JP2001089653A - 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリカーボネート樹脂が本来有する透明性や
耐候剤を添加した時の耐候性を保ちつつ、成形耐熱性、
耐湿熱疲労性、接着性に優れた溶融重合法の芳香族ポリ
カーボネート樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）蛍光スペクトルを測定したとき
（励起波長３２０ｎｍ）、基準物質に対する４６５ｎｍ
における相対蛍光強度が４×１０^-3以下および粘度平均
分子量が１０，０００〜５０，０００であり、且つ二価
フェノールと炭酸エステルとから溶融重合して得られた
芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部と、（Ｂ）特
定の化学構造を有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収
剤０．０１〜１．５重量部からなる芳香族ポリカーボネ
ート樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリカーボネート
樹脂が本来有する透明性や耐候剤を添加した時の耐候性
を保ちつつ、成形耐熱性、耐湿熱疲労性、接着性に優れ
た溶融重合法の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物に関
する。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネート樹脂は透明性、耐熱
性、耐湿熱性、加工性及び機械的強度等に優れているが
故に電気部品、建材部品、自動車部品等に広く利用され
ている。

【０００３】このような芳香族ポリカーボネート樹脂の
製造方法としては、ビスフェノールＡなどの二価フェノ
ールにホスゲンを直接反応させる方法（界面重合法）、
あるいはビスフェノールなどの二価フェノールとジフェ
ニルカーボネートなどのジアリルカーボネートとを溶融
状態でエステル交換反応させ重合する方法（以下、溶融
法と称することがある。）などが知られている。このよ
うな製造方法のなかで、二価フェノールとジアリルカー
ボネートとのエステル交換反応させる方法は、界面重合
法による製造に比べて、ホスゲンやメチレンクロライド
等のハロゲン化合物を使用する問題がなく、環境に対す
る負荷が少なく且つ安価に製造できる利点があり、有望
な技術である。

【０００４】溶融重合したポリカーボネート樹脂に添加
剤を添加する方法として、特開平５−２３９３３１号公
報にポリカーボネート樹脂が溶融状態にある間に添加剤
を加える特殊な方法が開示されている。しかし、対象と
なる添加剤は主に熱安定剤であり、その効果も当然予想
される熱安定性、色相安定性、滞留安定性について述べ
ているだけである。また、特開平９−２６３６９４に
は、特定の波長に吸収を有するベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤を用いたポリカーボネート樹脂組成物からの
眼鏡レンズが開示されている。

【０００５】しかしながら、かかる公報には本発明の溶
融重合法の芳香族ポリカーボネート樹脂を特定の蛍光強
度範囲にすることが考慮されておらず、近年要求される
様になった耐候性、成形耐熱性、耐湿熱疲労性、接着性
等の向上が切望されていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリ
カーボネート樹脂が本来有する透明性や耐候剤を添加し
た時の耐候性を保ちつつ、成形耐熱性、耐湿熱疲労性、
接着性に優れた溶融重合法の芳香族ポリカーボネート樹
脂組成物を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）蛍光ス
ペクトルを測定したとき（励起波長３２０ｎｍ）、基準
物質に対する４６５ｎｍにおける相対蛍光強度が４×１
０^-3以下および粘度平均分子量が１０，０００〜５０，
０００であり、且つ二価フェノールと炭酸エステルとか
ら溶融重合して得られた芳香族ポリカーボネート樹脂１
００重量部と、（Ｂ）下記一般式（１）で表されるベン
ゾトリアゾール系紫外線吸収剤０．０１〜１．５重量部
からなる芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、

【０００８】

【化２】

【０００９】［式中、Ｘはハロゲン原子であり、ｋは０
〜３である。また、Ｒ₁は炭素数１〜１２の直鎖あるい
は分岐のアルキル基またはフェニルアルキル基であり、
ｌは０〜２である。更に、Ｒ₂はアルキレン基であり、
ｍ、ｎは、ｎ＝０の時ｍ＝１、ｎ＝１の時ｍ＝２であ
る。］によって達成される。

【００１０】以下、本発明についてさらに詳細に説明す
る。本発明で使用される芳香族ポリカーボネート樹脂
は、通常二価フェノールと炭酸エステルとを溶融法で反
応させて得られるものである。ここで使用される二価フ
ェノールの代表的な例としては、ハイドロキノン、レゾ
ルシノール、１，６−ジヒドロキシナフタリン、２，６
−ジヒドロキシナフタリン、４，４’−ジヒドロキシジ
フェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニ
ルメタン、ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチ
ル）フェニル｝メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−ナフチルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）、２
−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（３−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ
−３−メチル）フェニル｝プロパン、２，２−ビス
｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル）フェニル｝プ
ロパン、２，２−ビス｛（３，５−ジブロモ−４−ヒド
ロキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（３，５
−ジクロロ−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、
２，２−ビス｛（３−ブロモ−４−ヒドロキシ）フェニ
ル｝プロパン、２，２−ビス｛（３−クロロ−４−ヒド
ロキシ）フェニル｝プロパン、４−ブロモレゾルシノー
ル、２，２−ビス｛（３−イソプロピル−４−ヒドロキ
シ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（３−フェニ
ル−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビ
ス｛（３−エチル−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパ
ン、２，２−ビス｛（３−ｎ−プロピル−４−ヒドロキ
シ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（３−ｓｅｃ
−ブチル−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２，
２−ビス｛（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ）
フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（３−シクロヘキ
シル−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２，２−
ビス｛（３−メトキシ−４−ヒドロキシ）フェニル｝プ
ロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン、１，１−ジブロモ−２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）エチレン、１，１−ジクロ
ロ−２，２−ビス｛（３−フェノキシ−４−ヒドロキ
シ）フェニル｝エチレン、エチレングリコールビス（４
−ヒドロキシフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−３−メチルブタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチルブタ
ン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メ
チルブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
イソブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
４−メチルペンタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）ペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）シクロドデカン、９，９−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）フルオレン、９，９−ビス｛（４−ヒド
ロキシ−３−メチル）フェニル｝フルオレン、α，α’
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｏ−ジイソプロピ
ルベンゼン、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、α，α’−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベン
ゼン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，
７−ジメチルアダマンタン、４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン、ビス｛（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシ）フェニル｝スルホン、４，４’−ジヒドロキ
シジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルケトン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル
および４，４’−ジヒドロキシジフェニルエステルなど
があげられ、これらは単独または２種以上を混合して使
用できる。

【００１１】なかでもビスフェノールＡ、２，２−ビス
｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパ
ン、２，２−ビス｛（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキ
シ）フェニル｝プロパン、エチレングリコールビス（４
−ヒドロキシフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン、ビス｛（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシ）フェニル｝スルホン、４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルフィド、および４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルケトンからなる群より選ばれた少なくとも１種のビ
スフェノールより得られる単独重合体または共重合体が
好ましく、特に、ビスフェノールＡの単独重合体が好ま
しく使用される。

【００１２】炭酸エステルとしては、具体的には、ジフ
ェニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ビス（ク
ロロフェニル）カーボネート、ｍ―クレジルカーボネー
ト、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カー
ボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネー
ト、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネ
ートなどが挙げられるが、これらに限定されない。好ま
しくは、ジフェニルカーボネートを使用する。これら炭
酸エステルもまた、単独で用いても良く、また二種以上
を組み合わせて用いても良い。

【００１３】上記二価フェノールと炭酸エステルを溶融
法によって反応させて芳香族ポリカーボネート樹脂を製
造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、二
価フェノールの酸化防止剤等を使用してもよい。また芳
香族ポリカーボネート樹脂は三官能以上の多官能性芳香
族化合物を共重合した分岐芳香族ポリカーボネート樹脂
であっても、芳香族または脂肪族の二官能性カルボン酸
を共重合したポリエステルカーボネート樹脂であっても
よく、また、得られた芳香族ポリカーボネート樹脂の２
種以上を混合した混合物であってもよい。

【００１４】三官能以上の多官能性芳香族化合物として
は、フロログルシン、フロログルシド、または４，６−
ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキジフェニ
ル）ヘプテン−２，２，４，６−トリメチル−２，４，
６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，
３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、
１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、２，６−ビス（２−ヒドロキ
シ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、４
−｛４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エ
チル］ベンゼン｝−α，α−ジメチルベンジルフェノー
ル等のトリスフェノール、テトラ（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）
ケトン、１，４−ビス（４，４−ジヒドロキシトリフェ
ニルメチル）ベンゼン、又はトリメリット酸、ピロメリ
ット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸及びこれらの
酸クロライド、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−
（３’−フェノキシカルボニル−４’−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２
−（３’−カルボキシ−４’−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン等が挙げられ、中でも１，１，１−トリス（４−
ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン
が好ましく、特に１，１，１−トリス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタンが好ましい。

【００１５】溶融法による反応は、通常二価フェノール
と炭酸エステルとのエステル交換反応であり、不活性ガ
スの存在下に二価フェノールと炭酸エステルとを加熱し
ながら混合して、生成するアルコールまたはフェノール
を留出させる方法により行われる。反応温度は生成する
アルコールまたはフェノールの沸点等により異なるが、
通常１２０〜３５０℃の範囲である。反応後期には系を
１０〜０．１Ｔｏｒｒ程度に減圧して生成するアルコー
ルまたはフェノールの留出を容易にさせる。反応時間は
通常１〜４時間程度である。

【００１６】また、溶融法において重合速度を速めるた
めに重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒とし
ては、例えば（ｉ）アルカリ（土類）金属化合物および
／または（ｉｉ）含窒素塩基性化合物よりなる触媒を用
いて縮合される。

【００１７】触媒として用いられるアルカリ金属化合物
としては、例えばアルカリ金属の水酸化物、炭化水素化
物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜流酸塩、シ
アン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化ホ
ウ素塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェノー
ル、フェノールの塩等が挙げられる。

【００１８】具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウ
ム、硝酸リチウム、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウ
ム、亜硝酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウ
ム、亜硫酸リチウム、シアン酸ナトリウム、シアン酸カ
リウム、シアン酸リチウム、チオシアン酸ナトリウム、
チオシアン酸カリウム、チオシアン酸リチウム、ステア
リン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン
酸リチウム、水酸化ホウ素ナトリウム、水酸化ホウ素リ
チウム、水素化ホウ素カリウム、フェニル化ホウ素ナト
リウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息
香酸リチウム、リン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジ
カリウム、リン酸水素ジリチウム、ビスフェノールＡの
ジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリチウム塩、フェノ
ールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などが挙
げられる。

【００１９】触媒として用いられるアルカリ土類金属化
合物としては、例えばマグネシウム、カルシウム、バリ
ュウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭化水素化
物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜流酸塩、シ
アン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化ホ
ウ素塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェノー
ル、フェノールの塩等が挙げられる。

【００２０】これらアルカリ金属化合物及びアルカリ土
類金属化合物中では、アルカリ金属化合物が溶融重合の
触媒として好適である。

【００２１】触媒としてのアルカリ金属化合物は、二価
フェノール１モルに対し１０^-8〜１０^-5モルの範囲で使
用しうる。上記使用範囲を逸脱すると、得られる芳香族
ポリカーボネートの諸物性に悪影響を及ぼしたり、ま
た、エステル交換反応が充分に進行せず高分子量の芳香
族ポリカーボネート樹脂が得られない等の問題があり好
ましくない。

【００２２】また、触媒としての含窒素塩基性化合物と
しては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド
（Ｍｅ₄ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキ
シド（Ｅｔ₄ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒド
ロキシド（Ｂｕ₄ＮＯＨ）、ベンジルトリメチルアンモ
ニウムヒドロキシド（φ―ＣＨ₂（Ｍｅ）₃ＮＯＨ）、ヘ
キサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシドなどの
アルキル、アリール、アルキルアリール基などを有する
アンモニウムヒドロオキシド類、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ヘキサデシ
ルジメチルアミンなどの３級アミン類、あるいはテトラ
メチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ₄ＮＢ
Ｈ₄）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド
（Ｂｕ₄ＮＢＨ₄）、テトラブチルアンモニウムテトラフ
ェニルボレート（Ｂｕ₄ＮＢＰｈ₄）、テトラメチルアン
モニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ₄ＮＢＰｈ₄）な
どの塩基性塩などを挙げることができる。これらの中
で、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ₄Ｎ
ＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ
₄ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
（Ｂｕ₄ＮＯＨ）が好ましく、特にテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド（Ｍｅ₄ＮＯＨ）が好ましい。

【００２３】上記含窒素塩基性化合物は、含窒素塩基性
化合物中のアンモニウム窒素原子が二価フェノール１モ
ル当り１×１０^-5〜１×１０^-3当量となる割合で用いる
のが好ましい。より好ましい割合は同じ基準に対し２×
１０^-5〜７×１０^-4当量となる割合である。特に好まし
い割合は同じ基準に対し５×１０^-5〜５×１０^-4当量と
なる割合である。

【００２４】本発明においては所望により、アルカリ金
属やアルカリ土類金属のアルコキシド類、アルカリ金属
やアルカリ土類金属の有機酸塩類、亜鉛化合物類、ホウ
素化合物類、アルミニウム化合物類、珪素化合物類、ゲ
ルマニウム化合物類、有機スズ化合物類、鉛化合物類、
オスミウム化合物類、アンチモン化合物類、マンガン化
合物類、チタン化合物類、ジルコニウム化合物類などの
通常エステル化反応、エステル交換反応に使用される触
媒を用いることができる。触媒は単独で使用してもよい
し、２種以上組み合わせ使用してもよい。これらの重合
触媒の使用量は、原料の二価フェノール１モルに対し、
好ましくは１×１０^-9〜１×１０^-5当量、より好ましく
は１×１０^-8〜５×１０^-6当量の範囲で選ばれる。

【００２５】本発明の溶融重合された芳香族ポリカーボ
ネート樹脂では、その相対蛍光強度を４×１０^-3以下に
抑えることが肝要である。この相対蛍光強度が４×１０
^-3を越えると、芳香族ポリカーボネート樹脂の耐湿熱疲
労性の低下等の新たな問題が発生する。この相対蛍光強
度は３×１０^-3以下が好ましく、最も好ましくは２×１
０^-3以下である。

【００２６】このような芳香族ポリカーボネート樹脂の
熱分解、および機械的分解が少ない蛍光強度が特定値以
下の芳香族ポリカーボネートを得るためには、下記のよ
うにエステル交換触媒の量を規定すること、該エステル
交換触媒をスルホン酸系化合物により失活すること、ポ
リカーボネートの分子末端についてヒドロキシ基の全分
子末端にしめる割合を規定すること、および芳香族ポリ
カーボネートの分子末端を封止することが好ましい。

【００２７】また溶融重縮合反応における芳香族ポリカ
ーボネート樹脂温度を常に２５５℃以下に保つことが、
熱分解、および機械的分解が少ない蛍光強度が特定値以
下の芳香族ポリカーボネートを得るために好ましい。

【００２８】また重合槽撹拌翼の撹拌について、下記式
撹拌剪断速度＝撹拌翼の周速／反応釜と撹拌翼の隙間の
長さ［ここで撹拌剪断速度の単位は１／ｓｅｃ、撹拌翼
の周速の単位はｃｍ／ｓｅｃ撹拌翼の隙間の長さの単位
はｃｍである］で表される重合槽撹拌翼の撹拌剪断速度
（単位：１／ｓｅｃ）を撹拌翼半径（単位：ｃｍ）の２
乗で割った数値を０．１〜０．００１（１／ｓｅｃ×ｃ
ｍ²）とすることが、熱分解、および機械的分解が少な
い蛍光強度が特定値以下の芳香族ポリカーボネートを得
るために好ましい。

【００２９】これらの芳香族ポリカーボネートの製造に
おける触媒系については、塩基性窒素化合物と、アルカ
リ金属化合物を併用し、アルカリ金属化合物の使用量を
ビスフェノールＡ１モル当り５．０×１０^-6モル以下に
抑えることによりエステル交換反応も、工業的に有利に
進み、流動性、色調良好なポリカーボネートを得ること
ができる。

【００３０】また、かかる重合反応において、フェノー
ル性の末端基を減少するために、重縮反応の後期あるい
は終了後に、例えばフェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノ
ール、ｐ−ｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、
ｐ−ｔ−ブチルフェニルカーボネート、ｐ−クミルフェ
ノール、ｐ−クミルフェニルフェニルカーボネート、ｐ
−クミルフェニルカーボネート、ビス（クロロフェニ
ル）カーボネート、ビス（ブロモフェニル）カーボネー
ト、ビス（ニトロフェニル）カーボネート、ビス（フェ
ニルフェニル）カーボネート、クロロフェニルフェニル
カーボネート、ブロモフェニルフェニルカーボネート、
ニトロフェニルフェニルカーボネート、ジフェニルカー
ボネート、メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボ
ネート、２，２，４−トリメチル−４−（４−ヒドロキ
シフェニル）クロマン２，４，４−トリメチル−２−
（４−ヒドロキシフェニル）クロマンおよびエトキシカ
ルボニルフェニルフェニルカーボネート等の化合物を加
えることが好ましい。なかでも２−クロロフェニルフェ
ニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニルフ
ェニルカーボネートおよび２−エトキシカルボニルフェ
ニルフェニルカーボネートが好ましく、特に２−メトキ
シカルボニルフェニルフェニルカーボネートが好ましく
使用される。

【００３１】本発明において末端封鎖剤を用いて芳香族
ポリカーボネート樹脂の末端を封鎖することが好まし
い。また、末端封鎖剤を添加する前の芳香族ポリカーボ
ネート樹脂の末端水酸基濃度を全末端に対して２０モル
％以上、好ましくは３０モル％以上、さらに好ましくは
４０モル％以上に制御することが好ましい。かくするこ
とにより、特定の末端基を高い割合で導入でき、芳香族
ポリカーボネート樹脂の改質効果を高めることができ
る。通常は、芳香族ポリカーボネート樹脂の末端水酸基
濃度が、全末端のうち水酸基が３０〜９５モル％の範囲
の芳香族ポリカーボネート樹脂に末端封鎖剤を用いるこ
とが有利である。また、末端封鎖剤を添加する前の芳香
族ポリカーボネート樹脂水酸基の末端割合は、原料であ
る二価フェノールとジフェニルカーボネートの仕込み比
によってコントロールすることができる。ここで芳香族
ポリカーボネート樹脂の一定量における末端水酸基濃度
のモル数は、常法により¹Ｈ―ＮＭＲにより決定でき
る。本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂の末端水酸基
濃度は、全末端に対して５〜７０モル％が好ましく、よ
り好ましくは１０〜６０モル％である。末端水酸基濃度
がかかる範囲にあると、分子量低下、色相等が向上す
る。

【００３２】本発明では、芳香族ポリカーボネート樹脂
中の触媒の活性を中和する失活剤を用いることが好まし
い。この失活剤の具体例としては、例えばベンゼンスル
ホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸
メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン
酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスル
ホン酸フェニル、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−
トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸ブ
チル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエン
スルホン酸フェニルなどのスルホン酸エステル；さら
に、トリフルオロメタンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、スルホン化ポリスチレン、アクリル酸メチル‐ス
ルホン化スチレン共重合体、ドデシルベンゼンスルホン
酸−２−フェニル−２−プロピル、ドデシルベンゼンス
ルホン酸−２−フェニル−２−ブチル、オクチルスルホ
ン酸テトラブチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テ
トラブチルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラ
ブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テ
トラエチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン
酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスル
ホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、デシルア
ンモニウムブチルサルフェート、デシルアンモニウムデ
シルサルフェート、ドデシルアンモニウムメチルサルフ
ェート、ドデシルアンモニウムエチルサルフェート、ド
デシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、ドデシ
ルジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、テ
トラデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、
テトラメチルアンモニウムヘキシルサルフェート、デシ
ルトリメチルアンモニウムヘキサデシルサルフェート、
テトラブチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェー
ト、テトラエチルアンモニウムドデシルベンジルサルフ
ェート、テトラメチルアンモニウムドデシルベンジルサ
ルフェート等の化合物を挙げることができるが、これら
に限定されない。これらの化合物を二種以上併用するこ
ともできる。

【００３３】失活剤の中でホスホニウムもしくはアンモ
ニウム塩型の失活剤はそれ自身２００℃以上でも特に安
定である。そしてその失活剤を芳香族ポリカーボネート
樹脂に添加した場合すみやかに重縮合反応触媒を中和
し、目的とする芳香族ポリカーボネート樹脂を得ること
ができる。即ち、重合封鎖反応後に生成する芳香族ポリ
カーボネートに対し、失活剤を好ましくは０．０１〜５
００ｐｐｍの割合で、より好ましくは０．０１〜３００
ｐｐｍ、特に好ましくは０．０１〜１００ｐｐｍの割合
で使用される。

【００３４】また、かかる失活剤は、重縮合反応触媒に
対する割合では、重縮合反応触媒１モル当り０．５〜５
０モルの割合で用いるのが好ましい。失活剤を末端封鎖
後の芳香族ポリカーボネート樹脂に添加する方法には特
に限定されない。例えば、反応生成物である芳香族ポリ
カーボネート樹脂が溶融状態にある間にこれらを添加し
てもよいし、一旦芳香族ポリカーボネート樹脂をペレタ
イズした後再溶融して添加してもよい。前者において
は、末端封鎖反応が終了して得られる溶融状態にある重
合槽内または押出機内の反応生成物である芳香族ポリカ
ーボネート樹脂が溶融状態にある間に、これらを添加す
る。

【００３５】本発明の溶融重合された芳香族ポリカーボ
ネート樹脂では、その反応を促進するために重合触媒を
用いた場合は、重合反応後にも重合触媒が残存すること
が多い。この残存した触媒を重合反応終了後、そのまま
放置すると重合触媒の触媒活性により芳香族ポリカーボ
ネート樹脂の分解や再反応が起こる弊害があるので、か
かる残存触媒活性を抑制することが好ましい。

【００３６】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂の分
子量は、粘度平均分子量（Ｍ）で１０，０００〜５０，
０００であり、１０，０００〜４５，０００が好まし
く、１２，０００〜３０，０００がより好ましい。かか
る粘度平均分子量を有する芳香族ポリカーボネート樹脂
は、押し出し加工時の良好な流動性を保ちながら、同時
に、得られた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物に関し
ても一定の機械的強度を有するので好ましい。

【００３７】本発明でいう粘度平均分子量は、塩化メチ
レン１００ｍｌに芳香族ポリカーボネート樹脂０．７ｇ
を２０℃で溶解した溶液を用いて測定された比粘度（η
sp）から求める。

【００３８】本発明における紫外線吸収剤は、（Ｂ）下
記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール系紫外線
吸収剤である。

【化３】

【００３９】［式中、Ｘはハロゲン原子であり、ｋは０
〜３である。また、Ｒ₁は炭素数１〜１２の直鎖あるい
は分岐のアルキル基またはフェニルアルキル基であり、
ｌは０〜２である。更に、Ｒ₂はアルキレン基であり、
ｍ、ｎは、ｎ＝０の時ｍ＝１、ｎ＝１の時ｍ＝２であ
る。］

【００４０】該紫外線吸収剤化合物は、具体的に、２−
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリア
ゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキ
シ−３，５−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリア
ゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）−６−（２Ｎ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）フェノール］、２−（２−ヒドロキシ−
３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリア
ゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミル
フェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ
−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−
ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス
（４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル）があ
げられ、これらを単独あるいは２種以上の混合物で用い
ることができる。

【００４１】好ましくは、２−（２−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒド
ロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリ
アゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフ
ェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２−ヒド
ロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノー
ル］であり、さらにより好ましくは、２−（２−ヒドロ
キシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリア
ゾ−ル、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール］が選択される。最も好
ましくは、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オク
チルフェニル）ベンゾトリアゾ−ルがあげられる。

【００４２】かかるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
は、１０５℃、２時間乾燥した時の乾燥減量が０．５重
量％以下が好ましく、より好ましくは０．１重量％以
下、最も好ましくは０．０３重量％以下である。また、
５００ｎｍの溶解色（トルエン１００ｍｌに紫外線吸収
剤５ｇを溶解し、１ｃｍのセルで測定した光線透過率）
が９５％以上が好ましく、より好ましくは９８．０％以
上、最も好ましくは９９．０％以上である。

【００４３】本発明におけるベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤の添加量は、ポリカーボネート樹脂１００重量
部に対して０．０１〜１．５重量部であり、好ましくは
０．０５〜０．７重量部であり、さらに好ましくは、
０．１〜０．５重量部である。添加量が多すぎると、本
発明における各安定剤の効果が十分に発現しなくなり、
発明の目的を達成することができなくなる。添加量が少
なすぎると樹脂組成物に十分な耐候性が付与されない。

【００４４】紫外線吸収剤としてはベンゾトリアゾール
系紫外線吸収剤以外に、本発明の目的を損なわない量の
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤を用いることができる。
ベンゾフェノン系の紫外線吸収剤としていは、具体的
に、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
ベンジロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレ
イトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−
４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒ
ドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホ
キシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒド
ロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキ
シ−４−ｎ−ドデシルオキシベンソフェノン、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノ
ン等があげられる。

【００４５】さらに本発明の目的を損なわない量のトリ
アジン系紫外線吸収剤を用いることができる。具体的
に、２−（４，６−ジフェニル-1，3，5−トリアジン−
２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］-フェノー
ル、２−（４，６−ビス（２．４-ジメチルフェニル）-
1，3，5−トリアジン−２−イル）−５−［（オクチ
ル）オキシ］-フェノール等が挙げられる。

【００４６】また、芳香族ポリカーボネート樹脂には必
要に応じて例えば、熱安定剤、酸化防止剤、ブルーイン
グ剤、テトラブロモビスフェノールＡ、テトラブロモビ
スフェノールＡの低分子量ポリカーボネート、デカブロ
モフェニルエーテル等の難燃剤（３〜１５重量％）、染
料、カーボンブラック、酸化チタン等の着色剤（０．０
０１〜１０重量％）、光拡散剤、滑剤、クマリン、ナフ
タルイミド、オキサゾール化合物等の蛍光増白剤（０．
０１〜０．１重量％）、帯電防止剤等を配合してもよ
い。

【００４７】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、成形時における分子量の低下や色相の悪化を防
止するために熱安定剤を配合することが好ましい。かか
る熱安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン
酸、ホスホン酸およびこれらのエステル等が挙げられ、
具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニ
ルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホス
ファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシ
ルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、
ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピル
モノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホス
ファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオ
クチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイ
ト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステア
リルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチル
ホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホ
スフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモ
ノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェー
ト、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェ
ート、４，４’−ビフェニレンジホスホスフィン酸テト
ラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、ベ
ンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチ
ル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル等が挙げられる。こ
れらの熱安定剤は、単独でもしくは２種以上混合して用
いてもよい。かかる熱安定剤の配合量は、芳香族ポリカ
ーボネート樹脂１００重量部に対して０．０００１〜１
重量部が好ましく、０．０００５〜０．５重量部がより
好ましく、０．０００１〜０．１５が更に好ましく、
０．０２〜０．１重量部が最も好ましい。

【００４８】本発明の好ましい熱安定剤としては亜燐
酸、塩素原子および塩素イオン濃度が１〜１１０００ｐ
ｐｍであり、且つ上記一般式（２）で表される化合物
（Ｃ−１成分）、上記一般式（３）で表される化合物
（Ｃ−２成分）、上記一般式（４）で表される化合物
（Ｃ−３成分）、上記一般式（５）で表される化合物
（Ｃ−４成分）、上記一般式（６）で表される化合物
（Ｃ−５成分）および上記一般式（７）で表される化合
物（Ｃ−６成分）から選ばれた少なくとも１種のリン系
安定剤があげられる。

【化４】

【００４９】

【化５】

【００５０】

【化６】

【００５１】

【化７】

【００５２】

【化８】

【００５３】

【化９】

【００５４】［式中、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₄はアルキル
置換基があってもよい芳香族基であって、同一でも異な
っていてもよい。またＡｒ₃はジアルキル置換芳香族基
であって、同一でも異なっていてもよい。さらにＲ₃、
Ｒ₄、Ｒ₅はアルキル基またはアルキル置換基があっても
よい芳香族基であって、同一でも異なっていてもよ
い。］

【００５５】本発明のＣ−１成分の具体的例としては、
テトラキス（２，４−ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）
−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス
（２，４−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジ
ホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイ
ト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラ
キス（２，６−ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）−４，
４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，
６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレ
ンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホ
ナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テ
トラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−
３，３’−ビフェニレンジホスホナイト等があげられ、
テトラキス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェ
ニレンジホスホナイトが好ましく、テトラキス（２，４
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホ
スホナイトがより好ましい。このテトラキス（２，４−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホス
ホナイトは、２種以上の混合物が好ましく、具体的には
テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）
−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（Ｃ−１−１
成分）、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト（Ｃ
−１−２成分）および、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホ
スホナイト（Ｃ−１−３成分）の３種の混合物がより好
ましい。また、この混合物の混合比は、Ｃ−１−１成
分、Ｃ−１−２成分およびＣ−１−３成分を重量比で１
００：３７〜６４：４〜１４の範囲が好ましく、１０
０：４０〜６０：５〜１１の範囲がより好ましい。

【００５６】本発明のＣ−２成分の具体的例としては、
ビス（２，４−ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）−４−
フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−
ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホ
ナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス
（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェ
ニル−フェニルホスホナイトビス（２，６−ジ−ｉｓｏ
−プロピルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホ
ナイト、ビス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３
−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニ
ルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等が
あげられ、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フ
ェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、ビス（２，
４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェ
ニルホスホナイトがより好ましい。このビス（２，４−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニル
ホスホナイトは、２種以上の混合物が好ましく、具体的
にはビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−
４−フェニル−フェニルホスホナイト（Ｃ−２−１成
分）および、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト（Ｃ−２
−２成分）の混合物がより好ましい。また、この混合物
の混合比は、Ｃ−２−１成分および、Ｃ−２−２成分を
重量比で５：１〜４の範囲が好ましく、５：２〜３の範
囲がより好ましい。

【００５７】本発明のＣ−３成分の具体的例としては、
トリス（ジメチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ
エチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｉｓｏ−
プロピルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｎ−ブ
チルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，
６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等が
あげられ、トリス（ジアルキル置換フェニル）ホスファ
イトが好ましく、トリス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）ホスファイトがより好ましく、トリス（２，４−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが特に好ま
しい。かかるＣ−３成分の化合物は１種または２種以上
の混合物であってもよい。

【００５８】本発明のＣ−４成分の具体的例としては、
トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、ト
リブチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ト
リクレジルホスフェート、クレジル・ジフェニルホスフ
ェート等があげられ、トリメチルホスフェート、トリフ
ェニルホスフェートが好ましく、トリメチルホスフェー
トが最も好ましい。

【００５９】本発明のＣ−５成分は下記一般式（６）で
表される化合物であり、

【化１０】

【００６０】［式中、Ｒ₄はアルキル基またはアルキル
置換基があってもよい芳香族基であって、同一でも異な
っていてもよい。］ その具体的例としては、Ｒ₄がフェニル基、２，４−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メチル−２，６−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、オクタデシル基、ノ
ニルフェニル基のリン系安定剤があげられ、２，４−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、オクタデシル基が好ま
しく、ジオクタデシルペンタエリスリトールジホスファ
イトが最も好ましい。

【００６１】本発明のＣ−６成分は下記一般式（７）で
表される化合物であり、

【化１１】

【００６２】［式中、Ａｒ₄はアルキル置換基があって
もよい芳香族基であって、同一でも異なっていてもよ
い。Ｒ₅はアルキル基またはアルキル置換基があっても
よい芳香族基であって、同一でも異なっていてもよ
い。］ その具体的例としては、Ａｒ₄がフェニル基、トルイル
基、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基等であ
り、また、Ｒ₅はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基等で
ある。最も好ましい例としては、ジメチルフェニルホス
ホネートがあげられる。

【００６３】本発明のリン系安定剤は、Ｃ−１成分、Ｃ
−２成分およびＣ−３成分からなるリン系安定剤組成
物、または亜燐酸およびＣ−３成分からなるリン系安定
剤組成物、またはＣ−３成分、またはＣ−５成分、また
はＣ−６成分が好ましい。

【００６４】本発明のＣ−１成分、Ｃ−２成分およびＣ
−３成分からなるリン系安定剤組成物は、その合計を１
００重量％とした時、Ｃ−１成分が４０〜８０重量％、
Ｃ−２成分が０〜２５重量％およびＣ−３成分が５〜５
０重量％であるリン系安定剤組成物が好ましい。より好
ましくは、Ｃ−１成分が４０〜８０重量％、Ｃ−２成分
が５〜２５重量％およびＣ−３成分が５〜５０重量％で
あり、最も好ましくは、Ｃ−１成分が５５〜８０重量
％、Ｃ−２成分が５〜２５重量％およびＣ−３成分が５
〜４５重量％である。

【００６５】亜燐酸およびＣ−３成分からなるリン系安
定剤組成物は、その合計を１００重量％とした時、亜燐
酸が１〜８０重量％およびＣ−３成分が２０〜９９重量
％であるリン系安定剤組成物が好ましい。より好ましく
は、亜燐酸が１０〜６０重量％およびＣ−３成分が４０
〜９０重量％であり、最も好ましくは、亜燐酸が２０〜
４５重量％およびＣ−３成分が５５〜８０重量％であ
る。

【００６６】本発明のリン系安定剤またはその組成物の
量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対し
て、０．０００１〜０．１５重量部の範囲であり、０．
００２〜０．１５重量部の範囲がより好ましく、０．０
２〜０．１重量部の範囲が最も好ましい。

【００６７】亜燐酸およびＣ−３成分からなるリン系安
定剤組成物の含有量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１
００重量部に対して、亜燐酸が０．０００１〜０．００
２０（好ましくは、０．０００１〜０．００１５、より
好ましくは、０．０００１〜０．００１０）重量部およ
びＣ−３成分が０．０００５〜０．０３００（好ましく
は、０．０００５〜０．０３００、より好ましくは、
０．００１０〜０．０２００）重量部の範囲が好まし
い。

【００６８】本発明でいう「Ｃ−１成分〜Ｃ−６成分の
リン系安定剤または、その組成物（以下、リン系安定剤
組成物と総称する）中に含まれる塩素原子および塩素イ
オン」とは、本発明のリン系安定剤または、その組成物
に含有した塩素化合物に由来するものである。その塩素
化合物は、例えば、製造過程において該安定剤中に生じ
たり、原料の段階から存在していたものであって、か
つ、精製時に除去しきれないものである。これらの塩素
化合物は、具体的に、製造（反応、精製など）時に使用
した塩素系溶媒、塩素系触媒、未反応塩素、副生したハ
ロゲン化水素、副生したハロゲン化水素のアンモニウム
やアミン塩などを挙げることができる。

【００６９】該リン系安定剤組成物に含有する塩素化合
物を低減する方法には、安定剤の製造において、精製を
強化する方法がある。例えば、溶媒を使用した洗浄によ
る精製の場合、洗浄用溶媒を増やしたり、洗浄回数を多
くしたり、塩素化合物を選択的に溶解しやすい溶媒を用
いること等を挙げることができる。蒸留、あるいは、昇
華による精製の場合は、精留塔部を長くして蒸留段数を
増やして、分離能を上げる方法等がある。

【００７０】また、該リン系安定剤組成物に含有する塩
素化合物を低減するために、製造における合成反応終了
直後でかつ精製前の時点において、塩素化合物を少なく
しておくことも有効である。例えば、使用する塩素系触
媒の量を減らすこと、塩素を含まない触媒を用いるこ
と、反応溶媒として使用する塩素系溶媒の量を減らすこ
と、塩素系溶媒を使用しないこと、反応をより完全に完
結させること等をあげることができる。反応をより完全
に終結させるためには、反応時間を長くしたり、反応温
度を上げたり、より活性な触媒を使用したり、原料の仕
込みにおいて「塩素化合物に対するフェノール化合物の
モル比」を大きくしたり、製造工程に脱塩化水素反応が
ある場合は、塩化水素の補足効率をあげる方法等を挙げ
ることができる。

【００７１】また、該リン系安定剤組成物に「塩化水素
と塩化水素補足剤との反応生成物」を含有する場合、こ
れを低減するために、これまで述べた方法以外に、精製
段階で除去しやすい「塩化水素と塩化水素補足剤との反
応生成物」となるような塩化水素補足剤を使用すること
等が挙げられる。

【００７２】該リン系安定剤の製造において、触媒とし
て塩素系触媒を使用し、該安定剤中にこの塩素系触媒や
それに由来する塩素系化合物が残存する場合、それらを
低減する方法として、これまで述べた方法以外に、精製
段階で除去しやすいものを塩素系触媒として選択する方
法を挙げることができる。

【００７３】該リン系安定剤の製造において、溶媒とし
て塩素系溶媒を使用する場合、該安定剤中の塩素系溶媒
を低減するには、これまで述べた方法以外に、精製段階
で非塩素系の溶媒で洗浄したり、乾燥時間を延長する方
法等があげられる。

【００７４】該リン系安定剤に含有する塩素化合物を低
減する方法として、これまで述べた方法を安定剤の生産
効率や収率を犠牲にすることなく実施するのが好まし
い。しかしながら、本発明の目的を達成するためには、
安定剤の生産効率や収率を低下させても、これまで述べ
た方法を実施してもよい。

【００７５】本発明における「塩素原子および塩素イオ
ン濃度」は、任意の方法で測定することができる。例え
ば、化学分析法、蛍光Ｘ線法、燃焼クロル法、ヘッドス
ペースガスクロマトグラフィー法、パージアンドトラッ
プガスクロマトグラフィー法をあげることができる。そ
の中でも、特に好ましいのは、蛍光Ｘ線法であり、塩素
原子と塩素イオンを同時に測定できる。

【００７６】かかる塩素原子および塩素イオン濃度は１
〜１１０００ｐｐｍであり、好ましくは１〜８０００ｐ
ｐｍであり、より好ましくは１〜３０００ｐｐｍであ
る。

【００７７】Ｃ−１成分に含有する塩素原子および塩素
イオンを完全に取除くことは工業的に困難な面があり、
経済的な観点からその濃度は１〜２００００ｐｐｍであ
り、好ましくは１〜１４５００ｐｐｍであり、より好ま
しくは１〜５５００ｐｐｍである。

【００７８】Ｃ−２成分に含有する塩素原子および塩素
イオンを完全に取除くことは工業的に困難な面があり、
経済的な観点からその濃度は１〜２００００ｐｐｍであ
り、好ましくは１〜１４５００ｐｐｍであり、より好ま
しくは１〜５５００ｐｐｍである。

【００７９】Ｃ−３成分に含有する塩素原子および塩素
イオンを完全に取除くことは工業的に困難な面があり、
経済的な観点からその濃度は０．１〜５０ｐｐｍであ
り、好ましくは０．１〜４０ｐｐｍであり、より好まし
くは１０〜４０ｐｐｍである。

【００８０】本発明では芳香族ポリカーボネート樹脂組
成物に内部離型剤を加えることが好ましい。その内部離
型剤の量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部
に対して０．００１〜１．０重量部の範囲が好ましく、
０．０１〜０．６の範囲がより好ましく、０．１〜０．
５重量部の範囲が最も好ましい。

【００８１】本発明における内部離型剤とは、溶融成形
時において樹脂成形品の金型からの離型性を向上させる
ために、樹脂組成物中に配合されるものである。かかる
内部離型剤としては、９０重量％以上が一価アルコール
と脂肪酸のエステルおよび／または多価アルコールと脂
肪酸との部分エステルあるいは全エステルである内部離
型剤が挙げられる。かかる一価アルコールと脂肪酸のエ
ステルとは、炭素原子数１〜２０の一価アルコールと炭
素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸とのエステルである。
また多価アルコールと脂肪酸との部分エステルまたは全
エステルとは、炭素原子数１〜２５の多価アルコールと
炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステルま
たは全エステルである。

【００８２】具体的に一価アルコールと飽和脂肪酸とエ
ステルとしては、ステアリルステアレート、パルミチル
パルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレー
ト、イソプロピルパルミテート等があげられ、ステアリ
ルステアレートが好ましい。

【００８３】また具体的に多価アルコールと飽和脂肪酸
との部分エステルまたは全エステルとしては、ステアリ
ン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステ
アリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテー
ト、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトール
モノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステア
レート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、
プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビ
フェネ−ト、ソルビタンモノステアレート、２−エチル
ヘキシルステアレート、ジペンタエリスルトールヘキサ
ステアレート等のジペンタエリスルトール全エステルま
たは部分エステル等が挙げらる。

【００８４】これらのエステルのなかでも、ステアリン
酸モノグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ペン
タエリスリトールテトラステアレート、ステアリン酸ト
リグリセリドとステアリルステアレートの混合物が好ま
しく用いられる。特に、ステアリン酸モノグリセリド、
ペンタエリスリトールテトラステアレート、ステアリン
酸トリグリセリドとステアリルステアレートの混合物が
好ましく用いられる。このステアリン酸トリグリセリド
とステアリルステアレートの混合物は、重量比で前者が
６０〜８０に対して後者が２０〜４０の範囲が好まし
い。

【００８５】内部離型剤中の脂肪酸のエステルの量は、
内部離型剤１００重量％部とした時、９０重量％以上、
好ましくは９５重量％以上、実質的に脂肪酸のエステル
のみからなるものがより好ましい。

【００８６】上記脂肪酸エステルの酸価は、３以下が好
ましく、２以下がより好ましい。ステアリン酸モノグリ
セリドの場合は、酸価１．５以下、純度９５重量％以上
が更に好ましく、酸価が１．２以下、純度が９８重量％
以上が最も好ましい。脂肪酸エステルの酸価の測定は、
公知の方法を用いることができる。

【００８７】上記エステル以外の内部離型剤としては、
オレフィン系ワックス、カルボキシル基及び／またはカ
ルボン酸無水物基を含有するオレフィン系ワックス、シ
リコーンオイル、オルガノポリシロキサン、パラフィン
ワックス、蜜蝋等が挙げられる。

【００８８】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、酸化防止の目的で通常知られた酸化防止剤を配
合することもできる。かかる酸化防止剤としては、例え
ばペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプ
ロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３
−ラウリルチオプロピオネート）、グリセロール−３−
ステアリルチオプロピオネート、トリエチレングリコー
ル−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−
ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシン
ナマイド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、ト
リス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、４，４’−ビフェニレン
ジホスホスフィン酸テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）、３，９−ビス｛１，１−ジメチル
−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝
−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウ
ンデカン等が挙げられる。これら酸化防止剤の配合量
は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して
０．０００１〜０．０５重量部が好ましい。

【００８９】本発明で好ましく用いるブルーイング剤の
配合量は、樹脂組成物全体の０．０５〜１０ｐｐｍであ
り、好ましくは、０．１〜３ｐｐｍである。配合量が多
すぎるとシート製品等の成形品の青みが強くなって視感
透明度が低下し、少なすぎると黄色味を低減し自然な透
明感を付与するというブルーイング剤の効果が発現しな
い場合がある。

【００９０】具体的なブルーイング剤としては、例えば
一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ１３［ＣＡ．Ｎｏ
（カラーインデックスＮｏ）６０７２５；商標名 バイ
エル社製「マクロレックスバイオレットＢ」、三菱化学
（株）製「ダイアレジンブルーＧ」、住友化学工業
（株）製「スミプラストバイオレットＢ」］、一般名Ｓ
ｏｌｖｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ３１［ＣＡ．Ｎｏ６８２１
０；商標名 三菱化学（株）製「ダイアレジンバイオレ
ットＤ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ３３
［ＣＡ．Ｎｏ６０７２５；商標名 三菱化学（株）製
「ダイアレジンブルーＪ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ
Ｂｌｕｅ９４［ＣＡ．Ｎｏ６１５００；商標名三菱化学
（株）製「ダイアレジンブルーＮ」］、一般名Ｓｏｌｖ
ｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ３６［ＣＡ．Ｎｏ６８２１０；商
標名 バイエル社製「マクロレックスバイオレット３
Ｒ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ９７［商標名
バイエル社製「マクロレックスブルーＲＲ」］および
一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ４５［ＣＡ．Ｎｏ６１
１１０；商標名 サンド社製「テトラゾールブルーＲＬ
Ｓ」］、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社のマクロ
レックスバイオレットやトリアゾールブルーＲＬＳ等が
あげられ、特に、マクロレックスバイオレットやトリア
ゾールブルーＲＬＳが好ましい。

【００９１】本発明で好ましく使用する光拡散剤は、一
般にプラスチックの光拡散板に使用されている無機微粒
子や有機微粒子でよく、例えばカオリンに代表されるシ
リカアルミナ系粘土鉱物（含水珪酸アルミニウム類）、
タルクに代表されるシリカマグネシウム系粘土鉱物（含
水珪酸マグネシウム類）、硫酸バリウム、珪酸カルシウ
ム、シリカアルミナ、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸
化珪素等が挙げられる。また、有機微粒子としては架橋
構造を有する架橋ポリアクリレート、架橋ポリスチレン
等が挙げられる。特に炭酸カルシウム、硫酸バリウム、
架橋ポリアクリレート及び架橋ポリスチレンが芳香族ポ
リカーボネート樹脂への分散性が優れ好ましいものであ
る。使用量は芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部
に対し０．０１〜３０重量部の範囲で、好ましくは０．
１〜５重量部の範囲ある。

【００９２】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂に耐
候剤やその他の添加剤を配合するには、任意の方法が採
用される。例えば溶融重合終了後ポリカーボネート樹脂
を溶融状態に保ったまま耐候剤やその他の添加剤を添加
する方法やタンブラー、Ｖ型ブレンダー、スーパーミキ
サー、ナウターミキサー、バンバリーミキサー、混練ロ
ール、押出機等で混合する方法が適宜用いられる。こう
して得られる芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、そ
のまま又は溶融押出機で一旦ペレット状にしてから用い
ることができる。

【００９３】

【実施例】以下に実施例をあげて本発明を更に説明す
る。なお、実施例中の部は重量部、％は重量％であり、
評価は下記の方法によった。

【００９４】（１）相対蛍光強度 下記条件により測定した芳香族ポリカーボネート樹脂の
４６５ｎｍ（励起波長３２０ｎｍ）における蛍光強度を
基準物質の蛍光強度を測定し、その比（相対蛍光強度＝
芳香族ポリカーボネート樹脂の蛍光強度／基準物質の蛍
光強度）を計算した。 測定条件 装置 日立Ｆ４５００ ランプ Ｘｅ、１５０Ｗ スリット巾 Ｅｘ／Ｅｍ 各２．５ｍｍ ホトマル ４００Ｗ サンプル（濃度） １ｍｇ芳香族ポリカーボネート樹脂／５ｍｌ 塩化メチレン 比較基準物質：サルチル酸フェニル１．０×１０^-3ｍｇ／ｍｌ塩化メチレン （２）末端水酸基濃度 芳香族ポリカーボネート樹脂のサンプル０．０２ｇを
０．４ｍｌのクロロホルムに溶解し、２０℃で１Ｈ−Ｎ
ＭＲ（日本電子社製ＥＸ−２７０）を用いて末端水酸基
および末端フェニル基を測定し、下記式により末端水酸
基濃度を測定した。 末端水酸基濃度（モル％）＝（末端水酸基数／全末端
数）×１００ （３）粘度平均分子量 オストワルド粘度計を用いて芳香族ポリカーボネート樹
脂０．７ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解した溶液の
比粘度ηspを２０℃で測定し、下記式より粘度平均分子
量Ｍを算出した。 ηsp／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］²ｃ（但し［η］
は極限粘度） ［η］＝１．２３×１０^-4Ｍ^0.83 ｃ＝０．７

【００９５】（４）紫外線吸収剤の溶解色 試料約５ｇをトルエン１００ｍｌに加え、室温下で溶解
する。この溶液について５００ｎｍの光線透過率を測定
（測定用セルの厚みは１ｃｍ）した。 （５）安定剤のＣｌ含有量 蛍光Ｘ線法により、安定剤中の塩素原子および塩素イオ
ンを測定した。 （６）離型剤の酸価 試料をベンゼン−エタノール溶液に溶かし、指示薬にフ
ェノールフタレインを用いて、０．１Ｎ−ＫＯＨエタノ
ール溶液で中和滴定をする。酸価は次式により求める。 酸化（ＫＯＨｍｇ／ｇ）＝Ａ×ｆ×Ｎ×５６．１１÷Ｓ Ａ： 試料の中和に要したＫＯＨ溶液のｍｌ数 ｆ： ＫＯＨの力価 Ｎ： ＫＯＨの規定度 Ｓ： 試料重量（ｇ）

【００９６】（７）耐候性 射出成形機を用いてペットを成形温度３４０℃、１分サ
イクルで色相測定用平板（７０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍ
ｍ）に成形した。この平板成形片をＪＩＳ規格Ａ１４１
５にしたがってサンシャインウエザーメーターにより、
５００時間の処理を行った。処理前後の黄色度（ＹＩ）
の差を△ＹＩとした。 （８）成形耐熱性 射出成形機を用いて芳香族ポリカーボネート樹脂組成物
のペレットを成形温度３５０℃、１分サイクルで「滞留
前の色相測定用平板」（７０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍ）
に成形した。さらに、シリンダ−中に樹脂を１０分間滞
留させた後、「滞留後の色相測定用平板」を得た。滞留
前後の平板の色相を色差計により測定し、次式により色
差△Ｅを求めた。表に示した値（△Ｅ）が小さいほど成
形耐熱性が優れることを示す。

【数１】

【００９７】（９）耐湿熱疲労性 図１に示したいわゆるＣ型の測定用サンプル（芳香族ポ
リカーボネート樹脂組成物）を用いて、８０℃、９０％
ＲＨの雰囲気で、正弦波で振動数１Ｈｚ、最大荷重２ｋ
ｇの条件で、以下の疲労試験機［（株）島津製作所製
島津サーボパルサー ＥＨＦ−ＥＣ５型］を用いて、測
定用サンプルが破断するまでの回数を測定した。表に示
した値（破断するまでの回数）が大きいほど、耐湿熱疲
労性に優れることを示す。

【００９８】（１０）離型性（離型荷重） 住友ＳＳ７５射出成形機を用いて、コップ型の成形片を
成形し、離型時の突出し荷重をメモライザーにより測定
した。 （１１）接着性（接着強度） 押出成形機を用いて厚さ２ｍｍの芳香族ポリカーボネー
ト樹脂組成物のシートを得た。このシートの片面に可視
光硬化型接着剤［（株）アーデル ＢＥＮＥＦＩＸ Ｐ
Ｃ］を塗布し、同じシートを気泡が入らないように一方
に押し出すようにしながら積層後、可視光線専用メタル
ハライドタイプを備えた光硬化装置により５，０００ｍ
Ｊ／ｃｍ²の光を照射して得られた積層板の接着強度を
ＪＩＳＫ−６８５２（接着剤の圧縮せん断接着強さ試験
方法）に準拠して測定した。

【００９９】［参照例１］ビスフェノールＡ、２２８重
量部、ジフェニルカーボネート２１８重量部及びエステ
ル交換触媒；ビスフェノールＡのＮａ２塩（１．３６×
１０^-5重量部；Ｎａとして０．１μｍｏｌ／１ｍｏｌビ
スフェノールＡ）及びテトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド（９．１×１０^-3重量部；１００μｍｏｌ／１ｍ
ｏｌビスフェノールＡ）を撹拌装置、蒸留塔及び減圧装
置を備えた重合槽に仕込み窒素置換した後、１４０℃で
溶解した。３０分間撹拌後、内温を１８０℃に昇温し、
内圧１００ｍｍＨｇ３０分間反応させ、生成するフェノ
ールを溜去した。ついで内温を２００℃に昇温しつつ徐
々に減圧し５０ｍｍＨｇで３０分間フェノールを溜去し
つつ反応させた。更に２２０℃、３０ｍｍＨｇまで徐々
に昇温、減圧し、同温度、同圧下で３０分間、更に、２
４０℃、１０ｍｍＨｇ、２５０℃、１ｍｍＨｇまで上記
と同じ手順で昇温、減圧を繰り返し反応を続行した。

【０１００】最終的に２５０〜２５５℃で（常に２５５
℃以下に保つよう留意した）、また重合槽撹拌翼の撹拌
剪断速度（単位：１／ｓｅｃ）を撹拌翼半径（単位：ｃ
ｍ）の２乗で割った数値を０．００１（１／ｓｅｃ×ｃ
ｍ²）に保ちつつポリカーボネートの重縮合を継続し
た。

【０１０１】重縮合終了後末端停止剤として２−メトキ
シカルボニルフェニルフェニルカーボネート１．８部を
添加した。その後２５５℃、１Ｔｏｒｒ以下で１０分間
末端封鎖反応を行った。次に溶融状態のままで、触媒失
活剤としてドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホ
スホニウム塩を０．０００２９部（５×１０^-7モル／ビ
スフェノール１モル）添加して２５５℃、１０Ｔｏｒｒ
以下で反応を継続し、粘度平均分子量２４，３００、末
端水酸基濃度１４モル％、相対蛍光強度１×１０^-3の芳
香族ポリカーボネート樹脂を得た。以下、この芳香族ポ
リカーボネート樹脂をＰＣ−１と略称する。

【０１０２】［参照例２］ＰＣー１においてエステル化
触媒をＮａＯＨ０．００００４部（１μｍｏｌ／１ｍｏ
ｌビスフェノールＡ）に変えた以外は実施例１と同様な
操作を行い、粘度平均分子量２４，３００、末端水酸基
濃度１６モル％、相対蛍光強度２×１０^-3の芳香族ポリ
カーボネート樹脂を得た。以下、この芳香族ポリカーボ
ネート樹脂をＰＣ−２と略称する。

【０１０３】［参照例３］末端停止剤として２−メトキ
シカルボニルフェニルフェニルカーボネートを用いない
以外はＰＣ−１と同様な操作を行い、粘度平均分子量２
４，３００、末端水酸基濃度５２モル％、相対蛍光強度
１×１０^-3の芳香族ポリカーボネート樹脂を得た。以
下、この芳香族ポリカーボネート樹脂をＰＣ−３と略称
する。

【０１０４】［比較参照例１］ビスフェノールＡ、２２
８重量部、ジフェニルカーボネート２２０重量部及びエ
ステル交換触媒；ビスフェノールＡのＮａ２塩（１．３
６×１０^-3重量部；Ｎａとして１０μｍｏｌ／１ｍｏｌ
ビスフェノールＡ）及びテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド（９．１×１０^-3重量部；１００μｍｏｌ／１
ｍｏｌビスフェノールＡ）を撹拌装置、蒸留塔及び減圧
装置を備えた重合槽に仕込み窒素置換した後、１４０℃
で溶解した．３０分間撹拌後、内温を１８０℃に昇温
し、内圧１００ｍｍＨｇ３０分間反応させ、生成するフ
ェノールを溜去した。ついで内温を２００℃に昇温しつ
つ徐々に減圧し５０ｍｍＨｇで３０分間フェノールを溜
去しつつ反応させた。更に２２０℃、３０ｍｍＨｇまで
徐々に昇温、減圧し、同温度、同圧下で３０分間、更
に、２４０℃、１０ｍｍＨｇ、２５０℃、１ｍｍＨｇま
で上記と同じ手順で昇温、減圧を繰り返し反応を続行し
た。

【０１０５】最終的に２８０℃〜２８５℃でカボネート
の重縮合を継続しつつポリマーを得た。この芳香族ポリ
カーボネート樹脂の粘度平均分子量２４，２００、末端
水酸基濃度５１モル％、相対蛍光強度６×１０^-3であっ
た。以下、この芳香族ポリカーボネート樹脂をＣＥＸ−
１と略称する。

【０１０６】［実施例１〜８、比較例１］表１記載の芳
香族ポリカーボネート樹脂ペレットと耐候剤やその他の
添加剤等の組成物を表１記載の重量基準でブレンドし、
押出機を用いてペレット化した。このペレットを用いて
各種の評価を行い、その結果を表１に示した。

【０１０７】尚、実施例および比較例で用いた紫外線吸
収剤、リン系安定剤、内部離型剤、ヒンダードフェノ−
ル系安定剤等は以下の通りである。 紫外線吸収剤１ ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾ−ル（乾燥減量：０．０２、５００
ｎｍの溶解色：９９．８％） 紫外線吸収剤２ ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メ
チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（乾燥
減量：０．０２、５００ｎｍの溶解色：９９．４％） −１ Ｃ−１安定剤 テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，
４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレ
ンジホスホナイトおよび、テトラキス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホ
ナイトの１００：５０：１０（重量比）混合物 −２ Ｃ−２安定剤 ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−
フェニル−フェニルホスホナイトおよびビス（２，４−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェ
ニルホスホナイトの５：３（重量比）混合物 −３ Ｃ−３安定剤 トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホス
ファイト（安定剤中のＣｌ含有量２０ｐｐｍおよび５２
ｐｐｍ） −４ Ｃ−４安定剤 トリメチルホスフェート（安定剤中のＣｌ含有量６４０
０ｐｐｍ） −５ Ｃ−５安定剤 ジオクタデシルペンタエリスリトールジホスファイト
（安定剤中のＣｌ含有量５０００ｐｐｍ） −６ Ｃ−６安定剤 ジメチルフェニルホスホネート（安定剤中のＣｌ含有量
４６００ｐｐｍ） −１ 脂肪酸エステル１ ステアリン酸モノグリセリド（酸価０．８、純度９７．
０重量％） −２ 脂肪酸エステル２ ステアリン酸トリグリセリドとステアリルステアレート
との混合物（混合割合は、前者が約７０重量％：酸価
１．８） −３ 脂肪酸エステル３ ペンタエリスリトールテトラステアレート（酸価０．
６） ブルーイング剤 １−（４−メチルフェニルアミノ）−４−ヒドロキシ−
９、１０−アントラキノン

【表１】

【０１０８】

【発明の効果】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組
成物は、ポリカーボネート樹脂が本来有する透明性や耐
候剤を添加した時の耐候性を保ちつつ、成形耐熱性、耐
湿熱疲労性、接着性に優れた芳香族ポリカーボネート樹
脂組成物である。それ故、光ディスク、眼鏡レンズ、フ
レンネルレンズ、人工腎臓、ボトル、自動車、新幹線等
の車両や住宅の窓ガラス用シート、アーケード、防風・
防音・防雪用の道路壁、位相差フィルム等の各種工業用
途に用いられ、特にレンズやシート用途に有用であり、
その工業的価値が高い。

【図面の簡単な説明】

【図１】耐湿熱疲労性を評価するために使用した、いわ
ゆるＣ型サンプルの正面図である。なおサンプルの厚み
は３ｍｍである。符号６で示される孔の部分に試験機の
治具を通し、符号７で示される垂直方向に所定の荷重を
かけて試験を行う。

【符号の説明】

１ Ｃ型形状の二重円の中心 ２ 二重円の内側円の半径（２０ｍｍ） ３ 二重円の外側円の半径（３０ｍｍ） ４ 治具装着用孔の位置を示す中心角（６０°） ５ サンプル端面の間隙（１３ｍｍ） ６ 治具装着用孔（直径４ｍｍの円であり、サンプル
幅の中央に位置する） ７ 疲労試験時におけるサンプルに課される荷重の方
向

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J002 CG011 CG021 CG031 EU176 FD056 FD060 4J029 AA09 AB07 AD01 AD10 AE01 BB04A BB05A BB09A BB12A BB13A BG08X BG08Y BH02 DB13 HC04A HC05A HC05B JC031 JC091 JF021 JF031 JF041 KD02 KE05

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）蛍光スペクトルを測定したとき
   （励起波長３２０ｎｍ）、基準物質に対する４６５ｎｍ
   における相対蛍光強度が４×１０^-3以下および粘度平均
   分子量が１０，０００〜５０，０００であり、且つ二価
   フェノールと炭酸エステルとから溶融重合して得られた
   芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部と、（Ｂ）下
   記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール系紫外線
   吸収剤０．０１〜１．５重量部からなる芳香族ポリカー
   ボネート樹脂組成物。 【化１】 ［式中、Ｘはハロゲン原子であり、ｋは０〜３である。
   また、Ｒ₁は炭素数１〜１２の直鎖あるいは分岐のアル
   キル基またはフェニルアルキル基であり、ｌは０〜２で
   ある。更に、Ｒ₂はアルキレン基であり、ｍ、ｎは、ｎ
   ＝０の時ｍ＝１、ｎ＝１の時ｍ＝２である。］
2. 【請求項２】 炭酸エステルがジフェニルカーボネート
   である請求項１に記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組
   成物。
3. 【請求項３】 （Ｂ）ベンゾトリアゾール系紫外線吸収
   剤が２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベン
   ゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ
   −オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−
   ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）フェニルベン
   ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ
   −ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
   リアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，
   ３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾト
   リアゾール−２−イル）フェノール］から選ばれた少な
   くとも１種のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である
   請求項１または２のいずれか１項記載の芳香族ポリカー
   ボネート樹脂組成物。