JP2001098029A - エチレン系共重合体 - Google Patents

エチレン系共重合体

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JP2001098029A
JP2001098029A JP27662799A JP27662799A JP2001098029A JP 2001098029 A JP2001098029 A JP 2001098029A JP 27662799 A JP27662799 A JP 27662799A JP 27662799 A JP27662799 A JP 27662799A JP 2001098029 A JP2001098029 A JP 2001098029A
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JP
Japan
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cyclopentadienyl
fluorenyl
dichloride
ethylene
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JP27662799A
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English (en)
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Takashi Inatomi
敬 稲富
Takatomo Masuki
隆友 増木
Akihiro Yano
明広 矢野
Morihiko Sato
守彦 佐藤
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Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 広い分子量分布と狭い組成分布を有する高E
SCR、高衝撃強度のエチレン系共重合体を提供する。 【解決手段】 (A)Mw/Mnが4.5以上、(B)
密度が0.94g/cm3以下、(C)DSCにより得
られる融点(Tm(℃))が単一であり、(D)該融点
と密度(ρ(g/cm3))の関係が一般式(1) Tm < 176ρ − 38 (1) を満たすエチレン系共重合体を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規のエチレン系
共重合体に関し、さらに詳しくは分子量分布が広く、か
つ、組成分布が狭いエチレン系重合体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から用いられているチーグラー−ナ
ッター触媒は、共重合性の異なる複数の活性種を有する
ため、エチレン系共重合体を製造した場合、分子量分
布、組成分布とも広い重合体が得られる。特に、組成分
布については低分子量側に短鎖分岐が多く導入される傾
向があり、これらの低分子量成分が重合溶媒中へ溶出し
たり、ポリマー粒子が凝集するなど安定生産を困難にし
ていた。また、高分子量側への短鎖分岐の導入量が少な
いため、ESCRや衝撃強度を高くできないという問題
があった。
【0003】一方、活性種が均一なメタロセン触媒を用
いて製造したエチレン系重合体は、組成分布は狭く、上
記の溶出等の問題は改善されたが、分子量分布が狭く、
加工性が悪いという問題があった。このような問題を解
決するために、多段重合やブレンドにより分子量分布を
広げるという方法が提案されている。しかし、混合しよ
うとする各々のポリマーに含有される同等の分子量を有
するポリマー鎖の割合が少ない場合は、相溶性が悪くな
る。このため、分子量分布の狭いメタロセン触媒を用い
て製造したエチレン系共重合体は、多段重合やブレンド
で見かけ上分子量分布を広げても、期待したほど加工性
が向上しないばかりか、むしろゲルが発生したりする。
このように分子量分布の狭いメタロセン触媒により製造
されたエチレン系共重合体は、ブレンド等の方法を用い
ても、広げられる分子量分布には自ずと限界がある。
【0004】このように、従来技術では、広い分子量分
布と狭い組成分布を両立したエチレン系共重合体を得る
ことは困難であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の課題を
解決するためになされたものであり、広い分子量分布と
狭い組成分布を有するエチレン系共重合体を提供するこ
とを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に関するエチレン
系共重合体は、(A)重量平均分子量と数平均分子量の
比(以下、Mw/Mnと記す)が4.5以上、(B)密
度(ρ)が0.94g/cm3以下であり、(C)示差
走査熱量分析(DSC)の吸熱曲線(昇温速度10℃/
分)により得られる融点(Tm(℃))が単一であり、
(D)該融点と密度(ρ(g/cm3))の関係が一般
式(1) Tm < 176ρ − 38 (1) を満たすことを特徴としている。
【0007】以下、本発明に関するエチレン系共重合体
について具体的に説明する。本発明のエチレン系共重合
体は、(A)重量平均分子量と数平均分子量の比(Mw
/Mn)が4.5以上、さらに好ましくは5以上であ
り、(B)密度(ρ)が0.94g/cm3以下であ
り、(C)示差走査熱量分析(DSC)の吸熱曲線(昇
温速度10℃/分)により得られる融点(Tm(℃))
が単一であり、(D)該融点と密度(ρ(g/c
3))の関係が一般式(1) Tm < 176ρ − 38 (1) さらに好ましくは一般式(2) Tm < 276ρ − 430 (2) の範囲にあるものである。
【0008】本発明のエチレン系共重合体のコモノマー
としては、プロピレン、1−ブテン、4−メチル−1−
ペンテン、1−ヘキセン等のα−オレフィン、ブタジエ
ン、1,4−ヘキサジエン等の共役および非共役ジエ
ン、スチレン、シクロブテン等の環状オレフィンを例示
することができる。
【0009】本発明のエチレン系共重合体は、例えば、
特定の遷移金属化合物(a)、粘土を有機化合物で処理
した変性粘土(b)、必要に応じて有機金属化合物
(c)からなる触媒の存在下に、エチレンを上記のコモ
ノマーと共重合させることにより製造することができ
る。
【0010】以下、このような触媒および触媒成分につ
いて説明する。遷移金属化合物(a)としては、下記一
般式(3)
【0011】
【化1】
【0012】[式中、M1は周期表第4族の遷移金属で
あり、具体的にはチタン原子、ジルコニウム原子または
ハフニウム原子である。R1はシクロペンタジエニル
基、2〜5位の少なくとも一つがハロゲン原子、炭素数
1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のアルコキシ
基、炭素数1〜20のアルキルアミド基、炭素数1〜2
0の酸素含有炭化水素基、炭素数1〜20の窒素含有炭
化水素基もしくは炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素
基で置換されたシクロペンタジエニル基、インデニル基
または2〜7位の少なくとも一つがハロゲン原子、炭素
数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のアルコキシ
基、炭素数1〜20のアルキルアミド基、炭素数1〜2
0の酸素含有炭化水素基、炭素数1〜20の窒素含有炭
化水素基もしくは炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素
基で置換されたインデニル基である。これらR1の置換
基としては、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブ
チル、へキシル、オクチル、デシル、ドデシル、イソプ
ロピル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、シクロ
ヘキシルなどのアルキル基、ビニル、プロペニル、シク
ロへキセニルなどのアルケニル基、フェニル、メチルフ
ェニル、エチルフェニル、ビフェニル、ナフチルなどの
アリール基、ベンジル、フェニルエチルなどのアリール
アルキル基等の炭素数1〜20の炭化水素基;メトキシ
メチル、2−メトキシエチルなどのアルコキシアルキル
基、メトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、フェノキ
シ、メチルフェノキシなどのアリーロキシ基、フェニル
メトキシ、フェニルエトキシ等のアリールアルコキシ
基、アセチル、ベンゾイルなどのアシル基等の炭素数1
〜20の酸素含有炭化水素基;ジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、ジプロピルアミノ等のアミノ基、ジメチルア
ミノエチル、ジメチルアミノプロピルなどのアミノアル
キル基、ジメチルアミノフェニルなどのアミノアリール
基等の炭素数2〜10の窒素含有炭化水素基;トリメチ
ルシリル、トリエチルシリルなどのアルキルシリル基、
フェニルジメチルシリル、ジフェニルメチルシリルなど
のアリールシリル基、アリルジメチルシリルなどのアル
ケニルシリル基等の炭素数3〜20のケイ素含有炭化水
素基である。R2はフルオレニル基または1〜8位の少
なくとも一つがハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水
素基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20
のアルキルアミド基、炭素数1〜20の酸素含有炭化水
素基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基もしくは炭
素数1〜20のケイ素含有炭化水素基で置換されたフル
オレニル基である。R2の置換基としては、具体的には
前記R1の置換基で例示したものと同様の炭化水素基、
酸素含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基、ケイ素含有
炭化水素基である。
【0013】また、R3は一般式(4)
【0014】
【化2】
【0015】(式中、R4は水素、炭素数1〜20の炭
化水素基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜
20のアルキルアミド基、炭素数1〜20の酸素含有炭
化水素基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基または
炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基である。これら
4の置換基としては、具体的には水素、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、へキシル、オクチル、デシル、
ドデシル、イソプロピル、イソブチル、s−ブチル、t
−ブチル、シクロヘキシルなどのアルキル基、ビニル、
プロペニル、シクロへキセニルなどのアルケニル基、フ
ェニル、メチルフェニル、エチルフェニル、ビフェニ
ル、ナフチルなどのアリール基、ベンジル、フェニルエ
チルなどのアリールアルキル基等の炭素数1〜20の炭
化水素基;メトキシメチル、2−メトキシエチルなどの
アルコキシアルキル基、メトキシ、エトキシ等のアルコ
キシ基、フェノキシ、メチルフェノキシなどのアリーロ
キシ基、フェニルメトキシ、フェニルエトキシ等のアリ
ールアルコキシ基、アセチル、ベンゾイルなどのアシル
基等の炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基;ジメチル
アミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ等のアミノ
基、ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノプロピルな
どのアミノアルキル基、ジメチルアミノフェニルなどの
アミノアリール基等の炭素数2〜10の窒素含有炭化水
素基;トリメチルシリル、トリエチルシリルなどのアル
キルシリル基、フェニルジメチルシリル、ジフェニルメ
チルシリルなどのアリールシリル基、アリルジメチルシ
リルなどのアルケニルシリル基等の炭素数3〜20のケ
イ素含有炭化水素基である。)または、一般式(5)
【0016】
【化3】
【0017】(式中、M2はケイ素またはゲルマニウム
であり、R5は炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1
〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルアミ
ド基、炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基、炭素数1
〜20の窒素含有炭化水素基または炭素数1〜20のケ
イ素含有炭化水素基である。具体的には前記R4の置換
基で例示したものと同様の炭化水素基、酸素含有炭化水
素基、窒素含有炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基であ
る。)であり、n=1〜10である。Xは各々独立して
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20の
アルキルアミド基、炭素数1〜20の酸素含有炭化水素
基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基または炭素数
1〜20のケイ素含有炭化水素基である。]で表される
周期表第4族の遷移金属化合物が挙げられる。
【0018】前記一般式(3)で表される化合物として
は、例えば、(メチル)(フェニル)メチレン(シクロ
ペンタジエニル)(フルオレニル)チタニウムジクロラ
イド、(メチル)(フェニル)メチレン(シクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライ
ド、(メチル)(フェニル)メチレン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、
(メチル)(フェニル)メチレン(シクロペンタジエニ
ル)(2,7−ジメチルフルオレニル)チタニウムジク
ロライド、(メチル)(フェニル)メチレン(シクロペ
ンタジエニル)(2,7−ジメチルフルオレニル)ジル
コニウムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレ
ン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメチルフルオ
レニル)ハフニウムジクロライド、(メチル)(フェニ
ル)メチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−
t−ブチルフルオレニル)チタニウムジクロライド、
(メチル)(フェニル)メチレン(シクロペンタジエニ
ル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニ
ウムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレン
(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチルフ
ルオレニル)ハフニウムジクロライド、(メチル)(フ
ェニル)メチレン(シクロペンタジエニル)(2−ジメ
チルアミノフルオレニル)チタニウムジクロライド、
(メチル)(フェニル)メチレン(シクロペンタジエニ
ル)(2−ジメチルアミノフルオレニル)ジルコニウム
ジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレン(シク
ロペンタジエニル)(2−ジメチルアミノフルオレニ
ル)ハフニウムジクロライド、(メチル)(フェニル)
メチレン(シクロペンタジエニル)(2−ジイソプロピ
ルアミノフルオレニル)チタニウムジクロライド、(メ
チル)(フェニル)メチレン(シクロペンタジエニル)
(2−ジイソプロピルアミノフルオレニル)ジルコニウ
ムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレン(シ
クロペンタジエニル)(2−ジイソプロピルアミノフル
オレニル)ハフニウムジクロライド、(メチル)(フェ
ニル)メチレン(シクロペンタジエニル)(4−ジメチ
ルアミノフルオレニル)チタニウムジクロライド、(メ
チル)(フェニル)メチレン(シクロペンタジエニル)
(4−ジメチルアミノフルオレニル)ジルコニウムジク
ロライド、(メチル)(フェニル)メチレン(シクロペ
ンタジエニル)(4−ジメチルアミノフルオレニル)ハ
フニウムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレ
ン(シクロペンタジエニル)(2−メトキシフルオレニ
ル)チタニウムジクロライド、(メチル)(フェニル)
メチレン(シクロペンタジエニル)(2−メトキシフル
オレニル)ジルコニウムジクロライド、(メチル)(フ
ェニル)メチレン(シクロペンタジエニル)(2−メト
キシフルオレニル)ハフニウムジクロライド、(メチ
ル)(フェニル)メチレン(シクロペンタジエニル)
(4−メトキシフルオレニル)チタニウムジクロライ
ド、(メチル)(フェニル)メチレン(シクロペンタジ
エニル)(4−メトキシフルオレニル)ジルコニウムジ
クロライド、(メチル)(フェニル)メチレン(シクロ
ペンタジエニル)(4−メトキシフルオレニル)ハフニ
ウムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレン
(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメトキシフルオ
レニル)チタニウムジクロライド、(メチル)(フェニ
ル)メチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメ
トキシフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、(メ
チル)(フェニル)メチレン(シクロペンタジエニル)
(2,7−ジメトキシフルオレニル)ハフニウムジクロ
ライド、(メチル)(フェニル)メチレン(3−メチル
シクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタニウムジ
クロライド、(メチル)(フェニル)メチレン(3−メ
チルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレン
(3−メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ハフニウムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチ
レン(3−イソプロピルシクロペンタジエニル)(フル
オレニル)チタニウムジクロライド、(メチル)(フェ
ニル)メチレン(3−イソプロピルシクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、(メ
チル)(フェニル)メチレン(3−イソプロピルシクロ
ペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロラ
イド、(メチル)(フェニル)メチレン(3−t−ブチ
ルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタニウム
ジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレン(3−
t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジ
ルコニウムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチ
レン(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオ
レニル)ハフニウムジクロライド、(メチル)(フェニ
ル)メチレン(3−(トリメチルシリル)シクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)チタニウムジクロライド、
(メチル)(フェニル)メチレン(3−(トリメチルシ
リル)シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレン
(3−(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、(メチル)
(フェニル)メチレン(3−ベンジルシクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)チタニウムジクロライド、(メ
チル)(フェニル)メチレン(3−ベンジルシクロペン
タジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライ
ド、(メチル)(フェニル)メチレン(3−ベンジルシ
クロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジク
ロライド、(メチル)(フェニル)メチレン(3,4−
ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタ
ニウムジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレン
(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ジルコニウムジクロライド、(メチル)(フェニ
ル)メチレン(3,4−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、(メチ
ル)(フェニル)メチレン(インデニル)(フルオレニ
ル)チタニウムジクロライド、(メチル)(フェニル)
メチレン(インデニル)(フルオレニル)ジルコニウム
ジクロライド、(メチル)(フェニル)メチレン(イン
デニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、
(メチル)(フェニル)メチレン(2−メチルインデニ
ル)(フルオレニル)チタニウムジクロライド、(メチ
ル)(フェニル)メチレン(2−メチルインデニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、(メチ
ル)(フェニル)メチレン(2−メチルインデニル)
(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)チ
タニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロラ
イド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメチル
フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジフェニルメ
チレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメチルフ
ルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメ
チレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメチルフ
ルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチ
レン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチ
ルフルオレニル)チタニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−
ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフ
ェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ
−t−ブチルフルオレニル)ハフニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(2−ジ
メチルアミノフルオレニル)チタニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(2−ジ
メチルアミノフルオレニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(2
−ジメチルアミノフルオレニル)ハフニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(2
−ジイソプロピルアミノフルオレニル)チタニウムジク
ロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニ
ル)(2−ジイソプロピルアミノフルオレニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペン
タジエニル)(2−ジイソプロピルアミノフルオレニ
ル)ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シ
クロペンタジエニル)(4−ジメチルアミノフルオレニ
ル)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シ
クロペンタジエニル)(4−ジメチルアミノフルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレン
(シクロペンタジエニル)(4−ジメチルアミノフルオ
レニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレン
(シクロペンタジエニル)(2−メトキシフルオレニ
ル)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シ
クロペンタジエニル)(2−メトキシフルオレニル)ジ
ルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロ
ペンタジエニル)(2−メトキシフルオレニル)ハフニ
ウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタ
ジエニル)(4−メトキシフルオレニル)チタニウムジ
クロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニ
ル)(4−メトキシフルオレニル)ジルコニウムジクロ
ライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)
(4−メトキシフルオレニル)ハフニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)
(2,7−ジメトキシフルオレニル)チタニウムジクロ
ライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)
(2,7−ジメトキシフルオレニル)ジルコニウムジク
ロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニ
ル)(2,7−ジメトキシフルオレニル)ハフニウムジ
クロライド、ジフェニルメチレン(3−メチルシクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)チタニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン(3−メチルシクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジ
フェニルメチレン(3−メチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(3−イソプロピルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(3−イソプロピルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニ
ルメチレン(3−イソプロピルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フ
ルオレニル)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチ
レン(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオ
レニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレ
ン(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレン
(3−(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(3−(トリメチルシリル)シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジ
フェニルメチレン(3−(トリメチルシリル)シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン(3−ベンジルシクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジ
フェニルメチレン(3−ベンジルシクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフ
ェニルメチレン(3−ベンジルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニ
ルメチレン(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(インデニル)(フルオレニル)チタニウムジ
クロライド、ジフェニルメチレン(インデニル)(フル
オレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチ
レン(インデニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロ
ライド、ジフェニルメチレン(2−メチルインデニル)
(フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(2−メチルインデニル)(フルオレニル)ジ
ルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(2−メ
チルインデニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロラ
イド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジメチルシ
ランジイル(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル(シ
クロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジク
ロライド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジエニ
ル)(2,7−ジメチルフルオレニル)チタニウムジク
ロライド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジエニ
ル)(2,7−ジメチルフルオレニル)ジルコニウムジ
クロライド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジエ
ニル)(2,7−ジメチルフルオレニル)ハフニウムジ
クロライド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジエ
ニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)チタニ
ウムジクロライド、ジメチルシランジイル(シクロペン
タジエニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル(シ
クロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオ
レニル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイ
ル(シクロペンタジエニル)(2−ジメチルアミノフル
オレニル)チタニウムジクロライド、ジメチルシランジ
イル(シクロペンタジエニル)(2−ジメチルアミノフ
ルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシラ
ンジイル(シクロペンタジエニル)(2−ジメチルアミ
ノフルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシ
ランジイル(シクロペンタジエニル)(2−ジイソプロ
ピルアミノフルオレニル)チタニウムジクロライド、ジ
メチルシランジイル(シクロペンタジエニル)(2−ジ
イソプロピルアミノフルオレニル)ジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジエニ
ル)(2−ジイソプロピルアミノフルオレニル)ハフニ
ウムジクロライド、ジメチルシランジイル(シクロペン
タジエニル)(4−ジメチルアミノフルオレニル)チタ
ニウムジクロライド、ジメチルシランジイル(シクロペ
ンタジエニル)(4−ジメチルアミノフルオレニル)ジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル(シク
ロペンタジエニル)(4−ジメチルアミノフルオレニ
ル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(シクロペンタジエニル)(2−メトキシフルオレニ
ル)チタニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(シクロペンタジエニル)(2−メトキシフルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(シクロペンタジエニル)(2−メトキシフルオレニ
ル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(シクロペンタジエニル)(4−メトキシフルオレニ
ル)チタニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(シクロペンタジエニル)(4−メトキシフルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(シクロペンタジエニル)(4−メトキシフルオレニ
ル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメトキシフルオ
レニル)チタニウムジクロライド、ジメチルシランジイ
ル(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメトキシフル
オレニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシラン
ジイル(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメトキシ
フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシラ
ンジイル(3−メチルシクロペンタジエニル)(フルオ
レニル)チタニウムジクロライド、ジメチルシランジイ
ル(3−メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(3−メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイル(3−
イソプロピルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)
チタニウムジクロライド、ジメチルシランジイル(3−
イソプロピルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル(3
−イソプロピルシクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)チタニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(3−(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジメチルシ
ランジイル(3−(トリメチルシリル)シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、
ジメチルシランジイル(3−(トリメチルシリル)シク
ロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロ
ライド、ジメチルシランジイル(3−ベンジルシクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシランジイル(3−ベンジルシクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシランジイル(3−ベンジルシクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、
ジメチルシランジイル(3,4−ジメチルシクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)チタニウムジクロライド、
ジメチルシランジイル(3,4−ジメチルシクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシランジイル(3,4−ジメチルシクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロライ
ド、ジメチルシランジイル(インデニル)(フルオレニ
ル)チタニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(インデニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルシランジイル(インデニル)(フルオレ
ニル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(2−メチルインデニル)(フルオレニル)チタニウム
ジクロライド、ジメチルシランジイル(2−メチルイン
デニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、
ジメチルシランジイル(2−メチルインデニル)(フル
オレニル)ハフニウムジクロライド、エチレン(シクロ
ペンタジエニル)(フルオレニル)チタニウムジクロラ
イド、エチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、エチレン(シクロペン
タジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロライ
ド、エチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメ
チルフルオレニル)チタニウムジクロライド、エチレン
(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメチルフルオレ
ニル)ジルコニウムジクロライド、エチレン(シクロペ
ンタジエニル)(2,7−ジメチルフルオレニル)ハフ
ニウムジクロライド、エチレン(シクロペンタジエニ
ル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)チタニウ
ムジクロライド、エチレン(シクロペンタジエニル)
(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウム
ジクロライド、エチレン(シクロペンタジエニル)
(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ハフニウムジ
クロライド、エチレン(シクロペンタジエニル)(2−
ジメチルアミノフルオレニル)チタニウムジクロライ
ド、エチレン(シクロペンタジエニル)(2−ジメチル
アミノフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、エチ
レン(シクロペンタジエニル)(2−ジメチルアミノフ
ルオレニル)ハフニウムジクロライド、エチレン(シク
ロペンタジエニル)(2−ジイソプロピルアミノフルオ
レニル)チタニウムジクロライド、エチレン(シクロペ
ンタジエニル)(2−ジイソプロピルアミノフルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、エチレン(シクロペン
タジエニル)(2−ジイソプロピルアミノフルオレニ
ル)ハフニウムジクロライド、エチレン(シクロペンタ
ジエニル)(4−ジメチルアミノフルオレニル)チタニ
ウムジクロライド、エチレン(シクロペンタジエニル)
(4−ジメチルアミノフルオレニル)ジルコニウムジク
ロライド、エチレン(シクロペンタジエニル)(4−ジ
メチルアミノフルオレニル)ハフニウムジクロライド、
エチレン(シクロペンタジエニル)(2−メトキシフル
オレニル)チタニウムジクロライド、エチレン(シクロ
ペンタジエニル)(2−メトキシフルオレニル)ジルコ
ニウムジクロライド、エチレン(シクロペンタジエニ
ル)(2−メトキシフルオレニル)ハフニウムジクロラ
イド、エチレン(シクロペンタジエニル)(4−メトキ
シフルオレニル)チタニウムジクロライド、エチレン
(シクロペンタジエニル)(4−メトキシフルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、エチレン(シクロペン
タジエニル)(4−メトキシフルオレニル)ハフニウム
ジクロライド、エチレン(シクロペンタジエニル)
(2,7−ジメトキシフルオレニル)チタニウムジクロ
ライド、エチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−
ジメトキシフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、
エチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメトキ
シフルオレニル)ハフニウムジクロライド、エチレン
(3−メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)
チタニウムジクロライド、エチレン(3−メチルシクロ
ペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロ
ライド、エチレン(3−メチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ハフニウムジクロライド、エチレン
(3−イソプロピルシクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)チタニウムジクロライド、エチレン(3−イソプ
ロピルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロライド、エチレン(3−イソプロピルシク
ロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロ
ライド、エチレン(3−t−ブチルシクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)チタニウムジクロライド、エチレ
ン(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ジルコニウムジクロライド、エチレン(3−t−
ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニ
ウムジクロライド、エチレン(3−(トリメチルシリ
ル)シクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタニウ
ムジクロライド、エチレン(3−(トリメチルシリル)
シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウム
ジクロライド、エチレン(3−(トリメチルシリル)シ
クロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウムジク
ロライド、エチレン(3−ベンジルシクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)チタニウムジクロライド、エチレ
ン(3−ベンジルシクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、エチレン(3−ベンジ
ルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウム
ジクロライド、エチレン(3,4−ジメチルシクロペン
タジエニル)(フルオレニル)チタニウムジクロライ
ド、エチレン(3,4−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、エチ
レン(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ハフニウムジクロライド、エチレン(インデ
ニル)(フルオレニル)チタニウムジクロライド、エチ
レン(インデニル)(フルオレニル)ジルコニウムジク
ロライド、エチレン(インデニル)(フルオレニル)ハ
フニウムジクロライド、エチレン(2−メチルインデニ
ル)(フルオレニル)チタニウムジクロライド、エチレ
ン(2−メチルインデニル)(フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロライド、エチレン(2−メチルインデニル)
(フルオレニル)ハフニウムジクロライド等のジクロル
体、および上記周期表第4族遷移金属化合物のジメチル
体、ジエチル体、ジヒドロ体、ジフェニル体、ジベンジ
ル体等を例示することができる。
【0019】次に、粘土を有機化合物で処理した変性粘
土(b)について説明する。
【0020】粘土を有機化合物で処理した変性粘土の調
製に用いられる粘土とは、微結晶状のケイ酸塩を主成分
とする微粒子である。粘土の大部分は、その構造上の特
色として層状構造を成している粘土鉱物を含有してお
り、その層の中に種々の大きさの負電荷を有している。
これらの粘土鉱物は、一般に層電荷の大きさで、パイロ
フィライト、カオリナイト、ディッカイトおよびタルク
群(化学式あたりの負電荷がおよそ0)、スメクタイト
群(負電荷が0.25〜0.6)、バーミキュライト群
(負電荷が0.6〜0.9)、雲母群(およそ1)、脆
雲母群(およそ2)に分類されている。ここで示した各
群には、それぞれ種々の鉱物が含まれるが、例えば、ス
メクタイトに属する粘土鉱物としては、モンモリロナイ
ト、バイデライト、サポナイト、ヘクトライト等が挙げ
られる。また、これらの粘土鉱物は天然に存在するが、
人工合成により不純物の少ないものを得ることができ
る。本発明においては、ここに示した天然の粘土および
人工合成により得られる粘土のすべてが使用可能であ
り、また、上記に例示がないものでも粘土の定義に属す
るものはすべて用いることができる。
【0021】変性粘土(b)の調製に用いられる有機化
合物は、次の一般式(6) [C][A] (6) で示すことができる。但し、式中[C]はカチオンであ
り、構成成分として少なくとも1つの炭素原子を含むカ
チオンである有機カチオンもしくは有機金属カチオンで
ある。
【0022】有機カチオンのうち、活性プロトンを含有
するものとして、以下の一般式(7)で示される元素の
孤立電子対にプロトンが配位してなるオニウム化合物が
挙げられる。
【0023】[R7 l1H]+ (7) [式中、Z1は周期表の第15族または第16族から選
ばれる元素であり、具体的には、Z1が窒素であるアン
モニウム化合物、リン原子であるホスホニウム化合物、
酸素原子であるオキソニウム化合物またはイオウ原子で
あるスルホニウム化合物である。R7は同一でも異なっ
ていてもよく、水素原子または炭素数1〜20の炭化水
素基である。具体的な炭化水素基としては、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、イソプロピ
ル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、シクロヘキ
シル等の炭素数1〜20のアルキル基;ビニル、プロペ
ニル、シクロヘキセニル等の炭素数2〜20のアルケニ
ル基;フェニル、メチルフェニル、エチルフェニル、ビ
フェニル、ナフチル等の炭素数6〜20のアリール基、
ベンジル、フェニルエチルなどの炭素数7〜20のアリ
ールアルキル基が例示される。少なくとも1つのR7
炭素数1〜20の炭化水素基であり、各々のR7は互い
に結合していてもよい。Z1が第15族の時にはl=3
であり、Z1が第16族の時にはl=2である。] 有機カチオンのうち、活性プロトンを含有せず、環構造
を有しないものは、一般式(8) [R8 32+ (8) [式中、Z2は周期表の第14族から選ばれる元素であ
り、R8は炭素数1〜20の炭化水素基である。]で示
される。Z2が炭素である場合(カルボニウムカチオ
ン)は、具体的にはエタンカチオン、トリフェニルカル
ベニウムカチオン等が例示される。
【0024】また、活性プロトンを含有せず、環構造を
有するカチオンとしては、ベンゼニウムカチオン、トロ
ピリウムカチオン等の芳香族カチオンが例示される。
【0025】有機金属カチオンとしては、具体的にはフ
ェロセニウムカチオン等が例示される。
【0026】一方、[A]は対アニオンであり、フッ素
イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハ
ロゲン化イオンあるいは硫酸イオン、ヘキサフルオロホ
スフェート、テトラフルオロボレート等の無機アニオン
が例示できるが、これらに限定されるものではない。
【0027】上記のうち、[C]が活性プロトンを有
し、Z1が窒素元素、[A]が塩素イオンのものに関し
て、具体的にはメチルアミン塩酸塩、エチルアミン塩酸
塩、プロピルアミン塩酸塩、イソプロピルアミン塩酸
塩、ブチルアミン塩酸塩、ヘキシルアミン塩酸塩、デシ
ルアミン塩酸塩、ドデシルアミ酸塩、アリルアミン塩酸
塩、シクロペンチルアミン塩酸塩、シクロヘキシルアミ
ン塩酸塩等の脂肪族第一アミンの塩酸塩;ジメチルアミ
ン塩酸塩、ジエチルアミン塩酸塩、ジアミルアミン塩酸
塩、ジデシルアミン塩酸塩、ジアリルアミン塩酸塩等の
脂肪族第二アミンの塩酸塩;トリメチルアミン塩酸塩、
トリブチルアミン塩酸塩、トリアミルアミン塩酸塩、ト
リアリルアミン塩酸塩、N,N−ジメチルデシルアミン
塩酸塩、N,N−ジメチルウンデシルアミン塩酸塩等の
脂肪族第三アミン塩酸塩;アニリン塩酸塩、N−メチル
アニリン塩酸塩、N,N−ジメチルアニリン塩酸塩、N
−エチルアニリン塩酸塩、N,N−ジエチルアニリン塩
酸塩、N―アリルアニリン塩酸塩、o−トルイジン塩酸
塩、m−トルイジン塩酸塩、p−トルイジン塩酸塩、N
−メチル−o−トルイジン塩酸塩、N−メチル−p−ト
ルイジン塩酸塩、N,N−ジメチル−o−トルイジン塩
酸塩、N,N−ジメチル−m−トルイジン塩酸塩、N,
N−ジメチル−p−トルイジン塩酸塩、ベンジルアミン
塩酸塩、ジベンジルアミン塩酸塩、トリベンジルアミン
塩酸塩、N−ベンジル−N−エチルアニリン塩酸塩、ジ
フェニルアミン塩酸塩、α−ナフチルアミン塩酸塩、β
−ナフチルアミン塩酸塩、N,N−ジメチル−α−ナフ
チルアミン塩酸塩、N,N−ジメチル−β−ナフチルア
ミン塩酸塩、o−アニシジン塩酸塩、m−アニシジン塩
酸塩、p−アニシジン塩酸塩、N,N−2,6−テトラ
メチルアニリン塩酸塩、N,N−3,5−テトラメチル
アニリン塩酸塩、N,N−2,4,6−ペンタメチルア
ニリン塩酸塩、2,3,4,5,6−ペンタフルオロア
ニリン塩酸塩等の芳香族アミンの塩酸塩、あるいは上記
のアンモニウム化合物の[A]が塩素イオンに代わって
フッ素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンまたは硫酸イ
オン等で示されるアミン化合物のフッ化水素酸塩、臭化
水素酸塩、ヨウ化水素酸塩または硫酸塩が例示される
が、これらに限定されるものではない。Z1がリン元
素、[A]が臭素イオンのものに関して、具体的にはト
リフェニルホスフィンヒドロブロマイド、トリ(o−ト
リル)ホスフィンヒドロブロマイド、トリ(p−トリ
ル)ホスフィンヒドロブロマイド、トリ(メシチル)ホ
スフィンヒドロブロマイド等のホスホニウム化合物が例
示できるが、これらに限定されるものではない。Z1
酸素元素、[A]が塩素イオンのものに関して、具体的
にはメチルエーテルの塩酸塩、エチルエーテルの塩酸
塩、フェニルエーテルの塩酸塩等のオキソニウム化合物
が例示されるが、これらに限定されるものではない。そ
の他に、Z1がイオウ元素で表されるスルホニウム化合
物が例示される。
【0028】上記有機化合物のうち、[C]が活性プロ
トンを含有しないものに関して、具体例としてブロモト
リフェニルメタン、クロロトリフェニルメタン、トロピ
リウムブロマイド等が例示されるが、これらに限定され
るものではない。
【0029】有機金属化合物としては、フェロセニウム
硫酸塩、フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェー
ト、フェロセニウムテトラフェニルボレート等が例示さ
れるが、これらに限定されるものではない。
【0030】上記の粘土を有機化合物で処理し、変性粘
土を調製する方法に特に制限はないが、例えば、特開平
7−224106号公報に記載の方法を例示することが
できる。
【0031】さらに、有機金属化合物(c)は特に限定
されるものではないが、下記一般式(9) M36 m (9) [式中、M3は周期表第2族、第12族または第13族
から選ばれる原子であり、R6は各々独立して水素原
子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のア
ルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜
20のアリールオキシ基、炭素数6〜20のアリールア
ルキル基または炭素数6〜20のアリールアルコキシ基
であり、少なくとも1つのR6は水素原子、炭素数1〜
20のアルキル基または炭素数6〜20のアリールアル
キル基である。mはM3の価数に相当する。]で表され
る有機金属化合物が例示される。
【0032】前記一般式(9)で表される化合物として
は、例えばM2がアルミニウムの場合、トリメチルアル
ミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピル
アルミニウム、トリ−n−プロピルアルミニウム、トリ
イソブチルアルミニウム、トリ−n−ブチルアルミニウ
ム、トリアミルアルミニウム、ジメチルアルミニウムエ
トキサイド、ジエチルアルミニウムエトキサイド、ジイ
ソプロピルアルミニウムエトキサイド、ジ−n−プロピ
ルアルミニウムエトキサイド、ジイソブチルアルミニウ
ムエトキサイド、ジ−n−ブチルアルミニウムエトキサ
イド、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルア
ルミニウムハイドライド、ジイソプロピルアルミニウム
ハイドライド、ジ−n−プロピルアルミニウムハイドラ
イド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ−n
−ブチルアルミニウムハイドライド等を例示することが
できる。
【0033】本発明のエチレン系共重合体を製造する
際、上述した遷移金属化合物(a)、変性粘土(b)お
よび必要に応じて有機金属化合物(c)から構成される
触媒を用いることができるが、これらの接触方法あるい
は接触順序は特に限定されない。
【0034】さらに、触媒を合成するにあたり、遷移金
属化合物(a)と変性粘土(b)および有機金属化合物
(c)の使用量、使用量の比も特に制限されないが、遷
移金属化合物(a)が反応するのに十分な量の変性粘土
(b)を加えることが好ましい。
【0035】また、本発明のエチレン系共重合体は、液
相でも気相でも製造することができる。このうち重合を
液相で行う場合の溶媒としては、一般に用いられる有機
溶剤であればいずれでもよく、具体的にはプロパン、ペ
ンタン、ヘキサン、イソブタン、シクロヘキサン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン等、またはオ
レフィンそれ自身を溶媒として用いることもできる。
【0036】重合温度は特に制限はないが、生成したエ
チレン系共重合体の融点以下の温度、さらには、エチレ
ン系共重合体が実質的に媒体と均一になる温度以下の温
度で重合すると、より分子量分布の広いエチレン系共重
合体が得られ、好ましい。
【0037】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【0038】なお、重合操作、反応および溶媒精製は、
すべて不活性ガス雰囲気下で行った。また、反応に用い
た溶媒等は、すべて予め公知の方法で精製、乾燥、脱酸
素を行ったものを用いた。さらに、反応に用いた化合物
は、公知の方法により合成、同定したものを用いた。
【0039】示差走査熱量分析(DSC)は、セイコー
電子工業のDSC200を用いた。吸収曲線における最
大ピーク位置の温度(Tm)は、試料約10mgをアル
ミパンに詰めて、10℃/分で200℃まで昇温し、2
00℃で10分保持した後、10℃/分で0℃まで降温
し、ついで10℃/分で昇温する際の吸熱曲線から求め
た。
【0040】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
(GPC)は、Waters社の150C ALC/G
PCにより測定した。カラムは東ソー製のTSKgel
GMH HR−H(×3)、溶媒はオルトジクロロベ
ンゼン(ODCB)、測定温度は140℃である。
【0041】密度は、100℃の熱水に1時間浸積し、
その後室温まで放冷したものについて、23℃に保った
密度勾配管を用いて測定した。
【0042】実施例1 [変性粘土の調製]ジメチルアニリニウム塩酸塩(Me
2PhNHCl)69gを300mlの水に加え、これ
をヘクトライト(商品名 ラポナイトRD、日本シリカ
工業株式会社より購入)300gが入った水3lに加え
た。この上澄液を除去した後、水、エタノール(商品名
エキネンF−3、日本化成品株式会社製)で洗浄し
た。その後減圧乾燥し、変性粘土を得た。
【0043】[触媒の調製]100mlのガラス製容器
に、上記で合成した変性粘土2g、トルエン16ml、
ヘキサン25mlを加え、その後トリイソブチルアルミ
ニウム8mmol、ジフェニルメチレン(シクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド
80μmolのヘキサン溶液38mlを加え、18時間
撹拌した。
【0044】[重合]2lのステンレス製オートクレー
ブを窒素置換した後、ヘキサン1.1lを加え、次に、
上記で合成した触媒のスラリー4ml(触媒100mg
に相当する)、トリイソブチルアルミニウム2mmol
を加えた。これに、エチレンに対するモル比で4%のブ
テンと同じく720ppmに相当する水素を含むエチレ
ン/1−ブテン/水素混合ガスを、その分圧が6kgf
/cm2を保つように導入し、80℃で90分重合し
た。未反応のエチレンガスを除去することにより重合を
停止させ、69gの粒子状のポリマーを得た。得られた
ポリマーのMI(荷重2.16kg)は3.0g/10
分、HLMI(荷重21.6kg)は181g/10
分、HLMIとMIの比であるN値(HLMI/MI)
は60であった。また、重量平均分子量(Mw)は7.
9×104、重量平均分子量と数平均分子量の比(Mw
/Mn)は4.6であった。さらに、融点(Tm)は1
24.9℃、密度は0.936g/cm3であった。
【0045】実施例2 [触媒の調製]ジフェニルメチレン(シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライドの代
わりにジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)
(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウム
ジクロライドを用いた以外は実施例1と同様に触媒を調
製した。
【0046】[重合][触媒の調製]で調製した触媒ス
ラリー2ml(触媒50mgに相当する)を用い、導入
するエチレン/1−ブテン/水素混合ガスの1−ブテン
濃度をエチレンに対するモル比で8%、水素濃度を同じ
く1100ppmにした以外、実施例1と同様に重合し
た。この結果、78gの粒子状のポリマーを得た。得ら
れたポリマーのMIは0.15g/10分、HLMIは
11.7g/10分、N値は78であった。また、重量
平均分子量(Mw)は16×104、重量平均分子量と
数平均分子量の比(Mw/Mn)は5.3であった。さ
らに、融点(Tm)は123.1℃、密度は0.926
g/cm3であった。
【0047】実施例3 [触媒の調製]ジフェニルメチレン(シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライドの代
わりにジフェニルメチレン(3−メチルシクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライドを
用いた以外は実施例1と同様に触媒を調製した。
【0048】[重合][触媒の調製]で調製した触媒ス
ラリー4ml(触媒100mgに相当する)を用い、導
入するエチレン/1−ブテン/水素混合ガスの水素濃度
をエチレンに対するモル比で560ppmにした以外、
実施例1と同様に重合した。この結果、72gの粒子状
のポリマーを得た。得られたポリマーのMIは0.58
g/10分、HLMIは53g/10分、N値は92で
あった。また、重量平均分子量(Mw)は9.7×10
4、重量平均分子量と数平均分子量の比(Mw/Mn)
は5.0であった。さらに、融点(Tm)は124.0
℃、密度は0.932g/cm3であった。
【0049】比較例1 [触媒の調製]ジフェニルメチレン(シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライドの代
わりにビス(インデニル)ジルコニウムジクロライドを
用いた以外は実施例1と同様に触媒を調製した。
【0050】[重合][触媒の調製]で調製した触媒ス
ラリー1ml(触媒25mgに相当する)を用い、導入
するエチレン/1−ブテン/(水素)混合ガスの1−ブ
テン濃度をエチレンに対するモル比で12%、水素濃度
は同じく0とした以外、実施例1と同様に重合した。こ
の結果、32gの粒子状のポリマーを得た。得られたポ
リマーのMIは1.16g/10分、HLMIは24.
4g/10分、N値は21であった。このポリマーの重
量平均分子量(Mw)は9.1×104、重量平均分子
量と数平均分子量の比(Mw/Mn)は2.0であっ
た。また、融点(Tm)は123.1℃、密度は0.9
30g/cm3であった。
【0051】比較例2 [触媒の調製]攪拌装置を備えた1.6lのオートクレ
ーブに、n−ブタノール 70g(0.94モル)を入
れ、これにヨウ素0.55g、金属マグネシウム粉末1
1g(0.45モル)およびチタンテトラブトキシド6
1g(0.18モル)を加え、さらにヘキサン450m
lを加えた後80℃まで昇温し、発生する水素ガスを除
去しながら窒素シール下で1時間攪拌した。引き続き1
20℃まで昇温し、1時間反応を行い、Mg−Ti溶液
を得た。
【0052】内容積500mlのフラスコに、Mg−T
i溶液のMg換算0.048モルを加え、45℃に昇温
してジエチルアルミニウムクロライド(0.048モ
ル)のヘキサン溶液を1時間かけて加えた。すぺてを加
えた後、60℃で1時間攪拌した。次に、メチルヒドロ
ポリシロキサン(25℃における粘度約30センチスト
ークス)2.8ml(ケイ素0.12グラム原子)を加
え、環流下に1時間反応させた。45℃に冷却後、イソ
ブチルアルミニウムジクロライドの50%ヘキサン溶液
54mlを2時間かけて加えた。すべてを加えた後、7
0℃で1時間攪拌を行った。生成物にヘキサンを加え、
傾斜法で15回洗浄を行った。かくして、へキサンに懸
濁した固体触媒成分のスラリー(触媒成分9.5gを含
む)を得た。その一部を採取し、上澄液を除去して窒素
雰囲気下で乾燥し、元素分析したところ、Tiは9.0
重量%であった。
【0053】[重合]2lのステンレス製オートクレー
ブを窒素置換した後、ヘキサン1.1lを加え、次に、
上記で合成した触媒のスラリー3.6ml(触媒10m
gに相当する)、トリイソブチルアルミニウム1.5m
molを加えた。これに1−ブテン100mlを加え、
続いて、水素、エチレンを全圧が11kgf/cm2
なるように導入した(オートクレーブのガス相の水素濃
度は40vol%となった)。その後、エチレンガスを
全圧が11kgf/cm2に保たれるように導入し、8
0℃で90分重合した。エタノールを投入して重合を停
止させた後、未反応のエチレンを除去し、197gの粒
子が凝集した状態のポリマーを得た。得られたポリマー
のMIは3.1g/10分、HLMI(荷重21.6k
g)は101g/10分、HLMIとMIの比であるN
値(HLMI/MI)は33であった。重量平均分子量
(Mw)は9.1×104、重量平均分子量と数平均分
子量の比(Mw/Mn)は4.5であった。また、融点
(Tm)は127.2℃、密度は0.930g/cm3
であった。
【0054】これら実施例、比較例におけるエチレン系
共重合体の密度(ρ)に対する融点(Tm)のプロット
をFig.1に示す。
【0055】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のエチレン
系共重合体は、広い分子量分布と狭い組成分布を有して
いる。このため、製造時においては、低分子量で高短鎖
分岐含有成分の抽出が少なく、また、高ESCR、高衝
撃強度の重合体が得られる。これらの特徴を有する本発
明のエチレン系共重合体は、大型容器、パイプ等に好適
に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例、比較例におけるエチレン系共重合体の
密度(ρ)に対する融点(Tm)をプロットしたもので
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J028 AA01A AB01A AC01A AC09A AC10A AC27A AC28A BA00B BA01A BB00B BB01A BC15A BC24A BC27A CA30A CB62A CB64A EA01 EB02 EB04 EB05 EB09 EB10 EB13 EB17 EB21 EC01 EC02 GA01 GA06 GA08 GA19 4J100 AA02P AA03Q AA04Q AA16Q AA17Q AB02Q AR03Q AS02Q AS11Q CA04 DA04 DA13 DA14 DA24 FA10 JA58 JA67

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)重量平均分子量と数平均分子量の比
    (Mw/Mn)が4.5以上、(B)密度(ρ)が0.
    94g/cm3以下、(C)示差走査熱量分析(DS
    C)の吸熱曲線(昇温速度10℃/分)により得られる
    融点(Tm(℃))が単一であり、(D)該融点と密度
    (ρ(g/cm3))の関係が一般式(1) Tm < 176ρ − 38 (1) を満たすことを特徴とするエチレン系共重合体。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009518506A (ja) * 2005-12-07 2009-05-07 ユニベーション・テクノロジーズ・エルエルシー 高密度ポリエチレン
JP2014019806A (ja) * 2012-07-19 2014-02-03 Tosoh Corp ポリエチレン樹脂組成物

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JP2009518506A (ja) * 2005-12-07 2009-05-07 ユニベーション・テクノロジーズ・エルエルシー 高密度ポリエチレン
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