JP2001102792A

JP2001102792A - 透光性電磁波シールド部材とその製造方法

Info

Publication number: JP2001102792A
Application number: JP28196599A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiko Kondo; 康彦近藤; Makoto Sugitani; 信杉谷
Original assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Priority date: 1999-10-01
Filing date: 1999-10-01
Publication date: 2001-04-13
Anticipated expiration: 2019-10-01
Also published as: JP3544498B2

Abstract

(57)【要約】【課題】透光性と電磁波シールド効果の両方にすぐ
れ、かつコントラストを低下させるおそれもない透光性
電磁波シールド部材と、その製造方法とを提供する。【解決手段】透光性電磁波シールド部材は、透明基板
２の表面に、金属粉末とグラファイト粉末とを含む導電
性インキ組成物を印刷して形成された、線幅が５〜４０
μｍで、かつ式(1)：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ (1) 〔式中Ｓｓは、透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積、Ｓｋは印刷されていない領域の全表面積を
示す〕を満足する印刷パターン１０と、その上に積層、
形成された金属層１１とで電磁波シールドパターン部１
を構成した。製造方法は、上記印刷パターンを凹版オフ
セット印刷にて形成し、金属層を電気めっきにて形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえばＣＲＴ
（ブラウン管）、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パ
ネル）等の表示画面から照射される電磁波を効果的にシ
ールド（遮蔽）することができ、しかも上記表示画面に
おける表示の視認性を阻害しないために透光性にもすぐ
れた透光性電磁波シールド部材と、その製造方法とに関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子、電気機器から放射される電
磁波が人体に与える影響について種々の報告がなされて
おり、それに伴ってＣＲＴ等の表示画面から放射される
電磁波をシールドする技術について関心が高まってい
る。通常の電気機器などから放射される電磁波をシール
ドするためには、その筐体を金属体にするか、あるいは
筐体に金属板を貼りつけるといった方法が行われる。

【０００３】しかし、たとえばＣＲＴやＰＤＰの表示画
面から照射される電磁波をシールドするには、ただ単に
電磁波のシールド効果にすぐれているだけでなく、表示
画面における表示の視認性を阻害しないために、透光性
にもすぐれていることが求められるので、金属板をその
まま使用することはできない。そこで、ＣＲＴ等の表示
画面から照射される電磁波を、表示の視認性を阻害する
ことなくシールドすることを目的として、たとえば(1)
導電性の高い金属フィラメントを混入した繊維からなる
メッシュ、(2) ステンレス、タングステン等の導電性材
料の繊維を内部に埋め込んだ透明基板（特開平３−３５
２８４号公報、特開平５−２６９９１２号公報、特開平
５−３２７２７４号公報）、(3) 表面に金属または金属
酸化物の蒸着膜を形成した透明基板（特開平１−２７８
８０号公報、特開平５−３２３１０１号公報）などが用
いられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のうち
(1)のメッシュを用いると表示画面が暗くなって、コン
トラストや解像度が低下するという問題がある。また
(2)の透明部材は内部に繊維が埋め込まれていることか
ら、製造方法が複雑になってコストが高くなる上、やは
り表示画面が暗くなって、コントラストや解像度が低下
するという問題がある。

【０００５】さらに(3)の場合には、充分な透光性を維
持し得る程度にまで蒸着膜を薄くすると、当該膜の表面
抵抗が低下して電磁波の減衰特性が低下することから、
透光性とシールド効果とを両立できないという問題があ
る。ＣＲＴ等の表示画面を覆って電磁波をシールドする
部材としては、上記例示の他にもたとえば、透明基板の
表面に、導電性の高い金属粉末を混合したインキを、ス
クリーン印刷法によって格子状または縞状のパターンに
印刷形成したもの（特開昭６２−５７２９７号公報、特
開平９−２８３９７７号公報）や、導電性インキからな
る網目状のパターンを、スクリーン印刷法によって印刷
形成したのち真空中で焼き付けたもの（特開平２−５２
４９９号公報）、あるいは紫外線硬化型エポキシアクリ
レート樹脂に金属粉末を混合したインキを、印刷法は不
明であるが透明基板の表面に、格子状に印刷形成したの
ち紫外線を照射して硬化したもの（特公平２−４８１５
９号公報）などが知られているが、これらの部材を用い
ても、充分な電磁波のシールド効果と透光性とを両立す
ることはできない。

【０００６】すなわち、すぐれた電磁波のシールド効果
と透光性とを両立するには、パターンの線幅とパターン
の間隙（ピッチ）とを最適化し、さらにパターンの電気
抵抗を小さくする必要があるが、このような観点に対す
る考慮は、上記各公報のいずれに記載の技術においても
なされておらず、またパターンの作成方法に対する考慮
も不充分であると考えられる。たとえば充分な透光性を
得るには、パターンの線幅を極めて細くし、かつその間
隔を大きくするのが好ましいが、この場合にはシールド
効果が不充分になる。また、スクリーン印刷法等の方法
で数１０μｍ以下といった極めて細い線幅のパターンを
形成するのは困難であって、パターンの線幅にばらつき
が生じたり、パターンが途切れる箇所が多数発生したり
するといった問題が生じる。また特公平２−４８１５９
号公報に記載のものについても、その実施例ではパター
ンの線幅が１００μｍとなっていることから、やはりス
クリーン印刷法等の従来法にて印刷を行っているものと
推測され、数１０μｍ以下といった極めて細い線幅のパ
ターンを形成するのは困難であって、上記のようにパタ
ーンの線幅にばらつきが生じたり、パターンが途切れる
箇所が多数発生したりするといった問題がある。

【０００７】一方、シールド効果を高めるには、パター
ンの電気抵抗を極力低くすることが好ましいが、金属粉
末とバインダー樹脂とからなる一般的な導電性ペースト
をインキとして用いた場合、その比抵抗は充分に小さい
ものの、極めて細いパターンを形成した際に、パターン
間の電気抵抗が非常に高くなってしまって、シールド効
果を充分に高めることが困難になる。また上記導電性ペ
ーストにて形成したパターンは金属光沢を有し、外光や
内部発光の反射によって、表示画面のコントラストの低
下を引き起こすという問題がある。

【０００８】そこでコントラストの低下を抑制するため
に、導電性のカーボンブラックを金属粉末と併用して、
印刷パターンを黒くすることが考えられるが、カーボン
ブラックは金属粉末に比べて抵抗値が高いために、併用
すると印刷パターンの導電性が低くなって電磁波のシー
ルド性が悪くなるという問題がある。またとくにＰＤＰ
用途では厳しい電磁波シールド性能が要求されていると
ともに、今後その要求がますます厳しくなることが予想
されており、上記の、金属粉末やカーボンブラックを主
とする導電性ペーストのみにてパターン形成されたシー
ルド部材では、この要求に対応する十分なシールド性能
が得られなくなりつつあるという問題もある。

【０００９】特開平３−３５２８４号公報には、透明プ
ラスチック基板の表面に、金属薄膜を蒸着等によって形
成した後、ケミカルエッチングプロセスによってパター
ニングする旨の記載があり、また特開平１０−４１６８
２号公報には、金属薄膜からなる幾何学模様を、これも
ケミカルエッチングプロセスによって透明基板の表面に
設ける旨の記載がある。また同様に特開平１０−１６３
６７３号公報には、透明基板の表面にめっき触媒を含む
透明樹脂塗膜を形成し、その上に無電解めっきによって
銅などの金属薄膜を形成したのち、やはりケミカルエッ
チングプロセスによってパターニングする旨の記載があ
る。

【００１０】これらの方法によれば、非常に微細なパタ
ーンを高い精度でもって形成することができる上、とく
にＰＤＰ用途で要求される厳しい電磁波シールド性能を
達成することもできる。しかしながらケミカルエッチン
グプロセスにおいては、かかる微細なパターンを形成す
るためにフォトリソグラフ法を用いる必要があり、製造
コストが極めて高くなるため、コスト面で不利である。
とくに、ＰＤＰ等の大型画面に対応させるためには露光
装置やエッチング装置を大型化せねばならず、製造設備
が非常に高価になる。

【００１１】また、透明基板の表面に一旦、形成した金
属薄膜の大部分を除去する必要があって無駄が多い上、
エッチング後の廃液の処理に時間と手間と費用とがかか
るという問題もある。本発明の目的は、上記課題を解決
し、透光性と電磁波のシールド効果との両方にすぐれる
とともにコントラストを低下させるおそれもない透光性
電磁波シールド部材と、当該透光性電磁波シールド部材
を、簡易な方法でかつ低コストで製造することのできる
製造方法とを提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記課
題を解決するための、本発明の透光性電磁波シールド部
材は、透明基板の表面に、(a) 金属粉末と、(b) グラフ
ァイト粉末とを含む導電性インキ組成物を印刷して形成
された、その線幅が５〜４０μｍで、かつ式(1)：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ (1) 〔式中Ｓｓは、透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積、Ｓｋは印刷されていない領域の全表面積を
示す〕を満足する、ストライプ状、格子状または幾何学
模様からなる印刷パターンと、当該印刷パターン上に積
層、形成された金属層とによって電磁波シールドパター
ン部が構成されたことを特徴とする。

【００１３】また本発明の製造方法は、インキ離型性に
すぐれた転写体を用いた凹版オフセット印刷法により、
透明基板の表面に、(a) 金属粉末と、(b) グラファイト
粉末とを含む導電性インキ組成物を印刷して、その線幅
が５〜４０μｍで、かつ式(1)：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ (1) 〔式中Ｓｓは、透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積、Ｓｋは印刷されていない領域の全表面積を
示す〕を満足する、ストライプ状、格子状または幾何学
模様からなる印刷パターンを形成したのち、当該印刷パ
ターン上に、電気めっきによって選択的に、金属層を積
層、形成して、電磁波シールドパターン部を構成するこ
とを特徴とするものである。

【００１４】上記本発明によれば、・精密でかつ微細なパターン形成が可能であるととも
に、１回の印刷でおよそ０．５μｍ程度の膜厚しか稼げ
ない平版や凸版に比べて、同じ１回の印刷で十分に厚肉
の、したがって良好な導電性を有する印刷パターンの形
成が可能であり、所定の膜厚を得るのに重ね印刷が不要
である上、凹部の深さを調整することで上記印刷パター
ンの厚みを自由に制御することもできる凹版と、・インキ離型性にすぐれ、上記凹版のインキをほぼ１０
０％、透明基板に転写できるため、インキの分断を、凹
版から転写体への転写の際の１回のみとすることができ
て、微細なパターンであっても原版にきわめて忠実な、
断線などを生じない非常に良好な印刷物形状を有する印
刷パターンを形成できる転写体とを用いた凹版オフセッ
ト印刷法を採用することで、電磁波シールドパターン部
を構成する、線幅が５〜４０μｍといった極めて微細な
印刷パターンを、１度の印刷で生産性よく、かつ断線
や、あるいは重ね印刷によるずれなどを生じることなく
精度よく形成することができる。

【００１５】このため、たとえばフォトリソグラフ法を
用いる場合に比べて簡易かつ低コストで、上記のように
微細な印刷パターンを形成することが可能となり、生産
性の向上とコストの低減とをはかることができる。たと
えばフォトリソグラフ法のランニングコストを１とする
と、凹版オフセット印刷法のランニングコストは、その
およそ１／１０〜１／３程度まで低減することが可能で
ある。また形成された印刷パターンは、上記のようにそ
の線幅が４０μｍ以下と非常に細いために透光性にもす
ぐれたものとなる。

【００１６】また上記印刷パターンの形成に使用する導
電性インキ組成物中に、金属粉末とともに含有されるグ
ラファイト粉末は、炭素原子のπ電子が近接しているた
めに自由電子の移動が速やかで、カーボンブラックより
もはるかに導電性にすぐれる上、カーボンブラックと同
等の黒色度を有しており、金属粉末による高い導電性を
維持しつつ印刷パターンの黒色度を高めて、表示のコン
トラストの低下を防止するために作用する。

【００１７】このため印刷パターンは、とくに透明基板
側からの光（部材をどちら向きに使用するかによるが主
に外光）の反射による表示のコントラストの低下を防止
する機能にすぐれている上、導電性にもすぐれており、
膜厚が数μｍといった薄膜でも、その抵抗を非常に小さ
くすることができる。またそれゆえ、かかる印刷パター
ンを陰極として使用して電気めっきするだけで、当該印
刷パターン上に選択的に、高い導電性を有する良好な金
属層を積層、形成して、とくにＰＤＰ用途で要求される
厳しい電磁波シールド性能を将来に亘って十分に達成し
うる、電磁波のシールド効果にすぐれた良好な電磁波シ
ールドパターン部を構成することができる。

【００１８】したがって本発明の製造方法によって得ら
れる本発明の透光性電磁波シールド部材は、印刷領域と
非印刷領域との比Ｓｋ／Ｓｓが前記所定の範囲に限定さ
れることも相まって、透光性と電磁波のシールド効果と
の両方にすぐれるとともにコントラストを低下させるお
それがなく、ＣＲＴなどの表示画面を覆ってもその視認
性やコントラストを損なうことなしに、電磁波を高度に
かつ確実にシールドできるものとなる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下に本発明を説明する。〈導電性インキ組成物〉本発明で使用する導電性インキ
組成物は、前記のように(a) 金属粉末と、(b)グラファ
イト粉末とを含むものである。このうち(a)の金属粉末
としては、たとえば銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウ
ムおよび金などがあげられる。金属粉末はそれぞれ１種
単独で使用できる他、２種以上を併用することもでき
る。またメッキ複合体（たとえば銀メッキ銅）や合金体
としてもよい。これら金属粉末の中でもとくに導電性と
コスト、そして耐酸化性、すなわち絶縁性の高い酸化物
を生成しにくい特性を考慮すると、銀または銅の粉末が
好適に使用される。

【００２０】導電性インキ組成物中での金属粉末は、印
刷パターンの導電性を高くして、電気めっきによる金属
層の形成をより一層、良好に行うという観点から、その
充填密度が高いほど好ましい。また印刷パターンの導電
性は、使用する金属粉末自体の体積固有抵抗のみで決ま
るものではなく、パターン部中での金属粉末間の接触抵
抗によっても大きく左右される。たとえば、印刷パター
ンの内部に金属粒子が高密度で充填されていても、金属
粉末間の接触抵抗が大きければ、印刷パターン全体の導
電性が低くなる。

【００２１】それゆえ金属粉末としては、球状や粟状の
ものなどよりも、金属粉末同士の接触面を大きくするこ
とを考慮して鱗片状のものが好ましく使用されるが、上
記球状や粟状のものを排除するものではない。またその
粒径は、印刷適正などを考慮すると、およそ０．０１〜
１０μｍ程度であるのが好ましく、０．１〜５μｍ程度
であるのがさらに好ましい。金属粉末の、導電性インキ
組成物への添加量は、当該導電性インキ組成物の総量に
対する百分率で表しておよそ６０〜９５重量％程度であ
るのが好ましく、８０〜９０重量％程度であるのがさら
に好ましい。

【００２２】金属粉末の添加量がこの範囲未満では、導
電性を担う金属粉末の割合が少ないために印刷パターン
の導電性が低下して、その表面に、電気めっきによって
導電性にすぐれた金属層を積層、形成するのが容易でな
くなり、電磁波シールド効果にすぐれた電磁波シールド
パターン部を構成できないおそれがある。また逆に、金
属粉末の添加量がこの範囲を超えた場合には、金属粉末
同士を結合させるバインダー樹脂の結合力が弱まるため
に、やはり印刷パターンの導電性が低下して、その表面
に、電気めっきによって導電性にすぐれた金属層を積
層、形成するのが容易でなくなり、電磁波シールド効果
にすぐれた電磁波シールドパターン部を構成できないお
それがある。

【００２３】上記金属粉末とともに導電性インキ組成物
中に含有される、前記(b)のグラファイト粉末として
は、天然あるいは人造の、従来公知の種々のグラファイ
ト粉末がいずれも使用可能である。このうち天然産のグ
ラファイト粉末としては、その産地の違いによって粉末
形状が異なる種々のもののうち、電気導電性の観点か
ら、マダガスカル、中国、北朝鮮などで産出される鱗片
状黒鉛や、あるいはスリランカなどで産出される鱗状黒
鉛などが好適に使用されるが、これに限定されるもので
はない。

【００２４】また人造のグラファイト粉末としては、た
とえば日本国内産で言えば日本黒鉛工業(株)製の品番Ｃ
ＳＰＥ、ＣＳＰ、特ＣＰ、ＣＰ、ＣＰ・Ｂ、ＡＯＰ、青
Ｐ、ＡＰＢ、ＨＡＧ−１５０、ＨＡＧ−１５、ＰＡＧ−
１５、ＡＣＰ−１０００、ＳＰ−１０、ＳＰ−２０、Ｈ
ＯＰ、ＪＣＰＢ、ＪＳＰ、ＪＡＯＰなどが使用可能であ
る。上記グラファイト粉末の粒径は、印刷適正などを考
慮すると、やはり０．０１〜１０μｍ程度であるのが好
ましく、０．１〜５μｍ程度であるのがさらに好まし
い。

【００２５】グラファイト粉末の、導電性インキ組成物
への添加量は、当該導電性インキ組成物の総量に対する
百分率で表しておよそ０．５〜５０重量％程度であるの
が好ましく、１〜３０重量％程度であるのがさらに好ま
しい。グラファイト粉末の添加量がこの範囲未満では、
印刷パターンの黒色度が低下するために、外光の反射を
防止してコントラストの低下を防止する効果が十分に得
られないおそれがある。

【００２６】また逆に、グラファイト粉末の添加量がこ
の範囲を超えた場合には、印刷パターンの導電性が低下
するため、その表面に、電気めっきによって導電性にす
ぐれた金属層を積層、形成するのが容易でなくなって、
電磁波シールド効果にすぐれた電磁波シールドパターン
部を構成できないおそれがある。また金属粉末Ｍとグラ
ファイト粉末Ｇとの配合比Ｍ／Ｇ（重量比）は、Ｍ／Ｇ
＝３００／１〜２０／１程度であるのが好ましく、２０
０／１〜４０／１程度であるのがさらに好ましい。

【００２７】上記範囲よりもグラファイト粉末の比率が
少ない場合には、印刷パターンの黒色度が低下するため
に、外光の反射を防止してコントラストの低下を防止す
る効果が十分に得られないおそれがある。また逆に、グ
ラファイト粉末の比率が多い場合には、印刷パターンの
導電性が低下するため、その表面に、電気めっきによっ
て導電性にすぐれた金属層を積層、形成するのが容易で
なくなって、電磁波シールド効果にすぐれた電磁波シー
ルドパターン部を構成できないおそれがある。

【００２８】上記金属粉末、グラファイト粉末とともに
導電性インキ組成物を形成する他の成分としては、たと
えばバインダー樹脂、溶剤などがあげられる。このうち
バインダー樹脂としては、熱硬化性、紫外線硬化性、あ
るいは熱可塑性などの種々の樹脂がいずれも使用可能で
あるが、とくに印刷パターンの耐熱性、耐候性などを考
慮すると熱硬化性または紫外線硬化性のバインダー樹脂
が好適に使用される。

【００２９】熱硬化性のバインダー樹脂としては、たと
えばポリエステル−メラミン、メラミン、エポキシ−メ
ラミン、フェノール、ポリイミド、熱硬化性アクリル、
およびポリウレタンなどの各種樹脂があげられる。また
紫外線硬化性のバインダー樹脂としては、たとえばポリ
エステル、ポリビニルブチラール、アクリル、フェノー
ル、ポリウレタンなどの各種樹脂があげられる。また前
者の熱硬化性のバインダー樹脂を使用する際に、たとえ
ば透明基板の耐熱性などの関係で硬化温度を高くできな
いようなときには、パラトルエンスルホン酸やアミンで
ブロックしたパラトルエンスルホン酸、あるいはブロッ
クイソシアネートなどの硬化触媒を添加してもよい。

【００３０】バインダー樹脂の、導電性インキ組成物へ
の添加量は、当該導電性インキ組成物の総量に対する百
分率で表しておよそ０．５〜５０重量％程度であるのが
好ましく、１〜３０重量％程度であるのがさらに好まし
い。バインダー樹脂の添加量がこの範囲未満では、印刷
パターンの強度が低下するおそれがある他、前述したよ
うに金属粉末同士を結合させるバインダー樹脂の結合力
が弱まるために、印刷パターンの導電性が低下して、そ
の表面に、電気めっきによって導電性にすぐれた金属層
を積層、形成するのが容易でなくなり、電磁波シールド
効果にすぐれた電磁波シールドパターン部を構成できな
いおそれがある。

【００３１】また逆に、バインダー樹脂の添加量がこの
範囲を超えた場合には、相対的に導電性を担う金属粉末
の割合が少なくなって、印刷パターンの導電性が低下す
るために、やはりその表面に、電気めっきによって導電
性にすぐれた金属層を積層、形成するのが容易でなくな
って、電磁波シールド効果にすぐれた電磁波シールドパ
ターン部を構成できないおそれがある。溶剤は、前記
(a)の金属粉末、(b)のグラファイト粉末、および上記バ
インダー樹脂を含む導電性インキ組成物の粘度を、凹版
オフセット印刷に適した範囲に調整するために添加され
るもので、かかる溶剤としては、たとえばその沸点が１
５０℃以上であるような従来公知の種々の溶剤が、好適
に使用される。溶剤の沸点が１５０℃を下回ると、印刷
時に乾燥しやすくなって、インキ組成物が経時変化を起
こしやすくなるためである。

【００３２】かかる溶剤の具体例としては、たとえばア
ルコール類〔ヘキサノール、オクタノール、ノナノー
ル、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリ
デカノール、テトラデカノール、ベンタデカノール、ス
テアリルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサ
ノール、テルピネオールなど〕や、アルキルエーテル類
〔エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロ
ソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、
ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテ
ート、ブチルセロソルブアセテート、力ルピトールアセ
テート、ブチルカルビトールアセテートなど〕があげら
れ、この中から１種または２種以上が、印刷適性や作業
性等を考慮して適宜、選択される。

【００３３】溶剤として高級アルコールを使用する場合
は、インキ組成物の乾燥性や流動性が低下するおそれが
あるため、これらよりも乾燥性が良好なブチルカルビト
ール、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチル
セロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート
などを併用すればよい。溶剤は、導電性インキ組成物の
粘度が５０〜２０００ポイズ（Ｐ）程度、とくに２００
〜１０００Ｐ程度となるように、その添加量を調整する
のが好ましい。

【００３４】導電性インキ組成物の粘度がこの範囲を下
回るか、あるいは逆に上回った場合には、そのいずれに
おいても、導電性インキ組成物の印刷適性が低下して、
微細なパターンを形成できなくなるおそれがあるからで
ある。導電性インキ組成物は、上記の各成分を配合し、
十分に攪拌混合したのち、混練することによって調製さ
れる。〈透明基板〉上記導電性インキ組成物によって、その表
面に印刷パターンが形成される透明基板としては、可視
光線に対する充分な透光性を有するガラスやフィルムが
いずれも使用可能であるが、とくにロール状にして連続
処理できる樹脂のフィルムやシートが好ましい。

【００３５】フィルムやシートを形成する樹脂として
は、たとえばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）に
代表されるポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピ
レンなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデンなどの含ハロゲン樹脂類、ポリスチレンな
どのスチレン系樹脂類、ポリエーテルスルホン、ポリカ
ーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂な
どがあげられ、中でもとくに透光性が良好であり、かつ
安価であるうえ柔軟性にすぐれ、しかも導電性インキ組
成物を印刷した後、加熱工程もしくは紫外線照射工程を
経る場合にも熱変形などしない耐熱性を有するＰＥＴ
が、最も好適に使用される。

【００３６】透明基板の厚みはとくに限定されないが、
電磁波シールド部材の透光性を維持するという観点から
すると薄いほど好ましく、通常は、使用時の形態（フィ
ルム状、シート状）や必要とされる機械的強度に応じて
０．０５〜５ｍｍの範囲で適宜、厚みが設定される。〈凹版〉透明基板の表面に導電性インキ組成物を凹版オ
フセット印刷して印刷パターンを形成する際に原版とし
て使用される凹版としては、基板の表面に、印刷パター
ンに対応した所定の凹部を形成した平板状のものや、平
板状のものを円筒状に巻き付けたもの、円筒状のもの、
あるいは円柱状のものなどがあげられる。

【００３７】上記基板は、表面の平滑性が重要である。
平滑性が悪いと、インキ組成物をドクターブレードによ
って凹版の凹部に充てんする際に、凹版表面の、凹部以
外の個所にインキのかき残りが発生して、非画線部の汚
れ（地汚れ）が発生する。平滑性の程度についてはとく
に限定されないが、十点平均粗さで表しておよそ１μｍ
以下程度であるのが好ましく、０．５μｍ以下程度であ
るのがさらに好ましい。

【００３８】かかる基板としては、たとえばソーダライ
ムガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス、低アルカ
リガラス、低膨張ガラスなどのガラス製の基板のほか、
フッ素樹脂、ポリカーポネート（ＰＣ）、ポリエーテル
スルホン（ＰＥＳ）、ポリエステル、ポリメタクリル樹
脂等の樹脂板、ステンレス、銅、ニッケル、低膨脹合金
アンバー等の金属基板などが使用可能である。中でも、
最も安価に表面平滑性の良好な凹版を製造できる上、パ
ターンのエッヂ形状を非常にシャープに形成することが
可能なガラス製のものを用いるのが好ましい。

【００３９】ただし、ＬＳＩなどの分野でフォトリソグ
ラフ用の印刷原版などに用いられるノンアルカリガラス
は非常に高価であるため、透光性電磁波シールド部材の
印刷パターン程度の精度であれば、ソーダライムガラス
で十分である。凹版の凹部は、フォトリングラフ法、エ
ッチング法もしくは電鋳法等により形成される。凹部の
深さは、前述したように目的とする印刷パターンの厚み
に応じて適宜、設定すればよいが、凹部内へのインキの
残り（通常は、その深さの約半分量程度のインキが凹部
内へ残る）や、あるいは溶剤の蒸発による印刷後の厚み
の減少などを考慮すると、およそ１〜５０μｍ程度、と
くに３〜２０μｍ程度であるのが好ましい。〈転写体〉上記凹版とともに凹版オフセット印刷に使用
される転写体としては、その表面がインキの離型性にす
ぐれたものであればとくに限定されないが、インキ離型
性を示す指標としての表面エネルギーの値が１５〜３０
ｄｙｎ／ｃｍ程度、とくに１８〜２５ｄｙｎ／ｃｍ程度
であるものが、転写体として好ましい。

【００４０】かかる転写体としては、少なくともその表
面層がシリコーンゴム、フッ素樹脂、フッ素ゴムまたは
これらの混合物などで形成された種々のものがあげられ
るが、中でもシリコーンゴムがインキ離型性にすぐれて
おり、凹版から転写されたインキをほぼ１００％、透明
基板上に転写できるため好適に使用される。またシリコ
ーンゴムとしては加熱硬化型（ＨＴＶ）、室温硬化型
（ＲＴＶ）等の種々のシリコーンゴムがあげられるが、
とくに室温硬化型の付加型シリコーンゴムは硬化の際に
副生成物を全く発生せず、寸法精度においてすぐれてい
るので、好適に使用される。

【００４１】上記シリコーンゴムなどで形成される転写
体の表面層の硬さは、印刷精度などを考慮すると、日本
工業規格ＪＩＳＫ６３０１に規定されたスプリング式硬
さ（ＪＩＳＡ）で表して２０〜７０°程度、とくに３
０〜６０°程度であるのが好ましい。すなわち表面層の
硬さがこの範囲を超える硬い転写体は、凹版オフセット
印刷において凹版に圧接した際に、上記表面層が凹部内
に十分に圧入されないために、凹部内のインキが転写体
の表面に十分に転写されず、精度のよい印刷を行えない
おそれがある。また逆に、表面層の硬さがこの範囲未満
の柔らかい転写体は、凹版オフセット印刷において凹版
や透明基板に圧接した際に、上記表面層の変形が大きく
なるために、やはり精度のよい印刷を行えないおそれが
ある。

【００４２】また転写体の表面は、これも印刷精度など
を考慮すると平滑で、その表面の凹凸などが印刷に影響
を及ぼさないことが好ましく、具体的には十点平均粗さ
で表して１．０μｍ以下、とくに０．５μｍ以下である
のが好ましい。転写体の形状はブランケット状（シート
状）のもの（円筒状の胴に巻き付けるなどして使用）、
ローラ状のもの、あるいは印刷ずれの生じないものであ
ればパット印刷等に用いられる曲面状の弾性体などであ
ってもよい。〈印刷パターン〉前記導電性インキ組成物を用いて、凹
版オフセット印刷によって、透明基板の表面に印刷形成
される印刷パターンは、前述したように、その線幅が５
〜４０μｍで、かつ式(1)：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ (1) 〔式中Ｓｓは、透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積、Ｓｋは印刷されていない領域の全表面積を
示す〕を満足するものである必要がある。その理由は以
下のとおりである。

【００４３】発明者のうち近藤は先に、線幅５〜８０μ
ｍ、線間隔２００〜３０００μｍのストライプパターン
が、周波数１〜５００ＭＨｚでの電界成分を十分にカッ
トできる性能を有することを見出した。しかし発明者ら
がさらに検討したところ、この線幅の範囲では、とくに
周波数が５００ＭＨｚを超える領域での電磁波シールド
性能が不十分であり、前述したＰＤＰ用途で要求される
厳しい電磁波シールド性能、具体的には周波数０．１Ｍ
Ｈｚ〜１ＧＨｚでの電界成分を十分にカットする性能を
達成できない場合のあることが明らかとなった。

【００４４】そこで発明者らは、前記導電性インキ組成
物からなる印刷パターンと、後述する金属層との積層構
造を有するストライプ状のモデルパターンを作製して、
等価回路から、印刷パターンの線幅および開口率〔印刷
されていない領域の割合、式(2)：開口率(％)＝Ｓｋ／（Ｓｋ＋Ｓｓ）×１００ (2) で求められる。〕と、電磁波シールド性能との関係につ
いて検討を行った。

【００４５】その結果、同じ開口率であれば線幅の細い
方が、電磁波シールド性能が向上することが明らかとな
った。つまり、開口率によって規定される透光性を落と
さずに電磁波シールド性能を向上させて、上記ＰＤＰ用
途で要求される厳しい電磁波シールド性能を達成するた
めには、できるだけ線幅の細いパターンを数多く形成す
ればよく、その具体的な範囲について検討したところ、
線幅が４０μｍ以下であればよいことを見出した。

【００４６】また、線幅の下限値についても検討を行っ
たところ、線幅が５μｍ未満では、印刷パターンを形成
する際に断線が発生しやすくなって、良品を安定して生
産できないことも判明し、これらの結果から印刷パター
ンの線幅は、５〜４０μｍの範囲内である必要のあるこ
とが明らかとなった。また前記開口率が高いほど、透光
性の指標である可視光線の透過率は向上するが、逆に電
磁波シールド性が低下するので、その兼ね合いを考慮す
ると開口率は５０〜９０％の範囲内である必要があるこ
とも判明した。

【００４７】そこでこの開口率の範囲と、上記線幅の範
囲とをもとに、透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積Ｓｓと、印刷されていない領域の全表面積Ｓ
ｋとの比Ｓｋ／Ｓｓを求めたところ、前記のように１〜
９の範囲内である必要のあることが明らかとなったので
ある。なおＰＤＰ用途で要求される厳しい電磁波シール
ド性能を達成するためには、開口率は、上記の範囲内で
もとくに６０〜８０％であるのが好ましく、この開口率
の範囲と、線幅（＝５〜４０μｍ）とから、上記比Ｓｋ
／Ｓｓのより好適な範囲を求めたところ２〜７程度であ
ることも明らかとなった。

【００４８】印刷パターンの形状は、たとえば図１(a)
および図２に示す、前述したストライプ状の他、図３〜
図５に示す格子状などが好適に採用される。このうちス
トライプ状の印刷パターン１０においては、たとえば図
２に示すように、当該印刷パターン１０を構成する各イ
ンキ層１０ａの線幅Ｗｓと、インキ層１０ａ間の、透明
基板２が露出した領域の幅Ｗｋと、そしてインキ層１０
ａの本数とを調整することで、比Ｓｋ／Ｓｓが前記の範
囲に規定される。

【００４９】また同様に図３、図４に示す格子状の印刷
パターン１０においては、それぞれの図に示すように縦
方向および横方向のインキ層１０ｂ、１０ｃの線幅Ｗｓ
₁、Ｗｓ₂と、上記両方向のそれぞれにおける、インキ層
１０ｂ、１０ｃ間の、透明基板２が露出した領域の幅Ｗ
ｋ₁、Ｗｋ₂と、そして両方向のインキ層１０ｂ、１０ｃ
の本数とをそれぞれ調整することで、比Ｓｋ／Ｓｓが前
記の範囲に規定される。

【００５０】また図５は、正方形の格子状の印刷パター
ン１０であって、縦方向および横方向のインキ層１０
ｂ、１０ｃの線幅Ｗｓ₁、Ｗｓ₂が同一（Ｗｓ₁＝Ｗｓ₂）
で、かつインキ層１０ｂ、１０ｃ間の、透明基板２が露
出した領域の幅Ｗｋ₁、Ｗｋ₂が同一（Ｗｋ₁＝Ｗｋ₂）で
ある場合を示しており、この場合にもやはり上記線幅Ｗ
ｓ₁、Ｗｓ₂、および領域の幅Ｗｋ₁、Ｗｋ₂と、そして両
方向のインキ層１０ｂ、１０ｃの本数とをそれぞれ調整
することで、比Ｓｋ／Ｓｓが前記の範囲に規定される。

【００５１】なおこの際、各図において各インキ層１０
ａ、１０ｂ、１０ｃの線幅Ｗｓ、Ｗｓ₁、Ｗｓ₂が、それ
ぞれ前述した５〜４０μｍの範囲に限定されることは言
うまでもない。また、表示画面のドットピッチとの関係
で、画像にモアレ縞（干渉縞）が生じないように、上記
線幅などに注意することも肝要である。上記以外の印刷
パターンとしては、たとえば図６(a)に示す円形模様、
図６(b)に示す菱形模様、図６(c)に示す正六角形模様な
どの幾何学模様があげられる。

【００５２】上記各図において符号１０ａが、印刷パタ
ーン１０を構成する各インキ層、符号２が、インキ層１
０ａ間で露出した透明基板を示すことは、先の各図の例
と同様である。なお図６(a)の円形模様の印刷パターン
１０においては、当該円を同面積の正方形と置き換えた
と仮定したときに、隣り合う正方形間に設けられる印刷
パターン部の幅を、線幅として規定する。

【００５３】印刷パターン１０の寸法、形状を規定する
他の数値についてはとくに限定されないが、当該印刷パ
ターン１０を構成するインキ層１０ａ、１０ｂ、１０ｃ
の膜厚は、前述したように断線などがなく、原版に忠実
な正確な印刷パターン１０を得るとともに、当該印刷パ
ターン１０を陰極として電気めっきを行って、その上
に、以下に述べる金属層１１を、これも原版に忠実な正
確なパターンでもって積層、形成するために、およそ
０．５〜５０μｍ程度であるのが好ましく、１〜３０μ
ｍ程度であるのがさらに好ましい。〈金属層〉本発明では、図１(b)に示したように、上記
各印刷パターン１０を構成するインキ層１０ａの上に、
当該印刷パターン１０を陰極とする電気めっきによって
選択的に、金属層１１が積層、形成されることで、電磁
波シールドパターン部１が形成されて、図１(a)に示す
ような透光性電磁波シールド部材が完成する。

【００５４】かかる金属層１１を形成する金属として
は、導電性にすぐれ、かつ電気めっきが可能である種々
の金属がいずれも使用可能である。金属の例としては
銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウムおよび金からなる
群より選ばれた少なくとも１種があげられ、とくに導電
性やコストの点で、銀または銅が好適に使用される。ま
た、上記金属層１１の表面を黒色化して、主に内部発光
の反射による表示画面のコントラストの低下を防止する
ために、金属層１１の最表層に、黒色ニッケルめっきな
どを施すこともできる。

【００５５】金属層１１の膜厚は、良好な電磁波シール
ド効果を得ることを考慮すると、０．５μｍ以上である
ことが好ましい。なお金属層１１の膜厚の、上限値につ
いてはとくに限定されないが、膜厚が５０μｍを超えて
もそれ以上の電磁波シールド効果が得られないだけでな
く、めっき工程に長時間を要するために生産性やコスト
の点でも問題を生じるおそれがある。それゆえ金属層１
１の膜厚は、上記の範囲内でもとくに５０μｍ以下であ
るのが好ましく、１〜３０μｍ程度であるのがさらに好
ましい。

【００５６】

【実施例】以下に本発明を、実施例、比較例に基づいて
説明する。なお、各実施例、比較例で製造した透光性電
磁波シールド部材について、以下の各試験を行って、そ
の特性を評価した。電磁波シールド効果試験各実施例、比較例の透光性電磁波シールド部材を縦２０
ｃｍ×横２０ｃｍに切り出し、クローズセルに挟みこん
で作製したサンプルについて、社団法人関西電子工業振
興センターが制定したＫＥＣ法によって、周波数０．１
ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲の電磁波の減衰率（ｄＢ）を測
定して、上記周波数範囲での、各サンプルの電磁波シー
ルド効果を評価した。

【００５７】なお後述する表には、シールド効果の指標
として、周波数１ＧＨｚでの電磁波の減衰率（ｄＢ）
を、下記の評価基準で評価した結果を示す。（評価基準） ××：０〜２０ｄＢ ×：２０〜４０ｄＢ △：４０〜６０ｄＢ ○：６０〜７０ｄＢ ◎：７０ｄＢ超透光性試験各実施例、比較例の透光性電磁波シールド部
材における、可視光線（波長４００〜７００ｎｍ）の分
光透過率を測定した。そしてその最低値を指標として、
各透光性電磁波シールド部材の透光性を、下記の評価基
準で評価した。

【００５８】（評価基準） ××：０〜５０％ ×：５０〜６０％ △：６０〜７０％ ○：７０〜８０％ ◎：８０％超視認性試験各実施例、比較例の透光性電磁波シールド部材を、電磁
波シールドパターン部を内側にして、ＰＤＰパネルの表
示画面に、アクリル系透明粘着剤を介して接着したの
ち、表示画像の視認性を下記の基準で評価した。

【００５９】（評価基準） ×：全面にわたってムラやメッシュが見られた。 △：かすかにムラやメッシュが見られた。 ○：ムラやメッシュは全く見られなかった。またコント
ラストも十分に高く、良好な画像が得られた。 ◎：ムラやメッシュが全く見られない上、コントラスト
が著しく高く、きわめて良好な画像が得られた。

【００６０】製造コスト比較以下に述べる実施例１において、透光性電磁波シールド
部材の製造に要した製造コストを１としたときの、各実
施例、比較例の製造コストを比較した。実施例１〈導電性インキ組成物の作製〉下記の各成分を十分に攪
拌混合し、３本ロールで混練して導電性インキ組成物を
作製した。

【００６１】（成分）（重量部）・鱗片状状銀粉末８００（平均粒径５μｍ）・グラファイト粉末５０（平均粒径４．５μｍ）・バインダー樹脂ポリエステル樹脂８０〔無水トリメリト酸とネオペンチルグリコールとのエス
テル（重量平均分子量：２００００）、住友ゴム工業
（株）製〕メラミン樹脂２０・硬化触媒パラトルエンスルホン酸１〜２・溶剤酢酸ブチルカルビトール３０〜５０〈透光性電磁波シールド部材の製造〉印刷パターンの形成上記で作製した導電性インキ組成物を、下記の凹版、お
よび転写体としてのシリコーンブランケットを使用した
凹版オフセット印刷法によって、透明基板としての厚み
０．１ｍｍの透明ＰＥＴフィルムの表面に印刷した後、
クリーンオーブンにて１００℃で１時間、加熱、硬化さ
せて、凹版のパターンに対応した、図５に示す正方形の
格子状で、かつインキ層１０ｂ、１０ｃの厚み１０μ
ｍ、線幅Ｗｓ₁＝Ｗｓ₂＝２０μｍ、線間隔Ｗｋ₁＝Ｗｋ₂
＝１００μｍ、Ｓｋ／Ｓｓ＝２．２７である印刷パター
ン１０を形成した。（凹版）ソーダライムガラス製の基板の表面に、上記所
定のパターンに対応した凹部（深さ＝１０μｍ）をエッ
チング形成したもの。（シリコーンブランケット）最表層に、スプリング式硬
さ（ＪＩＳＡ）が４０°の付加型ＲＴＶシリコーンゴ
ムの層（表面の十点平均粗さ０．３μｍ）を形成したも
の。金属層の積層形成つぎに、上記ＰＥＴフィルムを硫酸酸銅めっき液に浸漬
し、その表面に形成された印刷パターンを陰極として、
２Ａ／ｄｍ²の電流を流して電気銅めっきを行って、当
該印刷パターンの上に選択的に、厚み５μｍの銅被覆層
を形成して、前述した図５に示す正方形の格子状にパタ
ーン形成された電磁波シールドパターン部（総厚み１５
μｍ）を有する透光性電磁波シールド部材を製造した。

【００６２】上記実施例１の透光性電磁波シールド部材
は、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの全範囲で、減衰率
が７０ｄＢを超えるというすぐれた電磁波シールド効果
を有するとともに、波長４００〜７００ｎｍの、可視光
線の全波長範囲で分光透過率が８０％を超えるという、
良好な透光性を有していることが確認された。また実施
例１の部材は視認性についても全く問題なく、良好な視
認性を有していることがわかった。

【００６３】実施例２銅被覆層の上にさらに電解黒色ニッケルめっきを行っ
て、厚み２μｍの黒色ニッケル被覆層を積層、形成した
こと以外は実施例１と同様にして、総厚み以外は同寸
法、同形状の電磁波シールドパターン部（総厚み１７μ
ｍ）を有する透光性電磁波シールド部材を製造した。上
記実施例２の透光性電磁波シールド部材は、実施例１と
同様に、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの全範囲で、減
衰率が７０ｄＢを超える、すぐれた電磁波シールド効果
を有するとともに、波長４００〜７００ｎｍの、可視光
線の全波長範囲で分光透過率が８０％を超える、良好な
透光性を有していることが確認された。またこの実施例
２の部材は、黒色ニッケル被覆層の働きによって主に内
部発光の反射が防止されるためとくにコントラストが高
く、実施例１よりもさらに良好な視認性を有しているこ
とも確認された。なお、製造に要したコストは実施例１
の１．５倍の１．５であった。

【００６４】実施例３凹版を変更して、印刷パターンの線幅Ｗｓ₁＝Ｗｓ₂＝４
０μｍ、線間隔Ｗｋ₁＝Ｗｋ₂＝２５０μｍ、Ｓｋ／Ｓｓ
＝２．８９としたこと以外は実施例１と同様にして、寸
法以外は同形状の電磁波シールドパターン部（総厚み１
５μｍ）を有する透光性電磁波シールド部材を製造し
た。上記実施例３の透光性電磁波シールド部材は、やは
り周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの全範囲で、減衰率が
７０ｄＢを超える、すぐれた電磁波シールド効果を有す
るとともに、波長４００〜７００ｎｍの、可視光線の全
波長範囲で分光透過率が８０％を超える、良好な透光性
を有していることが確認された。またこの実施例３の部
材は、実施例１と同等の良好な視認性を有していること
も確認された。なお、製造に要したコストは実施例１と
同じ１であった。

【００６５】実施例４鱗片状銀粉末に代えて、同量の鱗片状銅粉末（平均粒径
５μｍ）を使用したこと以外は実施例１と同様にして導
電性インキ組成物を作製し、かかる導電性インキ組成物
を使用したこと以外は実施例１と同様にして、同寸法、
同形状の電磁波シールドパターン部（総厚み１５μｍ）
を有する透光性電磁波シールド部材を製造した。

【００６６】上記実施例４の透光性電磁波シールド部材
もまた、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの全範囲で、減
衰率が７０ｄＢを超える、すぐれた電磁波シールド効果
を有するとともに、波長４００〜７００ｎｍの、可視光
線の全波長範囲で分光透過率が８０％を超える、良好な
透光性を有していることが確認された。またこの実施例
４の部材は、実施例１と同等の良好な視認性を有してい
ることも確認された。なお、製造に要したコストは実施
例１と同じ１であった。

【００６７】比較例１特開平１０‐１６３６７３号公報の実施例１と同様にし
て透光性電磁波シールド部材を製造した。すなわち透明
樹脂としてのポリビニルブチラールと、パラジウム触媒
とを含む塗布液を、透明基板としてのＰＥＴフィルムの
表面に塗布し、乾燥させて、上記パラジウム触媒を含む
透明樹脂塗膜を形成したのち、この上に無電解めっきを
施して、ＰＥＴフィルムの全面に、厚み１５μｍの銅薄
膜を形成した。

【００６８】つぎにこの銅薄膜の上に感光性のエッチン
グレジストを塗布したのち、露光、現像して、実施例１
の印刷パターンと同寸法、同形状のレジストパターンを
形成した。そして、塩化第２鉄液に浸漬して銅薄膜をエ
ッチングすることで、上記レジストパターンに対応した
寸法、形状を有する電磁波シールドパターン部を形成し
たのち、レジストパターンをはく離、除去して透光性電
磁波シールド部材を得た。

【００６９】上記比較例１の透光性電磁波シールド部材
もまた、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの全範囲で、減
衰率が７０ｄＢを超える、すぐれた電磁波シールド効果
を有するとともに、波長４００〜７００ｎｍの、可視光
線の全波長範囲で分光透過率が８０％を超える、良好な
透光性を有していることが確認された。またこの比較例
１の部材は、実施例１と同等の良好な視認性を有してい
ることも確認された。ただし、製造に要したコストは実
施例１の５倍の５であった。

【００７０】比較例２特公平２‐４８１５９号公報の実施例１と同様にして透
光性電磁波シールド部材を製造した。すなわち透明基板
としてのＰＥＴフィルムの表面に、スクリーン印刷法に
よって、紫外線硬化型の導電性銀ペーストを印刷したの
ち、紫外線を照射してペーストを硬化させて、線幅１０
０μｍ、線間隔１ｍｍ、Ｓｋ／Ｓｓ＝４．７６、厚み２
０μｍの電磁波シールドパターン部を有する透光性電磁
波シールド部材を得た。

【００７１】上記比較例２の透光性電磁波シールド部材
は線幅が太すぎるとともに、線間隔が広すぎるために、
とくに周波数５００ＭＨｚ以上の範囲での減衰率が２０
〜４０ｄＢ程度と低く、かかる周波数範囲での電磁波シ
ールド効果が不充分であることがわかった。また、波長
４００〜７００ｎｍの、可視光線の全波長範囲で分光透
過率が８０％を超えることから、透光性は良好であるこ
とが確認されたが、線幅が太すぎるために視認性が悪い
ことがわかった。なお、製造に要したコストは実施例１
の半分の０．５であった。

【００７２】比較例３印刷パターン上に金属層を積層、形成しなかったこと以
外は実施例４と同様にして透光性電磁波シールド部材を
製造した。上記比較例３の電磁波シールド部材は金属層
を有しないため、全周波数範囲での減衰率が２０〜４０
ｄＢ程度と低く、電磁波シールド効果が不充分であるこ
とがわかった。なお波長４００〜７００ｎｍの、可視光
線の全波長範囲で分光透過率が８０％を超えることから
透光性は良好であり、また視認性も良好であった。製造
に要したコストは実施例１の７割の０．７であった。

【００７３】以上の結果を表１にまとめる。

【００７４】

【表１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の透光性電磁波シールド部材の、実施の
形態の一例を示す図であって、同図(a)は全体を示す斜
視図、同図(b)は同図(a)のＢ−Ｂ線拡大断面図である。

【図２】本発明の透光性電磁波シールド部材における、
印刷パターンの一例としてのストライプ状のパターンを
示す平面図である。

【図３】印刷パターンの他の例としての、格子状のパタ
ーンを示す平面図である。

【図４】印刷パターンのさらに他の例としての、別の格
子状のパターンを示す平面図である。

【図５】印刷パターンのさらに他の例としての、さらに
別の格子状のパターンを示す平面図である。

【図６】印刷パターンのさらに他の例としての幾何学模
様のパターンを示す平面図であって、同図(a)は円形模
様のパターン、同図(b)は菱形模様のパターン、同図(c)
は正六角形模様のパターンである。

【符号の説明】

１電磁波シールドパターン部１０印刷パターン１１金属層２透明基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板の表面に、(a) 金属粉末と、(b)
グラファイト粉末とを含む導電性インキ組成物を印刷し
て形成された、その線幅が５〜４０μｍで、かつ式
(1)：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ (1) 〔式中Ｓｓは、透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積、Ｓｋは印刷されていない領域の全表面積を
示す〕を満足する、ストライプ状、格子状または幾何学
模様からなる印刷パターンと、当該印刷パターン上に積
層、形成された金属層とによって電磁波シールドパター
ン部が構成されたことを特徴とする透光性電磁波シール
ド部材。
【請求項２】インキ離型性にすぐれた転写体を用いた凹
版オフセット印刷法により、透明基板の表面に、(a) 金
属粉末と、(b) グラファイト粉末とを含む導電性インキ
組成物を印刷して、その線幅が５〜４０μｍで、かつ式
(1)：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ (1) 〔式中Ｓｓは、透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積、Ｓｋは印刷されていない領域の全表面積を
示す〕を満足する、ストライプ状、格子状または幾何学
模様からなる印刷パターンを形成したのち、当該印刷パ
ターン上に、電気めっきによって選択的に、金属層を積
層、形成して、電磁波シールドパターン部を構成するこ
とを特徴とする透光性電磁波シールド部材の製造方法。
【請求項３】導電性インキ組成物中に含有させる金属粉
末として、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウムおよび
金からなる群より選ばれた少なくとも１種の、粒径０．
０１〜１０μｍの粉末を用いる請求項２記載の透光性電
磁波シールド部材の製造方法。
【請求項４】導電性インキ組成物中に含有させるグラフ
ァイト粉末として、その粒径が０．０１〜１０μｍの粉
末を用いる請求項２記載の透光性電磁波シールド部材の
製造方法。
【請求項５】電気めっきによって印刷パターン上に積
層、形成される金属層を形成する金属として、銀、銅、
鉄、ニッケル、アルミニウムおよび金からなる群より選
ばれた少なくとも１種を用いる請求項２記載の透光性電
磁波シールド部材の製造方法。
【請求項６】転写体として、導電性インキ組成物と直接
に接触する表面がシリコーンゴムにて形成されたものを
用いる請求項２記載の透光性電磁波シールド部材の製造
方法。