JP2001055438A - 官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法 - Google Patents

官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法

Info

Publication number
JP2001055438A
JP2001055438A JP11233006A JP23300699A JP2001055438A JP 2001055438 A JP2001055438 A JP 2001055438A JP 11233006 A JP11233006 A JP 11233006A JP 23300699 A JP23300699 A JP 23300699A JP 2001055438 A JP2001055438 A JP 2001055438A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
unsaturated group
group
polymer
monoepoxide
unsaturated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11233006A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4122116B2 (ja
Inventor
Hajime Harada
一 原田
Masayuki Fujita
雅幸 藤田
Hidetoshi Otaka
英年 尾高
Hiroshi Iwakiri
浩 岩切
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP23300699A priority Critical patent/JP4122116B2/ja
Publication of JP2001055438A publication Critical patent/JP2001055438A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4122116B2 publication Critical patent/JP4122116B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polyethers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 副生物の削減と煩雑な製造工程の短縮が可能
でかつ不飽和基導入率の高いポリオキシアルキレン系重
合体の製造方法、及び、この不飽和基含有ポリオキシア
ルキレン系重合体の不飽和基を架橋性ケイ素基に変換し
たゴム的性質の良好な架橋性ケイ素基含有ポリオキシア
ルキレン系重合体の製造方法を提供する。 【解決手段】 エポキシド重合触媒を用いて、重合開始
剤存在下、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエ
ポキシドと不飽和基を含有するモノエポキシドとの混合
物を重合することにより、ポリオキシアルキレン系重合
体中に不飽和基を導入する。またこの不飽和基を架橋性
ケイ素基に変換する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は官能基含有ポリオキ
シアルキレン系重合体の製造方法に関する。詳しくは副
生物の削減と煩雑な製造工程の短縮が可能でかつ不飽和
基導入率の高いポリオキシアルキレン系重合体の製造方
法、およびこの不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重
合体の不飽和基を架橋性ケイ素基に変換して得られる、
ゴム的性質の良好な架橋性ケイ素基含有ポリオキシアル
キレン系重合体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】末端に架橋性ケイ素基を含有するポリオ
キシアルキレン系重合体は、建築用あるいは工業用シー
リング材、接着剤、コーティング材などの原料ポリマー
として広く用いられている。このような、末端に架橋性
ケイ素基を含有するポリオキシアルキレン系重合体は特
開昭50−156599号公報、特開昭52−7399
8号公報、特開平3−72527号公報等に例示される
ように、主としてポリオキシアルキレン系重合体の末端
水酸基を利用して(メタ)アリル基などの不飽和基を導
入することにより末端に不飽和基を含有するポリオキシ
アルキレン系重合体を製造した後、これに対して一分子
中にヒドロシリル基と架橋性ケイ素基を含有する化合物
をヒドロシリル化することにより製造されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしこれらの製造法
は、水酸基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造工
程、不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造
工程、架橋性ケイ素基含有ポリオキシアルキレン系重合
体の製造工程の少なくとも3工程が必要であるととも
に、不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造
後などに塩などの副生物あるいは不純物の除去を目的と
した精製工程も多くの場合必要となり、製造工程が長く
煩雑になるという問題がある。
【0004】副生物削減と製造工程短縮の可能性のある
分子末端に架橋性ケイ素基を含有するポリオキシアルキ
レン系重合体の製造方法として、複金属シアン化物錯体
触媒を用いてモノエポキシドを開環重合させる際、不飽
和基を含有しないモノエポキシドを重合後、不飽和基を
含有するモノエポキシドを導入することにより分子末端
に不飽和基を含有するポリオキシアルキレン系重合体を
製造し、この不飽和基に対して一分子中にヒドロシリル
基と架橋性ケイ素基を含有する化合物をヒドロシリル化
反応させる方法が特開平3−79627号公報に開示さ
れている。
【0005】しかしこの製造方法は、重合反応により不
飽和基をポリオキシアルキレン系重合体中に導入可能で
あり製造工程の短縮が可能であるが、用いた不飽和基を
含有するモノエポキシドの重合体中への導入率が低く、
分子末端に不飽和基を含有するポリオキシアルキレン系
重合体の製造方法としては問題がある。従ってこの不飽
和基を架橋性ケイ素基に変換しても、重合体中に導入さ
れる架橋性ケイ素基の量も低く、分子末端に架橋性ケイ
素基を含有するポリオキシアルキレン系重合体の製造法
としても問題がある。
【0006】上述した、不飽和基を含有するモノエポキ
シドの重合体中への導入率の低下は、例えば以下に述べ
る濾過処理を行うことによっても確認できる。すなわ
ち、特開平3−79627号公報に開示された方法に従
って不飽和基を含有しないモノエポキシドを重合した後
に、不飽和基を含有するモノエポキシドを反応させた粗
ポリマー(重合反応後に揮発性成分の減圧除去のみを行
ったポリマー)は、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネ
シウム、セライトなどを助剤に用いた濾過処理を行う
と、重合体の不飽和基当量が濾過処理前と比較して著し
く減少する。これは、濾過処理により不飽和基含量の多
い成分が粗ポリマー中から選択的に除去されたものと推
測される。
【0007】濾過処理を行わない場合であっても、「分
子末端に不飽和基を含有するポリオキシアルキレン系重
合体」中に濾過処理により除去され得る不飽和基含量の
多い成分が多く存在することは、分子末端に不飽和基を
含有するポリオキシアルキレン系重合体の製造法として
は不充分である。この製造法によって得られた不飽和基
を加水分解性(架橋性)ケイ素基に変換して得る方法
は、加水分解性ケイ素基含有ポリオキシアルキレン重合
体の製造法としても不充分である。また用いる不飽和基
を含有するモノエポキシドの量が増加すると粗ポリマー
が白濁する問題もある。
【0008】従って、副生物の削減と煩雑な製造工程の
短縮が可能でかつ不飽和基導入率の高いポリオキシアル
キレン系重合体の製造方法、及び、この不飽和基含有ポ
リオキシアルキレン系重合体の不飽和基を架橋性ケイ素
基に変換して得られる、ゴム的性質の良好な架橋性ケイ
素基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法の開
発が望まれている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエポキ
シドと不飽和基を含有するモノエポキシドとの混合物
(以後「混合モノマー」とも呼ぶ)を重合することによ
り上記課題を解決し、副生物の削減と煩雑な製造工程の
短縮が可能でかつ不飽和基導入率の高いポリオキシアル
キレン系重合体が製造できること、またこの不飽和基を
架橋性ケイ素基に変換することにより架橋性ケイ素基導
入率の高いポリオキシアルキレン系重合体が製造できる
ことを見出し本発明に到達した。
【0010】すなわち本発明は、エポキシド重合触媒を
用いて、重合開始剤存在下、不飽和基を含有しない炭素
数3以上のモノエポキシドと不飽和基を含有するモノエ
ポキシドとの混合物を重合することによってポリオキシ
アルキレン系重合体中に不飽和基を導入することからな
る、不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造
方法である。
【0011】本発明はまた、エポキシド重合触媒を用い
て、重合開始剤存在下、不飽和基を含有しない炭素数3
以上のモノエポキシドの重合を行い、続いて不飽和基を
含有しない炭素数3以上のモノエポキシドと不飽和基を
含有するモノエポキシドとの混合物を重合することによ
ってポリオキシアルキレン系重合体中に不飽和基を導入
することからなる、不飽和基含有ポリオキシアルキレン
系重合体の製造方法である。
【0012】本発明は更に、エポキシド重合触媒を用い
て、重合開始剤存在下、不飽和基を含有しない炭素数3
以上のモノエポキシドと不飽和基を含有するモノエポキ
シドとの混合物を重合することによってポリオキシアル
キレン系重合体中に不飽和基を導入した後、こうして重
合体に導入された不飽和基を架橋性ケイ素基に変換する
ことからなる、架橋性ケイ素基含有ポリオキシアルキレ
ン系重合体の製造方法でもある。
【0013】本発明は更にまた、エポキシド重合触媒を
用いて、重合開始剤存在下、不飽和基を含有しない炭素
数3以上のモノエポキシドの重合を行い、続いて不飽和
基を含有しない炭素数3以上のモノエポキシドと不飽和
基を含有するモノエポキシドとの混合物を重合した後、
こうして重合体に導入された不飽和基を架橋性ケイ素基
に変換することからなる、架橋性ケイ素基含有ポリオキ
シアルキレン系重合体の製造方法でもある。以下に本発
明を詳述する。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明で用いることのできるエポ
キシド重合触媒はエポキシ基を開環重合できるものであ
れば特に限定されず、公知の物が使用できる。具体的に
はナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムあるいは特開平8−1436
60号公報等に示される水酸化セシウムなどのアルカリ
金属水酸化物、特公平6−13604号公報等に示され
るアルミニウムポルフィリン錯体、特開平11−607
24号公報等に示されるホスファゼニウム化合物、米国
特許3278457号公報、米国特許3278458号
公報、米国特許3278459号公報、米国特許342
7256号公報、米国特許3427334号公報、米国
特許3427335号公報、米国特許3829505号
公報、米国特許3941849号公報、米国特許394
1849号公報、米国特許4355188号公報、米国
特許4472560号公報、米国特許4721818号
公報、米国特許4843054号公報、米国特許515
8922号公報、特開平4−145123号公報、特開
平7−196778号公報、特開平8−311171号
公報、特開平8−104741号公報、特開平9−59
373号公報、WO9740086号公報、WO972
3544号公報、Macromolecular Sy
nthesis第5巻9頁1974年刊等に示される複
金属シアン化物錯体等が挙げられる。エポキシド重合触
媒としては重合中にモノマーへの連鎖移動が比較的起こ
りにくく、高分子量のポリオキシアルキレン系重合体が
製造可能である水酸化セシウム、アルミニウムポルフィ
リン錯体、ホスファゼニウム化合物、複金属シアン化物
錯体が好ましい。中でも複金属シアン化物錯体がより好
ましい。
【0015】エポキシド重合触媒としてより好ましい複
金属シアン化物錯体は下記一般式(1)で表される。 Mp {M′[(CN)q (Y)rst ・y(R)・z(H2 O) (1) (ただしMはZn(II)、Fe(II)、Fe(II
I)、Co(II)、Ni(II)、Al(III)、
Sr(II)、Mn(II)、Cr(II)、Cu(I
I)、Sn(II)、Pb(II)、Mo(IV)、M
o(VI)、W(IV)およびW(VI)からなる群よ
り選ばれた金属であり、M′はFe(II),Fe(I
II)、Co(II)、Co(III)、Cr(I
I)、Cr(III)、Mn(II)、Mn(II
I)、Ni(II)、V(IV)およびV(V)からな
る群より選ばれた金属であり、YはCl、Br、I、O
H、NO、C 24 、SO4 、CNS、CNO、NC
O、NCSからなる群より選ばれたものであり、Rはケ
トン、エーテル、ポリエーテル、アルデヒド、エステ
ル、アルコールあるいはアミドからなる群より選ばれた
有機配位子である。これらのM、M′、YおよびRは一
種類であっても二種類以上であってもよい。p、q、
r、sおよびtは金属の原子価と配位数により変わる正
の数であり、yとzは金属の配位数あるいは乾燥条件に
より変わる正の数である。)
【0016】一般式(1)におけるMはZn(II)が
好ましく、M′はFe(II)、Fe(III)、Co
(II)、Co(III)が好ましい。有機配位子とし
てはエーテル、ポリエーテル、アルコールが好ましく、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、ポリオキシプロピレンジオール、ポリオキシプロ
ピレントリオール、三級水酸基を含有するポリオキシプ
ロピレンポリオール、t−ブタノール、イソプロピルア
ルコールが特に好ましい。
【0017】複金属シアン化物錯体としては、ヘキサシ
アノコバルト酸亜鉛を含有する錯体が好ましく、ヘキサ
シアノコバルト酸亜鉛のジメトキシエタン配位錯体、ヘ
キサシアノコバルト酸亜鉛のt−ブタノール配位錯体、
ヘキサシアノコバルト酸亜鉛のt−ブタノールおよびポ
リオキシプロピレンジオール配位錯体、ヘキサシアノコ
バルト酸亜鉛のt−ブタノールおよびポリオキシプロピ
レントリオール配位錯体がより好ましい。また、少なく
とも70重量%が実質的に非晶質の複金属シアン化物錯
体が好ましく、少なくとも90重量%が実質的に非晶質
の複金属シアン化物錯体がより好ましい。
【0018】本発明で用いることのできる重合開始剤と
しては、多価アルコール、多価フェノール、多価カルボ
ン酸などの多価活性水素化合物、不飽和アルコール、不
飽和フェノール、不飽和カルボン酸などの不飽和基含有
活性水素化合物等が挙げられる。なかでも、多価アルコ
ール、不飽和アルコールが反応及び物性の制御が容易で
ある点から好ましい。多価アルコールとしては、プロピ
レングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールな
どの低分子多価アルコール;これら低分子多価アルコー
ルのプロピレンオキシドの付加体;ポリオキシプロピレ
ングリコール、ポリオキシプロピレントリオール、ポリ
オキシプロピレンテトラオールなどの目的とするポリオ
キシアルキレン系重合体よりも低分子量のポリエーテル
ポリオール;水酸基末端ポリブタジエン、水酸基末端の
水素添加ポリブタジエン等の水酸基末端炭化水素系化合
物;アルコール性水酸基末端ポリジメチルシロキサン等
のアルコール性水酸基末端シリコーン系化合物がより好
ましい。不飽和アルコールとしては、アリルアルコー
ル、メタリルアルコールあるいはこれらのプロピレンオ
キシドの付加体などの(メタ)アリル末端モノオールが
より好ましい。重合開始剤由来の不飽和基の導入が可能
という点から(メタ)アリル末端モノオールがより好ま
しい。
【0019】本発明で用いることのできる不飽和基を含
有しない炭素数3以上のモノエポキシドとしては特に限
定されず、プロピレンオキシド、1,2−ブテンオキシ
ド、2,3−ブテンオキシド、エピクロルヒドリン等の
脂肪族アルキレンオキシド、スチレンオキシド等の芳香
族アルキレンオキシド等が挙げられるが、脂肪族アルキ
レンオキシドが好ましく、特にプロピレンオキシドが好
ましい。
【0020】本発明で用いられる不飽和基を含有するモ
ノエポキシドとしては、(メタ)アリルグリシジルエー
テル、グリシジル(メタ)アクリレート、ブタジエンモ
ノオキシド、シクロペンタジエンモノエポキシド等が挙
げられるが、(メタ)アリルグリシジルエーテルが好ま
しく、アリルグリシジルエーテルが特に好ましい。な
お、明細書および請求項において(メタ)アリルはアリ
ルおよび/またはメタリルを表すものとする。
【0021】不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノ
エポキシドと不飽和基を含有するモノエポキシドとの混
合物(混合モノマー)における割合(モル比)は、5
0:1から1:10が好ましい。より好ましくは20:
1から1:5、更に好ましくは10:1から1:2であ
る。不飽和基の導入位置が末端に近い方が、架橋性ケイ
素基導入後の重合体硬化物のゴム的性質が良好になるの
で、不飽和基を含有するモノエポキシドの割合は高い方
が好ましい。一方で不飽和基を含有するモノエポキシド
を単独あるいは高すぎる割合で重合すると、上述のよう
に、不飽和基を含有するモノエポキシドは反応により消
費されても、得られるポリオキシアルキレン系重合体
(粗ポリマー)は顕著に白濁したり、ケイ酸アルミニウ
ム、ケイ酸マグネシウム、セライト等により濾過処理を
行ったものは、処理前と比較して重合体の不飽和基当量
が著しく減少したりする。これは、濾過処理により不飽
和基含有量の多い成分が粗ポリマー中から選択的に除去
されたものと推測され、不飽和基含有ポリオキシアルキ
レン系重合体の製造法あるいは架橋性シリル基含有ポリ
オキシアルキレン系重合体の製造法として不充分であ
る。また、濾過処理を行わない場合であっても、濾過処
理により選択的に除去され得る不飽和基含量の多い成分
が存在することは物性及び品質設計上、不飽和基含有ポ
リオキシアルキレン系重合体の製造法あるいは架橋性シ
リル基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造法とし
て不充分である。不飽和基当量は公知のヨウ素価滴定法
やJIS K1557に規定される総不飽和度などによ
り測定した不飽和基の量から求めることができる。
【0022】本発明によると、上記のような組成の混合
モノマーを用いることにより、濾過処理などによっても
重合体の不飽和基当量がほとんど減少しない、不飽和基
含有率の高い不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合
体が得られ、またこの不飽和基を架橋性ケイ素基に変換
することにより架橋性ケイ素基含有ポリオキシアルキレ
ン系重合体が得られる。
【0023】ゴム的性質の良好な硬化物を得るために
は、架橋性ケイ素基をポリオキシアルキレン系重合体の
分子鎖末端の近傍に導入することが重要である。そのた
めには架橋性ケイ素基を導入するための不飽和基をポリ
オキシアルキレン系重合体の分子鎖末端の近傍に導入す
ることが重要である。従って、上述の不飽和基を含有し
ない炭素数3以上のモノエポキシドと不飽和基を含有す
るモノエポキシドとの混合物(混合モノマー)を重合す
ることにより得られる重合体成分が、全重合体の40重
量%以下であることが必要である。これより大きくなる
と破断時強度と破断時伸びのバランスが悪くなり、架橋
性ケイ素基導入後の重合体硬化物のゴム的性質が不充分
となる。良好なゴム的性質を確保するためには、硬化物
の混合モノマーを重合することにより得られる重合体成
分が全重合体の30重量%以下であることが好ましく、
25重量%以下であることがより好ましく、20重量%
以下であることが更に好ましい。
【0024】本発明のポリオキシアルキレン系重合体
は、モノエポキシドを重合することにより得られるオキ
シアルキレンユニットを含有する重合体である。用いる
重合開始剤の種類によってはオキシアルキレンユニット
よりも他のユニットの方が多くなることもあるが、本発
明ではこれもポリオキシアルキレン系重合体に含まれ
る。オキシアルキレンユニットが50モル%以上である
ポリオキシアルキレン系重合体がより好ましい。オキシ
アルキレンユニットがオキシプロピレンユニットである
ポリオキシプロピレン系重合体が更に好ましい。主鎖の
90モル%以上がオキシプロピレンユニットであるポリ
オキシプロピレン系重合体が特に好ましい。
【0025】本発明のポリオキシアルキレン系重合体の
分子量には特に制限はないが、GPCにおけるポリスチ
レン換算での数平均分子量が1,000から100,0
00であることが好ましい。数平均分子量が1,000
未満では得られるポリオキシアルキレン系重合体の硬化
物が脆くなり、良好なゴム的性質が得られず、100,
000を超えると重合体の粘度が高くなりすぎ、取り扱
いが困難となるため好ましくない。さらに、不飽和基含
有オキシアルキレン系重合体の数平均分子量が3,00
0から50,000であることが、粘度の点から特に好
ましい。
【0026】本発明で用いる不飽和基を含有するモノエ
ポキシドの量は、重合開始剤中の水酸基モル数の0.8
から10倍が好ましく、1.0から2.5倍がより好ま
しい。少なすぎると不飽和基の導入量が不充分になり、
架橋性ケイ素基の導入量も不充分なものとなる。一方で
多すぎてもまた、架橋性ケイ素基とヒドロシリル基を一
分子中に含有する化合物を多く使用しないと架橋性ケイ
素基が導入されない重合体の割合が多くなってしまい好
ましくない。
【0027】不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合
体の末端近傍への不飽和基導入率を向上させる製造法と
しては、エポキシド重合触媒を用いて、重合開始剤存在
下、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエポキシ
ドの重合(第1重合)を行った後、不飽和基を含有しな
い炭素数3以上のモノエポキシドと不飽和基を含有する
モノエポキシドとの混合物(混合モノマー)を重合(第
2重合)する方法がより好ましい。
【0028】第2重合の混合モノマーの重合は第1重合
のモノエポキシドの重合後に行うが、必ずしも第1重合
のモノエポキシドが完全に消費されてから行う必要はな
く、第1重合のモノエポキシドの添加終了後に第2重合
の混合モノマーの添加を開始しても良い。第1重合で添
加し終えたモノエポキシドの系中濃度の低下を示す反応
液温の低下を検出した後から、完全消費による反応液温
の安定するまでの間に第2重合の混合モノマーの添加を
開始するのがより好ましい。なお、第1重合に使用する
不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエポキシドと
第2重合で使用する混合モノマー中の不飽和基を含有し
ない炭素数3以上のモノエポキシドとは同じであっても
よく、異なっていてもよい。
【0029】本発明のエポキシド重合触媒を用いたモノ
エポキシドの重合反応は、無溶媒で行ってもよく、TH
Fなどの溶媒を用いて行ってもよい。また、不飽和基を
含有するモノエポキシドの導入を制御するために、配位
性の高い添加剤等を添加してもよい。更にBHTなどの
フェノール系酸化防止剤、フェニル−β−ナフチルアミ
ンなどの芳香族アミン系酸化防止剤等の存在下で重合反
応を行ってもよい。
【0030】本発明により製造される不飽和基含有ポリ
オキシアルキレン系重合体は分子中に不飽和基と共に水
酸基を含有するが、必要に応じてこの水酸基を活性水素
のない形に変換することも可能である。このような方法
としては、モノイソシアネートなどによるウレタン化、
トリアルキルシリルクロライド、ヘキサメチルジシラザ
ン等に代表されるいわゆるシリル化剤あるいはヒドロシ
リル基を含有する化合物よるシリルエーテル化、酸無水
物、酸クロライド等によるエステル化、ハロゲン化アル
キル、ハロゲン化アリル等によるアルキル化、ジヒドロ
ピラン等のビニルエーテル化合物によるエーテル化、イ
ソブチレンによるt−ブチルエーテル化等公知の方法が
使用可能である。
【0031】本発明の不飽和基含有ポリオキシアルキレ
ン系重合体の不飽和基は、一分子中にヒドロシリル基と
架橋性ケイ素基を含有する化合物をヒドロシリル化反応
させることにより、架橋性ケイ素基に変換することが可
能である。このようにして末端近傍への架橋性ケイ素基
の導入率の高い、硬化物のゴム的性質の良好なポリオキ
シアルキレン系重合体が得られる。
【0032】一分子中にヒドロシリル基と架橋性ケイ素
基を含有する化合物としては特に限定されないが下記一
般式(2)で表される化合物が好ましい。 H−(Si(R2 2-b)(Xb )O)m Si(R3 3-a)Xa (2) (式中−(Si(R2 2-b)(Xb )O)m Si
(R3 3-a)Xa が架橋性ケイ素基であり、シラノール基
あるいは加水分解によりシラノール基を生成し得る加水
分解性基を含有する基である。R2 およびR3 は同一ま
たは異なる炭素数1から20のアルキル基、炭素数6か
ら20のアリール基、炭素数7から20のアラルキル基
または(R′)3 SiO−で示されるトリオルガノシロ
キシ基を示し、R2またはR3 が二個以上存在すると
き、それらはそれぞれ同一であってもよく、異なってい
てもよい。ここでR′は炭素数1から20の一価の炭化
水素基であり3個のR′は同一であってもよく、異なっ
ていてもよい。Xは水酸基または加水分解性基を示し、
加水分解性基はXが二個以上存在する時、それらは同一
であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2
または3を、bは0、1、または2をそれぞれ示す。ま
たm個の−Si(R2 2-b)(Xb )−O−基におけるb
について、それらは同一であってもよく、異なっていて
もよい。mは0から19の整数を示す。但し、a+Σb
≧1を満足するものとする)
【0033】上記Xのうちの加水分解性基は特に限定さ
れず、従来公知の加水分解性基であれば良い。具体的に
は例えば水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシ
ルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、
酸アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニ
ルオキシ基等が挙げられる。これらの内では、加水分解
性が穏やかで取り扱いやすいという点でメトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等のアルコ
キシ基が好ましい。
【0034】この水酸基や加水分解性基は1個のケイ素
原子に1〜3個結合することができ、(a+Σb)は1
から5であるのが好ましい。水酸基や加水分解性基が2
個以上存在する場合には、それらは同一であっても良
く、異なっていてもよい。
【0035】架橋性ケイ素基中のケイ素原子の数は1個
でもよく2個以上でもよいが、シロキサン結合等により
ケイ素原子の連結された架橋性ケイ素基の場合には20
個程度でもよい。
【0036】上記一般式(2)で表される化合物は、入
手が容易であるため下記一般式(3)で表される化合物
が好ましい。 H−Si(R3 3-a)Xa (3) (式中R3 、X、aは前記と同じ。)
【0037】具体的には、トリクロルシラン、メチルジ
クロルシラン、ジメチルクロルシラン、フェニルジクロ
ルシラン、トリメチルシロキシメチルクロルシラン、
1,1,3,3−テトラメチル−1−ブロモジシロキサ
ンの如きハロゲン化シラン類;トリメトキシシラン、ト
リエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジ
メトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、トリメチ
ルシロキシメチルメトキシシラン、トリメチルシロキシ
ジエトキシシランの如きアルコキシシラン類;メチルジ
アセトキシシラン、フェニルジアセトキシシラン、トリ
アセトキシシラン、トリメチルシロキシメチルアセトキ
シシラン、トリメチルシロキシジアセトキシシランの如
きアシロキシシラン類;ビス(ジメチルケトキシメー
ト)メチルシラン、ビス(シクロヘキシルケトキシメー
ト)メチルシラン、ビス(ジエチルケトキシメート)ト
リメチルシロキシシラン、ビス(メチルエチルケトキシ
メート)メチルシラン、トリス(アセトキシメート)シ
ランの如きケトキシメートシラン類;メチルイソプロペ
ニルオキシシランの如きアルケニルオキシシラン類など
が挙げられる。中でもメチルジメトキシシラン、トリメ
トキシシラン、メチルジエトキシシラン、トリエトキシ
シラン等のアルコキシシラン類;トリクロロシラン、メ
チルジクロロシラン等のハロゲン化シラン類が好まし
く、メチルジメトキシシラン、トリメトキシシランが特
に好ましい。ハロゲン化シラン類のハロゲン原子は不飽
和基にヒドロシリル化反応させた後、公知の方法により
カルボン酸、オキシム、アミド、ヒドロキシアミン等の
活性水素化合物やケトン類のアルカリ金属エノラート等
と反応させることにより他の加水分解性基に変換しても
良い。
【0038】上記の一分子中にヒドロシリル基と架橋性
ケイ素基を含有する化合物はポリオキシアルキレン系重
合体の各分子鎖末端に対し、0.5から5当量反応させ
るのが好ましい。0.5当量未満では十分な硬化物が得
られず、5当量を超えると硬化物の伸びが出にくくなり
不都合である。硬化性および物性バランスの点より0.
6から4当量がより好ましく、0.7から3当量が更に
好ましい。
【0039】また不飽和基含有ポリオキシアルキレン系
重合体に一分子中にヒドロシリル基と架橋性ケイ素基を
含有する化合物ケイ素基を含有する化合物を反応させる
触媒としては、白金、ロジウム、コバルト、パラジウ
ム、及びニッケル等のVIII族遷移金属元素から選ば
れた金属錯体触媒等が有効に使用される。例えば、H2
PtCl6 ・6H2 O、白金−ビニルシロキサン錯体、
白金−オレフィン錯体、Ptメタル、RhCl(PPh
33 、RhCl3 、Rh/Al23 、RuCl 3
IrCl3 、FeCl3 、AlCl3 、PdCl2 ・2
2 O、NiCl2、TiCl4 等のような化合物が使
用できるが、ヒドロシリル化の反応性の点から、白金−
ビニルシロキサン錯体、白金−オレフィン錯体のいずれ
かであることが特に好ましい。ここでいう白金−ビニル
シロキサン錯体とは、白金原子に対し、配位子として分
子内にビニル基を含有する、シロキサン、ポリシロキサ
ン、環状シロキサンが配位している化合物の総称であ
り、上記配位子の具体例としては、1,1,3,3−テ
トラメチル1,3−ジビニルジシロキサン等が挙げられ
る。白金−オレフィン錯体のオレフィン配位子の具体例
としては1,5−ヘキサジエン、1,7−オクタジエ
ン、1,9−デカジエン、1,11−ドデカジエン、
1,5−シクロオクタジエン等が挙げられる。上記配位
子の中でも1,9−デカジエンが特に好ましい。
【0040】なお白金−ビニルシロキサン錯体、白金−
オレフィン錯体については特公平8−9006号公報に
開示されている。
【0041】また、不飽和基含有ポリオキシアルキレン
系重合体を製造後に、濾過処理などを行わず、揮発性成
分を減圧下で除去した粗ポリマーに直接、一分子中にヒ
ドロシリル基と架橋性ケイ素基を含有する化合物ケイ素
基を含有する化合物を反応させることにより架橋性ケイ
素基含有ポリオキシアルキレン系重合体を製造すること
も可能である。
【0042】本方法で製造した架橋性ケイ素基含有ポリ
オキシアルキレン系重合体は水分あるいは大気中の湿分
と反応することにより架橋硬化物を与え、建築用あるい
は工業用シーリング材、接着剤、コーティング材などの
原料ポリマーとして有用である。
【0043】また本方法で製造した不飽和基含有ポリオ
キシアルキレン系重合体は、少なくとも1個のヒドロシ
リル基含有化合物と反応させることにより架橋硬化物を
得ることができる。少なくとも1個のヒドロシリル基含
有化合物としては特に制限はなく各種のものを用いるこ
とができる。少なくとも1個のヒドロシリル基含有化合
物としては少なくとも1個のヒドロシリル基を含有する
鎖状ポリシロキサン、少なくとも1個のヒドロシリル基
を含有する環状ポリシロキサン、少なくとも1個のヒド
ロシリル基が残るようにこれらのポリシロキサンを一分
子中に2個以上の不飽和基を含有する低分子化合物を反
応させたものなどが挙げられる。
【0044】またこの時、上述の不飽和基含有ポリオキ
シアルキレン系重合体に一分子中にヒドロシリル基と架
橋性ケイ素基を含有する化合物を反応させる時と同様の
触媒を用いることができる。
【0045】この不飽和基含有ポリオキシアルキレン系
重合体と少なくとも1個のヒドロシリル基含有化合物と
反応させることにより得られる架橋硬化物は、シーリン
グ材、接着剤、粘着剤、塗料、粉体塗料、発泡体、フィ
ルム、ガスケット、各種成型材料等に用いることができ
る。
【0046】
【実施例】以下に本発明を実施例に基づき説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0047】実施例1 混合モノマーを用いた不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体の製造 [第1重合] オートクレーブ中にエポキシド重合触媒
としてヘキサシアノコバルト酸亜鉛のグライム配位錯体
を0.34g、重合開始剤としてヘキサシアノコバルト
酸亜鉛のグライム配位錯体を重合触媒に用いて重合した
水酸基当量0.185mmol/gのポリオキシプロピ
レングリコールを1500g(0.277molO
H)、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエポキ
シドとしてプロピレンオキシドを165g仕込み、80
℃に加熱することにより反応を行った。誘導期を経た
後、反応液温は急激に上昇し、その後に低下しはじめ
た。
【0048】[第2重合] 反応液温の低下しはじめを
確認後、プロピレンオキシド320g(5.6mol)
とアリルグリシジルエーテル66g(0.58mol)
との混合モノマーを1.5時間かけて滴下し、2時間後
重合を行った。内温を110℃に制御した。後重合1.
5時間後に反応液のサンプリングを行い、ガスクロマト
グラフィーによりアリルグリシジルエーテルの消失を確
認した。減圧脱揮を行い、ほぼ無色透明の粗ポリマーを
得た(混合モノマーの重合により得られた重合体成分の
割合19重量%)。
【0049】得られた粗ポリマーのヨウ素価滴定で求め
た不飽和基当量は0.29mmol/gであった。また
粗ポリマー100重量部に対してヘキサン300重量
部、ケイ酸アルミニウム(キョーワード700PEL、
協和化学工業製)30重量部を混合し、室温で4時間攪
拌した後、セライト濾過を行った。濾液中の揮発性成分
を除去し、精製した不飽和基含有ポリオキシプロピレン
系ポリマーを得た。得られた精製ポリマーは無色透明で
あり、ヨウ素価滴定で求めた不飽和基当量は0.28m
mol/gであった。精製による不飽和基成分の減少は
ほとんどなかった。精製ポリマーをTHF溶媒のゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定し
た結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)1
8,000、分子量分布(Mw/Mn)1.22であっ
た。精製前の粗ポリマーの外観と不飽和基当量、精製後
のポリマーの外観と不飽和基当量および精製前後の不飽
和基当量の比を実施例2、比較例1および2とともに表
1に示した。
【0050】
【表1】
【0051】実施例2 混合モノマーを用いた不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体の製造 [第1重合] オートクレーブ中に、エポキシド重合触
媒としてヘキサシアノコバルト酸亜鉛のグライム配位錯
体を0.63g、重合開始剤として水酸基価39mgK
OH/gのポリオキシプロピレンモノアリルエーテル
(ユニセーフ PKA−5014、日本油脂製)を54
0g(0.36molOH)、不飽和基を含有しない炭
素数3以上のモノエポキシドとしてプロピレンオキシド
を70g仕込み、90℃に加熱することにより反応を行
った。誘導期を経た後、反応液温は急激に上昇し、その
後に低下しはじめた。反応液温の低下しはじめを確認
後、プロピレンオキシド3350gを約7時間かけて滴
下した。滴下終了後に添加プロピレンオキシドの消費に
よる反応液温および内圧の低下がはじまった。
【0052】[第2重合] 反応液温および内圧の低下
しはじめを確認後、プロピレンオキシド420g(7.
2mol)とアリルグリシジルエーテル86g(0.7
5mol)との混合モノマーを1.5時間かけて滴下
し、2時間後重合を行った。後重合1時間後に反応液の
サンプリングを行い、ガスクロマトグラフィーによりア
リルグリシジルエーテルの消失を確認した。減圧脱揮を
行い、ほぼ無色透明の粗ポリマーを得た(混合モノマー
の重合により得られた重合体成分の割合11重量%)。
【0053】得られた粗ポリマーのヨウ素価滴定で求め
た不飽和基当量は0.25mmol/gであった。また
粗ポリマー100重量部に対してヘキサン300重量
部、ケイ酸アルミニウム(キョーワード700PEL、
協和化学工業製)とケイ酸マグネシウム(キョーワード
600S 、協和化学工業製)の等量混合物30重量部を
混合し、室温で4時間攪拌した後、セライト濾過を行っ
た。濾液中の揮発性成分除去し、精製した不飽和基末端
オキシプロピレン系ポリマーを得た。得られた精製ポリ
マーは無色透明であり、ヨウ素価滴定で求めた不飽和基
当量は0.22mmol/gであった。精製による不飽
和基成分の減少はほとんどなかった。精製ポリマーをT
HF溶媒のゲルパーミエーションクロマトグラフィー
(GPC)で測定した結果、ポリスチレン換算の数平均
分子量(Mn)16,400、分子量分布(Mw/M
n)1.25であった。
【0054】比較例1 不飽和基を含有するモノエポキ
シド単独での不飽和基含有ポリオキシプロピレン系重合
体の製造 [第1重合] オートクレーブ中に、エポキシド重合触
媒としてヘキサシアノコバルト酸亜鉛のグライム配位錯
体を0.85g、重合開始剤として水酸基価56mgK
OH/gのPPGを810g(0.81molOH)、
不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエポキシドと
してプロピレンオキシドを96g仕込み、80℃に加熱
することにより反応を行った。誘導期を経た後、反応液
温は急激に上昇し、その後に低下しはじめた。反応液温
の低下しはじめを確認後、プロピレンオキシド4040
gを約6時間かけて滴下し、内温を110℃に制御し
た。滴下終了後に添加プロピレンオキシドの消費による
反応液温および内圧の低下がはじまった。
【0055】[第2重合] 反応液温および内圧の低下
しはじめを確認後、アリルグリシジルエーテル260g
(2.3mol)のTHF溶液を30分かけて滴下し、
1.5時間後反応を行った。反応液のサンプリングを行
い、ガスクロマトグラフィー分析により95%のアリル
グリシジルエーテルの消失を確認した。減圧脱揮を行う
と、白濁した粗ポリマーが得られた。得られた粗ポリマ
ーのヨウ素価滴定で求めた不飽和基当量は0.43mm
ol/gであった。また粗ポリマー100重量部に対し
てヘキサン300重量部、ケイ酸アルミニウム(キョー
ワード700PEL、協和化学工業製)30重量部を混
合し、室温で4時間攪拌した後、セライト濾過を行っ
た。濾液中の揮発性成分を除去し、精製した不飽和基末
端ポリオキシプロピレン系重合体を得た。得られた精製
ポリマーは無色透明であり、ヨウ素価滴定で求めた不飽
和基当量は0.12mmol/gであった。ケイ酸アル
ミニウム処理により白濁成分が除去されると共に、不飽
和基成分が28%まで減少した。精製ポリマーをTHF
溶媒のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GP
C)で測定した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量
(Mn)14,500、分子量分布(Mw/Mn)1.
11であった。
【0056】比較例2 [第1重合] オートクレーブ中に、エポキシド重合触
媒としてヘキサシアノコバルト酸亜鉛のグライム配位錯
体を0.95g、重合開始剤として水酸基価56mgK
OH/gのポリオキシプロピレングリコールを640g
(0.64molOH)、不飽和基を含有しない炭素数
3以上のモノエポキシドとしてプロピレンオキシドを1
00g仕込み、80℃に加熱することにより反応を行っ
た。誘導期を経た後、反応液温は急激に上昇し、その後
に低下しはじめた。反応液温の低下しはじめを確認後、
プロピレンオキシド6280gを約6時間かけて滴下
し、内温を110℃に制御した。滴下終了後に添加プロ
ピレンオキシドの消費による内温および内圧の低下が起
こった。
【0057】[第2重合] 内温および内圧の低下を確
認後、アリルグリシジルエーテル92g(0.81mo
l)のTHF溶液を30分かけて滴下し、1時間後反応
を行った。内温を90〜100℃で制御した。反応液の
サンプリングを行い、ガスクロマトグラフィー分析によ
りアリルグリシジルエーテルの消失を確認した。減圧脱
揮を行うと、ほぼ無色透明の粗ポリマーが得られた。
【0058】得られた粗ポリマーの水酸基当量は0.1
2mmol/g、不飽和基当量は0.14mmol/g
であった。また粗ポリマー100重量部に対してヘキサ
ン300重量部、ケイ酸アルミニウム(キョーワード7
00PEL、協和化学工業製)30重量部を混合し、室
温で4時間攪拌した後、セライト濾過を行った。濾液中
の揮発性成分を除去し、精製した不飽和基末端ポリオキ
シプロピレン系重合体を得た。得られた精製ポリマーは
無色透明であり、水酸基当量は0.12mmol/g、
不飽和基当量は0.05mmol/gであった。ケイ酸
アルミニウム処理により不飽和基成分が36%まで減少
した。精製ポリマーをTHF溶媒のゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー(GPC)で測定した結果、ポリ
スチレン換算の数平均分子量精製ポリマーは、ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー(GPC)で数平均分
子量(Mn)22,400、分子量分布(Mw/Mn)
1.14であった。
【0059】参考例1 不飽和基含有ポリオキシプロピ
レン系重合体とヒドロシリル基含有化合物との反応硬化 実施例1で得られた精製前の末端近傍に不飽和基を含有
するポリオキシプロピレン系重合体10g、ポリメチル
ハイドロジェンシロキサンのα−メチルスチレンの部分
付加物0.7g(不飽和基とSi−H基のモル比は約
1:0.8)、Pt−VTS(白金のジビニルテトラメ
チルジシロキサン錯体のキシレン溶液)白金金属として
5×10-3mmolを混合し100℃のオーブンで1時
間加熱するとゴム状の硬化物が得られた。
【0060】実施例3 架橋性ケイ素基含有ポリオキシ
プロピレン系重合体の製造 三ツ口フラスコに実施例1で得られた精製した不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体100g(不飽和基
28mmol)にPt−VTS(白金のジビニルテトラ
メチルジシロキサン錯体のキシレン溶液)を白金金属と
して9×10-4mmol、オルトギ酸メチル3gを加え
攪拌後、90℃でメチルジメトキシシラン2.5g(2
4mmol)をゆっくり滴下した。滴下終了後2時間の
反応させた後サンプリングを行い、400MHzの1
−NMRでアリル基の消失とケイ素原子に結合したメチ
レン基の生成(約0.6ppm)を確認した。減圧脱揮
を行い、架橋性ケイ素基含有ポリオキシプロピレン系重
合体を得た。1 H−NMR測定の積分値の比から求めた
アリル基に対するメチルジメトキシシリル基の導入率は
72%であった。この架橋性ケイ素基含有ポリオキシプ
ロピレン系重合体100重量部に対し、オクチル酸スズ
とラウリルアミンの重量比6:1の混合物1.75重量
部を混合し、70℃で1日加熱し、硬化物を得た。得ら
れた硬化物は50%モジュラス0.9kgf/cm2
破断時強度1.8kgf/cm2 、破断時伸び110%
であった。
【0061】実施例4 架橋性ケイ素基含有ポリオキシ
プロピレン系重合体の製造 三ツ口フラスコに実施例2で得られた精製した不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体100g(不飽和基
25mmol)にPt−VTS(白金のジビニルテトラ
メチルジシロキサン錯体のキシレン溶液)を白金金属と
して7×10-4mmol、90℃でメチルジメトキシシ
ラン2.5g(24mmol)をゆっくり滴下した。滴
下終了後2時間の反応させた後サンプリングを行い、4
00MHzの1 H−NMRでアリル基の消失とケイ素原
子に結合したメチレン基の生成(約0.6ppm)を確
認した。減圧脱揮を行い、架橋性ケイ素基含有ポリオキ
シプロピレン系重合体を得た。1 H−NMR測定の積分
値の比から求めたアリル基に対するメチルジメトキシシ
リル基の導入率は74%であった。この架橋性ケイ素基
含有ポリオキシプロピレン系重合体100重量部に対
し、オクチル酸スズとラウリルアミンの重量比6:1の
混合物3.5重量部と水1重両部を混合し、70℃オー
ブンで1日加熱し、硬化物を得た。
【0062】比較例3 架橋性ケイ素基含有ポリオキシ
プロピレン系重合体の製造 三ツ口フラスコに比較例1で得られた精製した不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体100g(不飽和基
12mmol)にPt−VTS(白金のジビニルテトラ
メチルジシロキサン錯体のキシレン溶液)を白金金属と
して5×10-4mmolを加え攪拌後、90℃でメチル
ジメトキシシラン1.1g(10mmol)をゆっくり
滴下した。滴下終了後2時間の反応させた後サンプリン
グを行い、400MHzの1 H−NMRでアリル基の消
失とケイ素原子に結合したメチレン基の生成(約0.6
ppm)を確認した。減圧脱揮を行い、架橋性ケイ素基
含有ポリオキシプロピレン系重合体を得た。この架橋性
ケイ素基含有ポリオキシプロピレン系重合体100重量
部に対し、オクチル酸スズとラウリルアミンの重量比
6:1の混合物3.5重量部と水を混合し、70℃オー
ブンで1日加熱したが増粘はするものの硬化物にはなら
なかった。
【0063】比較例4 架橋性ケイ素基含有ポリオキシ
プロピレン系重合体の製造 三ツ口フラスコに比較例2で得られた精製した不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体100g(不飽和基
5mmol)にPt−VTS(白金のジビニルテトラメ
チルジシロキサン錯体のキシレン溶液)を白金金属とし
て6×10-4mmolを加え攪拌後、90℃でメチルジ
メトキシシラン0.4g(4mmol)を滴下した。滴
下終了後2時間の反応させた後サンプリングを行い、4
00MHzの1 H−NMRでアリル基の消失とケイ素原
子に結合したメチレン基の生成(約0.6ppm)を確
認した。減圧脱揮を行い、架橋性ケイ素基含有ポリオキ
シプロピレン系重合体を得た。この架橋性ケイ素基含有
ポリオキシプロピレン系重合体100重量部に対し、オ
クチル酸スズとラウリルアミンの重量比6:1の混合物
3.5重量部を混合し、70℃オーブンで1日加熱した
が増粘はするものの硬化物にはならなかった。
【0064】実施例5 混合モノマーを用いた不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体の製造 [第1重合] オートクレーブ中に、エポキシド重合触
媒としてヘキサシアノコバルト酸亜鉛のグライム配位錯
体を0.36g、重合開始剤としてヘキサシアノコバル
ト酸亜鉛のグライム配位錯体を重合触媒に用いて重合し
た水酸基当量0.197mmol/gのポリオキシプロ
ピレングリコールを1630g(0.321molO
H)、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエポキ
シドとしてプロピレンオキシドを183g仕込み、80
℃に加熱することにより反応を行った。誘導期を経た
後、反応液温は急激に上昇し、その後に低下しはじめ
た。
【0065】[第2重合] 反応液温の低下しはじめを
確認後、プロピレンオキシド366g(6.3mol)
とアリルグリシジルエーテル72g(0.63mol)
との混合モノマーを4時間かけて滴下し、2時間後重合
を行った。内温を100℃に制御した。後重合1.5時
間後に反応液のサンプリングを行い、ガスクロマトグラ
フィーによりアリルグリシジルエーテルの消失を確認し
た。減圧脱揮を行い、ほぼ無色透明の粗ポリマーを得た
(混合モノマーの重合により得られた重合体成分の割合
19重量%)。
【0066】粗ポリマー100重量部に対してヘキサン
300重量部、ケイ酸アルミニウム(キョーワード70
0PEL、協和化学工業製)30重量部を混合し、室温
で4時間攪拌した後、セライト濾過を行った。濾液中の
揮発性成分を除去し、精製した不飽和基含有ポリオキシ
プロピレン系ポリマーを得た。得られた精製ポリマーは
無色透明であった。精製ポリマーをTHF溶媒のゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定し
た結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)1
8,000、分子量分布(Mw/Mn)1.15であっ
た。
【0067】実施例6 架橋性ケイ素基含有ポリオキシ
プロピレン系重合体の製造 三ツ口フラスコに実施例5で得られた精製した不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体100gにPt−V
TS(白金のジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の
キシレン溶液)を白金金属として9×10-4mmolを
加え攪拌後、90℃でメチルジメトキシシラン2.9g
(27mmol)をゆっくり滴下した。滴下終了後2時
間の反応させた後サンプリングを行い、400MHzの
1 H−NMRでアリル基の消失とケイ素原子に結合した
メチレン基の生成(約0.6ppm)を確認した。減圧
脱揮を行い、架橋性ケイ素基含有ポリオキシプロピレン
系重合体を得た。1 H−NMR測定の積分値の比から求
めたアリル基に対するメチルジメトキシシリル基の導入
率は79%であった。この架橋性ケイ素基含有ポリオキ
シプロピレン系重合体100重量部に対し、オクチル酸
スズとラウリルアミンの重量比6:1の混合物1.75
重量部を混合し、70℃で1日加熱し、硬化物を得た。
得られた硬化物は50%モジュラス1.0kgf/cm
2 、破断時強度2.3kgf/cm2 、破断時伸び13
0%であった。
【0068】比較例5 混合モノマーを用いた不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体の製造 [第1重合] オートクレーブ中に、エポキシド重合触
媒としてヘキサシアノコバルト酸亜鉛のグライム配位錯
体を0.53g、重合開始剤として水酸基価39mgK
OH/gのポリオキシプロピレンモノアリルエーテル
(ユニセーフ PKA−5014、日本油脂製)を49
0g(0.33molOH)、不飽和基を含有しない炭
素数3以上のモノエポキシドとしてプロピレンオキシド
を69g仕込み、90℃に加熱することにより反応を行
った。誘導期を経た後、反応液温は急激に上昇し、その
後に低下しはじめた。反応液温の低下しはじめを確認
後、プロピレンオキシド1180gを約3時間かけて滴
下した。滴下終了後に添加プロピレンオキシドの消費に
よる反応液温及び内圧の低下がはじまった。
【0069】[第2重合] 反応液温および内圧の低下
しはじめを確認後、プロピレンオキシド1600g(2
8mol)とアリルグリシジルエーテル77g(0.6
7mol)との混合モノマー(モル比41:1)を約4
時間かけて滴下し、2時間後重合を行った。後重合1時
間後に反応液のサンプリングを行い、ガスクロマトグラ
フィーによりアリルグリシジルエーテルの消失を確認し
た。減圧脱揮を行い、ほぼ無色透明の粗ポリマーを得た
(混合モノマーの重合により得られた重合体成分の割合
49重量%)。
【0070】得られた粗ポリマー100重量部に対して
ヘキサン300重量部、ケイ酸アルミニウム(キョーワ
ード700PEL、協和化学工業製)とケイ酸マグネシ
ウム(キョーワード600S、協和化学工業製)の等量
混合物30重量部を混合し、室温で4時間攪拌した後、
セライト濾過を行った。濾液中の揮発性成分を除去し、
精製した不飽和基末端オキシプロピレン系ポリマーを得
た。得られた精製ポリマーは無色透明で、不飽和基当量
は0.28mmol/gであった。精製ポリマーをTH
F溶媒のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(G
PC)で測定した結果、ポリスチレン換算の数平均分子
量(Mn)13,800、分子量分布(Mw/Mn)
1.32であった。
【0071】比較例6 架橋性ケイ素基含有ポリオキシ
プロピレン重合体の製造 三ツ口フラスコに比較例5で得られた精製した不飽和基
含有ポリオキシプロピレン系重合体100g(不飽和基
28mmol)にPt−VTS(白金のジビニルテトラ
メチルジシロキサン錯体のキシレン溶液)を白金金属と
して9×10-4mmolを加え攪拌後、90℃でメチル
ジメトキシシラン3.0g(28mmol)をゆっくり
滴下した。滴下終了後2時間の反応させた後サンプリン
グを行い、400MHzの1 H−NMRでアリル基の消
失とケイ素原子に結合したメチレン基の生成(約0.6
ppm)を確認した。減圧脱揮を行い、架橋性ケイ素基
含有ポリオキシプロピレン系重合体を得た。1 H−NM
R測定の積分値の比から求めたアリル基に対するメチル
ジメトキシシリル基の導入率は77%であった。この架
橋性ケイ素基含有ポリオキシプロピレン系重合体100
重量部に対し、オクチル酸スズとラウリルアミンの重量
比6:1の混合物1.75重量部を混合し、70℃で1
日加熱し、硬化物を得た。得られた硬化物は50%モジ
ュラス1.5kgf/cm2 、破断時強度1.5kgf
/cm2 、破断時伸び50%であった。
【0072】比較例6からわかるように、混合モノマー
の重合により得られた重合体成分の割合が40重量%を
超えると、架橋性ケイ素導入後の重合体硬化物は、破断
時強度に対して破断時伸びの小さい(破断時強度と破断
時伸びのバランスの悪い)ゴム的性質の不充分なものと
なる。
【0073】
【発明の効果】本発明の製造法によれば、不飽和基導入
率の高いポリオキシアルキレン系重合体及び架橋性ケイ
素基導入率の高いゴム的性質の良好なポリオキシアルキ
レン系重合体が製造でき、副生物の削減と煩雑な製造工
程の短縮が可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尾高 英年 兵庫県高砂市高砂町宮前町1−8 鐘淵化 学工業株式会社高砂工業所内 (72)発明者 岩切 浩 兵庫県神戸市兵庫区吉田町1−2−80 鐘 淵化学工業株式会社神戸研究所内 Fターム(参考) 4J005 AA02 BB02

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシド重合触媒を用いて、重合開始
    剤存在下、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエ
    ポキシドと不飽和基を含有するモノエポキシドとの混合
    物を重合することによってポリオキシアルキレン系重合
    体中に不飽和基を導入することを特徴とする、不飽和基
    含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法。
  2. 【請求項2】 エポキシド重合触媒を用いて、重合開始
    剤存在下、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエ
    ポキシドの重合を行い、続いて不飽和基を含有しない炭
    素数3以上のモノエポキシドと不飽和基を含有するモノ
    エポキシドとの混合物を重合することによってポリオキ
    シアルキレン系重合体中に不飽和基を導入することを特
    徴とする、不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体
    の製造方法。
  3. 【請求項3】 エポキシド重合触媒を用いて、重合開始
    剤存在下、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエ
    ポキシドと不飽和基を含有するモノエポキシドとの混合
    物を重合することによってポリオキシアルキレン系重合
    体中に不飽和基を導入した後、こうして重合体に導入さ
    れた不飽和基を架橋性ケイ素基に変換することを特徴と
    する、架橋性ケイ素基含有ポリオキシアルキレン系重合
    体の製造方法。
  4. 【請求項4】 エポキシド重合触媒を用いて、重合開始
    剤存在下、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエ
    ポキシドの重合を行い、続いて不飽和基を含有しない炭
    素数3以上のモノエポキシドと不飽和基を含有するモノ
    エポキシドとの混合物を重合した後、こうして重合体に
    導入された不飽和基を架橋性ケイ素基に変換することを
    特徴とする、架橋性ケイ素基含有ポリオキシアルキレン
    系重合体の製造方法。
  5. 【請求項5】 不飽和基を含有しない炭素数3以上のモ
    ノエポキシドと不飽和基を含有するモノエポキシドとの
    混合物を重合することによって得られるポリオキシアル
    キレン系重合体成分が全重合体の40重量%以下であ
    る、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
  6. 【請求項6】 不飽和基を含有しない炭素数3以上のモ
    ノエポキシドと不飽和基を含有するモノエポキシドとの
    混合物は、不飽和基を含有しない炭素数3以上のモノエ
    ポキシドと不飽和基を含有するモノエポキシドとのモル
    比が50:1から1:10である請求項1〜5のいずれ
    か1項に記載の製造方法。
  7. 【請求項7】 エポキシド重合触媒が、水酸化セシウ
    ム、アルミニウムポルフィリン錯体、ホスファゼニウム
    化合物及び複金属シアン化物錯体からなる群から選択さ
    れる請求項1〜6のいずれか1項に記載の製造方法。
  8. 【請求項8】 エポキシド重合触媒が、複金属シアン化
    物錯体触媒である請求項7記載の製造方法。
  9. 【請求項9】 複金属シアン化物錯体が、ヘキサシアノ
    コバルト酸亜鉛を含有する錯体である請求項8記載の製
    造方法。
  10. 【請求項10】 重合開始剤が、多価アルコール又は不
    飽和アルコールである請求項1〜9のいずれか1項に記
    載の製造方法。
  11. 【請求項11】 不飽和基を含有しない炭素数3以上の
    モノエポキシドがプロピレンオキシドである請求項1〜
    10のいずれか1項に記載の製造方法。
JP23300699A 1999-08-19 1999-08-19 官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法 Expired - Lifetime JP4122116B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23300699A JP4122116B2 (ja) 1999-08-19 1999-08-19 官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23300699A JP4122116B2 (ja) 1999-08-19 1999-08-19 官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001055438A true JP2001055438A (ja) 2001-02-27
JP4122116B2 JP4122116B2 (ja) 2008-07-23

Family

ID=16948348

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23300699A Expired - Lifetime JP4122116B2 (ja) 1999-08-19 1999-08-19 官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4122116B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005272733A (ja) * 2004-03-25 2005-10-06 Kaneka Corp 新規な官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体及び製造方法
JP2008001901A (ja) * 2006-06-21 2008-01-10 Bayer Material Science Llc ペンダントアクリレート−及び/又はメタクリレート含有ポリエーテルモノオール及びポリオール
WO2013180203A1 (ja) 2012-05-31 2013-12-05 株式会社カネカ 複数の反応性ケイ素基を有する末端構造を有する重合体、およびその製造方法および利用
JP2014101529A (ja) * 2014-03-13 2014-06-05 Nippon Zeon Co Ltd ポリエーテル系重合体
JP2015147934A (ja) * 2015-04-06 2015-08-20 日本ゼオン株式会社 ポリエーテル系重合体
JP2016194081A (ja) * 2016-06-15 2016-11-17 日本ゼオン株式会社 ポリエーテル系重合体
US9969843B2 (en) 2012-05-31 2018-05-15 Kaneka Corporation Polymer having terminal structure including plurality of reactive silicon groups, method for manufacturing same, and use for same

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7181658B2 (ja) 2020-07-30 2022-12-01 株式会社アルミックイマイ トップライトにおける方立部材のシールレスジョイント工法および同シールレスジョイント構造

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005272733A (ja) * 2004-03-25 2005-10-06 Kaneka Corp 新規な官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体及び製造方法
JP4575010B2 (ja) * 2004-03-25 2010-11-04 株式会社カネカ 新規な官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体及び製造方法
JP2008001901A (ja) * 2006-06-21 2008-01-10 Bayer Material Science Llc ペンダントアクリレート−及び/又はメタクリレート含有ポリエーテルモノオール及びポリオール
WO2013180203A1 (ja) 2012-05-31 2013-12-05 株式会社カネカ 複数の反応性ケイ素基を有する末端構造を有する重合体、およびその製造方法および利用
US9505879B2 (en) 2012-05-31 2016-11-29 Kaneka Corporation Polymer having terminal structure including plurality of reactive silicon groups, method for manufacturing same, and use for same
US9803052B2 (en) 2012-05-31 2017-10-31 Kaneka Corporation Polymer having terminal structure including plurality of reactive silicon groups, method for manufacturing same, and use for same
US9969843B2 (en) 2012-05-31 2018-05-15 Kaneka Corporation Polymer having terminal structure including plurality of reactive silicon groups, method for manufacturing same, and use for same
JP2014101529A (ja) * 2014-03-13 2014-06-05 Nippon Zeon Co Ltd ポリエーテル系重合体
JP2015147934A (ja) * 2015-04-06 2015-08-20 日本ゼオン株式会社 ポリエーテル系重合体
JP2016194081A (ja) * 2016-06-15 2016-11-17 日本ゼオン株式会社 ポリエーテル系重合体

Also Published As

Publication number Publication date
JP4122116B2 (ja) 2008-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2995568B2 (ja) ポリアルキレンオキシド誘導体の製造法
EP2392600B1 (en) Polymer having a reactive silicon-containing group, methods for its preparation and a curable composition comprising the polymer
JP2873395B2 (ja) 反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体、その製造方法及びその硬化性組成物
EP1018530B1 (en) Method of producing reactive silicon group-containing polyether oligomers
US6541593B1 (en) Process for the preparation of polyether oligomer containing reactive silicon group
CA2361829A1 (en) Curable resin composition
JP4122116B2 (ja) 官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法
JP4426318B2 (ja) 末端にエポキシ基および/またはオキセタン基含有ケイ素基を有する有機重合体およびその製造方法
JP2000109678A (ja) 改良された室温硬化性組成物
JP4575010B2 (ja) 新規な官能基含有ポリオキシアルキレン系重合体及び製造方法
JP4885540B2 (ja) 硬化性組成物
JP7226994B2 (ja) 末端不飽和結合含有有機重合体の製造方法、又は、加水分解性シリル基含有有機重合体の製造方法
CN113454142A (zh) 具有水解性甲硅烷基的有机聚合物的制造方法
JP4750295B2 (ja) 硬化性組成物
JP4132524B2 (ja) 反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマーの製造方法
JP4251755B2 (ja) 架橋性ケイ素基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法
JP7393330B2 (ja) ポリエーテルの製造方法
JP2002080585A (ja) 架橋性ケイ素基含有ポリオキシアルキレン系重合体の製造方法
JP3145013B2 (ja) 室温硬化性組成物
JP6978369B2 (ja) ポリエーテルの製造方法
JP2001011383A (ja) 車両用コーティング材組成物
JP6868367B2 (ja) 精製された不飽和基含有ポリエーテル重合体を製造する方法、及び加水分解性ケイ素基含有ポリエーテル重合体の製造方法
JP6872341B2 (ja) 精製された不飽和基含有ポリエーテル重合体の製造方法、及び加水分解性ケイ素基含有ポリエーテル重合体の製造方法
JP4044257B2 (ja) 硬化性組成物
JP4293495B2 (ja) 硬化性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040318

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040806

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060322

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070306

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071009

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071203

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080408

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080501

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110509

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4122116

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120509

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130509

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130509

Year of fee payment: 5

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130509

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140509

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term