方法によってそれぞれ達成される。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によるステレオリ
ソグラフィを使用した物体を製造する装置は、電磁放射
の作用により固化する液体あるいは粉末の材料の浴を容
れるためのタンクと、浴面に関連した位置に物体を位置
付けるためのサポートと、電磁放射を行うことによって
前記浴面にて前記材料の層を固化するための装置を有す
るステレオリソグラフィによって物体を製造する装置に
おいて、前記タンクを横切って延在し固化性材料を供給
するための供給装置を有し、該供給装置は、その下面に
放出開口部を有し、前記供給装置は配量装置を備え、前
記放出開口部は前記配量装置の底面にそこを横切って延
在する、幅が調整可能なギャップを有し、前記配量装置
には、ポンプにより前記タンクから導管を介して前記固
化性材料が供給されることを特徴とするものである。
【０００９】また、本発明による方法は、電磁放射を照
射することによって固化する粘性の材料のそれぞれの層
を塗布し、その層の物体に対応する場所を照射により固
化することによって物体を層状に形成する、ステレオリ
ソグラフィによって３次元物体を製造する方法におい
て、サポートの表面あるいは先に固化された層の表面を
横切って前記材料の供給装置を移動することによって、
規定の層厚を有する層を設けることにより、該材料の層
をサポートあるいは先に固化された層上に塗布する際
に、層厚の調整の少なくとも一部を、前記供給装置の底
面に設けられた材料の放出ギャップの幅を調整すること
によって行い、前記供給装置への前記材料の供給は該材
料を収容したタンクからポンプにより前記導管を介して
なされることを特微とするものである。
【００１０】本発明のさらなる特徴および利点は、図面
を参照した実施の形態の説明から明らかになるであろ
う。
【００１１】
【発明の効果】上記の塗布方法および対応する装置は、
前記の否定的効果を防ぐことができ、層厚は容易に調整
および可変できるので有利である。層厚は、配量装置の
ギャップ幅、走行速度、およびポンプの設定供給量を変
化させることによって容易に調整できる。高い供給圧お
よび狭いギャップ内での対応する高い圧力降下によっ
て、ギャップを通って放出される速度への重力の影響が
除去されるので、層厚の正確性が増加される。さらに、
ポンプの放出量を、一つの層の形成と他の層の形成との
間で、あるいは一つの層を形成している間に変化させる
ことによって、層厚を所望の物体の特性に容易に適合さ
せて精度の向上した物体を製造することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の装置を、図１から図８を
参照して説明する。
【００１３】開口上部を有するタンク１は、光硬化液体
樹脂材料３、例えばＵＶ硬化樹脂によってあるレベル即
ち液面２まで充填される。実質上平で水平な支持板５を
有するサポート４は、タンク１内の樹脂３中に配置され
る。支持板５は、液面２に平行に延び、略図に示されて
いる移動装置即ち高さ調整装置６によって、液面２即ち
支持板５に垂直な方向で上方および下方に移動されまた
位置付けられる。
【００１４】支持板５上には、物体７が示されている。
この物体は、以下に述べる方法で、液面２および支持板
５と平行に延びている複数の層７ａ、７ｂ、７ｃ、およ
び７ｄによって形成されている。
【００１５】液面に隣接した最上部の層７ｄを固化する
装置８は、光源を有し光学系１０によって収束光１１を
発生する照射装置９を有する。偏向ミラー１２は、タン
ク１上ほぼ中央にジンバルに吊下され、略図で示されて
いるピボット装置によって旋回させられる。その結果、
ミラー１２へ入射する光１１が、実質的に液面２上のい
かなる場所にも向けられる反射光１４として反射され
る。代わりに、公知のように、各座標方向に各一つ宛て
の２つの回転ミラーを用いることもできる。
【００１６】図１に略図で示されているワイパー１５
は、タンク１の頂部開口に配置されている。このワイパ
ーはタンク１の頂部開口を実質的に横切って延びてい
て、ワイパー１５の長さ方向に実質的に垂直な方向３０
に液面２を横切る水平面内でワイパー１５を移動させる
移動装置２６と結合している。
【００１７】移動装置２６は、調整可能な速度でワイパ
ー１５を移動させるように設計されている。
【００１８】プロセッサ２４は、本質的に公知のステレ
オリソグラフィック操作を行うために、照射装置９、ピ
ボット装置１３、高さ調整装置６、そして移動装置２６
と結合している。
【００１９】図２から図４は、ワイパーの種々の実施例
を示し、ワイピング操作中の進行方向が、適当に、それ
ぞれ矢印３０で示されている。
【００２０】ワイパー１５の外形および寸法は、それ自
身本来公知の方法で規定される。図２に示されている第
１の実施例において、ワイパー１５は第１材料で作られ
ている本体１６を有している。第１表面部１７を形成す
る材料層が、樹脂材料３と滑らな接触を得るために、矢
印３０で示された走行方向の前表面に施されている。そ
の取り付けは、例えば、本体へ固着することによってな
される。この実施例においては、本体は、対応する凹部
を有し、そこに該第１表面部を構成する被覆材料が固着
されている。この第１の実施例では、本体１６は、ｖｉ
ｔｏｎあるいはＰＴＦＥのような材料、あるいは比較的
低い表面張力値を有する材料から作られている。アルミ
ニウムあるいは鉄、あるいはそれに匹敵する同様の高い
表面張カ値を有する材料の被覆が前面に施されている。
【００２１】図３に示されている変形例は、本体１８
が、アルミニウムあるいは鉄のような材料、あるいはそ
れに匹敵する高い表面張力値を有する材料からなる点
で、先の実施例のものとは異なる。背面側は、表面部１
９において、ｖｉｔｏｎあるいはＰＴＦＥのような材料
あるいは比較的低い表面張力値を有する材料で被覆され
ている。この被覆は表面に固着させることによってなさ
れる。図示の実施例においては、本体１８の背面側は凹
部を有し、そこにｖｉｔｏｎあるいはＰＴＦＥの層が、
第２の表面部を形成するために、取り付けられる。
【００２２】図４に示されている実施例において、ワイ
パーは、矢印３０で示されている進行方向に見て、予備
ワイパー２０および本来のワイパー部材２１から形成さ
れる。両方のワイパーは、それらの上端で共通ヨーク２
２によって結合されている。これらの共通ヨークは、こ
うして構成されたワイパーを移動装置２６に結合されて
いる装置のホルダに設置するためのものである。進行方
向において先行する予備ワイパー２０は、アルミニウム
あるいは鉄、あるいはこれに匹敵する高い表面張力値を
有する材料から形成されている。それに続くワイパー部
材２１は、ｖｉｔｏｎあるいはＰＴＦＥといった材科、
あるいはこれに匹敵する低い表面張力値を有する材料か
ら形成されている。
【００２３】操作中において、前側の樹脂フィルムの破
損が、比較的高い表面張力のゆえに防止される。
【００２４】同時に、ワイパーの背面側の過剰な材科の
累積が、低い表面張力値のゆえに防止される。
【００２５】図５から図８に示されている本発明の装置
のもう一つの実施の形態は、図１から４に示されたワイ
パー１５に加えて、あるいはその代わりとして、塗布装
置５０を有している。この装置は、塗布量あるいは樹脂
量を正確に配量することが可能で、この結果、層厚調整
可能なワイパーを使用することなく所望の層厚が得られ
る。
【００２６】塗布装置５０は、液面２上に配置され、作
業面すなわち液面２を横切って延びている配量装置５１
を有している。ギャップ５３が、液面２に面している配
量装置の底面全体を通じて延びている。図６に示されて
いるように、配量装置５１は、液面２に直角な面内での
断面が実質的に長方形である２つの部品、すなわち顎部
５４ａおよび５４ｂを有する。顎部５４ａ、５４ｂは、
それらの対向面間に配量装置５１のギャップ５３を規定
するように、ボルト５５とスペーサ５６によって互いに
ねじ止めされている。ギャップ５３の液面２および配量
装置の底面５２のそれぞれとは反対側５７で、ギャップ
５３は、顎部５４ａ、５４ｂの間に置かれた例えばゴム
あるいはシリコンからなる可撓性のあるガスケット５８
によって、密閉される。顎部５４ａの一つは、他の顎部
５４ｂと対向する面に設けられた溝形の窪み５９を有
し、この溝形の窪みは液面２の幅全体に亘って延びてい
る。この窪み５９の目的は、図６に示されていない注入
口から一定の量の樹脂を受けて、少量の樹脂の貯えをこ
の溝形の窪み５９内に維持することである。溝形の窪み
５９は、注入口に結合されていない側の端部で閉じられ
ており、したがって、樹脂はギャップ５３から強制的に
押し出されねばならない。液面２に面している底面側５
２において、顎部５４ａおよび５４ｂは、それぞれの面
に、突起６０ａおよび６０ｂを有している。これらの突
起は、実質的に三角形の横断面を有し、液面２の全幅に
亘って延在している。突起６０ａおよび６０ｂはそれら
の間のギャップ５３と共に、樹脂を放出するための一種
のノズルを形成する。ギャップ幅Ｂ、すなわち顎部５４
ａと５４ｂとの間の距離は、スペーサ５６の適切な選択
によって調整される。通常、ギャップ幅はほぼ一つの層
厚に、すなわち、コンマ数ミリメータに選ばれる。液面
２上の配量装置５１の高さは、図示されていない高さ調
整装置によって調整される。上記の実施の態様では、ノ
ズル６０ａ、６０ｂの放出開口部が、液面２の直上であ
るがそれに接触しない高さに調整される。
【００２７】この実施の形態において、塗布中に配量装
置５１が移動する方向においてギャップ５３の後側にな
る配量装置５１の面に、図示されていない付加的なワイ
パ一が設けられている。このワイパーは、ギャップ５３
から出てくる材料を平らにするために機能する。
【００２８】この配量装置は、前記の移動装置２６に結
合され、液面２に平行に、調整された可変走行速度ｗで
移動するように制御される。
【００２９】図５に特に示されているように、配量装置
５１のギャップ５３の注入口６１は、導管６２を介して
タンク１内の樹脂液３と連通していて、樹脂液および配
量装置５１の間にポンプ６３が設けられ、漏出なく且つ
連続した供給が行われる。ポンプ６３は、タンク１から
導管を介して、樹脂３を、予め調整された圧力で配量装
置５１に供給する。ポンプ６３は、大きなストロークボ
リュームを有するべローポンプとして形成されることが
好ましい。ポンプ６３のストロークボリュームは、一塗
布操作に対して単一のストロークのみが必要とされる大
きさとされる。一実施例として、ポンプ６３の放出圧力
は約１バールである。ポンプ６３は、樹脂３を一定の予
め調整されたボリュームレートで放出するように制御装
置６５によって制御される。このボリュームレートは、
変化する、すなわち樹脂の粘性の変化に基づく反作用圧
から独立している。
【００３０】さらに、制御装置６５は、配量装置５１の
全走行範囲に亘って、放出される樹脂３の放出ボリュー
ムレートを制御するように設計されており、それによっ
てギャップ５３を介して放出される樹脂の量が調量され
る。ポンプの制御装置６５は中央制御２４内に結合さ
れ、ポンプの駆動は中央制御内に設けられたプロセッサ
によって制御される。かくして、ギャップ５３を介して
放出される樹脂のボリュームレートが、それぞれの所望
の層厚の関数として制御される。
【００３１】図７に示されている好ましい実施例におい
て、配量装置５１の突起６０ａ、６０ｂは、液面２の直
上というよりむしろ、液面２から距離Ｄ、例えば、３か
ら５ミリメートルはなれて配置されている。この場合、
ポンプ６３は、小さなストローク量で運続して操作され
る、すなわち、一つの層の塗布のために数ストロークが
必要とされる。この場合、ポンプ６３は、５バールまで
の高い放出圧を有する。連続して放出圧を保証するため
に、ポンプ６３は、高い供給圧を一定に維持するために
導管６２にガス量を付加するアキュムレータ６６に連通
している。
【００３２】このような高圧作業状態においては、制御
されない樹脂の漏出を安全に防ぐために、可動樹脂案内
導管を使用しないことは利点である。この場合、ポンプ
６３は、配量装置と共に移動することになる。
【００３３】さらに、塗布層あるいは基準要素の表面の
表面レベルを測定する測定装置を設けることも可能であ
る。基準要素は、例えば、作業領域の境界線に同時に構
築されたキューブである。測定装置は、使用される層の
厚さを決定する。
【００３４】本発明の方法において、図５に示されてい
る塗布装置５０を使用して物体の層をそれぞれ固化する
ために、以下のステップが行われる。
【００３５】製造工程を開始する前に、ギャップ幅Ｂ
が、適切なスペーサを選択することによって所望の層厚
の寸法に調整される。この調整は、また、使用される樹
脂の粘性の関数としてなされる。
【００３６】第１ステップにおいて、タンク１内のサポ
ート４は、高さ調整装置６を使用して所望の層厚に対応
した量だけ、降下される。
【００３７】この時、ポンプ６３はタンク１から規定さ
れた量の樹脂３を供給する。その際、供給量が新たな層
を供給するのに十分であるように、供給ポンプのストロ
ークボリュームが調整される。その後、移動装置２６が
制御され、配量装置が液面２を横切って移動する。その
際、導管６２を介してギャップ５３に流入する樹脂が、
配量装置５１のギャップ即ちノズル６０ａ、６０ｂを介
して先に固化した層の表面に供給される。配量装置５１
にその移動方向において後ろに配置されたワイパー１５
は、供給された樹脂３の層を平らにする。供給された材
料の配量装置の走行方向における均一な分布は、配量装
置の供給ボリュームレートおよび走行速度ｗを調整する
ことによって得られる。構成要素欠陥は、配量装置の動
作中に塗布量を変化させることによって防ぐことができ
る。
【００３８】例えば、構成要素は、異なった量の樹脂で
塗布されるように、形成場所内に配置される。
【００３９】図１２に示されているＣＶ＋効果は、ポン
プ６３のストロークボリュームを１．８倍の層量に対応
するように調整することによって有利に防ぐことができ
る。
【００４０】塗布層は、物体に対応する場所を、レーザ
ー光１４を使用して固化する。このために、ピボット装
置１３が制御され、偏向された光ビーム１４が塗布層の
所望の場所を照射し、その位置の樹脂３を硬化させる。
【００４１】上記のステップは、物体７が完成するまで
繰り返される。
【００４２】本方法のもう一つの実施例によれば、図７
および図８に示されているように、形成工程を開始する
前に、ノズル６０ａ、６０ｂが、液面２上、例えば３〜
５ｍｍの間隔Ｄをもって配置されるように、配量装置５
１の高さが調整される。
【００４３】前述の実施例にあるように、第１ステップ
は、タンク１内でサポート４を、所望の層厚に対応する
量だけ降下させることである。ポンプ６３は５バールま
での高い供給圧で動作される。この目的のために、制御
装置６５は、ストロークボリュームが対応する層量より
も小さくなるように調整し、その結果、ポンプ６３は、
一塗布操作中に数ストローク動作を行い、連続したポン
プ動作を行う。アキュムレータ６６は、ギャップ５３へ
の注入口６１内の樹脂３の一定圧力を保証する。高い供
給圧の結果として、ギャップ５３内の樹脂３の速度ｖは
高くなり、その結果、フィルム層７０が、図７および８
に示されるように、ノズル６０ａ、６０ｂの下側で、先
に固化した層あるいは先の未固化層の上に形成される。
配量装置５１の走行速度ｗおよびポンプ６３の供給圧力
は、ノズル６０ａ、６０ｂから出る樹脂が、所望の層厚
ｈに対応した幅を有するフィルム層７０を、先の層の固
化領域（図８）、あるいは未固化領域（図７）上に形成
するように、調整される。この場合、液面２の樹脂３
と、ノズル６０ａ、６０ｂから放出される材料との間に
は何も相互作用はなく、したがって、特に、図１１、図
１２に示されているＣＶ＋およびＣＶ−の影響、あるい
は図１３に示されている突起のような不利な影響が避け
られる。
【００４４】その後、この層は、前記の実施例と同じ方
法で物体に対応する場所で固化される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態による装置の概略説
明図
【図２】ワイパーの第１の実施例を示す
【図３】ワイパーの第２の実施例を示す
【図４】ワイパーの変形例を示す
【図５】装置の第２の実施の形態の一部概略図を示す
【図６】図５の配量装置の断面図
【図７】塗布操作を説明する概略断面図
【図８】塗布操作を説明する概略断面図
【図９】従来のワイパーを使用した時に起こる問題の概
略図
【図１０】“閉容積”が存在する場合に従来のワイパー
が使用された時に遭遇する問題点の概略図
【図１１】“閉容積”が存在する場合に従来のワイパー
が使用された時に遭遇する問題点の概略図
【図１２】“閉容積”が存在する場合に従来のワイパー
が使用された時に遭遇する問題点の概略図
【図１３】従来のワイパーを使用した時に起こるもう一
つの問題点の概略説明図
【符号の説明】
１ タンク ２ 浴面 ４ サポート ６ 高さ調整装置 ７ 物体 １５ ワイパー ２６ 移動装置 ５１ 配量装置 ５３ ギャップ ６２ 導管 ６３ ポンプ ６５ 制御装置 ６６ アキュムレータ Ｂ ギャップの幅
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ペーター ヴォルフ ドイツ連邦共和国，85649 ブリュンター ル，ベルグシュトラッセ 11 (72)発明者 ガブリエレ クルック ドイツ連邦共和国，80809 ミュンヘン, シュライスハイマー シュトラーセ 207 ツェー

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 電磁放射の作用により固化する液体ある
    いは粉末の材料の浴を容れるためのタンクと、 浴面に関連した位置に物体を位置付けるためのサポート
    と、 電磁放射を行うことによって前記浴面にて前記材料の層
    を固化するための装置を有するステレオリソグラフィに
    よって物体を製造する装置において、 前記タンクを横切って延在し前記材料を供給するための
    供給装置を有し、該供給装置は、その下面に放出開口部
    を有し、 前記供給装置は配量装置を備え、前記放出開口部は前記
    配量装置の底面に該底面に沿って延在する、幅が調整可
    能なギャップを有し、 前記配量装置には、ポンプにより前記タンクから導管を
    介して前記固化性材料が供給されることを特徴とする物
    体を製造する装置。
  2. 【請求項２】 前記配量装置を調整可能な速度で前記浴
    面に平行に前記ギャップが延在する方向と交差する方向
    に移動させるための移動装置をさらに有することを特徴
    とする請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 前記浴面上で前記配量装置の高さを調整
    するための高さ調整装置を備えていることを特徴とする
    請求項１または２記載の装置。
  4. 【請求項４】 前記供給装置とポンプをつなぐ導管を有
    することを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載
    の装置。
  5. 【請求項５】 前記ポンプが、前記材料を一定の予め調
    整されたボリュームレートで供給するように設計されて
    いる制御装置と結合していることを特徴とする請求項４
    項記載の装置。
  6. 【請求項６】 前記ポンプが、一つの層に必要な材料の
    量と同じかあるいはそれ以上であるストローク量を有す
    るベローポンプから形成され、一層を形成するために一
    ストロークのみで良いことを特徴とする請求項４または
    ５記載の装置。
  7. 【請求項７】 前記ポンプが、一つの層に必要な材料の
    量よりも小さいストローク量を有するベローポンプとし
    て形成されていることを特徴とする請求項４または５記
    載の装置。
  8. 【請求項８】 前記ポンプが、供給圧を一定に維持する
    ために、前記導管にガス量を導入するアキュムレータに
    連通していることを特徴とする請求項７記載の装置。
  9. 【請求項９】 前記ポンプが前記配量装置と連通してい
    て、前記浴面を横切って該配量装置と共に移動可能であ
    ることを特徴とする請求項４から８いずれか１項記載の
    装置。
  10. 【請求項１０】 塗布層の表面、あるいは該塗布面とは
    別の、該塗布面に対応する基準要素の表面のレベルを検
    出する測定装置をさらに有することを特微とする請求項
    １から９いずれか１項記載の装置。
  11. 【請求項１１】 前記配量装置が、塗布中に該配量装置
    が移動する方向において前記ギャップの後側になる前記
    配量装置の面にワイパーを有していることを特徴とする
    請求項１から１０いずれか１項記載の装置。
  12. 【請求項１２】 電磁放射を照射することによって固化
    する粘性の材料のそれぞれの層を塗布し、その層の物体
    に対応する場所を照射により固化することによって物体
    を層状に形成する、ステレオリソグラフィによって３次
    元物体を製造する方法において、 サポートの表面ある
    いは先に固化された層の表面を横切って供給装置を移動
    することによって規定される層厚を有する層を配置する
    ことにより、材料の層をサポートあるいは先に固化され
    た層上に塗布する際に、 層厚の調整の少なくとも一部を、前記供給装置の底面に
    設けられた材料の放出ギャップの幅を調整することによ
    って行い、 前記供給装置への前記材料の供給は該材料を収容したタ
    ンクからポンプにより導管を介してなされることを特微
    とする３次元物体の製造方法。
  13. 【請求項１３】 材料の浴を含むタンク内で物体を形成
    すること、および実質的に一定の予め調整されたボリュ
    ームレートで材料を供給するポンプを使用して材料を前
    記タンクから前記供給装置に供給することを特徴とする
    請求項１２記載の方法。
  14. 【請求項１４】 供給装置を、サポートあるいは先に固
    化した層の表面から、層厚よりも大きい一定の距離離れ
    て、塗布されるべき表面を横切って移動することを特徴
    とする請求項１２または１３記載の方法。
  15. 【請求項１５】 前記ポンプによって運ばれる材料のボ
    リュームレートを、前記供給装置の全走行範囲に亘って
    制御することを特微とする請求項１３または１４記載の
    装置。
  16. 【請求項１６】 前記浴から、一つの層に要求される量
    の材料を前記ポンプの単一ポンピングステップによって
    ポンピングすることを特徴とする請求項１３から１５い
    ずれか１項記載の方法。
  17. 【請求項１７】 前記浴から、一つの層に要求される量
    の材料を、数回のポンピングステップによって供給し、
    該ポンプを実質的に絶えず稼働させていることを特徴と
    する請求項１３から１６いずれか１項記載の方法。
  18. 【請求項１８】 固化されるべき層を平らにすることを
    特徴とする請求項１２から１７いずれか１項記載の方
    法。
  19. 【請求項１９】 層厚の調整の少なくと一部を、前記供
    給装置の走行速度を変化させることによって行うことを
    特微とする請求項１２から１８いずれか１項記載の方
    法。
  20. 【請求項２０】 層厚の調整の少なくとも一部を、前記
    ポンプの供給圧を変化させることによって行うことを特
    微とする請求項１２から１９いずれか１項記載の方法。
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