JP2001077033A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
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Abstract
サブコントローラを安全に停止させる。 【解決手段】 バッチ式CVD装置の制御システム10
は、制御ネットワーク16を通じサブコントローラ12
〜15を制御する制御部11と、操作指令と状態表示を
行う操作部17と、操作部17と制御部11を接続した
操作部・制御部間ネットワーク18と、操作部17を制
御ネットワーク16に接続する操作部ネットワーク19
とを有する。操作部17は制御ネットワーク16、制御
部11の異常有無を監視し異常検知時に障害対応する監
視・障害対応部20を有する。 【効果】 異常検知時に各サブコントローラを安全に停
止することで半導体製造装置の故障やウエハの全部不良
を防止できる。制御ネットワーク、制御部を常時監視す
ることで障害発生時の状況を把握し障害解析に役立てる
ことができる。
Description
特に、制御システムのネットワーク技術に関し、例え
ば、減圧CVD装置や拡散装置に利用して有効なものに
関する。
半導体製造装置の一例である減圧CVD装置や拡散装置
における制御システムは、いずれもコンピュータによっ
て構築された制御部と操作部との二つの系統によって構
成されている。
コントローラや流量制御サブコントローラ、温度制御サ
ブコントローラ、機械制御サブコントローラ等の複数の
サブコントローラが制御ネットワークによって接続され
ており、制御部はこれらのサブコントローラに対して成
膜プロセスや拡散プロセスの制御シーケンスを時間軸で
示したレシピに基づき、圧力制御や流量制御、温度制御
および機械制御等を指令するように構成されている。
ユーザ・インタフェース(GUI)機能を備えており、
作業者の操作による指令を加えられてレシピの編集や自
動運転および現在の状態を適時に表示するように構成さ
れている。そして、操作部と制御部とは制御ネットワー
クから独立した操作部・制御部間ネットワークによって
接続されることにより、それぞれの処理が分散されるよ
うになっている。このように操作部の処理と制御部の処
理とが分散される理由は、操作部の処理の制御部へのリ
アルタイム制御の干渉を防止し、成膜プロセスや拡散プ
ロセスの品質を安定化させることにある。
制御システムにおいては操作部の処理と制御部の処理と
が分散されるため、次のような問題点がある。
った時にはサブコントローラに対して制御コマンドを指
令することができなくなるため、サブコントローラが制
御不能になってしまう。
と、処理中の半導体ウエハ(以下、ウエハという。)が
全て不良になってしまう場合が発生する。バッチ式の半
導体製造装置においては一度に多数枚のウエハが一括処
理されるため、処理中のウエハが全て不良になると、き
わめて大きな損失になってしまう。
ネットワークの状態を監視することは障害解析および性
能改善の統計を取得する上で重要であるが、制御ネット
ワークの監視機能および保守機能がサポートされていな
いため、特定のサブコントローラのノード通信量が高く
電文到達の遅延や再送が発生した場合に運用環境ではモ
ニタすることができず、障害の解析追求が難航してしま
う。
れたものであり、その目的とするところは、運用中に制
御ネットワークを監視し制御部に異常が発生した際にサ
ブコントローラを安全に停止させることができる半導体
製造装置を提供することにある。
ための手段は、制御ネットワークを通じて複数のサブコ
ントローラを制御する制御部と、操作による指令および
状態表示を実行する操作部と、この操作部と前記制御部
とを接続した操作部・制御部間ネットワークとを備えて
おり、前記操作部が前記制御ネットワークに接続されて
おり、前記操作部は前記制御ネットワークまたは前記制
御部の異常の有無を監視し、前記制御部による前記サブ
コントローラの制御について異常を検知した時に障害対
応処理を実行するように構成されていることを特徴とす
る。
または制御部の異常の有無を監視し異常が検知された時
には各サブコントローラを安全に停止することにより、
制御ネットワークまたは制御部の異常による半導体製造
装置の故障や損傷および事故を未然に防止することがで
き、また、処理中のウエハの全部不良を防止して半導体
ウエハの損失を回避することができる。一方、制御ネッ
トワークまたは制御部を常時監視することにより、障害
発生時の制御ネットワークおよび制御部の状況を把握す
ることができるため、障害解析に役立てることができ
る。
面に即して説明する。
製造装置は、図1に示されているバッチ式縦形ホットウ
オール形減圧CVD装置(以下、バッチ式CVD装置と
いう。)として構成されている。
ウエハが搬入されるインナチューブ2およびこのインナ
チューブ2を取り囲むアウタチューブ3から構成され縦
形に設置されたプロセスチューブ1と、インナチューブ
2内に原料ガスを供給する原料ガス供給装置4と、プロ
セスチューブ1内を真空排気する真空排気装置5と、プ
ロセスチューブ1外に敷設されてプロセスチューブ1内
を加熱するヒータ6と、ウエハ7を保持したボート8を
インナチューブ2に対して搬入搬出するエレベータ9と
を備えている。そして、成膜処理に際しては、複数枚の
ウエハ7がボート8によって長く整列されて保持された
状態でインナチューブ2内に下端の炉口からエレベータ
9によって搬入される。プロセスチューブ1内が真空排
気装置5によって所定の真空度に排気された後に、イン
ナチューブ2内に原料ガスが原料ガス供給装置4によっ
て導入されるとともに、ヒータ6によってプロセスチュ
ーブ1内が加熱されることにより、ウエハ7にCVD膜
がデポジションされる。
ータによって構築された制御部11と操作部17との二
つの系統によって構成されている制御システム10を、
備えている。一方の系統である制御部11にはヒータ6
を制御する温度制御サブコントローラ12と、真空排気
装置5を制御する圧力制御サブコントローラ13と、原
料ガス供給装置4を制御する流量制御サブコントローラ
14と、エレベータ9等の機械を制御する機械制御サブ
コントローラ15とが、制御ネットワーク16によって
接続されており、制御部11はこれらのサブコントロー
ラ12〜15に対して、成膜プロセスの制御シーケンス
を時間軸で示したレシピに基づく温度制御や圧力制御、
流量制御および機械制御を指令するように構成されてい
る。
ル・ユーザ・インタフェース(GUI)機能を備えてお
り、作業者の操作による指令を加えられてレシピの編集
や自動運転および現在の状態を適時に表示するように構
成されている。そして、操作部17と制御部11とは制
御ネットワーク16から独立した操作部・制御部間ネッ
トワーク18によって接続されることにより、それぞれ
の処理が分散されるようになっている。
ネットワーク16に操作部ネットワーク19によって接
続されており、操作部17は操作部ネットワーク19お
よび制御ネットワーク16によって制御部11および各
サブコントローラ12〜15とデータ通信することがで
きるようになっている。
築(プログラム)されており、監視・障害対応部20は
制御ネットワーク16および制御部11の異常の有無を
後述する監視機能によって監視し、制御部11によるサ
ブコントローラ12〜15の制御について異常を検知し
た時に後述する障害対応機能によって障害対応処理を実
行するように構成されている。
ネル)と所定の通信規約(プロトコル)等を実行するイ
ンタフェース(ハードウエアおよびソフトウエア)とを
備えているものとする。例えば、イーサネット(ethern
et。同軸ケーブルおよびツイストペアケーブル等を用い
たバス型LAN)とTCP/IP(プロトコル)とによ
って構築したLAN(ローカル・エリア・ネットワー
ク)等を使用することができる。
ブコントローラ12〜15との間で温度制御、圧力制
御、流量制御および機械制御等の制御電文およびその制
御結果の電文がデータ通信されるネットワークであるた
め、省配線で小さいデータをリアルタイム性を持って伝
送する必要がある。すなわち、制御部11のレシピステ
ップ制御および機械制御に従って各サブコントローラ1
2〜15に制御指令が伝送される。したがって、アドレ
ス部には制御ネットワーク16のノードIDや再送およ
び応答監視等のプロトコル情報が格納され、データ部に
は制御データおよび制御監視データが格納されている。
ク16の延長としても構成することができる。しかし、
操作部17と制御部11との分散の観点からは、操作部
ネットワーク19は制御ネットワーク16から独立させ
ることが望ましい。
部17から制御部11へ作業者による指令を伝送された
り、制御部11で集められた温度やガス流量、ウエハの
位置等の表示のためのデータが制御部11から操作部1
7に伝送されるため、ネットワークとして大容量帯域が
要求されるが、反面、リアルタイム性の保証は制御ネッ
トワーク16ほどは要求されない。
の制御システム作用を説明する。まず、通常の運用時に
は、操作部17と制御部11とは操作部・制御部間ネッ
トワーク18によって通信し、制御部11と各サブコン
トローラ12〜15とは制御ネットワーク16によって
通信する。したがって、通常の運用時には操作部17と
制御部11との分散処理の原則は確保されている。
0は操作部ネットワーク19を通じて制御ネットワーク
16を監視し、また、操作部・制御部間ネットワーク1
8を監視する。監視・障害対応部20の制御ネットワー
ク16および操作部・制御部間ネットワーク18の監視
手段としては、次のようなものが考えられる。これらは
監視精度を高めるために併用してもよい。
・制御部間ネットワーク18におけるポーリングの途絶
えを監視する方法である。例えば、60秒周期でのポー
リングを双方向に設定しておき、300秒以上途絶えた
場合には異常と判定する。
ラーまたは読み込みエラーを検出することができるの
で、通常の送受信における書き込みエラーおよび読み込
みエラーを検出することにより、制御ネットワーク16
および操作部・制御部間ネットワーク18の異常を検知
(監視)することができる。
16および操作部・制御部間ネットワーク18の利用率
やコリジョン発生率およびノード別トラヒック等のネッ
トワーク統計モニタ機能およびロギング機能を持たせ
る。例えば、ネットワーク統計モニタ機能を制御ネット
ワークのドライバに組み込み、送受信するデータの統計
を取ってデータ量やノード(サブコントローラ)別の通
信量等を単位時間当たり何バイト送受信しているかをロ
ギングする。ちなみに、統計モニタ機能において統計モ
ニタの閾値を越えた場合にアラームやアレート等によっ
て作業者に通知することにより、障害対応処理が実行さ
れることになる。
出して表示する機能および各サブコントローラ12〜1
5の生存確認応答を実行して表示する機能を監視・障害
対応部20に持たせる。例えば、操作部17の画面に制
御ネットワーク16および操作部・制御部間ネットワー
ク18の診断情報を表示する画面を設定し、その画面に
各ノード(各サブコントローラ12〜15および制御部
11)のバインディング情報やROMやEEPROMの
情報を表示させる。
理アドレスおよびルーティング情報等の設定情報がRO
MまたはEEPROMに格納されており、制御ネットワ
ーク16および操作部・制御部間ネットワーク18には
これらの情報を取得する手段が提供されているので、こ
の情報取得手段によって他のノード(各サブコントロー
ラ12〜15および制御部11)の情報を取得し表示す
る機能を、監視・障害対応部20に持たせる。
て常に監視された状態において、操作部・制御部間ネッ
トワーク18に異常が発生し操作部17と制御部11と
の通信が不能になったことが異常として検知されると、
操作部17は制御部11に対して制御部11の状態の取
得を操作部ネットワーク19および制御ネットワーク1
6を通じて要求する。制御部11はその状態取得要求に
制御ネットワーク16および操作部ネットワーク19を
通じて応答して状態に関するデータを送信し、操作部1
7はその制御部11の状態に関するデータを制御ネット
ワーク16および操作部ネットワーク19を通じて受信
する。
は、メモリの使用率、CPUの利用率、実行プロセスの
稼動状況、デッドロックやメモリアクセスエラー等のエ
ラーロギング情報がある。
ーク18だけの異常であって各サブコントローラ12〜
15の制御が継続可能であると判定した場合には、操作
部17は制御部11に対して継続指令または縮退運用指
令を、操作部・制御部間ネットワーク18の代わりに操
作部ネットワーク19および制御ネットワーク16を通
じて伝送する。そして、操作部17は制御部11および
各サブコントローラ12〜15を続行中の処理シーケン
スが終了した後に安全に停止させる。
ントローラ12はヒータ6の設定温度を500℃に下降
させ、流量制御サブコントローラ14は原料ガス供給装
置4の開閉弁を閉じたりマスフローコントローラを絞っ
たりさせる。
ローラ12〜15は通常の制御から特定のものに絞った
制御に移行する。例えば、温度制御サブコントローラ1
2はヒータ6の設定温度を徐々に下降させて行き、圧力
制御サブコントローラ13は真空排気装置5の真空度を
300Torrに設定する。このような縮退運用によっ
て、処理途中のウエハを最終的に再処理によって使用可
能な状態に維持させることができる。
ーク18だけの異常でなく各サブコントローラ12〜1
5の制御が継続不可能の異常であると判定された場合に
は、操作部17は制御部11に対して制御停止指令を操
作部・制御部間ネットワーク18の代わりに操作部ネッ
トワーク19および制御ネットワーク16を通じて送信
する。制御停止指令を受けた制御部11は制御停止シー
ケンスを各サブコントローラ12〜15へ制御ネットワ
ーク16を通じて送信する。各サブコントローラ12〜
15は受信した制御停止シーケンスに従ってヒータ6、
真空排気装置5、原料ガス供給装置4およびエレベータ
9等を安全に停止させる。
続が不可能な場合としては、例えば、温度制御サブコン
トローラ12に異常があり定格以上のパワーがヒータ6
に加わりヒータ断線を招く危惧がある場合や、圧力制御
サブコントローラ13に異常があり真空排気装置5の損
傷を招く危惧がある場合がある。このようにいきなり制
御を停止することができない場合には、各サブコントロ
ーラ12〜15を段階的に停止して行くことにより、ヒ
ータ6や真空排気装置5を安全に停止することができ、
しいては作業者の安全を確保することができる。
給装置4の開閉弁を閉じ、続いて、マス・フロー・コン
トローラの流量を段階的に零に設定する手順があり、こ
れにより、原料ガス供給装置4の障害の発生は防止する
ことができる。マス・フロー・コントローラを段階的に
零に設定する場合には、例えば、80→40→20→0
と段階的に流量を設定して行き、最後に、マス・フロー
・コントローラにシャットダウンの命令を与える。
合には排気異常時にはフルクローズに設定し、排気正常
時にはフルオープンに設定することにより、真空排気装
置5およびAPCの故障を防止することができる。ま
た、温度制御の場合には、温度を零に設定し、その後
に、温度制御サブコントローラ12にシャットダウン命
令を与える。
監視された状態において、制御部11内の制御ネットワ
ーク通信制御部に重大な異常が発生したことが検知され
ると、制御部11はその異常を操作部17に対して操作
部・制御部間ネットワーク18を通じて通知する。制御
部11からの通知を受けた操作部17は前述した制御停
止シーケンスを各サブコントローラ12〜15へ操作部
ネットワーク19を通じて送信する。各サブコントロー
ラ12〜15は受信した制御停止シーケンスに従ってヒ
ータ6、真空排気装置5、原料ガス供給装置4およびエ
レベータ9等を安全に停止させる。
御ネットワーク16への電文の送受信が不能になる異常
であり、次のような場合がある。
ファまたは受信バッファのフル状態から空き状態に長時
間ならない場合。ドライバが制御ネットワークから割り
込みを長時間受けない場合。制御ネットワークから電文
を受けなくなった場合。受信電文の電文抜けが検知され
た場合。受信電文の二重電文が検知された場合。受信電
文に異常シーケンスが検知された場合。電文のフレーム
フォーマットに異常が検知された場合。制御ネットワー
クの制御チップのリセット異常が検知された場合。制御
ネットワークの物理的な接続異常が検知された場合。何
らかの要因でOS(オペレーティング・システム)が通
信制御タスクを停止した場合。
る。
の有無を監視し異常が検知された時には各サブコントロ
ーラを安全に停止することにより、制御ネットワークお
よび制御部の異常によるヒータや真空排気装置、原料ガ
ス供給装置およびエレベータ等の故障や損傷および事故
を未然に防止することができる。
ウエハの損失を回避することができるため、バッチ式C
VD装置の平均故障間隔(MTBF)や、成膜処理のス
ループットを向上させることができる。
監視することにより、障害発生時の制御ネットワークお
よび制御部の状況を把握することができるため、障害解
析に役立てることができる。その結果、半導体製造装置
の平均修理時間(MTTR)を小さく抑制して稼働率を
向上させることができ、半導体製造装置の稼働率の向上
により製造工程全体としてのスループットを向上させる
ことができる。
制御部間ネットワークを迂回して接続することにより、
通常の運用時には操作部と制御部との分散処理を確保す
ることができるため、操作部の処理の制御部へのリアル
タイムの干渉を防止し、制御部の安定した制御を確保す
ることができる。
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更
が可能であることはいうまでもない。
たコンピュータによってそれぞれ構成するに限らず、リ
アルタイムの干渉を防止するネットワークによって接続
される構成であればよい。
トウオール形減圧CVD装置について説明したが、本発
明はこれに限らず、バッチ式横形ホットウオール形減圧
CVD装置や枚葉式減圧CVD装置、さらには、拡散処
理を実行する拡散装置等の半導体製造装置全般に適用す
ることができる。
トワークまたは制御部の異常の有無を監視し異常が検知
された時には各サブコントローラを安全に停止すること
により、制御ネットワークまたは制御部の異常による半
導体製造装置の故障や損傷および事故を未然に防止する
ことができ、また、処理中のウエハの全部不良を防止し
てウエハの損失を回避することができる。
することにより、障害発生時の制御ネットワークおよび
制御部の状況を把握することができるため、障害解析に
役立てることができる。その結果、半導体製造装置の平
均修理時間(MTTR)を小さく抑制して稼働率を向上
させることができ、半導体製造装置の稼働率の向上によ
り製造工程全体としてのスループットを向上させること
ができる。
を示すブロック図である。
タチューブ、4…原料ガス供給装置、5…真空排気装
置、6…ヒータ、7…ウエハ、8…ボート、9…エレベ
ータ、10…制御システム、11…制御部、12…温度
制御サブコントローラ、13…圧力制御サブコントロー
ラ、14…流量制御サブコントローラ、15…機械制御
サブコントローラ、16…制御ネットワーク、17…操
作部、18…操作部・制御部間ネットワーク、19…操
作部ネットワーク、20…監視・障害対応部。
Claims (3)
- 【請求項1】 制御ネットワークを通じて複数のサブコ
ントローラを制御する制御部と、操作による指令および
状態表示を実行する操作部と、この操作部と前記制御部
とを接続した操作部・制御部間ネットワークとを備えて
おり、前記操作部が前記制御ネットワークに接続されて
おり、前記操作部は前記制御ネットワークまたは前記制
御部の異常の有無を監視し、前記制御部による前記サブ
コントローラの制御について異常を検知した時に障害対
応処理を実行するように構成されていることを特徴とす
る半導体製造装置。 - 【請求項2】 前記操作部は、前記操作部・制御部間ネ
ットワークの異常の有無を監視し異常を検知した時に前
記制御ネットワークを通じて前記操作部と前記制御部と
の間の通信を実行するように構成されていることを特徴
とする請求項1に記載の半導体製造装置。 - 【請求項3】 前記障害対応処理は、続行中の処理シー
ケンスの終了後に前記サブコントローラを停止させる処
理であることを特徴とする請求項1または2に記載の半
導体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24970499A JP3926070B2 (ja) | 1999-09-03 | 1999-09-03 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24970499A JP3926070B2 (ja) | 1999-09-03 | 1999-09-03 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001077033A true JP2001077033A (ja) | 2001-03-23 |
JP3926070B2 JP3926070B2 (ja) | 2007-06-06 |
Family
ID=17196972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24970499A Expired - Fee Related JP3926070B2 (ja) | 1999-09-03 | 1999-09-03 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3926070B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005175282A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Nikon Corp | デバイス処理システム及びデータ収集方法 |
JP2008310632A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Asyst Technologies Japan Inc | プロセス状態監視装置 |
JP2020084282A (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料タンクの監視装置及び原料タンクの監視方法 |
-
1999
- 1999-09-03 JP JP24970499A patent/JP3926070B2/ja not_active Expired - Fee Related
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KR20200064026A (ko) * | 2018-11-28 | 2020-06-05 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 원료 탱크의 감시 장치 및 원료 탱크의 감시 방법 |
JP7154116B2 (ja) | 2018-11-28 | 2022-10-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料タンクの監視装置及び原料タンクの監視方法 |
KR102629867B1 (ko) * | 2018-11-28 | 2024-01-25 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 원료 탱크의 감시 장치 및 원료 탱크의 감시 방법 |
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