JP2005175282A - デバイス処理システム及びデータ収集方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光装置10からサーバー61に転送データがある場合、まず、ネットワーク71のトラフィック量をトラフィック監視部において検出する。トラフィック量が多い場合は、各露光装置10から順次サーバー61にデータを転送する。トラフィック量が非常に多い場合は、さらにデータを加工してデータ転送量を削減する。トラフィック量が少ない場合は、複数の露光装置10から一括的にデータを転送する。この場合も、必要に応じてデータを加工して転送してよい。転送されたデータは、サーバー61において、解析や自動診断に供される。露光装置10〜サーバー61へのデータ転送が適切に行われるので、不具合が発生した場合に迅速に対応することができ、不良品を大量に生産しつづける等の問題を回避することができる。
【選択図】 図1
Description
このような診断システムや装置支援システムにおいては、ネットワークを経由して各装置から各種のデータを収集し、例えばサーバー装置等においてそれらのデータを解析し、状況の把握等を行い、制御パラメータ等の調整を行っている。具体的には、そのような装置支援システムにおいては、(1)装置の稼動状況を分析し把握する、(2)装置データの傾向を統計的に解析して異常を検知する、及び、(3)装置データの傾向から未来を予測して異常を未然に防止する、等の処理が行われている(例えば、特許文献1参照)。
また、露光装置とデータ処理を行うサーバー装置等の間は汎用の通信ネットワークにより接続されている場合が多いが、そのような場合、露光システム以外のデータ転送によるトラフィック量の増加により、同様にデータ転送が適切に行えない可能性がある。
また、本発明の他の目的は、デバイス処理装置等からのデータ転送を適切に行い、所望のデータを効率良く収集することのできるデータ収集方法を提供することにある。
また、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記複数のデバイス処理装置から同時的にデータを転送するよう前記データの転送方法を制御するのが好適である。(請求項4)
また、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、転送対象のデータを一括的に転送するように前記データの転送方法を制御するのが好適である。(請求項6)
また、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータを転送対象のデータとするのが好適である。(請求項9)。
また好適には、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記複数のデバイス処理装置から同時的にデータを転送し前記データを収集する。
また好適には、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、転送対象のデータを所定の単位毎の複数のデータに分割し、転送対象のデータを前記分割されたデータ毎に転送し前記データを収集する。
また好適には、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、転送対象のデータを一括的に転送し前記データを収集する。
また好適には、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータを転送し前記データを収集する。
また、デバイス処理装置からのデータ転送を適切に行い、所望のデータを効率良く収集することのできるデータ収集方法を提供することができる。
図1は、本発明の一実施の形態の露光装置システム1の構成を示すブロック図である。
図1に示すように、露光装置システム1は、露光装置10、トラック20、レーザー30、インライン計測器(検査装置)40、オフライン計測器(検査装置)50、装置支援システム60及び通信ネットワーク70を有する。
なお、露光装置システム1は、複数のデバイス製造ラインを有し、露光装置10、トラック20、レーザー30及びインライン計測器40は、例えば各ラインに対応して複数設けられている。また、オフライン計測器50は、それらの製造ラインとは別に複数設けられている。
露光装置10−i(i=1〜n)(以後、単に露光装置10と表す)は、レチクル上に形成された所望のパターンの像を感光材料が塗布された基板(ウエハ)上に転写する投影し、ウエハ上にそのパターンを転写する。本実施の形態において露光装置10は、画像処理によりウエハの所定の基準となるパターンを検出するオフアクシス方式のアライメント光学系を有する露光装置である。
なお、以下の説明においては、図2中に示したXYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係等について説明する。XYZ直交座標系は、X軸及びZ軸が紙面に対して平行となるよう設定され、Y軸が紙面に対して垂直となる方向に設定される。図中のXYZ座標系は、実際にはXY平面が水平面に平行な面に設定され、Z軸が鉛直上方向に設定される。
なお、投影レンズPLはレンズ等の光学素子を複数有する。その光学素子の硝材としては露光光ELの波長に応じて石英、蛍石等の光学材料が使用される。
また、レーザー干渉計112は、X軸に沿って移動鏡111にレーザービームを照射する2個のX軸用のレーザー干渉計及びY軸に沿って移動鏡111にレーザービームを照射するY軸用のレーザー干渉計より構成され、X軸用の1個のレーザー干渉計及びY軸用の1個のレーザー干渉計により、ウエハステージ9のX座標及びY座標が計測される。また、X軸用の2個のレーザー干渉計の計測値の差により、ウエハステージ109のXY平面内における回転角が計測される。
また、位置計測情報PDSは主制御系115へ出力される。主制御系115は、供給された位置計測信号PDSをモニターしつつ、ウエハステージ109の位置を制御する制御信号をステージコントローラ113へ出力する。
さらに、レーザー干渉系112から出力された位置計測信号PDSは後述するレーザステップアライメント(LSA)演算ユニット125へ出力される。
レーザー光源116は、例えばHe−Neレーザー等の光源であり、赤色光(例えば波長632.8nm)であってウエハW上に塗布されたフォトレジストに対して非感光性のレーザービームLBを出射する。このレーザービームLBは、シリンドリカルレンズ等を含むビーム整形光学系117を透過し、ミラー118、レンズ系119、ミラー120、ビームスプリッタ121を介して対物レンズ122に入射する。対物レンズ122を透過したレーザービームLBは、レチクルRの下方であってXY平面に対して斜め方向に設けられたミラー123で反射され、投影レンズPLの視野の周辺に光軸AXと平行に入射され、投影レンズPLの瞳EPの中心を通ってウエハWを垂直に照射する。
投影レンズPLは、このスポット光SP0をウエハW上にスポットSPとして再結像する。
ミラー123は、レチクルRのパターン領域PAの周辺よりも外側で、かつ投影レンズPLの視野内にあるように固定される。従って、ウエハW上に形成されるスリット状のスポット光SPは、パターン領域PAの投影像の外側に位置する。
図4は受光素子124の受光面を示す図である。なお、投影レンズPLのウエハW側の開口数(N.A.)が大きく、回折格子マークから発生する3次回折光も瞳EPを通過する場合には、受光面124c,124dはその3次回折光も受光するような大きさにするとよい。
また、図2中のTTL方式のアライメント光学系の光路中に示した実線は、ウエハWとの結像関係を表し、破線は瞳EPとの共役関係を表す。
サーチアライメント計測(以降では、単に「サーチアライメント」と称する場合もある)は、ウエハ上に形成されている複数個のサーチアライメント用のマークを検出し、ウエハのウエハホルダーに対する回転量やXY面内での位置ずれを検出する処理である。本実施の形態においてサーチアライメントの信号処理方法としては、予め設定した基準パターン(テンプレート)を用いて、そのテンプレートに対応する所定のパターンを検出する手法(テンプレートマッチング手法)を用いる。
なお、サーチアライメント及びファインアライメントのいずれにおいても、その画像処理方法は本実施の形態の手法に限られるものではなく、各々、テンプレートマッチング手法でもエッジ計測手法でも、あるいはまたその他の画像処理方法であってもよい。
上記サーチアライメント計測時の観察倍率とファインアライメント計測時の観察倍率とは、互いに等しい観察倍率としてもよいし、あるいは、ファインアライメント時の倍率をサーチアライメント時の倍率よりも高倍に設定するようにしてもよい。
照明光の光源としてハロゲンランプ126を用いるのは、ハロゲンランプ126から出射される照明光の波長域は500〜800nmであり、ウエハW上面に塗布されたフォトレジストを感光しない波長域であるため、及び、波長帯域が広く、ウエハW表面における反射率の波長特性の影響を軽減することができるためである。
図5は、指標板136の断面図である。
従って、ウエハWのマークの像は、指標板136の透明窓136e内に結像され、このウエハWのマークの像と指標マーク136a,136b,136c,136dとは、リレー系137,139及びミラー138を介してイメージセンサ140に結像する。
しかしながら、イメージセンサ140で得る信号やその後段の信号処理の際に処理対象とする信号の形式は、本実施の形態のこのような例に限られるものではない。テンプレートマッチングの際に、2次元画像処理を行うように構成して2次元信号を計測に用いるようにしてもよい。また、3次元画像信号を得て、3次元画像処理を行うように構成してもよい。さらに言えば、CCDの信号をn次元(nは、n≧1の整数)に展開して、例えば、n次元の余弦成分信号、n次元正弦信号、あるいはn次周波数信号等を生成し、そのn次元信号を用いて位置計測を行うものに対しても本発明は適用可能である。
なお、本明細書の説明において画像、画像信号、画像情報、パターン信号等と称する時も同様に、2次元の画像のみならず、このようなn次元信号(n次元の画像信号や、上述のごとく画像信号から展開された信号等)をも含むものとする。
また、主制御系115は、通信ネットワーク70を介して後述する装置支援システム60のサーバー61と通信を行う。そして、運転履歴データ、プロセスプログラム(プロセス条件データ。レシピと言う場合もある)、装置セットアップ状態データや、前述した各部での計測データ、すなわち、アライメント計測データや、マーク信号波形のトレースデータ等を、サーバー61に送信する。
また、主制御系は、前述したデータに基づいて装置支援システム60のサーバー61で得られた制御情報に基づいて、動作条件が制御されたり、あるいは、動作を停止されたり、中断されたりする。
以上、露光装置10の概略の構成である。
また、レーザー30は、各ラインの露光装置10に露光光を提供する光源である。
インライン計測器40は、露光装置10、トラック20あるいはレーザー30等の装置何に組み込まれたセンサであり、例えば装置雰囲気の温度、湿度、気圧等の情報を計測するセンサである。インライン計測器40で計測されたデータは、後述する本発明に係るデータ転送方式に基づいて、装置支援システム60のサーバー61に出力される。
オフライン計測器50は、デバイスの製造ラインに直接は組み込まれていない計測ツールであり、例えば重ね合わせ計測装置や、線幅測定装置等である。
そのために装置支援システム60のサーバー61は、まず、露光装置10、トラック20、レーザー30、インライン計測器40及びオフライン計測器50等の各装置よりデータを収集し、これをデータベースに保存し管理する。そして、その保存したデータを用いて、装置やラインの稼動状態の解析や診断等を行う。また、その結果に基づいて、各装置の自動補正制御、レポート作成・通知等の処理を行う。
これらのデータ取得部211〜215により、前述した露光装置10を初めとする露光装置システム1の各装置より、通信ネットワーク70を介して、イベントログファイル、シーケンスログファイル、エラーログファイル、稼動履歴ログファイル、計測結果ファイル、パラメータ設定ファイル、診断結果ファイル、アライメント等の各種信号波形ファイル、及び、その他各種トレースデータやログファイル等を収集する。
また、共通ソフトツール230は、本発明に係るツールとして、通信ネットワーク70を転送されるデータの量、すなわち、通信ネットワーク70のトラフィック量を監視するトラフィック監視部231を有する。トラフィック監視部231で検出されたトラフィック量は、データ収集部210等により参照され、収集するデータの転送方法、転送形態の決定に供される。
具体的には、インターフェイス240は、サーバー61が通信ネットワーク70を介して露光装置10等の他の装置に接続されてデータの転送を行う通信環境を提供する。また、通信ネットワーク70を介して接続された端末装置62からアクセス可能にするリモートネットワーク接続環境を提供する。また、作業者からの命令やデータの入出力を好適な形態で行うヒューマンインターフェイス環境を提供する。
図示のごとく、本実施形態のサーバー61には、装置・プロセス解析機能251、レポート・通知機能252、e−mail診断機能253、自動診断機能254、PP管理機能255、自動補正制御機能256を各々実現するアプリケーションが具備されている。
具体的には、装置・プロセス解析機能251は、例えば、装置のユニット毎のエラー件数を集計し、図7に示すようなエラー集計グラフを出力する。
図7に示すエラー集計グラフは、所定の期間における露光装置10毎のエラー発生件数をエラーの種類毎(エラー発生のユニット毎)に表示するグラフである。このグラフを見れば、どの露光装置のどのユニットに問題が存在するかを一見して把握することができる。すなわち、エラーの装置やレシピ(プレセス・プログラム)への依存性を解析することができ、トラブル対応時間を短縮することができる。
図8に示す生産性グラフは、ロット内の各ウエハに対する、ウエハ交換時間、アライメント時間及び露光時間を示すグラフである。このようなグラフを見れば、上は交換時間が長いウエハが時々存在しており、ウエハ搬送に無駄が発生していることがわかる。すなわち、このようなグラフより、装置の利用状況を把握することができ、生産性効率を高める方策を検討することができる。
図9は、2つのレンズ室(A室及びB室)の目標気圧と計測した実際の気圧とを重ねてプロットしたものであり、このグラフを見れば、A室、B室ともに目標気圧によく追従していることがわかる。そして、このようなグラフにより、露光装置10の環境を把握することができる。すなわち、装置性能と環境変動の相関を求め、プロセス異常の原因調査の時間の短縮及び装置調整の頻度の最適化を行うことができる。
本実施の形態の自動診断機能254は、例えばエラー件数診断、メンテナンスデータ診断、あるいはプロダクションデータ診断というような自動診断を行う。
エラー件数診断は、露光装置10のステージ、ローダー、アライメント等におけるエラーの発生件数から、装置トラブルと不良プロセスを発見するものである。
メンテナンスデータ診断は、露光装置10のステージ、結像系、照明系、アライメント、AF等の各種計測結果の変化を監視することにより、メンテナンス頻度の最適化、及び、消耗品交換時期の最適化を行うものである。
また、プロダクションデータ診断は、アライメント計測結果、フォーカス制御データ等を監視することにより、プロセス異常の早期発見と不良品生産の予防を行うものである。
このような自動診断機能254により、ダウンタイムの短縮と生産中の異常を早期に、あるいは適切なタイミングで検出することができ、リワークウエハの削減を行うことができる。
露光装置システム1においては、露光装置10に適用するレシピをサーバー61において集中管理しており、サーバー61から各露光装置10にダウンロードあるいはアップロードできるようになっている。また、そのために、PP管理機能255は、作業者がサーバー61上においてレシピを作成することができる環境を提供する。すなわち、PP管理機能255は、作業者が通信ネットワーク70を介してオフィスのPC等からサーバー61にアクセスし、レシピの作成、編集を行うことができる環境、ツール等を提供する(デスクトップ・レシピ編集機能)。
また、PP管理機能255は、レシピを最適化するための環境を提供する。通常、作業者は、例えば前述した装置・プロセス解析機能251や自動診断機能254による解析結果や診断結果に基づいて、レシピを編集し最適化を行う。しかし、レシピを編集する際には、それ以外に処理条件の妥当性をチェックしたい場合がある。そのような条件の妥当性のチェックのためのシミューレション環境を、PP管理機能255は作業者に提供する。より具体的には、PP管理機能255は、設定したレシピに基づく露光処理のシミュレーション環境を提供し、これにより、例えば重ね合わせ、結像及びスループットの評価が行えるようになっている。
本実施の形態の自動補正制御機能256は、大別すると、環境や装置状態の変化に対する補正制御と、プロセスに対する補正制御との2つの補正制御を行う。
具体的には、例えば次のような各制御を行う。
まず、気圧、温度及び湿度の変化データから、露光装置10のフォーカス面を予測制御し、面安定性の向上を図る(長期フォーカス安定化)。
また、レーザー、気圧、温度及び湿度の変化データから、最適路光量を予測制御し、ウエハ間のCD安定性の向上を図る(ウエハ間ΔCD安定化)。
また、PEB温度の不均一に起因するウエハ内の付近に打つをショット毎の路光量を微調整(補正)し、ウエハ内ΔCDの安定性の向上を図る(ウエハ内ΔCD安定化)。
また、ローダーとトラックのインターフェイスの温度変化を計測し、露光時のウエハ伸縮量を予測し、アライメント補正をかけ、重ね精度の向上を図る(ウエハ間重ね安定化)
具体的には、次のような制御を行う。
例えば、SDM(ディストーションマッチング)、GCM(グリッドマッチング)の補正パラメータの最適化を行い、重ね合わせ精度の向上を図る(号機間マッチング重ね合わせ精度向上)。
また、各プロセスレシピ(プレセスプログラム)による実スループットの算出、及び、露光装置−トラック間での実スループットの算出を行い、スループット低下ユニットの特定とその対策の支援を行う(スループットシミュレータによる生産性向上)。
また、プロセス毎にアライメント計測アルゴリズムの自動選択を行い、重ね合わせ精度の向上を図る(アライメント計測アルゴリズム自動計測)。
また、マスクパターンに最適化されたレンズ周さ補正制御を行う(レンズ収差補正制御)。
以上が、装置支援システム60の構成である。
露光装置システム1においては、図6に示すようにサーバー61にトラフィック監視部231を配置しており、これによりサーバー61と複数の露光装置10とを接続する第1のネットワーク71のトラフィック量を検出している。そして、そのトラフィックの量に応じて、露光装置10とサーバー61との間のデータ転送の形態を行うようにしている。
具体的には、例えば、第1のネットワーク71が十分に空いていると判断された時には、サーバー61は、複数の露光装置10より同時的(一括的)にデータを収集する。
また、第1のネットワーク71がある程度空いている時には、各露光装置10より順次データの転送を受ける。
また、第1のネットワーク71がある程度混雑している時には、各露光装置10の転送対象のデータをさらに細かいデータ量の単位に分割して、順次転送するようにする。
また、第1のネットワーク71が混雑しており、元のデータ量のままでは転送が不可能と判断された時には、転送対象のデータを加工して、データ量を削減して転送するようにする。
また、第1のネットワーク71のトラフィック量の検出は、第1のネットワーク71におけるデータの衝突の発生回数に基づいて行うのが好適である。
まず、データ転送(データの収集)を行う際には、転送データがあるか否かをチェックし(ステップS100)、転送データがある場合にはトラフィック監視部231において第1のネットワーク71のトラフィック量を検出する。
そして、トラフィック量が多い、すなわち第1のネットワーク71が混雑していると判断された場合には(ステップS120)、データを加工して転送するか否かのチェックを行う(ステップS130)。このデータの加工を行うか否かは、予め動作条件として設定しておいてもよいし、トラフィック量に応じて判断するようにしておいてもよい。
そして、全ての装置から全ての転送対象のデータを収集したら(ステップS160)、処理を終了する。
なお、ステップS130においてデータ加工を行わないこととなった場合には、データ加工を行うステップS140の処理をスキップした後、ステップS150において実際に各装置からデータを取得する。
そして、データ加工を行った場合も行わなかった場合も、複数の装置から一括的、同時的にデータをサーバー61に転送し(ステップS190)、処理を終了する。
まず、露光装置10において計測されたデータを、サーバー61のデータ収集部210の機能により、各露光装置10からサーバー61に転送する。この時は、トラフィック監視部231により第1のネットワーク71のトラフィック量を検出し、前述したようなトラフィック量に適合した形態でデータの転送を行う。
次に、得られた解析や自動診断の結果を、e−mail診断機能253によりオフィス等にいる作業者の端末装置62に転送する。
作業者は、転送された結果を確認するとともに、必要に応じてサーバー61にアクセスし、サーバー61のレポート・通知機能251やレポート・通知機能252の機能により例えばグラフ化された形態でデータを閲覧し、状況を把握する。
そして、その結果に基づいて、作業者は露光装置10のパラメータ調整、ユニット調整、部品交換等の対応をとる。
例えば、本実施の形態においては、露光装置10からサーバー61へのデータの転送を効率良く行う形態を例示したが、デバイス処理装置は露光装置に限られるものではない。本実施の形態にも記載してある、トラック20,レーザー30、インライン計測器40及びオフライン計測器50からサーバー61へのデータの転送についても、同様に適用可能である。
また、そもそもリソグラフィラインに限られるものではなく、他の任意のプロセス装置に対しても適用可能である。
10…露光装置
101…コンデンサレンズ 102…レチクルステージ
103…ベース 104…駆動装置
105…ミラー 106…対物レンズ
107…マーク検出系 108…ウエハホルダー
109…ウエハステージ 110…基準マーク
111…移動ミラー 112…レーザー干渉計
113…ステージコントローラ 114…駆動系
115…主制御系 116…レーザー光源
117…ビーム整形光学系 118,120,123…ミラー
119…レンズ系 121…ビームスプリッタ
122…対物レンズ 124…受光素子
125…LSA演算ユニット 126…ハロゲンランプ
127…コンデンサレンズ 128…光ファイバー
129…フィルタ 130,135…レンズ系
131…ハーフミラー 132,138…ミラー
133…対物レンズ 134…プリズム(ミラー)
136…指票マーク 137,139…リレー系
140…イメージセンサ
141…FIA演算ユニット
20…トラック
30…レーザー
40…インライン計測器
50…オフライン計測器
60…装置支援システム
61…サーバー
210…データ収集部
211…露光装置データ取得部 212…トラックデータ取得部
213…レーザーデータ取得部 214…インライン計測器データ取得部
215…オフライン計測器データ取得部
220…露光工程DB
230…共通ソフトツール
231…トラフィック監視部
240…インターフェイス
241…通信部
250…アプリケーション
251…装置・プロセス解析機能 252…レポート・通知機能
253…e−mail診断機能 254…自動診断機能
255…PP管理機能 256…自動補正制御機能
62…端末装置
63…リモート端末装置
70…通信ネットワーク
71…第1のネットワーク
72…第2のネットワーク
73…ゲート装置
Claims (17)
- 1以上のデバイス処理装置と、
前記1以上のデバイス処理装置において得られたデータに基づいて所望のデータ処理を行うデータ処理装置と、
前記1以上のデバイス処理装置と前記データ処理装置との間で前記データの転送を行う通信手段と、
前記通信手段のトラフィック状況を検出するトラフィック監視手段と、
前記検出されたトラフィック状況に応じて、前記1以上のデバイス処理装置と前記データ処理装置との間のデータの転送形態を制御するデータ転送制御手段と
を有するデバイス処理システム。 - 前記データ転送制御手段は、前記トラフィック状況に応じて、前記データの転送方法を制御する
請求項1に記載のデバイス処理システム。 - 複数のデバイス処理装置を有し、
前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記複数のデバイス処理装置の各々から前記データ処理装置に順次データを転送するよう前記データの転送方法を制御する
請求項2に記載のデバイス処理システム。 - 複数のデバイス処理装置を有し、
前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記複数のデバイス処理装置から同時的にデータを転送するよう前記データの転送方法を制御する
請求項2に記載のデバイス処理システム。 - 前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、転送対象のデータを所定の単位毎の複数のデータに分割し、当該分割されたデータ毎に転送するように前記データの転送方法を制御する
請求項2に記載のデバイス処理システム。 - 前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、転送対象のデータを一括的に転送するように前記データの転送方法を制御する
請求項2に記載のデバイス処理システム。 - 前記データ転送制御手段は、前記トラフィック状況に応じて、転送対象のデータの種類を制御する
請求項1に記載のデバイス処理システム。 - 前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータに対して、所定の処理を施して特徴的なデータを生成し、当該特徴的なデータを転送対象のデータとする
請求項7に記載のデバイス処理システム。 - 前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータを転送対象のデータとする
請求項7に記載のデバイス処理システム。 - 前記デバイス処理装置は、露光装置である
請求項1〜9のいずれかに記載のデバイス処理システム。 - 1以上のデバイス処理装置から通信手段を介してデータを収集する方法であって、
前記通信手段のトラフィック状況を検出し、
前記検出されたトラフィック状況に応じた転送形態で、前記1以上のデバイス処理装置からデータを転送しデータを収集する
データ収集方法。 - 前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記複数のデバイス処理装置の各々から順次データを転送し前記データを収集する
請求項11に記載のデータ収集方法。 - 前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記複数のデバイス処理装置から同時的にデータを転送し前記データを収集する
請求項11又は12に記載のデータ収集方法。 - 前記通信手段のトラフィック量が多い時は、転送対象のデータを所定の単位毎の複数のデータに分割し、転送対象のデータを前記分割されたデータ毎に転送し前記データを収集する
請求項11に記載のデータ収集方法。 - 前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、転送対象のデータを一括的に転送し前記データを収集する
請求項11又は12に記載のデータ収集方法。 - 前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータに対して、所定の処理を施して特徴的なデータを生成し、当該特徴的なデータを転送することにより前記データを収集する
請求項11に記載のデータ収集方法。 - 前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータを転送し前記データを収集する
請求項11又は12に記載のデータ収集方法。
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