JP2001102492A - Wiring board and mounting structure thereof - Google Patents

Wiring board and mounting structure thereof

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JP2001102492A JP27809199A JP27809199A JP2001102492A JP 2001102492 A JP2001102492 A JP 2001102492A JP 27809199 A JP27809199 A JP 27809199A JP 27809199 A JP27809199 A JP 27809199A JP 2001102492 A JP2001102492 A JP 2001102492A
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wiring board
semiconductor element
circuit board
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Kazutaka Maeda
和孝 前田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board and mounting structure therefor which an reduce a thermal stress generated in a connected part resulting from a thermal expansion difference between a package and an external circuit substrate, can maintain a strong and stable connection to the external circuit substrate over a long period of time, and can realize a low height and high-density lands. SOLUTION: A mounting structure for wiring boards includes a wiring board A and an external circuit board B. The wiring board A for a package has a ceramic insulating substrate 1 having a semiconductor element 4 flip-chip bonded thereto, lands 3 provided on a rear side of the substrate 1 and a metallized wiring layer 2. The board A is bonded with brazing material 7 to a land 9 on an insulator 8 of the external circuit board B. The substrate 1 has low rigidity satisfying a relation of E×t3<=30 (Gpa.mm3) (where, E is Young's modulus and (t) is the thickness (mm) of the insulating substrate). A thermal expansion difference between the substrate 1 and insulator 8 is not larger than 10 ppm/ deg.C, and the brazing material 7 between the lands 3 and 9 has a thickness of 0.3 mm or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、パッケージなどの
半導体素子を搭載した配線基板に関し、さらには、有機
樹脂を含む絶縁体を備えた外部回路基板の表面に、配線
基板をロウ材によって接続するための配線基板の実装構
造に関するものである。
The present invention relates to a wiring board on which a semiconductor element such as a package is mounted, and further connects the wiring board to a surface of an external circuit board provided with an insulator containing an organic resin by using a brazing material. The mounting structure of the wiring board for this.

【0002】[0002]

【従来技術】従来、配線基板は絶縁基板の表面あるいは
内部にメタライズ配線層が配設された構造からなる。ま
た、この配線基板の代表的な例として半導体素子、特に
LSI(大規模集積回路)等の半導体集積回路素子を収
納するための半導体素子収納用パッケージは、一般にア
ルミナセラミックスからなる絶縁基板の表面に半導体素
子搭載部が形成され、また絶縁基板の表面および内部に
は、タングステン、モリブデン等の高融点金属粉末から
成る複数個のメタライズ配線層が配設され、半導体素子
と接続されている。また、絶縁基板の下面または側面に
は、外部回路基板と接続するためのランド部が備えら
れ、このランド部はメタライズ配線層と電気的に接続さ
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a wiring board has a structure in which a metallized wiring layer is provided on or in an insulating substrate. A typical example of the wiring substrate is a semiconductor element housing package for housing a semiconductor element, particularly a semiconductor integrated circuit element such as an LSI (Large Scale Integrated Circuit), which is generally provided on the surface of an insulating substrate made of alumina ceramics. A semiconductor element mounting portion is formed, and a plurality of metallized wiring layers made of a high melting point metal powder such as tungsten and molybdenum are provided on the surface and inside of the insulating substrate, and are connected to the semiconductor element. A land portion for connecting to an external circuit board is provided on the lower surface or side surface of the insulating substrate, and the land portion is electrically connected to the metallized wiring layer.

【0003】なお、上記のパッケージにおける半導体素
子の実装は、半導体素子に形成された接続用電極と、パ
ッケージ側の素子搭載部周辺に形成されたメタライズ配
線層とをワイヤでつなぐワイヤボンディング方式が従来
より広く使われている。このワイヤボンディングによる
半導体素子は、半導体素子と絶縁基板間にエポキシ樹脂
等の熱硬化性樹脂を塗布し、硬化接着して絶縁基板表面
に固定される。また、上記以外の実装方法としては、パ
ッケージ側に形成されたメタライズ層上に前記半導体素
子を載置し、前記半導体素子に形成された接続用端子と
前記メタライズ配線層とを半田などにより直接接続する
ことにより実装する、いわゆるフリップチップ実装も知
られている。
[0003] The mounting of a semiconductor element in the above-mentioned package is conventionally performed by a wire bonding method in which a connection electrode formed on the semiconductor element and a metallized wiring layer formed around the element mounting portion on the package side are connected by wires. More widely used. The semiconductor element by this wire bonding is fixed to the surface of the insulating substrate by applying a thermosetting resin such as an epoxy resin between the semiconductor element and the insulating substrate and curing and bonding. Further, as a mounting method other than the above, the semiconductor element is mounted on a metallization layer formed on the package side, and a connection terminal formed on the semiconductor element and the metallization wiring layer are directly connected by soldering or the like. A so-called flip-chip mounting is also known.

【0004】一般に半導体素子の集積度が高まるほど、
半導体素子に形成される電極数も増大するが、これに伴
いこれを収納する半導体素子収納用パッケージにおける
端子数も増大することになる。ところが、電極数が増大
するに伴いパッケージ自体の寸法を大きくする必要があ
るが、それと同時に小型化も要求されるため、パッケー
ジにおける接続端子の密度を高くすることが必要とな
る。
In general, as the degree of integration of semiconductor devices increases,
Although the number of electrodes formed on the semiconductor element also increases, the number of terminals in the semiconductor element housing package for housing the same also increases. However, as the number of electrodes increases, the size of the package itself needs to be increased, but at the same time, miniaturization is also required. Therefore, it is necessary to increase the density of connection terminals in the package.

【0005】従来、パッケージにおける接続端子の構造
としては、パッケージの下面にコバールなどの金属ピン
を接続したピングリッドアレイ(PGA)が最も一般的
であったが、最近ではパッケージの側面に導出されたメ
タライズ配線層にL字状の金属部材がロウ付けされたク
ワッドフラットパッケージ(QFP)、パッケージの4
つの側面に電極パッドを備えたリードピンのないリード
レスチップキャリア((LCC)、さらに絶縁基板の下
面に半田からなる球状端子により構成したボールグリッ
ドアレイ(BGA)等の表面実装型のパッケージが主流
となっている。さらに年々、パッケージ小型化への要求
が高まっており、最近ではBGA型パッケージの中で
も、チップ面積がパッケージ面積の50%以上のチップ
サイズパッケージ(CSP)への移行が進んでいる。
Conventionally, as a structure of connection terminals in a package, a pin grid array (PGA) in which metal pins such as Kovar are connected to the lower surface of the package has been most common, but recently, it has been led out to the side of the package. Quad flat package (QFP) in which an L-shaped metal member is brazed to a metallized wiring layer;
The mainstream package is a leadless chip carrier ((LCC)) without lead pins with electrode pads on one side, and a ball grid array (BGA) consisting of spherical terminals made of solder on the lower surface of an insulating substrate. Furthermore, the demand for smaller packages has been increasing year by year, and recently, among the BGA type packages, the shift to a chip size package (CSP) having a chip area of 50% or more of the package area has been progressing.

【0006】また、ボールグリッドアレイ(BGA)型
パッケージが半田ボールを介して外部回路基板と接続さ
れるのに対して、半田ボールを介さずに半田ペーストの
印刷のみで接続する、いわゆるランドグリッドアレイ
(LGA)型パッケージも知られている。
A so-called land grid array, in which a ball grid array (BGA) type package is connected to an external circuit board via solder balls, while the ball grid array (BGA) type package is connected only by printing solder paste without using solder balls. (LGA) type packages are also known.

【0007】ボールグリッドアレイ(BGA)やチップ
サイズパッケージ(CSP)の接続端子は、絶縁基板の
接続パッドに半田などのロウ材からなる球状端子をロウ
付けした端子により構成し、この球状端子を外部回路基
板のランド部に載置当接させ、しかる後、前記球状端子
を150〜400℃の温度で加熱溶融し、球状端子をラ
ンド部に接合させることによって外部回路基板上に実装
させることが行われている。
The connection terminals of a ball grid array (BGA) or a chip size package (CSP) are formed by connecting spherical terminals made of a brazing material such as solder to connection pads of an insulating substrate. The spherical terminals are placed and abutted on the lands of the circuit board, and then heated and melted at a temperature of 150 to 400 ° C., and the spherical terminals are bonded to the lands to be mounted on the external circuit board. Have been done.

【0008】これに対して、このLGA型パッケージ
は、半田ボールを搭載するための工程を省くことができ
るため、パッケージのコストを削減することが可能であ
る。また、絶縁基板と外部回路基板とを接続する半田の
厚みが薄いため、パッケージ全体の低背化が可能である
という利点もある。
On the other hand, in the LGA type package, a step for mounting solder balls can be omitted, so that the cost of the package can be reduced. Further, since the thickness of the solder for connecting the insulating substrate and the external circuit board is small, there is an advantage that the height of the entire package can be reduced.

【0009】また、半導体素子収納用パッケージにおけ
るセラミック絶縁基板としては、従来よりアルミナ、ム
ライト、窒化アルミニウム、窒化珪素などのセラミック
スが用いられているが、最近では、導体材料として低抵
抗のCuを用いて同時焼成にが可能であることから、1
000℃以下で焼成可能なガラスセラミックスなどの低
温焼成セラミックスも開発されている。
Further, ceramics such as alumina, mullite, aluminum nitride and silicon nitride have conventionally been used as a ceramic insulating substrate in a package for accommodating a semiconductor element, but recently, low-resistance Cu is used as a conductor material. Can be simultaneously fired.
Low-temperature fired ceramics such as glass ceramics that can be fired at 000 ° C. or lower have also been developed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】絶縁基板材料として、
アルミナ、ムライトなどのセラミックスは、高い破壊強
度を有し、しかもメタライズ配線層などとの多層化技術
として信頼性の高い点で上記のパッケージにおける絶縁
基板として従来より多用されているが、この絶縁基板を
具備するパッケージをガラス−エポキシ樹脂複合材料、
ガラス−ポリイミド樹脂複合材料などの有機樹脂を含む
プリント基板などの外部回路基板に表面実装した場合、
半導体素子の作動時に発する熱がパッケージと外部回路
基板の両方に繰り返し印加されると、前記外部回路基板
とパッケージとの熱膨張係数の違いに起因した熱膨張差
が生じる。
SUMMARY OF THE INVENTION As an insulating substrate material,
Ceramics such as alumina and mullite have been used more frequently as insulating substrates in the above packages because they have high breaking strength and are highly reliable as a multi-layering technology with metallized wiring layers. A package comprising a glass-epoxy resin composite material,
When mounted on an external circuit board such as a printed board containing an organic resin such as a glass-polyimide resin composite material,
When the heat generated during the operation of the semiconductor element is repeatedly applied to both the package and the external circuit board, a difference in thermal expansion occurs due to a difference in the coefficient of thermal expansion between the external circuit board and the package.

【0011】この熱膨張差はパッケージ中心からの距離
に依存し、つまり距離が長いほど大きくなるため、パッ
ケージ中心から最も距離の遠い接続端子に最大の熱応力
が生じる。半導体素子の作動・停止によってこの熱応力
が接続端子に繰り返し負荷されると、絶縁基板と外部回
路基板を接続している導体は次第に疲労し、最終的には
破断に至る。特に上記傾向は、前記QFP、LCCおよ
びBGA、LGA等の表面実装型のパッケージにおいて
顕著である。
The difference in thermal expansion depends on the distance from the center of the package, that is, the longer the distance, the greater the thermal expansion occurs at the connection terminal furthest from the center of the package. When this thermal stress is repeatedly applied to the connection terminals due to the operation / stop of the semiconductor element, the conductor connecting the insulating substrate and the external circuit board gradually fatigues and eventually breaks. In particular, the above tendency is remarkable in the surface mount type packages such as the QFP, LCC, BGA, and LGA.

【0012】この接続端子に生じる熱応力はせん断応力
であり、また、接続端子の高さに依存しており、接続端
子の高さを高くするに従い、熱応力が低減される傾向に
ある。そこで、BGA型パッケージでは、ボールの大き
さ等の変更によって熱応力を低減することが提案されて
いる。
The thermal stress generated in the connection terminal is a shear stress and depends on the height of the connection terminal. As the height of the connection terminal increases, the thermal stress tends to decrease. Therefore, in the BGA type package, it has been proposed to reduce the thermal stress by changing the size of the ball and the like.

【0013】これに対して、ボール状の端子などを用い
ずに、パッケージのランド部と外部回路基板のランド部
とを直接半田を用いて接続するLGA型パッケージで
は、低背化が容易であり、ボール取り付けの工程を省く
ことができるメリットを有する反面、BGA型パッケー
ジに比べて接続部の高さが著しく低いために、大きな熱
応力が発生し、パッケージのランド部と外部回路基板の
ランド部とを長期にわたり安定に電気的接続が出来ない
という問題点があった。
On the other hand, in the LGA type package in which the land portion of the package and the land portion of the external circuit board are directly connected by soldering without using a ball-shaped terminal or the like, the height can be easily reduced. This has the advantage that the ball mounting process can be omitted. On the other hand, since the height of the connection portion is significantly lower than that of the BGA type package, a large thermal stress is generated, and the land portion of the package and the land portion of the external circuit board are generated. There is a problem that stable electrical connection cannot be established for a long time.

【0014】また、パッケージの小型・低背化の要求に
対して絶縁基板を薄型化する傾向にあるが、熱硬化性樹
脂や金属又はセラミックス製の蓋体を絶縁基板表面に接
合して半導体素子を気密に封止されるワイヤボンディン
グタイプのパッケージでは、封止用の熱膨張係数の大き
い熱硬化性樹脂や蓋体によって絶縁基板の変形を抑止し
てしまう結果、外部回路基板との接続部に応力が集中し
てしまい、安定に電気的接続が出来ないという問題点が
あった。
In addition, there is a tendency to reduce the thickness of the insulating substrate in response to the demand for small and low-profile packages. However, a semiconductor device having a lid made of thermosetting resin, metal, or ceramics joined to the surface of the insulating substrate. In a wire-bonding type package that is hermetically sealed, deformation of the insulating substrate is suppressed by a thermosetting resin or lid that has a large thermal expansion coefficient for sealing. There is a problem that stress is concentrated and electrical connection cannot be stably performed.

【0015】従って、本発明は、パッケージを外部回路
基板に実装するにあたり、パッケージと外部回路基板と
の熱膨張差に起因して接続部に発生する熱応力を低減
し、外部回路基板と長期にわたり強固で安定な接続状態
を維持でき、なお且つ低背化およびランド部の高密度化
が可能である配線基板の実装構造を提供することを目的
とするものである。
Therefore, according to the present invention, when a package is mounted on an external circuit board, thermal stress generated in a connection portion due to a difference in thermal expansion between the package and the external circuit board is reduced, and the package is connected to the external circuit board for a long time. An object of the present invention is to provide a mounting structure of a wiring board that can maintain a strong and stable connection state, and that can reduce the height and the density of lands.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明者は、パッケージ
等の配線基板と外部回路基板の熱膨張差によって接続部
に発生する熱応力を低減する方法について種々検討を重
ねた結果、パッケージにおける絶縁基板のヤング率とそ
の厚み、絶縁基板と外部回路基板の熱膨張差、および絶
縁基板と外部回路基板を接続する導体の厚みを特定の範
囲に制御することにより、接続部に発生する熱応力を低
減することができ、上記目的が達成できることを見いだ
し、本発明に至った。
The inventor of the present invention has conducted various studies on a method of reducing the thermal stress generated at the connection portion due to the difference in thermal expansion between a wiring board such as a package and an external circuit board. By controlling the Young's modulus of the board and its thickness, the difference in thermal expansion between the insulating board and the external circuit board, and the thickness of the conductor connecting the insulating board and the external circuit board to a specific range, the thermal stress generated at the connecting part can be reduced. It has been found that the above-mentioned object can be achieved, and the present invention has been achieved.

【0017】即ち、本発明の配線基板は、一方の表面に
半導体素子がフリップチップ実装されたセラミックス絶
縁基板と、該絶縁基板の他方の表面に設けられた複数の
第1のランド部と、前記半導体素子と前記ランド部とを
電気的に接続するためのメタライズ配線層とを具備し、
前記ランド部表面にロウ材を印刷塗布してなる配線基板
において、前記絶縁基板が、E×t3 ≦30(GPa・
mm3 )(式中、E:絶縁基板のヤング率(GPa)、
t:絶縁基板の厚み(mm))を満たすことを特徴とす
るものである。
That is, a wiring board according to the present invention comprises: a ceramic insulating substrate having a semiconductor element flip-chip mounted on one surface; a plurality of first lands provided on the other surface of the insulating substrate; A metallized wiring layer for electrically connecting the semiconductor element and the land portion;
In a wiring board formed by printing and coating a brazing material on the surface of the land portion, the insulating substrate may have a thickness of Ext 3 ≦ 30 (GPa ·
mm 3 ) (where, E: Young's modulus of the insulating substrate (GPa),
t: the thickness (mm) of the insulating substrate).

【0018】また、本発明の配線基板の実装構造によれ
ば、一方の表面に半導体素子がフリップチップ実装され
たセラミックス絶縁基板と、該絶縁基板の他方の表面に
設けられた複数の第1のランド部と、前記半導体素子と
前記ランド部とを電気的に接続するためのメタライズ配
線層とを具備してなる配線基板を、有機樹脂を含有する
絶縁体の表面に第2のランド部が被着形成された外部回
路基板上に載置し、前記配線基板の前記第1のランド部
と前記外部回路基板の前記第2のランド部とをロウ材に
よって接着してなる配線基板の実装構造において、前記
配線基板の絶縁基板が、E×t3 ≦30(GPa・mm
3 )(式中、E:絶縁基板のヤング率(GPa)、t:
絶縁基板の厚み(mm))を満たすとともに、前記絶縁
基板と前記絶縁体との熱膨張差が10ppm/℃以下で
あり、且つ前記第1のランド部と前記第2のランド部間
の前記ロウ材の厚みが0.3mm以下であることを特徴
とするものである。
Further, according to the wiring board mounting structure of the present invention, a ceramic insulating substrate having a semiconductor element flip-chip mounted on one surface and a plurality of first insulating substrates provided on the other surface of the insulating substrate are provided. A second land portion is covered on a surface of an insulator containing an organic resin by mounting a wiring board including a land portion and a metallized wiring layer for electrically connecting the semiconductor element and the land portion. A mounting structure of a wiring board, which is mounted on a mounted external circuit board, and the first land of the wiring board and the second land of the external circuit board are bonded with a brazing material. The insulating substrate of the wiring substrate is E × t 3 ≦ 30 (GPa · mm
3 ) (where, E: Young's modulus (GPa) of the insulating substrate, t:
The thickness of the insulating substrate (mm)), the difference in thermal expansion between the insulating substrate and the insulator is 10 ppm / ° C. or less, and the solder between the first land portion and the second land portion. The thickness of the material is 0.3 mm or less.

【0019】なお、かかる配線基板とその実装構造にお
いては、前記絶縁基板が、ガラスセラミックス焼結体ま
たはアルミナ質焼結体からなることが望ましい。熱膨張
係数が、前記半導体素子<絶縁基板<絶縁体の関係を満
足することを特徴とするものである。
In such a wiring board and its mounting structure, it is desirable that the insulating substrate is made of a glass ceramic sintered body or an alumina sintered body. The thermal expansion coefficient satisfies the relationship of the semiconductor element <insulating substrate <insulator.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明を一実施例を示す添
付図面に基づき詳細に説明する。図1は本発明の配線基
板の実装構造の一例を示すもので、セラミックス絶縁基
板の表面あるいは内部にメタライズ配線層が配設され
た、いわゆる配線基板を基礎的構造とする半導体素子が
フリップチップ実装されたLGA型パッケージAを外部
回路基板Bに実装した場合の構造を説明するための概略
断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings showing an embodiment. FIG. 1 shows an example of a mounting structure of a wiring board according to the present invention. A semiconductor element having a so-called wiring board as a basic structure in which a metallized wiring layer is provided on the surface or inside of a ceramic insulating substrate is flip-chip mounted. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining a structure when the LGA type package A is mounted on an external circuit board B.

【0021】図1によれば、パッケージAは、セラミッ
クス絶縁基板1と、メタライズ配線層2と、ランド部3
及び半導体素子4を具備する。半導体素子4は、セラミ
ックス絶縁基板1表面に配設されたメタライズ配線層2
と、半田や金などの金属または導電性樹脂からなる微小
なフリップチップ端子5を介して電気的に接続されてお
り、このフリップチップ端子5による接続部は、半導体
素子4と絶縁基板1との間の隙間に充填された樹脂から
なるアンダーフィル剤6によって気密に封止されてい
る。
According to FIG. 1, a package A includes a ceramic insulating substrate 1, a metallized wiring layer 2, a land 3
And a semiconductor element 4. The semiconductor element 4 includes a metallized wiring layer 2 disposed on the surface of the ceramic insulating substrate 1.
Is electrically connected to the semiconductor element 4 via the small flip-chip terminal 5 made of a metal such as solder or gold or a conductive resin. It is hermetically sealed by an underfill agent 6 made of a resin filled in a gap between them.

【0022】一方、上記絶縁基板1の裏面にはランド部
3が形成され、絶縁基板1の表面および内部に配設され
たメタライズ配線層2を経由して半導体素子4のフリッ
プチップ端子5と電気的に接続されている。
On the other hand, a land portion 3 is formed on the back surface of the insulating substrate 1, and is electrically connected to the flip chip terminal 5 of the semiconductor element 4 via the metallized wiring layer 2 disposed on the surface and inside of the insulating substrate 1. Connected.

【0023】一方、外部回路基板Bはいわゆるプリント
基板からなり、ガラス−エポキシ樹脂、ガラス−ポリイ
ミド樹脂の複合材料などの有機樹脂を含む材料からなる
絶縁体8の表面に、Cu、Au、Al、Ni、Sn−P
bなどの金属からなるパッケージAを実装するためのラ
ンド部9が被着形成されている。
On the other hand, the external circuit board B is made of a so-called printed board, and Cu, Au, Al, Al, Al, and Al are formed on the surface of an insulator 8 made of a material containing an organic resin such as a glass-epoxy resin or a glass-polyimide resin composite material. Ni, Sn-P
A land portion 9 for mounting a package A made of a metal such as b is formed.

【0024】上記パッケージAを上記プリント基板Bに
実装するには、パッケージAの絶縁基板1裏面のランド
部3および/またはプリント基板Bのランド部9表面に
半田などのロウ材を塗布する。そして、このパッケージ
Aをランド部3とランド部9が当接するように位置合わ
せして載置した後、このままでリフロー処理することに
より、半田が溶融して、ランド部3とランド部9がロウ
材7(以下、半田7という。)によって電気的に接続さ
れてパッケージAがプリント基板B上に実装される。
In order to mount the package A on the printed board B, a brazing material such as solder is applied to the land 3 on the back surface of the insulating substrate 1 of the package A and / or the surface of the land 9 of the printed board B. Then, after the package A is positioned and placed so that the land 3 and the land 9 are in contact with each other, the solder is melted by performing a reflow process as it is, and the land 3 and the land 9 are soldered. The package A is mounted on the printed circuit board B by being electrically connected by a material 7 (hereinafter, referred to as a solder 7).

【0025】かかる実装構造において、実装後のパッケ
ージA表面に搭載される半導体素子4の繰り返し作動時
において、パッケージA側のランド部3とプリント基板
B側のランド部9とを電気的に接続している半田7に
は、パッケージAとプリント基板Bとの熱膨張差により
熱応力が生じる。
In this mounting structure, when the semiconductor element 4 mounted on the surface of the package A after mounting is repeatedly operated, the land 3 on the package A and the land 9 on the printed board B are electrically connected. A thermal stress is generated in the solder 7 due to a difference in thermal expansion between the package A and the printed board B.

【0026】パッケージAとプリント基板Bとの熱膨張
差はパッケージAの中心からの距離に伴い大きくなるた
め、アレイ上に並んだ多数の半田7のうち、パッケージ
Aの中心から最も遠い半田7aにおいて最も高い熱応力
が生じることになる。その結果、半導体素子4の作動・
停止により熱応力が繰り返し印加されると、パッケージ
Aの中心から最も遠い半田7aは疲労した後に破断しラ
ンド部3とランド部9との電気的な接続を保つことがで
きなくなる。
Since the difference in thermal expansion between the package A and the printed circuit board B increases with the distance from the center of the package A, the solder 7a farthest from the center of the package A among the many solders 7 arranged on the array. The highest thermal stress will occur. As a result, the operation of the semiconductor element 4
When the thermal stress is repeatedly applied due to the stop, the solder 7a farthest from the center of the package A is broken after fatigue, and the electrical connection between the land 3 and the land 9 cannot be maintained.

【0027】半田7に生じる熱応力は、パッケージAと
プリント基板Bとの熱膨張差に起因したせん断の熱応力
である。したがって、半田7の厚みYが大きいほど熱応
力は低減することができるため、従来のパッケージの接
続構造においては、半田7の厚さを高くする工夫がなさ
れてきた。
The thermal stress generated in the solder 7 is a shear thermal stress caused by a difference in thermal expansion between the package A and the printed board B. Therefore, the thermal stress can be reduced as the thickness Y of the solder 7 is increased. Therefore, in the conventional connection structure of a package, a method of increasing the thickness of the solder 7 has been devised.

【0028】また、熱応力を低減する方法として、パッ
ケージAとプリント基板Bとの熱膨張差を小さくする方
法がある。半田7の厚みYが小さくても、パッケージA
とプリント基板Bとの熱膨張差が小さければ熱応力は小
さくなる。
As a method of reducing the thermal stress, there is a method of reducing the difference in thermal expansion between the package A and the printed board B. Even if the thickness Y of the solder 7 is small, the package A
If the difference in thermal expansion between the substrate and the printed board B is small, the thermal stress will be small.

【0029】従来のパッケージの半導体素子の繰り返し
作動時において、絶縁基板の剛性が高いと、パッケージ
自体は全く変形することがないために変形による熱膨張
差の低減を図ることができない。よって、熱膨張差はパ
ッケージAの絶縁基板1とプリント基板Bの絶縁体8の
材料本来の熱膨張差で決まり、熱応力を小さくするため
には、半田7の厚みYを厚くするしかない。
When the semiconductor element of the conventional package is repeatedly operated, if the rigidity of the insulating substrate is high, the package itself does not deform at all, so that it is impossible to reduce the difference in thermal expansion due to the deformation. Therefore, the thermal expansion difference is determined by the original thermal expansion difference of the material of the insulating substrate 1 of the package A and the insulator 8 of the printed board B, and the only way to reduce the thermal stress is to increase the thickness Y of the solder 7.

【0030】これに対して、本発明によれば、信頼性の
高いランド部間の接続構造を得るための条件について検
討した結果、第1に、絶縁基板1がE×t3 ≦30(G
Pa・mm3 )(式中、E:絶縁基板のヤング率(GP
a)、t:絶縁基板の厚み(mm))を満たす低剛性の
絶縁基板であり、第2に、パッケージAの絶縁基板1と
プリント基板Bの絶縁体8の熱膨張差Δα=α2 −α1
(α1 :絶縁基板1の熱膨張係数, α2 :絶縁体8の熱
膨張係数)が10ppm/℃以下の条件を満足する場
合、半田7の厚みYが小さい方が半田7に発生する熱応
力が低減されるという特異的な傾向となる。
On the other hand, according to the present invention, as a result of examining the conditions for obtaining a highly reliable connection structure between the land portions, first, the insulating substrate 1 is made to have a thickness of E × t 3 ≦ 30 (G
Pa · mm 3 ) (where E: Young's modulus of insulating substrate (GP
a), t: a low-rigidity insulating substrate that satisfies the thickness (mm) of the insulating substrate. Second, the thermal expansion difference Δα = α 2 − between the insulating substrate 1 of the package A and the insulator 8 of the printed board B. α 1
When (α 1 : coefficient of thermal expansion of the insulating substrate 1, α 2 : coefficient of thermal expansion of the insulator 8) satisfies the condition of 10 ppm / ° C. or less, the smaller the thickness Y of the solder 7, the more heat generated in the solder 7 There is a specific tendency that stress is reduced.

【0031】図3は、この原理を説明するためのもの
で、図1に示すような実装構造の半導体素子4の繰り返
し作動時における実装構造の変形図を示している。この
図では、熱膨張係数が半導体素子4<絶縁基板1<絶縁
体8の順であることを前提としている。かかる関係にお
いて、温度が上昇すると、半導体素子4、パッケージ
A、外部回路基板Bはいずれも図3のように半導体素子
4搭載面が凹となるように反る、言い換えれば歪むよう
な変形が生じ、この変形によってパッケージAとプリン
ト基板Bの熱膨張差は緩和される。
FIG. 3 is a view for explaining this principle, and shows a modified view of the mounting structure when the semiconductor element 4 having the mounting structure shown in FIG. 1 is repeatedly operated. In this drawing, it is assumed that the thermal expansion coefficient is in the order of semiconductor element 4 <insulating substrate 1 <insulator 8. In such a relationship, when the temperature rises, the semiconductor element 4, the package A, and the external circuit board B are all warped so that the mounting surface of the semiconductor element 4 is concave as shown in FIG. Due to this deformation, the difference in thermal expansion between the package A and the printed board B is reduced.

【0032】この時、絶縁基板1が前述したような関係
を満足する低剛性の絶縁基板である場合、パッケージA
の反り量が大きくなり、プリント基板Bとともに中心を
同じXとする角度θの部分円弧の形状となる。
At this time, if the insulating substrate 1 is a low-rigidity insulating substrate satisfying the above-described relationship, the package A
Becomes large, and together with the printed circuit board B, the center becomes the same X.

【0033】そこで、パッケージA下面とプリント基板
B上面の曲率半径をそれぞれr1 、r2 とすると、パッ
ケージAの中心Xから最も離れている半田7aには近似
的にθ×(r2-r1 )の熱膨張差が加わることになる。
したがって、図3に示すような変形が可能となる低剛性
の絶縁基板1を用いた場合には、r2-r1 が小さいほ
ど、すなわち半田7の厚みYが小さいほど、熱膨張差は
小さくなり、熱応力は小さくなるのである。
If the radii of curvature of the lower surface of the package A and the radius of curvature of the upper surface of the printed circuit board B are r 1 and r 2 , respectively, the solder 7 a farthest from the center X of the package A is approximately θ × (r 2 -r). The difference in thermal expansion of 1 ) is added.
Therefore, when the low-rigidity insulating substrate 1 capable of deformation as shown in FIG. 3 is used, the smaller the r 2 -r 1 , that is, the smaller the thickness Y of the solder 7, the smaller the thermal expansion difference. And the thermal stress is reduced.

【0034】かかる観点から、本発明によれば、半田7
の厚みYを0.3mm以下とすることにより最もその効
果を発揮させることができ、実装構造全体の低背化とと
もに、長期にわたり接続信頼性を高めることができる。
From this viewpoint, according to the present invention, the solder 7
By setting the thickness Y to 0.3 mm or less, the effect can be exhibited most, and the height of the entire mounting structure can be reduced, and the connection reliability can be enhanced for a long period of time.

【0035】なお、本発明において、前記E×t3 の値
が、30(GPa・mm3 )よりも大きいと、パッケー
ジAの剛性が高いために充分な反り変形ができず、パッ
ケージA下面とプリント基板B上面の曲率半径は大きく
異なってしまう。また、半田7の厚みYが0.3mmよ
りも大きいと、θ×(r2 −r1 )=θ×Yである熱膨
張差が大きくなって長期にわたり、安定した接続を保つ
ことができなくなってしまう。E×t3 は、10(GP
a・mm3 )以下であることが特に望ましい。また、半
田7の厚さYの最適値は0.2mm以下である。
In the present invention, if the value of E × t 3 is larger than 30 (GPa · mm 3 ), the package A has high rigidity and cannot be sufficiently warped and deformed. The radius of curvature of the upper surface of the printed circuit board B differs greatly. Further, if the thickness Y of the solder 7 is larger than 0.3 mm, the thermal expansion difference of θ × (r 2 −r 1 ) = θ × Y becomes large, and stable connection cannot be maintained for a long time. Would. Ext 3 is 10 (GP
a · mm 3 ) is particularly desirable. The optimum value of the thickness Y of the solder 7 is 0.2 mm or less.

【0036】半田7の厚みYを0.3mm以下とする方
法としては、半田ボールを載置して溶融させるBGA型
の実装を行う場合、厚みYは大きくなってしまうことか
ら、ランド部3および/またはランド部9に半田ペース
トをスクリーン印刷等によって塗布し、溶融させるLG
A型の実装方法が望ましい。
As a method for reducing the thickness Y of the solder 7 to 0.3 mm or less, when a BGA type mounting in which a solder ball is placed and melted is performed, the thickness Y becomes large. And / or LG which applies solder paste to land portion 9 by screen printing or the like and melts it.
An A-type mounting method is desirable.

【0037】また、本発明によれば、パッケージAにお
いて、絶縁基板1の表面に、熱硬化性樹脂や金属又はセ
ラミックスからなる蓋体を半導体素子4を覆うようにか
ぶせて接合する場合、パッケージAの反りが蓋体によっ
て抑制されてしまい十分に歪むことができず、図3のよ
うな変形はできない。
Further, according to the present invention, in the package A, when a cover made of a thermosetting resin, metal, or ceramics is covered on the surface of the insulating substrate 1 so as to cover the semiconductor element 4, the package A is bonded. Warpage is suppressed by the lid and cannot be sufficiently distorted, and the deformation as shown in FIG. 3 cannot be performed.

【0038】しかるに本発明によれば、パッケージAと
しては、蓋体の接合の必要のない、図1のような半導体
素子4をフリップチップ実装するパッケージであること
が必要である。
However, according to the present invention, the package A needs to be a package in which the semiconductor element 4 is flip-chip mounted as shown in FIG.

【0039】また、パッケージAとプリント基板Bの熱
膨張差が極端に大きいと、パッケージAが歪んでもプリ
ント基板Bとの熱膨張差を上記の変形によっても緩和す
ることができない。したがって、本発明の実装構造は、
パッケージAとプリント基板Bの熱膨張係数差Δα=α
2 −α1 (α1 :絶縁基板1の熱膨張係数, α2 :絶縁
体8の熱膨張係数)が10ppm/℃以下である場合に
適用されるものである。この時の外部回路基板の熱膨張
係数とは絶縁体8中の樹脂のガラス転移温度Tg以下に
おける熱膨張係数を意味する。
If the thermal expansion difference between the package A and the printed circuit board B is extremely large, even if the package A is distorted, the thermal expansion difference between the printed circuit board B and the package A cannot be reduced by the above-described deformation. Therefore, the mounting structure of the present invention is:
Thermal expansion coefficient difference Δα = α between package A and printed circuit board B
This is applied when 2− α 11 : coefficient of thermal expansion of the insulating substrate 1, α 2 : coefficient of thermal expansion of the insulator 8) is 10 ppm / ° C. or less. The coefficient of thermal expansion of the external circuit board at this time means a coefficient of thermal expansion of the resin in the insulator 8 at a glass transition temperature Tg or lower.

【0040】このような特性の配線基板材料として、例
えば特開平10−167822号の明細書中に記載され
ているようなリチウム珪酸ガラス、PbO系ガラス、Z
nO系ガラス、BaO系ガラス等のガラス成分に対し
て、エンステタイト、フォルステライト、SiO2 系フ
ィラー、MgO、ZrO2 、ペタライト等の各種セラミ
ックスフィラーを混合、成形し、ついで焼成したものが
好適である。
As a wiring board material having such characteristics, for example, lithium silicate glass, PbO-based glass, and Z as described in the specification of JP-A-10-167822
A glass component such as nO-based glass or BaO-based glass is mixed with various ceramic fillers such as enstatite, forsterite, SiO 2 -based filler, MgO, ZrO 2 , petalite, molded, and then fired. .

【0041】例えば、上記ガラス20〜90体積%、上
記フィラー80〜10体積%の混合物に、適時有機バイ
ンダーを添加してスラリーを調製し、そのスラリーをシ
ート状に成形した後、そのシート状成形体の表面に、C
u、Au 、Agなどの低抵抗金属を含む導体ペーストを
印刷塗布する。また、所望によりシート状成形体の所定
箇所にマイクロドリルやレーザー等によりスルーホール
を形成して、ホール内に前記導体ペーストを充填する。
そして、そのシート状成形体を複数積層圧着して積層体
を作製した後、これを窒素雰囲気、あるいは水蒸気を含
む窒素雰囲気中で脱脂後、800〜1000℃の温度で
焼成することにより作製することができる。
For example, a slurry is prepared by appropriately adding an organic binder to a mixture of 20 to 90% by volume of the glass and 80 to 10% by volume of the filler, and the slurry is formed into a sheet. C on the body surface
A conductive paste containing a low-resistance metal such as u, Au, or Ag is applied by printing. Further, if necessary, a through hole is formed at a predetermined position of the sheet-like molded body by a micro drill, a laser, or the like, and the hole is filled with the conductive paste.
Then, after a plurality of the sheet-shaped molded bodies are laminated and pressed to produce a laminated body, the laminated body is degreased in a nitrogen atmosphere or a nitrogen atmosphere containing water vapor, and then fired at a temperature of 800 to 1000 ° C. Can be.

【0042】[0042]

【実施例】表1に示す各種セラミックス材料について、
5×4×40mmの形状の焼結体を作製した後、各焼結
体についてヤング率、および40〜400℃における熱
膨張係数を測定し表1に示した。
EXAMPLES For various ceramic materials shown in Table 1,
After preparing sintered bodies having a shape of 5 × 4 × 40 mm, the Young's modulus and the coefficient of thermal expansion at 40 to 400 ° C. of each sintered body were measured and are shown in Table 1.

【0043】また、表1に示す各種セラミックス材料を
絶縁基板として用いて、その表面に半導体素子と接続さ
れるメタライズ配線層、内部配線層及びビアホール導
体、底面に導体を取りつけるための256個のランド部
をペーストの印刷、あるいは充填により周知の方法に従
い同時焼成してパッケージの基板を作製した。
Using various ceramic materials shown in Table 1 as an insulating substrate, a metallized wiring layer connected to a semiconductor element, an internal wiring layer and a via hole conductor on the surface thereof, and 256 lands for attaching a conductor to the bottom surface. The portions were simultaneously fired by printing or filling a paste in accordance with a well-known method to produce a package substrate.

【0044】なお、導体材料としては表1のA〜F、I
についてはCu(銅)を用いて950℃で焼成し、G,
HについてはW(タングステン)を用いて1600℃で
焼成し作製した。そして上記基板のランド部に半田(S
n63重量%、Pb37重量%)ペーストをスクリーン
印刷により塗布し、加熱溶融して半田の層を形成させ
た。ランド部は1.0mm間隔で下面全体に形成した。
パッケージの厚みtは0.6、0.4、0.2mmの3
種類を作製した。
As the conductor materials, A to F and I in Table 1 were used.
Is fired at 950 ° C. using Cu (copper), and G,
H was produced by firing at 1600 ° C. using W (tungsten). Then, solder (S
(n63% by weight, Pb 37% by weight) paste was applied by screen printing, and heated and melted to form a solder layer. The lands were formed on the entire lower surface at 1.0 mm intervals.
The thickness t of the package is 0.6, 0.4, 0.2 mm3.
Types were made.

【0045】一方、プリント基板として、ガラス−エポ
キシ基板からなるガラス転移温度以下における熱膨張係
数が15ppm/℃の絶縁体の表面に銅箔からなるラン
ド部が形成されたプリント基板を準備した。そして、上
記プリント基板のランド部に半田(Sn63重量%、P
b37重量%)ペーストをスクリーン印刷により塗布し
た後、適宜、半田ボールを載置し、上記のパッケージの
ランド部と上記プリント基板のランド部とを位置合わせ
し、230℃で加熱溶融させてパッケージをプリント基
板に実装した。
On the other hand, as a printed circuit board, a printed circuit board made of a glass-epoxy substrate having a land portion made of copper foil formed on the surface of an insulator having a thermal expansion coefficient of 15 ppm / ° C. below the glass transition temperature was prepared. Then, solder (Sn 63% by weight, P
b37% by weight) After the paste is applied by screen printing, solder balls are appropriately placed, the lands of the package are aligned with the lands of the printed circuit board, and the package is heated and melted at 230 ° C. to form a package. Mounted on a printed circuit board.

【0046】なお、半田の厚みが0.1mmのパッケー
ジの実装構造を作製する際は、パッケージ側には半田ペ
ーストの印刷は行わず、プリント基板側のみ半田ペース
トの印刷を行い、半田の厚みが0.3mmのパッケージ
の実装構造を作製する際にはパッケージ側とプリント基
板側の両方のランド部に半田ペーストの印刷を行った。
半田の厚みが0.5mmのパッケージの実装構造を作製
する際には、半田ペーストの印刷の他に半田ボールを載
置して加熱溶融させ、実装した。
When manufacturing a package mounting structure having a solder thickness of 0.1 mm, solder paste is not printed on the package side, but solder paste is printed only on the printed circuit board side. When fabricating a package mounting structure of 0.3 mm, solder paste was printed on both the lands on the package and the printed circuit board.
When producing a package mounting structure having a solder thickness of 0.5 mm, solder balls were placed, heated and melted, and mounted, in addition to printing the solder paste.

【0047】次に、上記のようにしてパッケージ基板を
プリント基板表面に実装したものを大気の雰囲気にて−
40℃と125℃の各温度に制御した恒温槽に試験サン
プルを15分/15分の保持を1サイクルとして最高2
000サイクルまで繰り返した。そして100サイクル
毎にプリント基板の配線導体とパッケージ用基板との電
気抵抗を測定し電気抵抗に変化が現れるまでのサイクル
数を表2、表3に示した。
Next, the package substrate mounted on the printed circuit board surface as described above was placed in an air atmosphere.
A maximum of 2 cycles of a test sample held in a thermostat controlled at each temperature of 40 ° C and 125 ° C for 15 minutes / 15 minutes.
Repeated up to 000 cycles. The electrical resistance between the wiring conductor of the printed circuit board and the package substrate was measured every 100 cycles, and the number of cycles until the electrical resistance changed was shown in Tables 2 and 3.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】[0049]

【表2】 [Table 2]

【0050】[0050]

【表3】 [Table 3]

【0051】表1〜表3より明らかなように、E×t3
の値が30(GPa・mm3 )以下の低剛性の絶縁基板
であり、絶縁基板とプリント基板の熱膨張差Δαが10
ppm/℃以下のパッケージの実装構造では半田の厚み
が0.3mm以下であっても、いずれも1000サイク
ルまで抵抗変化は全く認められず、極めて安定で良好な
電気的接続状態を維持できた。
As is clear from Tables 1 to 3, E × t 3
Is 30 (GPa · mm 3 ) or less, and the thermal expansion difference Δα between the insulating substrate and the printed circuit board is 10
In the package mounting structure of ppm / ° C. or less, even if the thickness of the solder was 0.3 mm or less, no change in resistance was observed at all up to 1000 cycles, and an extremely stable and favorable electrical connection state could be maintained.

【0052】しかし、上記範囲外であるパッケージで
は、1000サイクル未満の早い段階から抵抗変化が検
出され、実装後の信頼性に欠けることがわかった。
However, in a package outside the above range, a change in resistance was detected at an early stage of less than 1000 cycles, and it was found that reliability after mounting was lacking.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
パッケージなどの半導体素子を搭載した配線基板をそれ
よりも熱膨張係数の大きいプリント基板などの外部回路
基板に実装した場合に両者の熱膨張係数の差に起因して
発生する熱応力が小さく、また、パッケージが変形する
ことで熱応力を緩和できることから、パッケージと外部
回路基板の実装構造における低背化とともに、長期間に
わたり正確、かつ強固に電気的接続させることが可能と
なる。
As described in detail above, according to the present invention,
When a wiring board on which a semiconductor element such as a package is mounted is mounted on an external circuit board such as a printed circuit board having a larger coefficient of thermal expansion, the thermal stress generated due to the difference between the two coefficients of thermal expansion is small, and Since the thermal stress can be relieved by the deformation of the package, the height of the package and the external circuit board can be reduced, and the electrical connection can be made accurately and firmly for a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明における配線基板の実装構造を説明する
ための概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a mounting structure of a wiring board according to the present invention.

【図2】図1の実装構造における接続部の要部拡大断面
図である。
FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of a connection part in the mounting structure of FIG.

【図3】本発明における配線基板の実装構造における変
形を説明するための概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view for explaining a deformation in the mounting structure of the wiring board according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 セラミックス絶縁基板 2 メタライズ配線層 3 ランド部 4 半導体素子 5 フリップチップ端子 6 アンダーフィル 7 半田(ロウ材) 8 絶縁体 9 ランド部 A パッケージ B 外部回路基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic insulating substrate 2 Metallized wiring layer 3 Land part 4 Semiconductor element 5 Flip chip terminal 6 Underfill 7 Solder (brazing material) 8 Insulator 9 Land part A Package B External circuit board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 1/18 H01L 23/12 C ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 1/18 H01L 23/12 C

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一方の表面に半導体素子がフリップチップ
実装されたセラミックス絶縁基板と、該絶縁基板の他方
の表面に設けられた複数の第1のランド部と、前記半導
体素子と前記ランド部とを電気的に接続するためのメタ
ライズ配線層とを具備し、前記ランド部表面にロウ材を
印刷塗布してなる配線基板において、 前記絶縁基板が、E×t3 ≦30(GPa・mm3
(式中、E:絶縁基板のヤング率(GPa)、t:絶縁
基板の厚み(mm))を満たすことを特徴とする配線基
板。
1. A ceramic insulating substrate having a semiconductor element flip-chip mounted on one surface, a plurality of first lands provided on the other surface of the insulating substrate, the semiconductor element and the land. And a metallized wiring layer for electrically connecting the wiring board to each other. The wiring board is formed by printing and coating a brazing material on the surface of the land portion, wherein the insulating substrate has a thickness of Ext 3 ≦ 30 (GPa · mm 3 ).
(Wherein E: Young's modulus (GPa) of the insulating substrate, t: thickness (mm) of the insulating substrate).
【請求項2】前記絶縁基板が、ガラスセラミックス焼結
体またはアルミナ質焼結体からなることを特徴とする請
求項1記載の配線基板。
2. The wiring board according to claim 1, wherein said insulating substrate is made of a glass ceramic sintered body or an alumina sintered body.
【請求項3】一方の表面に半導体素子がフリップチップ
実装されたセラミックス絶縁基板と、該絶縁基板の他方
の表面に設けられた複数の第1のランド部と、前記半導
体素子と前記ランド部とを電気的に接続するためのメタ
ライズ配線層とを具備してなる配線基板を、有機樹脂を
含有する絶縁体の表面に第2のランド部が被着形成され
た外部回路基板上に載置し、前記配線基板の前記第1の
ランド部と前記外部回路基板の前記第2のランド部とを
ロウ材によって接着してなる配線基板の実装構造におい
て、 前記配線基板の絶縁基板が、E×t3 ≦30(GPa・
mm3 )(式中、E:絶縁基板のヤング率(GPa)、
t:絶縁基板の厚み(mm))を満たすとともに、前記
絶縁基板と前記絶縁体との熱膨張差が10ppm/℃以
下であり、且つ前記第1のランド部と前記第2のランド
部間の前記ロウ材の厚みが0.3mm以下であることを
特徴とする配線基板の実装構造。
3. A ceramic insulating substrate having a semiconductor element flip-chip mounted on one surface, a plurality of first lands provided on the other surface of the insulating substrate, the semiconductor element and the land. And a metallized wiring layer for electrically connecting the wiring board to an external circuit board having a second land portion formed on the surface of an insulator containing an organic resin. A mounting structure of the wiring board, wherein the first land portion of the wiring board and the second land portion of the external circuit board are bonded with a brazing material; 3 ≤ 30 (GPa
mm 3 ) (where, E: Young's modulus of the insulating substrate (GPa),
t: the thickness (mm) of the insulating substrate), the difference in thermal expansion between the insulating substrate and the insulator is 10 ppm / ° C. or less, and between the first land portion and the second land portion. The mounting structure of a wiring board, wherein the thickness of the brazing material is 0.3 mm or less.
【請求項4】前記絶縁基板が、ガラスセラミックス焼結
体またはアルミナ質焼結体からなることを特徴とする請
求項3記載の配線基板の実装構造。
4. The mounting structure for a wiring board according to claim 3, wherein said insulating substrate is made of a glass ceramic sintered body or an alumina sintered body.
【請求項5】熱膨張係数が、前記半導体素子<絶縁基板
<絶縁体の関係を満足することを特徴とする請求項3記
載の配線基板の実装構造。
5. The mounting structure according to claim 3, wherein a coefficient of thermal expansion satisfies a relationship of the semiconductor element <insulating substrate <insulator.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7728429B2 (en) 2006-07-28 2010-06-01 Panasonic Corporation Semiconductor device having recessed connector portions
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