JP2001056380A - 計数率測定用放射線モニタ - Google Patents
計数率測定用放射線モニタInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 突発的に放射線パルスが入射した場合におい
ても、計数率が受ける影響を緩和し、もって、計数率が
低い測定条件であっても計数率の演算精度の低下を抑制
することができる計数率測定用放射線モニタを提供する
こと。 【解決手段】 所定のサンプリング周期毎に、放射線を
計数して単位時間当たりの放射線数を示す計数率を求め
る計数率測定用放射線モニタにおいて、放射線を検出す
る放射線検出手段１と、放射線検出手段１によって検出
される連続したサンプリング周期における放射線の計数
値と、連続したサンプリング周期とから、計数値の変化
率を算出し、この算出された変化率が所定の値以上の場
合に、所定の値を用いて計数値を補正し、この補正され
た計数値を用いて計数率を算出する計数率演算手段１０
とを備えること。
ても、計数率が受ける影響を緩和し、もって、計数率が
低い測定条件であっても計数率の演算精度の低下を抑制
することができる計数率測定用放射線モニタを提供する
こと。 【解決手段】 所定のサンプリング周期毎に、放射線を
計数して単位時間当たりの放射線数を示す計数率を求め
る計数率測定用放射線モニタにおいて、放射線を検出す
る放射線検出手段１と、放射線検出手段１によって検出
される連続したサンプリング周期における放射線の計数
値と、連続したサンプリング周期とから、計数値の変化
率を算出し、この算出された変化率が所定の値以上の場
合に、所定の値を用いて計数値を補正し、この補正され
た計数値を用いて計数率を算出する計数率演算手段１０
とを備えること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば原子力関連
施設及び医療機関等において、放射線管理に適用される
計数率測定用放射線モニタに係わり、更に詳しくは、通
常のサンプリング時間中にほとんど放射線パルスが検出
されない条件において用いられる計数率測定用放射線モ
ニタに関する。
施設及び医療機関等において、放射線管理に適用される
計数率測定用放射線モニタに係わり、更に詳しくは、通
常のサンプリング時間中にほとんど放射線パルスが検出
されない条件において用いられる計数率測定用放射線モ
ニタに関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の従来から用いられている計数率
測定用放射線モニタは、入力パルス数がある一定幅の範
囲で変動している時、多くのパルスが測定されても、高
速応答性を確保するために、標準偏差が所定の値になっ
たところでパルスカウント処理を打ち切り、その時に得
られたパルス数を基に計数率を決定している。
測定用放射線モニタは、入力パルス数がある一定幅の範
囲で変動している時、多くのパルスが測定されても、高
速応答性を確保するために、標準偏差が所定の値になっ
たところでパルスカウント処理を打ち切り、その時に得
られたパルス数を基に計数率を決定している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の計数率測定用放射線モニタでは、バックグラ
ンドレベルとほぼ等しい程度の低計数率条件における計
数測定を行う場合、突発的な放射線パルスの入射によっ
て計数率の演算に与える影響が大きくなる。
うな従来の計数率測定用放射線モニタでは、バックグラ
ンドレベルとほぼ等しい程度の低計数率条件における計
数測定を行う場合、突発的な放射線パルスの入射によっ
て計数率の演算に与える影響が大きくなる。
【０００４】すなわち、計数率演算結果の変動幅が大き
くなり、計数率の演算精度が低下するという問題があっ
た。
くなり、計数率の演算精度が低下するという問題があっ
た。
【０００５】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、突発的に放射線パルスが入射した場合にお
いても計数率が受ける影響を緩和し、もって、計数率が
低い測定条件であっても計数率の演算精度の低下を抑制
することができる計数率測定用放射線モニタを提供する
ことを目的とする。
ものであり、突発的に放射線パルスが入射した場合にお
いても計数率が受ける影響を緩和し、もって、計数率が
低い測定条件であっても計数率の演算精度の低下を抑制
することができる計数率測定用放射線モニタを提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、以下のような手段を講じる。
めに、本発明では、以下のような手段を講じる。
【０００７】すなわち、請求項１の発明では、所定のサ
ンプリング周期毎に、放射線を計数して単位時間当たり
の放射線数を示す計数率を求める計数率測定用放射線モ
ニタにおいて、放射線を検出する放射線検出手段と、放
射線検出手段によって検出される連続したサンプリング
周期における放射線の計数値と、連続したサンプリング
周期とから、計数値の変化率を算出し、この算出された
変化率が所定の値以上の場合に、所定の値を用いて計数
値を補正し、この補正された計数値を用いて計数率を算
出する計数率演算手段とを備える。
ンプリング周期毎に、放射線を計数して単位時間当たり
の放射線数を示す計数率を求める計数率測定用放射線モ
ニタにおいて、放射線を検出する放射線検出手段と、放
射線検出手段によって検出される連続したサンプリング
周期における放射線の計数値と、連続したサンプリング
周期とから、計数値の変化率を算出し、この算出された
変化率が所定の値以上の場合に、所定の値を用いて計数
値を補正し、この補正された計数値を用いて計数率を算
出する計数率演算手段とを備える。
【０００８】請求項２の発明では、所定のサンプリング
周期毎に、放射線を計数して単位時間当たりの放射線数
を示す計数率を求める計数率測定用放射線モニタにおい
て、放射線を検出する放射線検出手段と、放射線検出手
段によって検出される連続したサンプリング周期におけ
る放射線の計数値と、連続したサンプリング周期とか
ら、計数値の変化率の絶対値を算出し、この算出された
変化率の絶対値が所定の値以上の場合に、所定の値を用
いて計数値を補正し、この補正された計数値を用いて計
数率を算出する計数率演算手段とを備える。
周期毎に、放射線を計数して単位時間当たりの放射線数
を示す計数率を求める計数率測定用放射線モニタにおい
て、放射線を検出する放射線検出手段と、放射線検出手
段によって検出される連続したサンプリング周期におけ
る放射線の計数値と、連続したサンプリング周期とか
ら、計数値の変化率の絶対値を算出し、この算出された
変化率の絶対値が所定の値以上の場合に、所定の値を用
いて計数値を補正し、この補正された計数値を用いて計
数率を算出する計数率演算手段とを備える。
【０００９】請求項３の発明では、請求項１または請求
項２の発明の計数率測定用放射線モニタにおいて、所定
の値を、直前のサンプリング周期に算出された計数率の
関数とする。
項２の発明の計数率測定用放射線モニタにおいて、所定
の値を、直前のサンプリング周期に算出された計数率の
関数とする。
【００１０】請求項４の発明では、所定のサンプリング
周期毎に、放射線を計数して単位時間当たりの放射線数
を示す計数率を求める計数率測定用放射線モニタにおい
て、放射線を検出する放射線検出手段と、放射線の検出
開始後少なくとも１サンプリング周期以上連続して放射
線が検出されないサンプリング周期の後に放射線が検出
された場合に、連続して放射線が検出されないサンプリ
ング周期の総和時間と、当該放射線が検出されたサンプ
リング周期とを加えた時間で、当該放射線が検出された
サンプリング周期における計数値を除することによって
計数率を算出する計数率演算手段とを備える。
周期毎に、放射線を計数して単位時間当たりの放射線数
を示す計数率を求める計数率測定用放射線モニタにおい
て、放射線を検出する放射線検出手段と、放射線の検出
開始後少なくとも１サンプリング周期以上連続して放射
線が検出されないサンプリング周期の後に放射線が検出
された場合に、連続して放射線が検出されないサンプリ
ング周期の総和時間と、当該放射線が検出されたサンプ
リング周期とを加えた時間で、当該放射線が検出された
サンプリング周期における計数値を除することによって
計数率を算出する計数率演算手段とを備える。
【００１１】従って、請求項１から請求項４の発明の計
数率測定用放射線モニタにおいては、突発的に放射線パ
ルスが入射した場合においても、計数率の演算精度の低
下が抑えられる。
数率測定用放射線モニタにおいては、突発的に放射線パ
ルスが入射した場合においても、計数率の演算精度の低
下が抑えられる。
【００１２】請求項５の発明では、所定のサンプリング
周期毎に、放射線を計数して単位時間当たりの放射線数
を示す計数率を求める計数率測定用放射線モニタにおい
て、放射線を検出する放射線検出手段と、請求項１に記
載の計数率演算手段と請求項２に記載の計数率演算手段
と請求項３に記載の計数率演算手段とのうち少なくとも
２つの計数率演算手段を備えた演算部と、演算部に備え
られた複数の計数率演算手段の中から計数率演算手段を
選択する選択情報の入力と当該計数率演算手段による演
算に必要なパラメータの入力とがなされる入力手段と、
当該計数率演算手段によって演算された結果が表示され
る表示手段とを備える。
周期毎に、放射線を計数して単位時間当たりの放射線数
を示す計数率を求める計数率測定用放射線モニタにおい
て、放射線を検出する放射線検出手段と、請求項１に記
載の計数率演算手段と請求項２に記載の計数率演算手段
と請求項３に記載の計数率演算手段とのうち少なくとも
２つの計数率演算手段を備えた演算部と、演算部に備え
られた複数の計数率演算手段の中から計数率演算手段を
選択する選択情報の入力と当該計数率演算手段による演
算に必要なパラメータの入力とがなされる入力手段と、
当該計数率演算手段によって演算された結果が表示され
る表示手段とを備える。
【００１３】従って、請求項５の発明の計数率測定用放
射線モニタにおいては、計数率の演算結果を参照しなが
ら測定状態を把握することができるので、それに基づい
て最適な演算パラメータ、および演算手法を選択するこ
とができる。
射線モニタにおいては、計数率の演算結果を参照しなが
ら測定状態を把握することができるので、それに基づい
て最適な演算パラメータ、および演算手法を選択するこ
とができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。
いて図面を参照しながら説明する。
【００１５】（第１の実施の形態）本発明の第１の実施
の形態を図１から図２を用いて説明する。
の形態を図１から図２を用いて説明する。
【００１６】図１は、本発明の実施の形態に係る計数率
測定用放射線モニタの構成の一例を示す全体構成図であ
る。
測定用放射線モニタの構成の一例を示す全体構成図であ
る。
【００１７】すなわち、本実施の形態による計数率測定
用放射線モニタは、図１にその全体構成例を示すように
検出部１と、演算部１０と、外部装置２０とを備えてい
る。
用放射線モニタは、図１にその全体構成例を示すように
検出部１と、演算部１０と、外部装置２０とを備えてい
る。
【００１８】検出部１は、放射線を検出する検出器２を
備えている。この検出器２は、例えば一般的な放射線検
出器であるシンチレーション検出器や半導体検出器で構
成されている。検出器２は放射線を検出するとパルス信
号を演算部１０に出力する。
備えている。この検出器２は、例えば一般的な放射線検
出器であるシンチレーション検出器や半導体検出器で構
成されている。検出器２は放射線を検出するとパルス信
号を演算部１０に出力する。
【００１９】演算部１０は、検出部１が出力するパルス
信号をカウントするパルスカウントモジュール１１と、
パルスカウントモジュール１１がカウントしたパルス信
号情報を記憶するメモリ１２と、メモリ１２に記憶され
たパルス信号情報に基づいて計数率の演算を行なうマイ
クロプロセッサ１３と、マイクロプロセッサ１３によっ
てなされた演算結果を外部出力用のデータ形式に変換す
る出力インタフェース１４とを備えている。
信号をカウントするパルスカウントモジュール１１と、
パルスカウントモジュール１１がカウントしたパルス信
号情報を記憶するメモリ１２と、メモリ１２に記憶され
たパルス信号情報に基づいて計数率の演算を行なうマイ
クロプロセッサ１３と、マイクロプロセッサ１３によっ
てなされた演算結果を外部出力用のデータ形式に変換す
る出力インタフェース１４とを備えている。
【００２０】外部装置２０は、計数率の演算に必要なパ
ラメータなどを演算部１０に入力する入力手段２１、出
力インタフェース１４から出力される演算結果を表示す
る表示手段２２を備えている。
ラメータなどを演算部１０に入力する入力手段２１、出
力インタフェース１４から出力される演算結果を表示す
る表示手段２２を備えている。
【００２１】図２は、本発明の実施の形態に係る計数率
測定用放射線モニタの演算ロジックを示すフローチャー
トである。
測定用放射線モニタの演算ロジックを示すフローチャー
トである。
【００２２】本実施の形態に係る計数率測定用放射線モ
ニタは、図２に示すような演算ロジックが搭載されたマ
イクロプロセッサ１３を備えている。
ニタは、図２に示すような演算ロジックが搭載されたマ
イクロプロセッサ１３を備えている。
【００２３】次に、以上のように構成した本実施の形態
の計数率測定用放射線モニタの動作を図２を用いて説明
する。
の計数率測定用放射線モニタの動作を図２を用いて説明
する。
【００２４】先ず、サンプリング周期ｄｔと計数変化率
上限値Ｋｍａｘとを設定する（Ｓ１）。これらサンプリ
ング周期ｄｔ、計数変化率上限値Ｋｍａｘは、オペレー
タから入力手段２１に入力されることによって設定され
る。尚、計数変化率上限値Ｋｍａｘについては後述す
る。
上限値Ｋｍａｘとを設定する（Ｓ１）。これらサンプリ
ング周期ｄｔ、計数変化率上限値Ｋｍａｘは、オペレー
タから入力手段２１に入力されることによって設定され
る。尚、計数変化率上限値Ｋｍａｘについては後述す
る。
【００２５】このようにＳ１で設定されたサンプリング
周期ｄｔ毎にパルスカウントモジュール１１において、
検出器２が検出した放射線パルスの計数Ｎｉのカウント
がなされる（Ｓ２）。この結果はメモリ１２に記憶され
る。そして、マイクロプロセッサ１３において、今回の
サンプリングにおいて得られた計数Ｎｉと、メモリ１２
に記憶されている直前のサンプリングにおける計数Ｎ
ｉ-1とが用いられ、以下に示す（１）式により放射線パ
ルスの計数変化率ΔＫが算出される（Ｓ３）。
周期ｄｔ毎にパルスカウントモジュール１１において、
検出器２が検出した放射線パルスの計数Ｎｉのカウント
がなされる（Ｓ２）。この結果はメモリ１２に記憶され
る。そして、マイクロプロセッサ１３において、今回の
サンプリングにおいて得られた計数Ｎｉと、メモリ１２
に記憶されている直前のサンプリングにおける計数Ｎ
ｉ-1とが用いられ、以下に示す（１）式により放射線パ
ルスの計数変化率ΔＫが算出される（Ｓ３）。
【００２６】ΔＫ＝（Ｎｉ−Ｎｉ-1）／ｄｔ …（１） ここで、Ｎｉ ：今回のサンプリングにおける計数（カ
ウント）、 Ｎｉ-1 ：直前のサンプリングにおける計数（カウン
ト）、 ｄｔ ：サンプリング周期（秒）、 ΔＫ ：計数変化率（カウント／秒）。
ウント）、 Ｎｉ-1 ：直前のサンプリングにおける計数（カウン
ト）、 ｄｔ ：サンプリング周期（秒）、 ΔＫ ：計数変化率（カウント／秒）。
【００２７】更にマイクロプロセッサ１３において、こ
の計数変化率ΔＫの絶対値と計数変化率上限値Ｋｍａｘ
との大小比較が行なわれる（Ｓ４）。
の計数変化率ΔＫの絶対値と計数変化率上限値Ｋｍａｘ
との大小比較が行なわれる（Ｓ４）。
【００２８】計数変化率ΔＫの絶対値が、計数変化率上
限値Ｋｍａｘよりも小さい場合（｜ΔＫ｜＜Ｋｍａｘ）
においては、以下の（２）式に示すような、従来用いら
れている計数率演算式に従って、計数率の演算がなされ
る（Ｓ５）。
限値Ｋｍａｘよりも小さい場合（｜ΔＫ｜＜Ｋｍａｘ）
においては、以下の（２）式に示すような、従来用いら
れている計数率演算式に従って、計数率の演算がなされ
る（Ｓ５）。
【００２９】 λｉ＝{（λｉ-1・ｄｔ−Ｎｉ）・ｅｘｐ（−ｄｔ／τ）＋Ｎｉ}／ｄｔ…（２ ） ここで、λｉ ：今回のサンプリングにおける計数率
（カウント／秒）、 λｉ-1：直前のサンプリングにおける計数率（カウント
／秒）、 τ ：時定数（秒） 、τ＝１／（２・λｉ-1・
σ2）（秒）、 σ ：標準偏差（％）。
（カウント／秒）、 λｉ-1：直前のサンプリングにおける計数率（カウント
／秒）、 τ ：時定数（秒） 、τ＝１／（２・λｉ-1・
σ2）（秒）、 σ ：標準偏差（％）。
【００３０】一方、計数変化率ΔＫの絶対値が、計数変
化率上限値Ｋｍａｘ以上である（｜ΔＫ｜≧Ｋｍａｘ）
の場合においては、以下の（３−１）式または（３−
２）式に基づいて補正された補正計数Ｎｉ’が得られ
（Ｓ６）、更にその補正計数Ｎｉ’を用いて以下の
（４）式に基づいて計数率λｉが得られる（Ｓ７）。
化率上限値Ｋｍａｘ以上である（｜ΔＫ｜≧Ｋｍａｘ）
の場合においては、以下の（３−１）式または（３−
２）式に基づいて補正された補正計数Ｎｉ’が得られ
（Ｓ６）、更にその補正計数Ｎｉ’を用いて以下の
（４）式に基づいて計数率λｉが得られる（Ｓ７）。
【００３１】 Ｎｉ’＝ｄｔ・Ｋｍａｘ＋Ｎｉ-1 ：（ΔＫ≧０）…（３−１） Ｎｉ’＝−ｄｔ・Ｋｍａｘ＋Ｎｉ-1：（ΔＫ＜０）…（３−２） λｉ ＝Ｎｉ’／ｄｔ …（４） このようにして、今回のサンプリング計数Ｎｉが反映さ
れた計数率λｉが算出され、測定を終了する（Ｓ８：Ｙ
ｅｓ）まで引き続き次のサンプリング周期におけるサン
プリングが行なわれる。サンプリング毎に得られる計数
Ｎｉ、補正計数Ｎｉ’、計数率λｉはメモリ１２に記憶
される。
れた計数率λｉが算出され、測定を終了する（Ｓ８：Ｙ
ｅｓ）まで引き続き次のサンプリング周期におけるサン
プリングが行なわれる。サンプリング毎に得られる計数
Ｎｉ、補正計数Ｎｉ’、計数率λｉはメモリ１２に記憶
される。
【００３２】このような動作をする本実施の形態に係る
計数率測定用放射線モニタの効果について具体的な数値
を用いて以下に説明する。
計数率測定用放射線モニタの効果について具体的な数値
を用いて以下に説明する。
【００３３】例えば、サンプリング周期ｄｔ＝０．２
（秒）、標準偏差σ＝３（％）、計数変化率上限値Ｋｍ
ａｘ＝１の場合において、直前のサンプリングまでに得
られた計数率λｉ-1＝０．０１（カウント／秒）、直前
のサンプリング計数Ｎｉ-1＝０（カウント）及び今回の
サンプリング計数Ｎｉ＝２（カウント）の場合について
説明する。
（秒）、標準偏差σ＝３（％）、計数変化率上限値Ｋｍ
ａｘ＝１の場合において、直前のサンプリングまでに得
られた計数率λｉ-1＝０．０１（カウント／秒）、直前
のサンプリング計数Ｎｉ-1＝０（カウント）及び今回の
サンプリング計数Ｎｉ＝２（カウント）の場合について
説明する。
【００３４】この場合、｜ΔＫ｜＝｜（２−０）／０．
２｜＝１０＞１＝Ｋｍａｘとなり（Ｓ４：Ｙｅｓ）、Ｓ
６、Ｓ７へと処理が進行され、Ｓ６ではΔＫ≧０が該当
する（３−１）式によって、補正計数Ｎｉ’＝０．２
（カウント）が、またＳ７では（４）式により計数率λ
ｉ＝１．０（カウント／秒）がそれぞれ算出される。
２｜＝１０＞１＝Ｋｍａｘとなり（Ｓ４：Ｙｅｓ）、Ｓ
６、Ｓ７へと処理が進行され、Ｓ６ではΔＫ≧０が該当
する（３−１）式によって、補正計数Ｎｉ’＝０．２
（カウント）が、またＳ７では（４）式により計数率λ
ｉ＝１．０（カウント／秒）がそれぞれ算出される。
【００３５】仮に、従来用いられている（２）式を用い
て計数率を算出するものとすると、計数率λｉ＝０．３
６（カウント／秒）が算出される。この値は、上記に比
べて低い計数率となり、非保守的な計数率を算出するこ
とになる。
て計数率を算出するものとすると、計数率λｉ＝０．３
６（カウント／秒）が算出される。この値は、上記に比
べて低い計数率となり、非保守的な計数率を算出するこ
とになる。
【００３６】また、計数変化率ΔＫの値に関わらず補正
計数Ｎｉ’に計数Ｎｉを用いて（４）式により計数率λ
ｉを算出した場合、λｉは５．０（カウント／秒）とな
り、過剰に大きな計数率を算出することになる。
計数Ｎｉ’に計数Ｎｉを用いて（４）式により計数率λ
ｉを算出した場合、λｉは５．０（カウント／秒）とな
り、過剰に大きな計数率を算出することになる。
【００３７】上述したように、本実施の形態の計数率測
定用放射線モニタにおいては、サンプリング計数の計数
変化率上限値として適当な値を設定し、その値を超える
場合には計数変化率上限値を用いてサンプリング計数を
補正し、この補正計数を用いて計数率を算出する。これ
によって、適切な計数率を算出することができるように
なる。
定用放射線モニタにおいては、サンプリング計数の計数
変化率上限値として適当な値を設定し、その値を超える
場合には計数変化率上限値を用いてサンプリング計数を
補正し、この補正計数を用いて計数率を算出する。これ
によって、適切な計数率を算出することができるように
なる。
【００３８】その結果、突発的に放射線パルスが入射し
た場合においても、より計数精度の高い計数率測定用放
射線モニタを実現することが可能となる。
た場合においても、より計数精度の高い計数率測定用放
射線モニタを実現することが可能となる。
【００３９】（第２の実施の形態）本発明の第２の実施
の形態を図３を用いて説明する。
の形態を図３を用いて説明する。
【００４０】本発明の第２の実施の形態に係る計数率測
定用放射線モニタは、その構成を第１の実施の形態で説
明した図１と同一とし、マイクロプロセッサ１３に書き
こまれた計数率演算プログラムのみが第１の実施の形態
で説明した計数率測定用放射線モニタと異なるのみであ
る。
定用放射線モニタは、その構成を第１の実施の形態で説
明した図１と同一とし、マイクロプロセッサ１３に書き
こまれた計数率演算プログラムのみが第１の実施の形態
で説明した計数率測定用放射線モニタと異なるのみであ
る。
【００４１】従って、ここではその構成に関する説明は
省略し、マイクロプロセッサ１３に搭載されたプログラ
ムの動作のみについて説明する。
省略し、マイクロプロセッサ１３に搭載されたプログラ
ムの動作のみについて説明する。
【００４２】図３は、本発明の実施の形態に係る計数率
測定用放射線モニタの演算ロジックを示すフローチャー
トである。
測定用放射線モニタの演算ロジックを示すフローチャー
トである。
【００４３】本実施の形態に係る計数率測定用放射線モ
ニタを用いる場合においては、先ずサンプリング周期ｄ
ｔと、下記の（５）式に示す計数変化率上限値Ｋｍａｘ
を定義づける計数率λの関数式におけるパラメータＡ、
Ｂ、Ｃ、ａ、ｂを設定する（Ｓ１１）。すなわち、本実
施の形態に係る計数率測定用放射線モニタにおいては、
計数変化率上限値Ｋｍａｘは直前のサンプリングまでに
得られた計数率λｉ-1の関数として決定される。
ニタを用いる場合においては、先ずサンプリング周期ｄ
ｔと、下記の（５）式に示す計数変化率上限値Ｋｍａｘ
を定義づける計数率λの関数式におけるパラメータＡ、
Ｂ、Ｃ、ａ、ｂを設定する（Ｓ１１）。すなわち、本実
施の形態に係る計数率測定用放射線モニタにおいては、
計数変化率上限値Ｋｍａｘは直前のサンプリングまでに
得られた計数率λｉ-1の関数として決定される。
【００４４】なお、これらサンプリング周期ｄｔ、パラ
メータＡ、Ｂ、Ｃ、ａ、ｂは、オペレータによって入力
手段２１から入力されることによって設定される。
メータＡ、Ｂ、Ｃ、ａ、ｂは、オペレータによって入力
手段２１から入力されることによって設定される。
【００４５】 Ｋｍａｘ＝ｆ（λｉ-1） ＝Ａ・ｅｘｐ（ａ・λｉ-1）＋{１−Ｂ・ｅｘｐ（ｂ・λｉ-1）}＋Ｃ…（５） ただし、Ａ＞０、Ｂ＞０、ａ＜０、ｂ＜０、Ｃは任意の
実数。
実数。
【００４６】このようにＳ１１で設定されたサンプリン
グ周期ｄｔ毎に、パルスカウントモジュール１１におい
て、検出器２が検出した放射線パルスの計数Ｎｉのカウ
ントがなされる（Ｓ１２）。
グ周期ｄｔ毎に、パルスカウントモジュール１１におい
て、検出器２が検出した放射線パルスの計数Ｎｉのカウ
ントがなされる（Ｓ１２）。
【００４７】放射線パルスの計数Ｎｉがカウントされる
（Ｓ１２）と、この結果はメモリ１２に記憶される。そ
して、マイクロプロセッサ１３において、今回のサンプ
リングにおける計数Ｎｉと、メモリ１２に記憶されてい
る直前のサンプリングにおける計数率λｉ-1とが用いら
れ、以下に示す（６）式により放射線パルスの計数変化
率ΔＫが算出される（Ｓ１３）。
（Ｓ１２）と、この結果はメモリ１２に記憶される。そ
して、マイクロプロセッサ１３において、今回のサンプ
リングにおける計数Ｎｉと、メモリ１２に記憶されてい
る直前のサンプリングにおける計数率λｉ-1とが用いら
れ、以下に示す（６）式により放射線パルスの計数変化
率ΔＫが算出される（Ｓ１３）。
【００４８】 ΔＫ＝Ｎｉ／（λｉ-1・ｄｔ） …（６） 更にマイクロプロセッサ１３において、前記（５）式を
用いて計数変化率上限値Ｋｍａｘが算出される（Ｓ１
４）。
用いて計数変化率上限値Ｋｍａｘが算出される（Ｓ１
４）。
【００４９】Ｓ１３で得られた計数変化率ΔＫと、Ｓ１
４で得られた計数変化率上限値Ｋｍａｘとから、下記
（７）式か下記（８）式かのいずれかの関係が満足され
るかどうかの比較がなされる（Ｓ１５）。
４で得られた計数変化率上限値Ｋｍａｘとから、下記
（７）式か下記（８）式かのいずれかの関係が満足され
るかどうかの比較がなされる（Ｓ１５）。
【００５０】 ΔＫ ≧ Ｋｍａｘ …（７） ΔＫ ≦ １／Ｋｍａｘ…（８） 上記（７）式または上記（８）式かのいずれかが成立す
る場合（Ｓ１５：Ｙｅｓ）、下記（９）式または下記
（１０）式に基づいて、補正された補正計数Ｎｉ’が算
出される（Ｓ１６）。
る場合（Ｓ１５：Ｙｅｓ）、下記（９）式または下記
（１０）式に基づいて、補正された補正計数Ｎｉ’が算
出される（Ｓ１６）。
【００５１】 ΔＫ≧Ｋｍａｘ のとき Ｎｉ’＝λｉ-1・ｄｔ・Ｋｍａｘ …（９） ΔＫ≦１／Ｋｍａｘのとき Ｎｉ’＝λｉ-1・ｄｔ／Ｋｍａｘ …（１０） 更に、このようにして得られた計数補正Ｎｉ’を、すで
に述べた（４）式に代入することにより計数率λｉの演
算がなされる（Ｓ１７）。
に述べた（４）式に代入することにより計数率λｉの演
算がなされる（Ｓ１７）。
【００５２】一方、Ｓ１３で得られた計数変化率ΔＫ
と、Ｓ１４で得られた計数変化率上限値Ｋｍａｘとが、
上記（７）式および上記（８）式のいずれも満足しない
場合（Ｓ１５：Ｎｏ）、今回のサンプリングにおける計
数Ｎｉを用いて、下記（１１）式によって計数率λｉの
演算がなされる（Ｓ１８）。
と、Ｓ１４で得られた計数変化率上限値Ｋｍａｘとが、
上記（７）式および上記（８）式のいずれも満足しない
場合（Ｓ１５：Ｎｏ）、今回のサンプリングにおける計
数Ｎｉを用いて、下記（１１）式によって計数率λｉの
演算がなされる（Ｓ１８）。
【００５３】λｉ ＝Ｎｉ／ｄｔ …（１１） このようにして、今回のサンプリングにおける計数率λ
ｉが算出された後に、測定が終了する（Ｓ１９：Ｙｅ
ｓ）まで、次のサンプリング周期におけるサンプリング
が行なわれる。
ｉが算出された後に、測定が終了する（Ｓ１９：Ｙｅ
ｓ）まで、次のサンプリング周期におけるサンプリング
が行なわれる。
【００５４】サンプリング毎に得られる計数Ｎｉ、補正
係数Ｎｉ’、計数率λｉはメモリ１２に記憶される。
係数Ｎｉ’、計数率λｉはメモリ１２に記憶される。
【００５５】このような動作をする本実施の形態に係る
計数率測定用放射線モニタの効果について具体的な数値
を用いて以下に説明する。
計数率測定用放射線モニタの効果について具体的な数値
を用いて以下に説明する。
【００５６】例えば、サンプリング周期ｄｔ＝０．２
（秒）、また（５）式のパラメータ（Ａ、Ｂ、ａ、ｂ、
Ｃ）＝（２．０、０．５、−０．３、−０．９、１．
０）とする。このパラメータ値は、計数率λが１０（カ
ウント／秒）未満の測定条件において用いられる典型的
な値である。
（秒）、また（５）式のパラメータ（Ａ、Ｂ、ａ、ｂ、
Ｃ）＝（２．０、０．５、−０．３、−０．９、１．
０）とする。このパラメータ値は、計数率λが１０（カ
ウント／秒）未満の測定条件において用いられる典型的
な値である。
【００５７】更に、直前のサンプリングまでに得られた
計数率λｉ-1＝０．１（カウント／秒）、今回のサンプ
リング計数Ｎｉ＝４（カウント）とする。
計数率λｉ-1＝０．１（カウント／秒）、今回のサンプ
リング計数Ｎｉ＝４（カウント）とする。
【００５８】この場合、上記（６）式より計数変化率Δ
Ｋ＝Ｎｉ／（λｉ-1・ｄｔ）＝２００が得られる。ま
た、（５）式から計数変化率上限値Ｋｍａｘ＝ｆ（λ
ｉ-1）＝３．５が算出されるので、Ｋｍａｘ＝ｆ（λ
ｉ-1）＝３．５＜ΔＫ＝２００ となる。
Ｋ＝Ｎｉ／（λｉ-1・ｄｔ）＝２００が得られる。ま
た、（５）式から計数変化率上限値Ｋｍａｘ＝ｆ（λ
ｉ-1）＝３．５が算出されるので、Ｋｍａｘ＝ｆ（λ
ｉ-1）＝３．５＜ΔＫ＝２００ となる。
【００５９】よって、（９）式が適用となり補正計数Ｎ
ｉ’＝０．０７（カウント）が算出され、この値を用い
て（４）式より計数率λｉ＝０．３５（カウント／秒）
が算出される。
ｉ’＝０．０７（カウント）が算出され、この値を用い
て（４）式より計数率λｉ＝０．３５（カウント／秒）
が算出される。
【００６０】仮に、計数変化率上限値Ｋｍａｘの値にか
かわらず（１１）式を用いて計数率が算出されると、計
数率λｉ＝４／０．２＝２０（カウント／秒）が算出さ
れる。この値は、上記（４）式で得られる計数率に比べ
て厳しすぎる結果をもたらすことなる。
かわらず（１１）式を用いて計数率が算出されると、計
数率λｉ＝４／０．２＝２０（カウント／秒）が算出さ
れる。この値は、上記（４）式で得られる計数率に比べ
て厳しすぎる結果をもたらすことなる。
【００６１】また、サンプリング周期、（５）式のパラ
メータ、直前のサンプリングまでに得られた計数率とも
に上記と同一条件であり、今回のサンプリング計数Ｎｉ
＝０（カウント）のときについて考える。
メータ、直前のサンプリングまでに得られた計数率とも
に上記と同一条件であり、今回のサンプリング計数Ｎｉ
＝０（カウント）のときについて考える。
【００６２】この場合、上記（６）式より計数変化率Δ
Ｋ＝Ｎｉ／（λｉ-1・ｄｔ）＝０が得られる。また、
（５）式から得られる値は上記と変わらないので計数変
化率上限値Ｋｍａｘ＝ｆ（λｉ-1）＝３．５が算出さ
れ、１／Ｋｍａｘ＝１／＝３．５＞ΔＫ＝０が成立す
る。
Ｋ＝Ｎｉ／（λｉ-1・ｄｔ）＝０が得られる。また、
（５）式から得られる値は上記と変わらないので計数変
化率上限値Ｋｍａｘ＝ｆ（λｉ-1）＝３．５が算出さ
れ、１／Ｋｍａｘ＝１／＝３．５＞ΔＫ＝０が成立す
る。
【００６３】よって、（１０）式が適用となり補正計数
Ｎｉ’＝０．００６（カウント）が算出され、この値を
用いて（４）式より計数率λｉ＝０．０３（カウント／
秒）がそれぞれ算出される。
Ｎｉ’＝０．００６（カウント）が算出され、この値を
用いて（４）式より計数率λｉ＝０．０３（カウント／
秒）がそれぞれ算出される。
【００６４】仮に、計数変化率上限値Ｋｍａｘの値にか
かわらず（１１）式を用いて計数率が算出されると、計
数率λｉ＝０／０．２＝０（カウント／秒）が算出され
る。この値は、上記（４）式で得られる計数率に比べ
て、非保守的な結果をもたらすことなる。
かわらず（１１）式を用いて計数率が算出されると、計
数率λｉ＝０／０．２＝０（カウント／秒）が算出され
る。この値は、上記（４）式で得られる計数率に比べ
て、非保守的な結果をもたらすことなる。
【００６５】上述したように、本実施の形態の計数率測
定用放射線モニタにおいては、直前のサンプリングまで
に得られた計数率の関数から計数変化率上限値を設定
し、その値を超えるサンプリング計数が得られた場合
に、サンプリング計数を補正し、この補正計数値を用い
て計数率を算出する。これによって、適切な計数率を算
出することができるようになる。
定用放射線モニタにおいては、直前のサンプリングまで
に得られた計数率の関数から計数変化率上限値を設定
し、その値を超えるサンプリング計数が得られた場合
に、サンプリング計数を補正し、この補正計数値を用い
て計数率を算出する。これによって、適切な計数率を算
出することができるようになる。
【００６６】その結果、突発的に放射線パルスが入射し
た場合においても、より計数精度の高い計数率測定用放
射線モニタを実現することが可能となる。
た場合においても、より計数精度の高い計数率測定用放
射線モニタを実現することが可能となる。
【００６７】（第３の実施の形態）本発明の第３の実施
の形態を図４を用いて説明する。
の形態を図４を用いて説明する。
【００６８】本発明の第３の実施の形態に係る計数率測
定用放射線モニタは、その構成を第１の実施の形態で説
明した図１と同一とし、マイクロプロセッサ１３に書き
こまれた計数率演算プログラムのみが第１の実施の形態
で説明した計数率測定用放射線モニタと異なるのみであ
る。
定用放射線モニタは、その構成を第１の実施の形態で説
明した図１と同一とし、マイクロプロセッサ１３に書き
こまれた計数率演算プログラムのみが第１の実施の形態
で説明した計数率測定用放射線モニタと異なるのみであ
る。
【００６９】従って、ここではその構成に関する説明は
省略し、マイクロプロセッサ１３に搭載されたプログラ
ムの動作のみについて説明する。
省略し、マイクロプロセッサ１３に搭載されたプログラ
ムの動作のみについて説明する。
【００７０】図４は、本発明の実施の形態に係る計数率
測定用放射線モニタの演算ロジックを示すフローチャー
トである。
測定用放射線モニタの演算ロジックを示すフローチャー
トである。
【００７１】本実施の形態に係る計数率測定用放射線モ
ニタを用いる場合においては、先ずサンプリング周期ｄ
ｔを設定すると共に、パルスカウントモジュール１１の
サンプリング回数ｉをリセット（ｉ＝０）する（Ｓ２
１）。これらは、オペレータによって入力手段２１から
入力されることによって設定される。
ニタを用いる場合においては、先ずサンプリング周期ｄ
ｔを設定すると共に、パルスカウントモジュール１１の
サンプリング回数ｉをリセット（ｉ＝０）する（Ｓ２
１）。これらは、オペレータによって入力手段２１から
入力されることによって設定される。
【００７２】次に、このようにＳ２１で設定されたサン
プリング周期ｄｔ毎に、パルスカウントモジュール１１
において、検出器２が検出した放射線パルスの計数Ｎｉ
のカウントがなされる。また、サンプリング周期毎にパ
ルスカウントモジュール１１において、サンプリング回
数がカウントアップ（ｉ＝ｉ＋１）される。（Ｓ２
２）。
プリング周期ｄｔ毎に、パルスカウントモジュール１１
において、検出器２が検出した放射線パルスの計数Ｎｉ
のカウントがなされる。また、サンプリング周期毎にパ
ルスカウントモジュール１１において、サンプリング回
数がカウントアップ（ｉ＝ｉ＋１）される。（Ｓ２
２）。
【００７３】更に計数Ｎｉが零か否かの判定がなされＮ
ｉ＝０（Ｓ２３：Ｎｏ）であれば、再び次のサンプリン
グ周期における計数Ｎｉ+1のカウントが行なわれる。
ｉ＝０（Ｓ２３：Ｎｏ）であれば、再び次のサンプリン
グ周期における計数Ｎｉ+1のカウントが行なわれる。
【００７４】一方、当該サンプリング周期において計数
Ｎｉ≠０（Ｓ２３：Ｙｅｓ）であれば、下記（１２）式
に基づいて計数率λｉの計算がなされ（Ｓ２４）、その
後は、その計数率λｉを初期値として、計数率の演算方
法の選択（Ｓ２５）がなされる。
Ｎｉ≠０（Ｓ２３：Ｙｅｓ）であれば、下記（１２）式
に基づいて計数率λｉの計算がなされ（Ｓ２４）、その
後は、その計数率λｉを初期値として、計数率の演算方
法の選択（Ｓ２５）がなされる。
【００７５】λｉ＝Ｎｉ／（ｉ・ｄｔ）…（１２） Ｓ２５では、第１または第２の実施の形態で説明した計
数率の演算方法のいずれか一方を選択することができ
る。Ｓ２６は、第１の実施の形態で説明した図２のルー
チンに示す演算方法であり、またＳ２７は第２の実施の
形態で説明した図３のルーチンに示す演算方法であるの
で、これらの動作の説明は省略する。
数率の演算方法のいずれか一方を選択することができ
る。Ｓ２６は、第１の実施の形態で説明した図２のルー
チンに示す演算方法であり、またＳ２７は第２の実施の
形態で説明した図３のルーチンに示す演算方法であるの
で、これらの動作の説明は省略する。
【００７６】なお、Ｓ２５から、Ｓ２６またはＳ２７に
移行する場合、図２のＳ１、図３のＳ１１においてサン
プリング周期ｄｔを新たに設定する必要は無く、Ｓ２１
で設定されたサンプリング周期ｄｔの値がそのまま引き
継がれる。
移行する場合、図２のＳ１、図３のＳ１１においてサン
プリング周期ｄｔを新たに設定する必要は無く、Ｓ２１
で設定されたサンプリング周期ｄｔの値がそのまま引き
継がれる。
【００７７】このようにして、計数率が算出され、測定
を終了する（Ｓ２８：Ｙｅｓ）まで、引き続き次のサン
プリング周期のサンプリングが行なわれる。
を終了する（Ｓ２８：Ｙｅｓ）まで、引き続き次のサン
プリング周期のサンプリングが行なわれる。
【００７８】このように、本実施の形態に係る計数率測
定用放射線モニタは、サンプリングを開始して第ｎ回目
のサンプリングで初めて「０」以外のサンプリング計数
Ｎnが得られた時、計数率をＮｎ／ｎ／ｄｔ（カウント
／秒）として、以降のサンプリングを継続する計数率測
定用放射線モニタである。
定用放射線モニタは、サンプリングを開始して第ｎ回目
のサンプリングで初めて「０」以外のサンプリング計数
Ｎnが得られた時、計数率をＮｎ／ｎ／ｄｔ（カウント
／秒）として、以降のサンプリングを継続する計数率測
定用放射線モニタである。
【００７９】上述したように、本実施の形態の計数率測
定用放射線モニタにおいては、計数のカウントがあった
ときのみを考慮して計数率を算出するのではなく、計数
がゼロカウントのときも考慮する。
定用放射線モニタにおいては、計数のカウントがあった
ときのみを考慮して計数率を算出するのではなく、計数
がゼロカウントのときも考慮する。
【００８０】これによって、実質的に広範なサンプリン
グ周期を考慮することになり、低計数率の測定条件にお
いても、適切な計数率を算出することができるようにな
る。
グ周期を考慮することになり、低計数率の測定条件にお
いても、適切な計数率を算出することができるようにな
る。
【００８１】その結果、突発的に放射線パルスが入射し
た場合においても、より計数精度の高い計数率測定用放
射線モニタを実現することが可能となる。
た場合においても、より計数精度の高い計数率測定用放
射線モニタを実現することが可能となる。
【００８２】（第４の実施の形態）本発明の第４の実施
の形態を図５を用いて説明する。
の形態を図５を用いて説明する。
【００８３】本発明の第４の実施の形態に係る計数率測
定用放射線モニタは、その構成を第１の実施の形態で説
明した図１と同一とし、マイクロプロセッサ１３に計数
率演算方法を選択する選択オプションと、複数の計数率
演算プログラムとを格納している。そして、選択された
方法に基づいて計数率の演算がなされるようになってい
ることのみが第１の実施の形態で説明した計数率測定用
放射線モニタと異なる。
定用放射線モニタは、その構成を第１の実施の形態で説
明した図１と同一とし、マイクロプロセッサ１３に計数
率演算方法を選択する選択オプションと、複数の計数率
演算プログラムとを格納している。そして、選択された
方法に基づいて計数率の演算がなされるようになってい
ることのみが第１の実施の形態で説明した計数率測定用
放射線モニタと異なる。
【００８４】従って、ここではその構成に関する説明は
省略し、マイクロプロセッサ１３に搭載されたプログラ
ムの動作のみについて説明する。
省略し、マイクロプロセッサ１３に搭載されたプログラ
ムの動作のみについて説明する。
【００８５】図５は、本発明の実施の形態に係る計数率
測定用放射線モニタの演算ロジックを示すフローチャー
トである。
測定用放射線モニタの演算ロジックを示すフローチャー
トである。
【００８６】本実施の形態に係る計数率測定用放射線モ
ニタを用いる場合においては、オペレータによって、サ
ンプリング周期ｄｔの設定（Ｓ３１）、計数率の演算方
法の選択（Ｓ３２）、計数変化率上限値Ｋｍａｘの設定
（Ｓ３３）がなされる。なお、計数率の演算方法とし
て、第２の実施の形態で説明した方法を選択した場合に
おいては、上述した（５）式のパラメータＡ、Ｂ、Ｃ、
ａ、ｂの設定もなされる。また、計数率の演算方法とし
て、第３の実施の形態で説明した方法を選択した場合に
おいては、計数のカウントがゼロでなくなったときの演
算方法の設定を、第１の実施の形態の方法で行なうか、
第２の実施の形態の方法で行なうかの設定もなされる。
ニタを用いる場合においては、オペレータによって、サ
ンプリング周期ｄｔの設定（Ｓ３１）、計数率の演算方
法の選択（Ｓ３２）、計数変化率上限値Ｋｍａｘの設定
（Ｓ３３）がなされる。なお、計数率の演算方法とし
て、第２の実施の形態で説明した方法を選択した場合に
おいては、上述した（５）式のパラメータＡ、Ｂ、Ｃ、
ａ、ｂの設定もなされる。また、計数率の演算方法とし
て、第３の実施の形態で説明した方法を選択した場合に
おいては、計数のカウントがゼロでなくなったときの演
算方法の設定を、第１の実施の形態の方法で行なうか、
第２の実施の形態の方法で行なうかの設定もなされる。
【００８７】これらは、オペレータによって入力手段２
１から入力されることによって設定される。尚、パラメ
ータ設定はキー入力、ハンディーターミナル及び各種伝
送ラインを介した遠隔入力等を用いても良い。更に、出
力手段２２を介して計数率演算中に任意に設定値の確認
ができるようになっている。
１から入力されることによって設定される。尚、パラメ
ータ設定はキー入力、ハンディーターミナル及び各種伝
送ラインを介した遠隔入力等を用いても良い。更に、出
力手段２２を介して計数率演算中に任意に設定値の確認
ができるようになっている。
【００８８】このように設定されたパラメータ、演算方
法に基づいて計数率の演算がなされ、表示手段２２から
結果が表示される（Ｓ３４）。
法に基づいて計数率の演算がなされ、表示手段２２から
結果が表示される（Ｓ３４）。
【００８９】演算結果を確認し、Ｓ３１、Ｓ３２、Ｓ３
３で設定されたパラメータを変更するか、そのまま変更
しないかを選択することができる（Ｓ３５）。
３で設定されたパラメータを変更するか、そのまま変更
しないかを選択することができる（Ｓ３５）。
【００９０】変更する場合（Ｓ３５：Ｎｏ）においては
再びＳ３１に戻る。変更しない場合（Ｓ３５：Ｙｅｓ）
は、測定が終了する（Ｓ３６：Ｙｅｓ）まで次のサンプ
リング周期におけるサンプリングが行なわれる。
再びＳ３１に戻る。変更しない場合（Ｓ３５：Ｙｅｓ）
は、測定が終了する（Ｓ３６：Ｙｅｓ）まで次のサンプ
リング周期におけるサンプリングが行なわれる。
【００９１】上述したように、本実施の形態に係る計数
率測定用放射線モニタは、計数率演算パラメータの設
定、演算方法の選択がなされる。また、設定したパラメ
ータ、および計数率演算の結果が表示手段２２からリア
ルタイムでモニタされる。
率測定用放射線モニタは、計数率演算パラメータの設
定、演算方法の選択がなされる。また、設定したパラメ
ータ、および計数率演算の結果が表示手段２２からリア
ルタイムでモニタされる。
【００９２】これによって、測定を行いながら最適な演
算パラメータ、および演算手法を選択することが可能と
なり、もって、計数率の演算精度の高い計数率測定用放
射線モニタを実現することが可能となる。
算パラメータ、および演算手法を選択することが可能と
なり、もって、計数率の演算精度の高い計数率測定用放
射線モニタを実現することが可能となる。
【００９３】なお、本発明に係る計数率測定用放射線モ
ニタは、図１に示す構成に限るものではなく、単に演算
部１０のみであってもよい。
ニタは、図１に示す構成に限るものではなく、単に演算
部１０のみであってもよい。
【００９４】また、請求項でいう放射線検出手段は、上
記各実施の形態における検出部１に相当するが、単に検
出器２のことでもよい。更に、請求項でいう計数率演算
手段および演算部は、上記各実施の形態における演算部
１０でも、また単にマイクロプロセッサ１３のことでも
よい。
記各実施の形態における検出部１に相当するが、単に検
出器２のことでもよい。更に、請求項でいう計数率演算
手段および演算部は、上記各実施の形態における演算部
１０でも、また単にマイクロプロセッサ１３のことでも
よい。
【００９５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の計数率測
定用放射線モニタによれば、突発的な放射線パルスの入
射によって計数率が受ける影響を緩和することができ
る。
定用放射線モニタによれば、突発的な放射線パルスの入
射によって計数率が受ける影響を緩和することができ
る。
【００９６】従って、計数率が低い測定条件であって
も、計数率の演算精度の低下を抑制することができる計
数率測定用放射線モニタを実現することが可能となる。
も、計数率の演算精度の低下を抑制することができる計
数率測定用放射線モニタを実現することが可能となる。
【図１】本発明の実施の形態に係る計数率測定用放射線
モニタの構成の一例を示す全体構成図。
モニタの構成の一例を示す全体構成図。
【図２】第１の実施の形態に係る計数率測定用放射線モ
ニタの演算ロジックを示すフローチャート。
ニタの演算ロジックを示すフローチャート。
【図３】第２の実施の形態に係る計数率測定用放射線モ
ニタの演算ロジックを示すフローチャート。
ニタの演算ロジックを示すフローチャート。
【図４】第３の実施の形態に係る計数率測定用放射線モ
ニタの演算ロジックを示すフローチャート。
ニタの演算ロジックを示すフローチャート。
【図５】第４の実施の形態に係る計数率測定用放射線モ
ニタの演算ロジックを示すフローチャート。
ニタの演算ロジックを示すフローチャート。
１…検出部、 ２…検出器、 １０…演算部、 １１…パルスカウントモジュール、 １２…メモリ、 １３…マイクロプロセッサ、 １４…出力インタフェース、 ２０…外部装置、 ２１…入力手段、 ２２…表示手段。
Claims (5)
- 【請求項１】 所定のサンプリング周期毎に、放射線を
計数して単位時間当たりの放射線数を示す計数率を求め
る計数率測定用放射線モニタにおいて、 放射線を検出する放射線検出手段と、 前記放射線検出手段によって検出される連続したサンプ
リング周期における放射線の計数値と、前記連続したサ
ンプリング周期とから、前記計数値の変化率を算出し、
この算出された変化率が所定の値以上の場合に、前記所
定の値を用いて前記計数値を補正し、この補正された計
数値を用いて前記計数率を算出する計数率演算手段とを
備えたことを特長とする計数率測定用放射線モニタ。 - 【請求項２】 所定のサンプリング周期毎に、放射線を
計数して単位時間当たりの放射線数を示す計数率を求め
る計数率測定用放射線モニタにおいて、 放射線を検出する放射線検出手段と、 前記放射線検出手段によって検出される連続したサンプ
リング周期における放射線の計数値と、前記連続したサ
ンプリング周期とから、前記計数値の変化率の絶対値を
算出し、この算出された変化率の絶対値が所定の値以上
の場合に、前記所定の値を用いて前記計数値を補正し、
この補正された計数値を用いて前記計数率を算出する計
数率演算手段とを備えたことを特長とする計数率測定用
放射線モニタ。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の計数率
測定用放射線モニタにおいて、 前記所定の値を、直前のサンプリング周期に算出された
計数率の関数としたことを特徴とする計数率測定用放射
線モニタ。 - 【請求項４】 所定のサンプリング周期毎に、放射線を
計数して単位時間当たりの放射線数を示す計数率を求め
る計数率測定用放射線モニタにおいて、 放射線を検出する放射線検出手段と、 放射線の検出開始後少なくとも１サンプリング周期以上
連続して放射線が検出されないサンプリング周期の後に
放射線が検出された場合に、前記連続して放射線が検出
されないサンプリング周期の総和時間と、当該放射線が
検出されたサンプリング周期とを加えた時間で、当該放
射線が検出されたサンプリング周期における計数値を除
することによって前記計数率を算出する計数率演算手段
とを備えたことを特徴とする計数率測定用放射線モニ
タ。 - 【請求項５】 所定のサンプリング周期毎に、放射線を
計数して単位時間当たりの放射線数を示す計数率を求め
る計数率測定用放射線モニタにおいて、 放射線を検出する放射線検出手段と、 請求項１に記載の計数率演算手段と請求項２に記載の計
数率演算手段と請求項３に記載の計数率演算手段とのう
ち少なくとも２つの計数率演算手段を備えた演算部と、 前記演算部に備えられた複数の計数率演算手段の中から
計数率演算手段を選択する選択情報の入力と当該計数率
演算手段による演算に必要なパラメータの入力とがなさ
れる入力手段と、 当該計数率演算手段によって演算された結果が表示され
る表示手段とを備えたことを特徴とする計数率測定用放
射線モニタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23157199A JP2001056380A (ja) | 1999-08-18 | 1999-08-18 | 計数率測定用放射線モニタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23157199A JP2001056380A (ja) | 1999-08-18 | 1999-08-18 | 計数率測定用放射線モニタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001056380A true JP2001056380A (ja) | 2001-02-27 |
Family
ID=16925612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23157199A Pending JP2001056380A (ja) | 1999-08-18 | 1999-08-18 | 計数率測定用放射線モニタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001056380A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004184390A (ja) * | 2002-05-13 | 2004-07-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 放射性物質容器の状態検出装置及び方法 |
| JP2007017374A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Toshiba Corp | パルス計数計とそれを用いた原子炉出力監視装置ならびにパルス計数方法 |
| JP2008292249A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Hitachi High-Tech Manufacturing & Service Corp | 分光光度計 |
| JP2010112826A (ja) * | 2008-11-06 | 2010-05-20 | Japan Atomic Energy Agency | 放射線モニタリング方法 |
| CN104382611A (zh) * | 2014-11-13 | 2015-03-04 | 沈阳东软医疗系统有限公司 | 光电倍增管输出能量的校正方法和装置 |
-
1999
- 1999-08-18 JP JP23157199A patent/JP2001056380A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004184390A (ja) * | 2002-05-13 | 2004-07-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 放射性物質容器の状態検出装置及び方法 |
| JP2007017374A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Toshiba Corp | パルス計数計とそれを用いた原子炉出力監視装置ならびにパルス計数方法 |
| JP2008292249A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Hitachi High-Tech Manufacturing & Service Corp | 分光光度計 |
| JP2010112826A (ja) * | 2008-11-06 | 2010-05-20 | Japan Atomic Energy Agency | 放射線モニタリング方法 |
| CN104382611A (zh) * | 2014-11-13 | 2015-03-04 | 沈阳东软医疗系统有限公司 | 光电倍增管输出能量的校正方法和装置 |
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