JP2001080073A - サーマルインクジェットプリントシステムとサーマルインクジェットプリントヘッド - Google Patents

サーマルインクジェットプリントシステムとサーマルインクジェットプリントヘッド

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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】電気不活性素子をESD事象から保護するイン
クジェットプリントシステム。 【解決手段】本発明はシステムの電気不活性構成要素を
保護する静電気放電からサーマルインクジェットプリン
トシステムを提供する。一実施例としては、ESD事象
がプリントシステムの電気不活性構成要素から遠くに導
かれるように位置決めされたESD保護システムがあ
る。さらに、ESD事象を放散するために電気的に浮動
する大きな導電体領域を提供する。大きな導電体領域は
電気不活性構成要素に容量結合されており、ESD事象
の蓄積領域を提供することによって電気不活性構成要素
のESD事象に対する感度を低下させる。他の実施例で
は、大きい導電体領域と電気不活性構成要素を同電位ま
たは接地電位に維持し、ESD事象の発生が大幅に減少
させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に、静電気放
電保護(electrostatic discharge protection,ES
D)システムに関し、より詳細には、サーマルインクジ
ェットプリントシステムの電気不活性(electronically-
inactive)構成要素をESD事象から保護するシステム
および方法に関する。
【0002】
【従来の技術】静電気放電(ESD)事象は、プリント
システムなどの電子機器に大きな被害を引き起こす可能
性のある重大な出来事である。典型的なESD事象は、
一般に、高電圧が発生し、低電圧で動作するように設計
されたプリントシステム、特にプリントヘッドを簡単に
破損させたり破壊したりすることがある。
【0003】サーマルインクジェットプリントシステム
は、一般に、電気的に活性な(すなわち電気的)構成要
素(たとえば、抵抗器やキャパシタなど)と、主に非電
気的な機能を有する電気不活性構成要素(ある種の薄膜
層など)の両方を含む。サーマルインクジェットプリン
トシステムのプリントヘッドに対するESD事象は、プ
リントヘッドに含まれる構成要素を簡単に破損したり破
壊したりすることがある。さらに、プリントヘッドの電
気的構成要素だけでなくプリントヘッドの電気不活性構
成要素にも損傷を引き起こすことがある。
【0004】多くのプリントシステムは、ESD保護シ
ステムを含むが、現在のESD保護方式は、プリントシ
ステムの電気的構成要素だけを保護するように設計され
ている。したがって、電気不活性構成要素は、一般に、
損傷を与える可能性のあるESD事象から保護されてい
ないままである。これは、電気的構成要素がESD保護
機能を有する場合でも、特に電気不活性構成要素が電気
的構成要素のすぐ近くにある場合には、ESD事象が印
刷システムの電気的構成要素を破損させることがあるた
め、問題である。したがって、サーマルインクジェット
プリントシステムの電気的構成要素だけでなく電気不活
性構成要素をESD事象から保護するESD保護システ
ムが必要である。
【0005】
【課題を解決するための手段】以上説明した従来技術の
制限を克服し、また本明細書を読み理解することによっ
て明らかになる他の制限を克服するために、本発明は、
システムの電気不活性構成要素を保護することによって
静電気放電(ESD)からサーマルインクジェットプリ
ントシステムを保護するシステムおよび方法において実
施される。電気不活性構成要素にESD保護機能を提供
することによって、プリントシステムの電気的構成要素
にESD保護の追加の目安を提供するより完全でかつ効
率的なESD保護システムが達成される。電気不活性構
成要素は、電気的機能をもたないプリントシステムの構
成要素と、主に非電気的な目的を有する構造(たとえ
ば、薄膜層)である。
【0006】本発明は、電気不活性構成要素を含むプリ
ントシステムにきわめて効果的でかつ効率的なESD保
護機能を提供する。詳細には、プリントシステムの電気
不活性構成要素と電気的構成要素にESD保護を提供す
ることによって、本発明は、プリントシステム(特にプ
リントヘッド)のESD事象による破損または破壊に対
する関与性と感度を大幅に低下させる。さらに、本発明
は、プリントヘッドの既存の構造および回路を使用しあ
るいは適切な微細加工および薄膜技術によって、プリン
トシステムのプリントヘッド内で実現することができ
る。
【0007】本発明のシステムは、ESD事象がプリン
トシステムの電気不活性構成要素から遠くに導かれるよ
うに位置決めされたESD保護システムを含む。本発明
のESD保護システムは、ESD事象の有害な影響を弱
め、実施形態によっては、ESD事象の発生を防ぐこと
ができこともある。本発明のESD保護システムは、こ
れを達成するためのいくつかの実施形態を含む。
【0008】詳細において、ESD保護システムの1つ
の実施形態は、ESD事象を放散するために電気的に浮
動する大きな導電体領域を提供する。この大きな導電体
領域は、電気不活性構成要素に容量結合されており、E
SD事象の蓄積領域を提供することによって電気不活性
構成要素のESD事象に対する感度を低下させる。もう
1つの実施形態において、大きい導電体領域と電気不活
性構成要素が、同電位またはアース電位に維持され、そ
れにより、ESD事象の発生が大幅に減少し、なくなる
こともある。さらに、製造工程中にESD保護機能を提
供するために、実施形態は、切断可能なリンク(ヒュー
ズなど)を含み、それにより電気不活性構成要素と大き
い導電体領域を、大きい導電体領域と電位部分との接続
が切断されるまでのある一定期間同じ電位に維持するこ
とができる。それにより、このESD保護システムは、
プリントシステムの通常の動作に影響を及ぼすことなく
製造工程中のESD事象の発生を大幅に減少させる。
【0009】本発明のもう1つの実施形態は、ESD事
象の優先破壊位置をどの電気不活性構成要素からも遠い
位置に提供するESD保護システムを含む。プリントシ
ステムに生じる破損は、他のすべてのESD保護システ
ムが壊れた場合でも、プリントシステムの動作に影響し
ない位置になる。本発明の他の実施形態は、プリントシ
ステム内の大きい導電体領域をそれぞれ異なる薄膜層に
分割する様々なESD保護システムを含む。ESD事象
による電荷は、それらのさまざまな異なる層に蓄積さ
れ、それにより、どれか1つの層に高電荷領域ができて
その層が破壊されるのが防止される。さらに、分流バー
を使用してESD事象がたどる優先経路を提供すること
ができ、この優先経路は、電気不活性構成要素から遠く
に配置される。本発明は、また、前述のシステムを使用
して電気不活性構成要素を有するプリントシステムを保
護する方法を含む。
【0010】本発明のその他の態様と利点およびそのよ
り完全な理解は、本発明の原理を例として示す添付図面
と関連して行う以下の詳細な説明から明らかになるであ
ろう。さらに、本発明の範囲は、特許請求の範囲によっ
て制限され、前に説明した課題を解決するための手段ま
たは以下の詳細な説明によって制限されることはない。
【0011】本発明は、好ましい実施形態を示す以下の
説明と添付図面を参照することによってさらに良く理解
することができる。その他の機能および利点は、本発明
の原理を例として示す添付図面と関連して行う以下の好
ましい実施形態の詳細な説明から明らかになるであろ
う。図面は、全体を通じて同じ参照番号が対応する部分
を示す。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の以下の説明において、本
発明の一部分を構成し、本発明を実施することができる
特定の例を例示として示す添付図面を参照する。本発明
の範囲を逸脱せずに他の実施形態を利用することができ
構造的な変更を行うことができることを理解されたい。
【0013】I.概要 本発明は、直接ESD事象と外部ESD事象の両方から
のESD保護機能を備えたマイクロシステムを提供す
る。一般に、直接ESD事象は、電気不活性構成要素を
直接(または、すぐ近くから)襲うものである。外部E
SD事象は、電気不活性構成要素から遠くで起きるもの
である。外部ESD事象は電気不活性構成要素から遠く
て起きるが、通常、攻撃領域から構成要素まで導電経路
があるため構成要素を破損させることがある。たとえ
ば、抵抗器がサーマルインクジェットプリントヘッドの
構成要素の深い位置に配置されることがあるが、ESD
事象がプリントヘッドの表面のトレースを襲う場合に抵
抗器が破壊されることがある。本発明は、前述の両方の
タイプのESD事象からマイクロシステムを保護する。
【0014】A.直接ESD事象からのESD保護 図1Aは、構成要素に直接生じるESD事象から保護さ
れた電気不活性構成要素を示す本発明の第1の実施形態
の概略ブロック図である。マイクロシステム100は、
集積回路またはマイクロマシンでよく、電気不活性構成
要素110を含む。一般に、電気不活性構成要素110
は、本発明のESD保護システムに結合される。回路の
電源側には、電源ループESD保護システム115があ
り、回路のアース側には、接地ループESD保護システ
ム120がある。
【0015】電源ループESD保護システム115は、
電源125に電気的に結合することができ、接地ループ
ESD保護システム120は、アース130に電気的に
結合することができる。あるいは、電気不活性構成要素
110と電源ループESD保護システム115と接地ル
ープESD保護システム120の組合せは、電源125
またはアース130(点線で示したような)への接続を
必要としない。その代わりに、この組合せを電気的に浮
動させることができる。図1Aに示したような構成は、
電気不活性構成要素110を直接襲うESD事象による
破損からマイクロシステム100を保護する。
【0016】図1Bは、図1Aの実施形態の機構例を示
すサーマルインクジェットプリントヘッド140のブロ
ック図である。図では、タンタル「島」(分離領域)な
どの複数の保護層150が、サーマルインクジェットプ
リントヘッド140の最上層の近くに配置され、ブリッ
ジ160によって接続されている。保護層150は、下
にある層をインク滴バブル破裂(ink drop bubble coll
apse。後で詳細に示す)から保護するためのものであ
る。以下の例では、材料はタンタルであるが、たとえば
ロジウム(Rh)、モリブデン(Mo)、ニッケル(N
i)などの他の任意の適切な材料を使用することができ
る。各タンタル島150は、インク滴の発射に使用され
る抵抗器(図示せず)に重なっていることが好ましい。
【0017】サーマルインクジェットプリントヘッド1
40への電力は、プリントヘッド140を電源170と
アース175に接続することによって提供される。プリ
ントヘッド140のアース側には、タンタル島150を
ESD放電事象から保護する接地ループ保護回路180
がある。同様に、プリントヘッド140の電源側には、
タンタル島150を保護する電源ループ保護回路190
がある。これらの保護回路は、プリントヘッド140と
の間に一方向の電荷を提供するダイオードを含むことが
好ましい。ESD事象がタンタル島150の1つまたは
複数を襲うとき、それに伴う電荷が、電源ループ保護回
路190か接地ループ保護回路180を介して放散さ
れ、壊れやすい構成要素を破損しないようにESD事象
が防止される。
【0018】B.外部ESD事象からのESD保護 図2Aは、構成要素の外部にある場所で起きるESD事
象から保護される電気不活性構成要素を示す本発明の第
2の実施形態の概略ブロック図である。マイクロシステ
ム200は、マイクロシステム200に結合された外部
経路205を含み、何も介在せずに、ESD事象による
電荷が電気不活性構成要素210に渡ることができる。
たとえば、外部経路は、ESD事象を受けて電荷を電気
不活性構成要素に送ることがあるマイクロシステムの表
面に沿った導電性トレースを含む。
【0019】図2Aに示したマイクロシステム200
は、マイクロシステム200の電源側の電源ループES
D保護システム215と、マイクロシステム200のア
ース側の接地ループESD保護システム220を含む。
電源ループESD保護システム215は、電源225に
結合されることが好ましく、接地ループESD保護シス
テム220は、アース230に結合されることが好まし
い。遅延システム235が電気不活性構成要素210の
近くに配置され、それにより保護回路215および22
0が、電気不活性構成要素210を破損させるよりも十
分に前に活性化しESD事象による電荷を放散すること
ができる。この遅延システム235は、抵抗器であるこ
とが好ましい。
【0020】図2Bは、図2Aの実施形態の機構例を示
すサーマルインクジェットプリントヘッド250のブロ
ック図である。この例において、プリントヘッドの表面
にあるが他の導体に接近していない露出した導電体層2
55が、マイクロシステムへの外部経路である。接地ル
ープ保護回路260と電源ループ保護回路265が、プ
リントヘッド250の電源側とアース側を保護する。抵
抗器270は、保護回路260および265が活性化す
るより前にESD事象からの電荷が熱消散層275に達
しないように遅延させる遅延システムとしてはたらく。
熱消散層275は、サーマルインクジェット抵抗器(図
示せず)の下にあって抵抗器のヒートシンクとしてはた
らき、したがって電気的機能はない。熱消散層275を
ESD事象から保護する他に、熱消散層275が抵抗器
のすぐ近くにあるため、抵抗器のESD保護も達成され
る。この方式では、電気的に不活性な熱消散層275と
抵抗器の両方を破損させないように、露出した導電体層
255で生じるESD事象が防止される。
【0021】II.ESD保護システムの詳細 本発明は、ESD事象からの保護を提供するいくつかの
実施形態を有するESD保護システムを含む。次に、こ
れらのESD保護システムのそれぞれについて検討す
る。
【0022】A.直接ESD事象からのESD保護シス
テム 電気的に浮動するESD放散システム 本発明の1つの実施形態は、電気的に浮動しているES
D放散システムである。この実施形態において、電気不
活性構成要素は、システムの一部であり、ESD事象の
放散に役立つ。電気不活性構成要素は、電気的構成要素
または別の電気不活性構成要素に容量結合することがで
きる大きい導電体領域を含むことが好ましい。ESD事
象が生じるとき、ESD事象によって生成された電荷
は、優先経路に沿って、電荷を放散する大きい導電体領
域まで送られる。電気的構成要素は、ESD事象からの
電荷を優先経路に沿って大きい導電体領域に電荷を送っ
て放散させることによって保護され、電気不活性構成要
素は、電気的に浮いているために保護される。
【0023】図3は、この種のESD放散システムの例
を示す。この例において、マイクロシステムは、薄膜構
造を有するサーマルインクジェットプリントヘッドであ
る。薄膜構造は、電気的構成要素層(この例では抵抗器
である)と、抵抗器に重なる誘電体層と、誘電体層の少
なくとも一部分と重なる保護層とを含む。また、プリン
トヘッドの薄膜構造は、基板上に配置された他の適切な
層を含むことがある。
【0024】保護層は、タンタル(Ta)などの材料か
らなる。保護層は、通常、単体のスラブとしてではなく
抵抗器に重なる個別の絶縁領域または「島」としてタン
タルをマイクロシステム上に付着させることが好まし
い。これは、保護層の上に付着される薄膜が、タンタル
保護層以外の層の方がよく付着するためである。ほとん
どの場合、各抵抗器は、電気的に絶縁されたタンタルの
島によって覆われる。しかしながら、ESD事象が生じ
ると、電荷がそのような島に溜まり、この電荷を放散さ
せることができないため、タンタル島と抵抗器の間に大
きな電位差が生じる。この大きな電位差は、タンタル島
と抵抗器の間のパッシベーション層に絶縁破壊を引き起
こすことがある。
【0025】しかしながら、本発明のESD放散装置
は、単体スラブと絶縁島の2つの両極端な状態を調和さ
せることができる。すなわち、1つの極端な状態では、
大きい導電体領域(単体スラブなど)は、本質的に、大
電流の流れを可能にする島の間の低抵抗ブリッジとして
はたらき、ESD事象の間のパッシベーション層320
の両側のピーク電圧を低下させる。単体スラブは、島の
間を低抵抗で接続し、優れたESD保護を提供する(大
量の電荷を蓄積することができるため)。しかしなが
ら、このような低抵抗ブリッジは、また、抵抗器の破壊
がマイクロシステム全体に広がる経路を提供し、そのよ
うな広がりにより、マイクロシステムの広い範囲が破壊
されることがある。
【0026】他の極端な状態では、ブリッジに流れる電
流を妨げてピーク電圧を高くする分離した島(または、
島の間の高抵抗ブリッジ)があるため、大きい導電体領
域は事実上存在しない。さらに、島がまったく接続され
ないとき、島の間の抵抗は事実上無限大である。抵抗器
の破壊は、そのような高抵抗ブリッジを介して簡単に広
がることはないが、適切なESD保護は提供されない。
本発明のESD放散システムの利点は、機械的保護機能
を低下させることなくプリントヘッドの薄膜構造の要件
を調和させることができることである。詳細には、タン
タル島を結合することによって、プリントヘッド接着の
保護層が犠牲にならず、破損した抵抗器による損傷が他
の抵抗器に広がらず、空洞化およびバブル破裂保護機能
が維持される。さらに、タンタル島を接続することによ
って、ESD事象による電荷が全体にひろがり、1つの
タンタル島に蓄積されるのではなく複数のタンタル島内
に放散される。導電結合されたタンタル島は、タンタル
層の電荷蓄積機能を大幅に高め、ESD事象の間のパッ
シベーション層の両側の電圧を低下させ、それによりパ
ッシベーション層の破損を防ぐ。
【0027】図3は、サーマルインクジェットインクヘ
ッド(図示せず)の薄膜構造300の側面図であり、基
板305、基板310に重なる抵抗器層310、および
第1のパッシベーション層320を含む。基板305
は、たとえばシリコンやガラスからなり、抵抗器層31
0は、たとえばタンタル・アルミニウムであり、第1の
パッシベーション層320は、たとえば炭化ケイ素や窒
化ケイ素からなる。抵抗器層310は、抵抗器材料(た
とえば、タンタル・アルミニウムなど)に重なる抵抗器
層310内の導電材料(たとえば、アルミニウムなど)
の組合せのエッチング・パターンによって形成された抵
抗器(図示せず)を含む。第2のパッシベーション層ま
たは保護層330は、ブリッジ350によって互いに接
続された島340を含む。前述のように、この保護層3
30は、一般に、タンタルからなる。サーマルインクジ
ェットプリントヘッドの薄膜構造におけるその他の態様
と詳細は、Bohorquezらによる「Control of Energy to
Thermal Ink jet Heating Elements」と題する米国特許
第5,187,500号に見ることができ、この特許の
内容全体は、参照により本明細書に組み込まれる。
【0028】島340を接続するブリッジ350は、保
護層330と同じ層に示され、通常の薄膜処理技術を使
用して作成することができる。代替として、島340を
接続するブリッジは、保護層330に重なるインク・リ
ザーバ(図示せず)かまたは薄膜構造300の追加の金
属層(図示せず)の中を通すこともできる。さらに、ブ
リッジ350の形状は、便利でかつ有効な任意の形でよ
い。
【0029】ブリッジ350を使用して島340を接続
することによって、抵抗器層310に容量結合され電気
的に浮動した一連のタンタル島340が作成される。装
置のキャパシタンスは、抵抗器層310の上の保護層3
30の面積、パッシベーション層320の厚さ、および
パッシベーションの絶縁耐力の関数である。この高いキ
ャパシタンスにより、保護層330は、パッシベーショ
ン層320の絶縁破壊と抵抗器層310へのアーク発生
を招く可能性のある高電位を生じさせることなく多量の
電荷を蓄積することができる。
【0030】図3に示したように、保護層330は、パ
ッシベーション層320によって抵抗器層310から離
され、事実上キャパシタを作成する。キャパシタの両側
の電圧は、次の通りである。
【0031】V=q/C ・・・・(1)
【0032】ここで、Vは誘電体の両側の電位差、qは
各電極上の電荷、Cはキャパシタンスである。保護層3
30上の電荷は自ら均一に分散しようとし、下に抵抗器
層310がある保護層330だけがキャパシタとしては
たらくので、実際には、電荷の一部分だけ(qeff)が
電位差に影響する。その場合、式(1)は、次のように
なる。
【0033】V=qeff/C ・・・・(2)
【0034】ここで、
【0035】qeff=q(ARL/ACL) ・・・・(3)
【0036】また、 ARL=保護層の下の抵抗器層の面積 ACL=保護層の総面積(島とブリッジ)
【0037】これらの結果を組み合わせると、次の式が
得られる。
【0038】 V=(q/C)*(ARL/ACL) ・・・・(4)
【0039】以上の式から、一般にARLは変化せずqは
一定であるため、CかACLを大きくすることによって、
Vを小さくすることができる。
【0040】誘電体間の電圧差がある限界値に達すると
パッシベーションの絶縁破壊が起きるため、Cを大きく
しqを小さくすることによって、より堅牢なESD放散
システムを作成することができる。キャパシタは、並行
に接続されたときに大きくなるため、島を接続するとキ
ャパシタンスが大幅に増大する。さらに、ESD事象を
高電圧/低電荷事象と見なすことができるので、電荷
は、保護層上に自ら均一に分散しようとする。したがっ
て、保護層の面積を大きくすると電荷密度は小さくな
る。この電荷密度の低下は、キャパシタ(電気不活性構
成要素を含む)上の電荷を減少させ、さらに誘電体の両
側の電圧を低くするという有益な効果がある。
【0041】1)切断可能リンクによってある電位に保
持されるESD放散システム 本発明のもう1つの実施形態において、ESD保護装置
は、電気不活性構成要素を電気的構成要素に導電結合す
るESD放散システム(前述のシステムと似ている)を
含む。この組合せは、同じ電位またはアース電位に維持
され、それにより、ESD事象が大幅に減少しなくなる
こともある。さらに、この実施形態は、切断可能リンク
(ヒューズなど)を含み、それにより電気不活性構成要
素と電気的構成要素を、それらの間の接続が切断される
までの期間同じ電位に維持することができる。したがっ
て、ESD保護システムが、所望の期間(製造工程中な
ど)だけ使用され、マイクロシステムの通常動作には影
響を及ぼさない。
【0042】前述のように、ESD事象による電気不活
性構成要素への損傷は、大きい導電領域を有するESD
放散システムを提供することによって減らすことができ
る。この放散システムは、大きい導電領域を提供し、そ
れによりESD事象による電荷を安全に放散させること
ができる。ESD放散システムの基準を既知の電位また
はアース電位にすることによって、ESD事象から影響
を受けにくくすることができる。ESD事象は、物体
(電気不活性構成要素と電気的構成要素など)の間に電
位差があるときだけ発生するため、構成要素を同じ電位
に維持することによって、ESDによる破損が生じる可
能性が大幅に低下する。
【0043】いくつかの環境では、構成要素の電位をあ
る期間(たとえば、製造中)同じ電位に維持し、その後
で物体を同じ電位に維持するのをやめたいことがある。
そのような環境では、構成要素間の切断可能な導電性リ
ンク(ヒューズなど)を使用して、物体間の導電性リン
クが切断されるまでの期間、構成要素を同じ電位に維持
することができる。
【0044】以上説明したESD放散システムの機構例
では、前述の構造と類似の薄膜構造を有するサーマルイ
ンクジェットプリントヘッドが使用される。一般に、抵
抗器の上に重なる保護層と誘電体パッシベーション層
は、抵抗器を空洞化および泡破裂から保護する。プリン
トヘッドの通常の動作中、プリントヘッド上のリザーバ
内のインクが、抵抗器によって加熱され放出される。こ
のインクの泡の膨脹とその後の破裂によって、「ウォー
ター・ハンマー」効果が生じ、これが下の層に常に攻撃
する。最終的に、この空洞化と泡破裂によって、誘電体
層と抵抗器層が侵食され、抵抗器が破損する。保護層
は、このような有害な因子に起因する抵抗器への損傷を
減少させあるいはなくす。
【0045】以上のように、保護層(通常はタンタルか
らなる)の島が接続されたとき、それらの島は、大きい
導電体領域を形成し、ESD事象に対する感度を大幅に
低下させることができる。しかしながら、そのようなタ
ンタル島は、一般に電気的に分離されており、タンタル
島と抵抗器を同じ電位に接続するか両方をアースに接続
することによって、ESD事象に対する感度をさらに低
下させることができる。さらに、製造中のタンタル島と
抵抗器のESD事象による破損を少なくするか防ぐため
に、タンタル島と抵抗器を両方とも、プリントヘッドの
正電圧パッドに接続することが好ましい。プリントヘッ
ドのすべての抵抗器が、共通バスによって正電圧パッド
に接続されるため、抵抗器とその上に重なるタンタル島
との電位差はほとんどまたは全くなくなる。
【0046】タンタル島を互いに接続し正電圧パッドに
接続することは、プリントヘッドにインクがないときは
プリントヘッドの動作に影響しない。しかしながら、プ
リントヘッドにインクが充填されたときは、タンタル島
とアースの間にインクによって導電経路が確立される。
したがって、プリントヘッドの通常の動作中にタンタル
島が正電圧パッドの電位である場合は、インクを介して
電流がアースに流れて、タンタル島が陽極酸化すること
がある。この酸化は、プリントヘッドの性能に悪影響を
及ぼすことがあり、通常のプリントヘッドの動作中にタ
ンタル島を正電圧パッドの電位にするのは望ましくな
い。
【0047】以上の問題を回避するため、タンタル島
は、製造工程中だけ正電圧パッドに接続され、抵抗器と
同じ電位で保持される。これは、切断可能な導電性リン
クを使用してタンタル島を正電圧パッドに接続すること
によって達成される。この機構例では、切断可能リンク
はヒューズである。製造中は、タンタル島と抵抗器が正
電圧パッドの電位に保持されるが、ペンにインクが充填
された後は、タンタル島と正電圧パッドの間の接続が、
ヒューズによって切断される。この機構例において、ヒ
ューズは、抵抗器を発火させるために使用されるものと
類似のトランジスタ(好ましくは、スイッチング電界効
果トランジスタ(FET))を使用することによって開
路される。サーマル・インクジェットプリントヘッドが
未使用のアドレスを含むため、プリントヘッドに著しい
回路の複雑さを加えることなく、そのような未使用アド
レスのうちの1つによって、そのような溶断されたリン
クのFETを開らくことができる。
【0048】図4は、サーマルインクジェットプリント
ヘッド上の各タンタル島がそれ自体の接点を有する実施
形態の機構例の平面図である。図4に示したように、第
1のタンタル島400と第2のタンタル島410は、ブ
リッジ420によって接続される。第1のタンタル島4
00は、第1の抵抗器430上に位置決めされ、同様
に、第2のタンタル島410は、第2の抵抗器440上
に位置決めされる。また図3を参照すると、タンタル島
が、少なくとも1つの誘電性パッシベーション層によっ
て抵抗器から分離される。2つの抵抗器は、単なる例の
ために示され、プリントヘッドは、一般に、複数の抵抗
器とタンタル島を含む。第1の抵抗器430と第2の抵
抗器440は両方とも、入力450(正の電圧入力な
ど)とドレイン460(FETドレインなど)を含む。
【0049】各タンタル島上の接点470は、タンタル
島を下にある抵抗器に導電結合する。バス475は、接
点480を介してタンタル島と抵抗器を正電圧パッド4
85に接続し、切断可能リンク490は、バスとパッド
485の間に配置される。正電圧パッド485とバス4
75との間の接続を切断するために、切換素子495
(たとえば、トランジスタ)を使って、所望の時間に切
断可能リンク490を開路することができる。切換素子
495は、電界効果トランジスタ(FET)であること
が好ましい。この方式において、タンタル島と抵抗器は
両方とも、切断可能リンク490が開路されるまで正電
圧パッド485の電位に保持される。図4に示した実施
形態は、すべての島の間に低抵抗接続を提供するという
利点を有し、ESD事象による電荷を放散する速度を改
善することができる。
【0050】図5は、本発明の機構例であり、タンタル
島を切断可能リンク構造に接続するために1つの接点だ
けを使用する図4に示した実施形態の変形の平面図を示
す。詳細には、第1のタンタル島500と第2のタンタ
ル島510は、ブリッジ515によって接続される。前
の実施形態と同じように、第1の抵抗器520は、第1
のタンタル島500の下にあり、第2の抵抗器530
は、第2のタンタル島510の下にある。各抵抗器は、
入力535とドレイン540を有する。タンタル島は、
接点550によって、バス560、切断可能リンク57
0、およびバス560を正電圧パッド585に接続する
もう1つの接点580を含む切断可能リンク構造に接続
される。切換素子590は、バス560に接続され、切
断可能リンク570が所望の時間に破壊される方法を提
供する。
【0051】図5に示した実施形態は、一般に、抵抗器
を覆うタンタル島を切断可能リンク構造に接続するのに
1つの接点しか必要としないため簡単に実現することが
できる。さらに、この実施形態を使用して、単一の接点
を使っていくつかのタンタル島を切断可能リンク構造に
容易に接続することができる。
【0052】図4と図5の実施形態は、また、切断可能
リンクが開路された後でも追加の保護を提供する。詳細
には、接続されたタンタル島は、切断可能リンクが切断
された後でも切換素子に接続されたままである。好まし
い実施形態において、切換素子は、大型のLDMOS
FETであり、接続されたタンタル島は、このFETの
ドレインに接続されたままである。FETを使用して切
断可能リンクを開路した後、FETは、引き続き、接続
されたタンタル島のESD保護装置としてはたらく。さ
らに、接続されたタンタル島をESD事象から保護する
ために他のタイプのESD保護装置を使用することもで
きる。
【0053】保護層をアースに接続すると、電源から過
度の電流を取り出し、抵抗器破損が生じた場合に発火す
ることがある。破局的な抵抗器破損は、残りの抵抗器層
と保護層との間に激しい短絡を形成することがある。発
火の危険を回避するために、多くのサーマルインクジェ
ットプリントヘッドの保護層は、アースから切り離され
る。したがって、切断可能リンク構造と正電圧パッドと
の接続を切断するために使用される切換素子は、リンク
が切断される前または後にESD事象によってアースに
短絡される可能性がある。したがって、切換素子と接続
されたタンタル島の間に補助的な切断可能リンクを追加
することによってそのような可能性から守ることが望ま
しいことがある。
【0054】図6は、図5の実施形態とにほぼ似てお
り、補助的な切断可能リンクが追加されている。図6に
示したように、第1のタンタル島605と第2のタンタ
ル島610が、ブリッジ615によって接続される。第
1のタンタル島605は、第1の抵抗器620を覆い、
第2のタンタル島610は、第2の抵抗器625を覆
う。両方の抵抗器は、入力630とドレイン635を有
する。単一の接点640が、接続されたタンタル島をバ
ス645に接続する。バス645は、一般に、タンタル
保護層よりも下のレベルにあり、接点650によって正
電圧パッド660に接続される。切断可能リンク670
は、バス645を正電圧パッド660に接続し、バス6
45に接続された切換素子680によって切断すること
ができる。補助的な切断可能リンク690は、接続され
たタンタル島をバス645に接続する。
【0055】補助的な切断可能リンク690を追加する
ことは、切換素子680が切断可能リンク670を開路
する能力には影響しない。接続されたタンタル島が接点
640で接続されるため、補助切断可能リンク690
は、切断可能リンク670が開いている間にタンタル島
から放散される電荷が補助切断可能リンク690を破損
しないように設計される。次に、この補助切断可能リン
ク690は、接続されたタンタル島が正電圧パッド66
0から切り離された後も残り、破局的な抵抗器破損の場
合に電源から過度の電流(および発火の危険)が流れな
いようにする。
【0056】図7〜図9は、電気不活性構成要素が電気
的構成要素に導電結合され、アース電位に保持される他
の実施形態の機構例を示す。これらの実施形態は、破局
的な抵抗器破損が生じるときの過電流保護機能を提供す
る切断可能リンクを含む。
【0057】図7を参照すると、第1のタンタル島70
5は、第1の抵抗器710を覆い、第2のタンタル島7
15は、第2の抵抗器720を覆う。両方の抵抗器は、
入力725とドレイン730を含む。さらに、第1のタ
ンタル島705と第2のタンタル島715は、ブリッジ
740によって接続される。接続されたタンタル島は、
接点750によって下層のバス745に接続され、バス
745は、切断可能リンク760によってアースに接続
される。この実施形態は、接続されたタンタル島全体を
保護するために1つの接点と1つの切断可能リンク76
0しか必要としないため、実現が最も容易なものの1つ
である。
【0058】図8に、タンタル島が下層のバスによって
ブリッジされ、各島がそれぞれ接点とヒューズを有する
もう1つの実施形態を示す。具体的には、図8は、第1
の抵抗器810に重なる第1のタンタル島805と、第
2の抵抗器820に重なる第2のタンタル島815とを
示す。各抵抗器は、入力825とドレイン830を有
し、第1のタンタル島805は、第1のバス840によ
って下層にあるバス850に接続される。同様に、第2
のタンタル島815は、第2の接点860によってバス
840に接続される。第1の接点850とバス840の
間には第1の切断可能リンク870があり、第2の接点
860とバス840の間には第2の切断可能リンク88
0がある。このようにして、両方のタンタル島がバス8
40によって接続され、バス840がアースに接続され
る。
【0059】図8に示した実施形態は、導電体層にバス
840によるアースへの接触を提供する。さらに、抵抗
器の破損すると、抵抗器の上に重なる1つのタンタル島
がアースから切り離され他の島がアースされたままにな
る。
【0060】図9は、切断可能リンクが保護層自体に形
成されたもう1つの実施形態を示す。第1のタンタル島
905が第1の抵抗器910を覆い、第2のタンタル島
915が第2の抵抗器920を覆う。他の実施形態と同
じように、抵抗器は、入力925とドレイン930を含
む。タンタル島と同じ層上にあり同じ材料からなるバス
940が、アースに接続される。第1のタンタル島90
5は、保護層材料(この例では、タンタル)から形成さ
れた第1の切断可能リンク950によってバス940に
接続される。同様に、第2のタンタル島915は、やは
り保護層材料から形成された第2の切断可能リンク96
0によってバス940に接続される。
【0061】図9に示した実施形態は、保護層のパター
ンを変更するだけでよいため実現が容易である。タンタ
ルは抵抗が大きく融点が高いため、タンタルで良好な切
断可能リンクを形成することは他の実施形態よりも難し
いことがある。しかしながら、図9の実施形態は、保護
層にタンタル以外の他の他の材料(たとえば、ロジウム
(Rh)、ハフニウム(Hf)、ジルコニウム(Z
r)、ニッケル(Ni)など)が使用される場合に有用
なことがある。
【0062】B.外部ESD事象からのESD保護 本発明は、マイクロシステムの電気不活性構成要素の外
部で生じるESD事象からの保護を実現するESD保護
システムのいくつかの実施形態を含む。次に、そのよう
なESD保護システムについて検討する。
【0063】1)犠牲ESD破壊システム 本発明の以上の実施形態は、ESD事象の防止と放散に
ついて考察した。本発明のこの実施形態では、分流素子
を使用して、マイクロシステムの電気不活性部分に優先
ESD破壊位置が作成される。したがって、マイクロシ
ステムに使用されているESD保護システムが故障して
いるか無効な場合に、分流素子が、ESD事象を、生じ
た損傷がマイクロシステムの動作を損なうことがない優
先ESD破壊位置に導く。
【0064】この実施形態の1つの利点は、実現が簡単
でかつ経済的であり、ESD事象による破損が、強制的
にマイクロシステムの予測可能な位置で行われることで
ある。したがって、本発明のこの実施形態は、ESD事
象の大きさに関係なくマイクロシステムの機能を保護す
る。
【0065】図10は、本発明のマイクロシステム10
00の犠牲ESD保護システムの概略ブロック図であ
る。ESD事象1010がマイクロシステム1000を
襲うとき、生じる放電が、分流素子1020によって、
マイクロシステム1000の重要部分1030から遠く
に導かれる。その代わりに、分流素子1020は、ES
D事象1010による放電を、優先ESD破壊位置10
40まで、最終的にはアース1050まで導く。優先E
SD破壊位置1040は、マイクロシステム1000の
重要部分1030から遠くにあり、したがって、マイク
ロシステム1000の重要部分1030をESD損傷か
ら保護する犠牲破壊位置が提供される。図11は、図1
0に示した本発明の犠牲ESD破損システムの例を示
す。詳細には、薄膜構造を有するサーマルインクジェッ
トプリントヘッド1100を示す。図11の薄膜構造
は、図3に示され、パッシベーション層(図示せず)の
上に重なる保護上層1110と、パッシベーション層の
下の金属層(図示せず)と、金属層の下の抵抗器層11
20とを含むいくつかの層を含む。一般に、保護層11
10はタンタル島であり、パッシベーション層は誘電体
(炭化ケイ素や窒化ケイ素など)であり、金属層はアル
ミニウムであり、抵抗器層1120はタンタル・アルミ
ニウムからなる。これらの材料の代わりまたは追加とし
て、他の材料を使用することができる。
【0066】分流素子は、この例では蛇行構造1130
であり、導電材料からなり、保護層1010の下に配置
され、ESD事象による破壊が生じるのに好ましい位置
を作成する。この導電材料は金属層と同じ材料であるこ
とが好ましいが、他の材料を使用することもできる。蛇
行構造1130は、接地バス1140に接続され、ES
D事象による電荷のアースまでの経路を提供する。
【0067】蛇行構造1130は、優先破壊位置を少な
くとも2つの方法で作成する。第1に、構造1130
は、各セグメント1160間に大きい縦横比の溝115
0を含み、したがって製造が難しい。すなわち、溝11
50(パッシベーション材料で満たされている)は、薄
膜構造の他の部分よりも厚さが薄く絶縁耐力が小さい。
第2に、ESD事象による電荷が蛇行構造1130内部
にある間、その電荷は、各セグメント1160の内側の
角で最も大きくなる。これらの2つの要因によって、パ
ッシベーション層は、抵抗器層1120から遠い位置、
すなわち蛇行構造1130の位置で破壊される。破壊さ
れた後、電荷は、接地バス1140への接続によってア
ースに放散される。
【0068】本発明の犠牲ESD破損システムがない場
合、プリントヘッド1100の表面に対するESD事象
は、通常、パッシベーション層に浸透し、金属層および
抵抗器層1120と接する。これは、抵抗器層1120
に不可逆的な損傷を引き起こしてプリントヘッド110
0の動作を損なう可能性のある。しかしながら、本発明
の犠牲ESD破損システムは、プリントヘッド1100
の機能を維持するESD事象による電荷の優先経路およ
び破壊位置を提供する。
【0069】蛇行構造1130は、ESD事象による電
荷に抵抗器層1120よりも優先される領域を提供する
ことによって抵抗器層1120をESD損傷から守る。
蛇行構造1130は、高抵抗の抵抗器層1120よりも
低い抵抗を有する(接地バス1140に直接接続される
ため)構造的に厚い領域を提供し、それにより電荷に優
先経路を提供する。さらに、ESD事象によって大きい
短絡が形成された場合でも、そのような欠陥により、保
護層1110(この例では、タンタル島)しか接地され
ない。したがって、U字形の抵抗器層1120にESD
欠陥は発生せず、それにより、抵抗器層1120にある
一定の電流が流れて次に抵抗器層1120が破損する状
況が回避される。
【0070】2)遮蔽による容量結合 本発明のもう1つの実施形態は、電気不活性構成要素と
少なくとも1つの金属層を容量結合して、電気不活性構
成要素のまわりに「遮蔽」を提供するESD保護システ
ムを含む。さらに、本発明のシステムは、マイクロシス
テム内の大きい導電体領域を別個の面に分割する。これ
らの面は、電気不活性構成要素をほとんどまたはすべて
のまわりを取り囲み、既存のESD保護装置に接続さ
れ、ESD事象からの電荷の優先経路を提供することに
よって電気不活性構成要素を遮蔽する。また、分流バー
を使用して、電荷を流す優先経路を提供することができ
る。優先経路は、電気不活性構成要素から離れているこ
とが好ましい。そのような別個の面に過剰な電荷が蓄積
され、マイクロシステムを破損する可能性のある1つの
面に高電荷領域ができるのが回避される。
【0071】たとえば、サーマルインクジェットプリン
トヘッドにおいて、ESD事象によって、パッシベーシ
ョン層に孔があいて抵抗器と保護層が短絡し、深刻な問
題(発火など)が生じることがある。したがって、ES
D事象による電荷を電気不活性構成要素からできるだけ
遠くに維持することが望ましい。多くの現在のシステム
は、保護する構成要素のまわりに配置されたファラデー
箱または電荷シース(charge sheath)を使用し、構成
要素と導電シールドとの間に半径が約3/8インチとな
る。しかしながら、小さい寸法のマイクロシステム(サ
ーマルインクジェットプリントヘッドなど)の場合は、
一般にこの間隔をとることができない。
【0072】しかしながら、本発明は、この問題を解決
する。すなわち、図12は本発明の容量結合で遮蔽した
実施形態の概略ブロック図である。詳細には、マイクロ
システム1200は、電気不活性構成要素1210とE
SD保護装置1220を含む。電気不活性構成要素12
10のまわりには、導電材料からなる複数の遮蔽層12
30がある。これらの層1230は、互いに容量結合さ
れ、ESD事象からの電荷をそれぞれ異なる層1230
に分割する。分流バー1240(点線)を使用して、層
1230を導電結合し、電荷が流れる優先経路を提供す
ることができる。層1230は、ESD保護装置122
0に接続され、電荷の放散の一定の経路を提供する。
【0073】本発明のこの実施形態は、ESD事象によ
る電荷を通すことができる一定の経路を含むいくつかの
利点を提供する。さらに、この実施形態は、電荷をマイ
クロシステムのいくつかの層に分割して、各層に含まれ
る電荷の量を少なくする。さらに、いくつかの実施形態
では、分流バーを使用してESD事象がたどる優先経路
を提供することができる。具体的には、電荷の優先経路
は、電気不活性構成要素ではなくESD保護装置を通
る。
【0074】図13〜図15に示した例において、前の
例と類似のサーマルインクジェットプリントヘッドを使
用する。図13は、容量結合で遮蔽したESD保護シス
テムの第1の実施形態の機構例を示す。この実施形態で
は、「音叉」型の設計により、電気的構成要素がESD
事象から遮蔽される。詳細には、タンタル島1310
が、金属層1320と抵抗器層1330の上に重なる。
金属層1320が、抵抗器層1330のまわりに広が
り、抵抗器層1330をESD事象から遮蔽する2つの
セグメントを含む。電荷の連続的な放散を実現する分流
バー1340が、ESD保護装置(図示せず)に接続さ
れる。タンタル島1310は、分流バー1340に接続
され、抵抗器層1330から遠くに放電経路を提供す
る。抵抗器層は、保護を強化するためにタンタル島13
10と金属層1320の下にそれ自体の接点(図示せ
ず)を含む。
【0075】図14は、容量結合で遮蔽されたESD保
護システムの第2の実施形態の機構例を示す。この実施
形態では、ESD事象が経路をたどりやすくするため
に、抵抗器層の近くに分流バーが配置される。タンタル
島1410は、抵抗器層1430の上の金属層1420
に重なる。分流バー1440は、抵抗器層1430(最
上部から見られたとともに)の近くに配置され、接点1
450によってタンタル島141Cと接続される。これ
らの接点1450と分流バー1440は、抵抗器のすぐ
近くに配置され、ESD事象による電荷のさらに多くを
抵抗器層1430から遠くに分流するはたきをする。
【0076】図15は、容量結合で遮蔽されたESD保
護システムのもう1つの実施形態の例を示す。この実施
形態において、タンタル島は、抵抗器層のまわりの電気
的に浮いた金属層に導電結合される。詳細には、タンタ
ル島1510は、抵抗器層1530の上にある金属層1
520に重なっている。タンタル島1510は、下の金
属層1520に導電結合される。これにより、ESD事
象のための大きくかつ低抵抗の接点領域が可能になる。
分流バー1540は、ESD保護装置(図示せず)に接
続される。
【0077】本発明の好ましい実施形態の以上の説明
は、例示と説明のために提示された。以上の説明は、網
羅的ではなくまた本発明を開示した厳密な形に制限する
ものではない。したがって、以上の説明は、限定ではな
く例示と見なされるべきであり、併記の特許請求の範囲
によって定義されたような本発明の範囲から逸脱するこ
となく、当業者によって示される実施形態に様々な変更
を行うことができることを理解されたい。
【0078】以上、本発明の実施例について詳述した
が、以下、本発明の各実施態様の例を示す。 (実施態様1)プリントヘッドを備えたサーマルインク
ジェットプリントシステムであって、インク滴を放出す
るのに十分な量の熱を提供する抵抗器層(310)と、
前記抵抗器層(310)の上に重なるパッシベーション
層(320)と、前記パッシベーション層(320)の
上に重なり、前記抵抗器層(310)に少なくとも部分
的に重なる保護層(330)と、静電気放電事象を前記
抵抗器層(310)から遠くに分流させるために、前記
保護層(330)に導電結合された静電気放電装置とを
含むサーマルインクジェットプリントシステム。 (実施態様2)前記保護層(330)が、導電体ブリッ
ジ(350)によって接続された複数の保護層部分を含
む前項(1)に記載のインクジェットプリントシステム。 (実施態様3)前記導電体ブリッジ(350)の少なく
とも1つの寸法が、複数の保護層部分のそれぞれよりも
小さい前項(2)記載のインクジェットプリントシステ
ム。 (実施態様4)前記導電体ブリッジ(350)が、前記
パッシベーション層(320)の下に配置され、前記静
電気放電事象を抵抗器層(310)から遠くに分流させ
るのを支援する前項(2)記載のインクジェットプリント
システム。 (実施態様5)前記パッシベーション層(320)の基
礎となるバス構造(475)をさらに含む前項(2)記載
のインクジェットプリントシステム。 (実施態様6)前記保護層(330)と前記抵抗器層
(310)が、前記保護層(330)と前記抵抗器層
(310)が同じ電位になるように前記バス構造(47
5)によって互いに電気結合された前項(5)記載のイン
クジェットプリントシステム。 (実施態様7)前記静電気放電事象に優先破壊位置を提
供する導電体蛇行構造(1130)をさらに含む前項
(1)記載のインクジェットプリントシステム。 (実施態様8)前記導電体蛇行構造(1130)が、前
記保護層(330)の下に配置された前項(7)記載のイ
ンクジェットプリントシステム。 (実施態様9)前記抵抗器層(310)を制御し活動化
するために前記抵抗器層(310)に電気的に結合され
た制御システムと、前記プリントヘッド(140)を含
むプリントヘッドアセンブリと、前記プリントヘッドア
センブリとプリント媒体の間の相対運動を提供すること
ができる移動装置とを含むプリンタ部分をさらに含む前
項(1)記載のインクジェットプリントシステム。 (実施態様10)薄膜構造を有するサーマル・インクジ
ェットプリントヘッドであって、熱を生成する抵抗器層
(310)と、前記抵抗器層(310)の上に少なくと
も部分的に配置された保護層(330)と前記保護層
(330)と連絡した状態でプリントヘッド上に配置さ
れ、前記抵抗器層(310)から遠くに静電気放電事象
の優先経路を提供する静電気放電保護システムとを含
み、前記保護層(330)が、前記静電気放電保護シス
テムとの導電連絡部分を除いてき電気的に分離されたサ
ーマルインクジェットプリントヘッド。 (実施態様11)前記保護層(330)が、大きい容量
性領域に導電結合された複数の保護層部分を含む前項(1
0)記載のインクジェットプリントヘッド。 (実施態様12)前記静電気事象の優先経路を提供する
蛇行構造(1130)をさらに含む前項(10)記載のイン
クジェットプリントヘッド。
【図面の簡単な説明】
【図1A】構成要素に直接生じるESD事象から保護さ
れた電気不活性構成要素を示す本発明の第1の実施形態
の概略ブロック図である。
【図1B】図1Aの実施形態の機構例を示すサーマルイ
ンクジェットプリントヘッドのブロック図。
【図2A】構成要素の外部のある場所で生じるESD事
象から保護された電気不活性構成要素を示す本発明の第
2の実施例のブロック図。
【図2B】図2Aの実施例を示すサーマルインクジェッ
トプリントヘッドのブロック図。
【図3】大きい容量性領域を形成するために「結合」さ
れたサーマルインクジェットプリントヘッドの複数の電
気不活性構成要素の例を示す図。
【図4】切断可能リンクと複数の接点を含む本発明の実
施例を示す図。
【図5】切断可能リンクと1つの接点を含む本発明の実
施例を示す図。
【図6】補助的な切断可能リンクを含む本発明の実施例
を示す図。
【図7】アースに接続された1つの切断可能リンクを含
む本発明の実施例を示す図。
【図8】複数の切断可能リンクと独立した接点を含む本
発明の実施例を示す図。
【図9】プリントヘッドの保護層に組み込まれた複数の
切断可能リンクを含む本発明の実施例を示す図。
【図10】本発明の犠牲ESD保護システムのブロック
図。
【図11】図10に示した本発明の犠牲ESD破損シス
テムの機構例を示す図。
【図12】本発明の容量結合で遮蔽した実施例のブロッ
ク図。
【図13】容量結合で遮蔽したESD保護システムの第
1の実施例を示す図。
【図14】容量結合で遮蔽したESD保護システムの第
2の実施例を示す図。
【図15】容量結合で遮蔽したESD保護システムの第
3の実施例を示す図。
【符号の説明】
140:プリントヘッド 310:抵抗器層 320:パッシベーション層 330:保護層 350:導電体ブリッジ 475:バス構造 1130:導電体蛇行構造
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マシュウ・ギエラ アメリカ合衆国カリフォルニア州サンディ エゴ セゴヴィア・コート 15240 (72)発明者 タイラー・シムス アメリカ合衆国オレゴン州コーバリス ノ ウスウエスト・オーク 805 (72)発明者 ノア・シィ・ラサー アメリカ合衆国カリフォルニア州サンディ エゴ サンタ・クラズ・アベニュー 4957 (72)発明者 マリー・ケント アメリカ合衆国オレゴン州コーバリス ノ ウスイースト・グラシア・ウエイ 2954

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】プリントヘッドを備えたサーマルインクジ
    ェットプリントシステムであって、 インク滴を放出するのに十分な量の熱を提供する抵抗器
    層と、前記抵抗器層の上に重なるパッシベーション層
    と、前記パッシベーション層の上に重なり、前記抵抗器
    層に少なくとも部分的に重なる保護層と、静電気放電事
    象を前記抵抗器層から遠くに分流させるために、前記保
    護層に導電結合された静電気放電装置とを含むサーマル
    インクジェットプリントシステム。
  2. 【請求項2】薄膜構造を有するサーマルインクジェット
    プリントヘッドであって、 熱を生成する抵抗器層と、前記抵抗器層の上に少なくと
    も部分的に配置された保護層と前記保護層と連絡した状
    態でプリントヘッド上に配置され、前記抵抗器層から遠
    くに静電気放電事象の優先経路を提供する静電気放電保
    護システムとを含み、前記保護層が、前記静電気放電保
    護システムとの導電連絡部分を除いてき電気的に分離さ
    れたサーマルインクジェットプリントヘッド。
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