JP2001052947A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導線が、らせん状に巻かれたコイルであって、
前記導線は前記らせんの１周回のほぼ半分の長さを有する複数の導線片が接続されたものである
コイル。
【請求項２】
前記コイルは、前記導線が等間隔で円柱状に巻かれたソレノイドコイルである
請求項１記載のコイル。
【請求項３】
前記コイルの半分は、基板表面に形成された窪み内に埋め込まれている
請求項１記載のコイル。
【請求項４】
前記窪みは、断面が円または楕円である円筒をほぼ２等分した半円筒状の形状を有する
請求項３記載のコイル。
【請求項５】
前記半円筒状の窪みは、前記窪みの対向する２つの面の間隔が、前記窪みの底部に比較して前記基板表面で広くなるように、前記窪みの対向する２つの面が傾斜面となっている
請求項４記載のコイル。
【請求項６】
前記傾斜面の表面に、前記コイルと接続する配線が形成されている
請求項５記載のコイル。
【請求項７】
前記コイルは、絶縁物からなる円筒の周囲に巻かれている
請求項４記載のコイル。
【請求項８】
前記窪みは多角柱をほぼ２等分した形状を有する
請求項３記載のコイル。
【請求項９】
前記窪みは、前記多角柱の対向する２つの底面の間隔が、前記窪みの底部に比較して前記基板表面で広くなるように、前記底面が傾斜面となっている
請求項８記載のコイル。
【請求項１０】
前記傾斜面の表面に、前記コイルと接続する配線が形成されている
請求項９記載のコイル。
【請求項１１】
前記コイルは、絶縁物からなる多角柱の周囲に巻かれている
請求項８記載のコイル。
【請求項１２】
導線が、らせん状に巻かれたコイルと、
前記コイル内に形成された磁性体コアとを有する電磁石であって、
前記導線は前記らせんの１周回のほぼ半分の長さを有する複数の導線片が接続されたものである
電磁石。
【請求項１３】
前記コイルは、前記導線が等間隔で円柱状に巻かれたソレノイドコイルである
請求項１２記載の電磁石。
【請求項１４】
前記コイルの半分は、基板表面に形成された窪み内に埋め込まれている
請求項１２記載の電磁石。
【請求項１５】
前記窪みは、断面が円または楕円である円筒をほぼ２等分した半円筒状の形状を有する
請求項１４記載の電磁石。
【請求項１６】
前記半円筒状の窪みは、前記窪みの対向する２つの面の間隔が、前記窪みの底部に比較して前記基板表面で広くなるように、前記窪みの対向する２つの面が傾斜面となっている
請求項１５記載の電磁石。
【請求項１７】
前記傾斜面の表面に、前記コイルと接続する配線が形成されている
請求項１６記載の電磁石。
【請求項１８】
前記窪みは多角柱をほぼ２等分した形状を有する
請求項１４記載の電磁石。
【請求項１９】
前記窪みは、前記多角柱の対向する２つの底面の間隔が、前記窪みの底部に比較して前記基板表面で広くなるように、前記底面が傾斜面となっている
請求項１８記載の電磁石。
【請求項２０】
前記傾斜面の表面に、前記コイルと接続する配線が形成されている
請求項１９記載の電磁石。
【請求項２１】
基板表面に半円筒状の窪みを形成する工程と、
前記窪みの表面に、離散した複数の第１の導線を形成する工程と、
前記窪みに、半分が前記窪みを埋め込み、残りの半分が基板表面から突出する、絶縁物からなる円筒を形成する工程と、
前記円筒の表面に、前記第１の導線と接続して１本のコイルを形成する、離散した複数の第２の導線を形成する工程とを有する
コイルの製造方法。
【請求項２２】
基板表面に多角柱をほぼ２等分した形状の窪みを形成する工程と、
前記窪みの表面に、離散した複数の第１の導線を形成する工程と、
前記窪みに、半分が前記窪みを埋め込み、残りの半分が基板表面から突出する、絶縁物からなる多角柱を形成する工程と、
前記多角柱の表面に、前記第１の導線と接続して１本のコイルを形成する、離散した複数の第２の導線を形成する工程とを有する
コイルの製造方法。
【請求項２３】
基板表面に半円筒状の窪みを形成する工程と、
前記窪みの表面に、離散した複数の第１の導線を形成する工程と、
前記窪みの表面に、前記第１の導線を被覆する第１の絶縁膜を形成する工程と、
前記窪みに、半分が前記窪みを埋め込み、残りの半分が基板表面に突出する磁性体からなる円筒を形成する工程と、
前記円筒の表面に、前記第１の絶縁膜と連続する第２の絶縁膜を形成する工程と、
前記第２の絶縁膜の表面に、前記第１の導線と接続して１本のコイルを形成する、離散した複数の第２の導線を形成する工程とを有する
電磁石の製造方法。
【請求項２４】
基板表面に多角柱をほぼ２等分した形状の窪みを形成する工程と、
前記窪みの表面に、離散した複数の第１の導線を形成する工程と、
前記窪みの表面に、前記第１の導線を被覆する第１の絶縁膜を形成する工程と、
前記窪みに、半分が前記窪みを埋め込み、残りの半分が基板表面に突出する磁性体からなる多角柱を形成する工程と、
前記多角柱の表面に、前記第１の絶縁膜と連続する第２の絶縁膜を形成する工程と、
前記第２の絶縁膜の表面に、前記第１の導線と接続して１本のコイルを形成する、離散した複数の第２の導線を形成する工程とを有する
電磁石の製造方法。
【請求項１】
導線が、らせん状に巻かれたコイルであって、
前記導線は前記らせんの１周回のほぼ半分の長さを有する複数の導線片が接続されたものである
コイル。
【請求項２】
前記コイルは、前記導線が等間隔で円柱状に巻かれたソレノイドコイルである
請求項１記載のコイル。
【請求項３】
前記コイルの半分は、基板表面に形成された窪み内に埋め込まれている
請求項１記載のコイル。
【請求項４】
前記窪みは、断面が円または楕円である円筒をほぼ２等分した半円筒状の形状を有する
請求項３記載のコイル。
【請求項５】
前記半円筒状の窪みは、前記窪みの対向する２つの面の間隔が、前記窪みの底部に比較して前記基板表面で広くなるように、前記窪みの対向する２つの面が傾斜面となっている
請求項４記載のコイル。
【請求項６】
前記傾斜面の表面に、前記コイルと接続する配線が形成されている
請求項５記載のコイル。
【請求項７】
前記コイルは、絶縁物からなる円筒の周囲に巻かれている
請求項４記載のコイル。
【請求項８】
前記窪みは多角柱をほぼ２等分した形状を有する
請求項３記載のコイル。
【請求項９】
前記窪みは、前記多角柱の対向する２つの底面の間隔が、前記窪みの底部に比較して前記基板表面で広くなるように、前記底面が傾斜面となっている
請求項８記載のコイル。
【請求項１０】
前記傾斜面の表面に、前記コイルと接続する配線が形成されている
請求項９記載のコイル。
【請求項１１】
前記コイルは、絶縁物からなる多角柱の周囲に巻かれている
請求項８記載のコイル。
【請求項１２】
導線が、らせん状に巻かれたコイルと、
前記コイル内に形成された磁性体コアとを有する電磁石であって、
前記導線は前記らせんの１周回のほぼ半分の長さを有する複数の導線片が接続されたものである
電磁石。
【請求項１３】
前記コイルは、前記導線が等間隔で円柱状に巻かれたソレノイドコイルである
請求項１２記載の電磁石。
【請求項１４】
前記コイルの半分は、基板表面に形成された窪み内に埋め込まれている
請求項１２記載の電磁石。
【請求項１５】
前記窪みは、断面が円または楕円である円筒をほぼ２等分した半円筒状の形状を有する
請求項１４記載の電磁石。
【請求項１６】
前記半円筒状の窪みは、前記窪みの対向する２つの面の間隔が、前記窪みの底部に比較して前記基板表面で広くなるように、前記窪みの対向する２つの面が傾斜面となっている
請求項１５記載の電磁石。
【請求項１７】
前記傾斜面の表面に、前記コイルと接続する配線が形成されている
請求項１６記載の電磁石。
【請求項１８】
前記窪みは多角柱をほぼ２等分した形状を有する
請求項１４記載の電磁石。
【請求項１９】
前記窪みは、前記多角柱の対向する２つの底面の間隔が、前記窪みの底部に比較して前記基板表面で広くなるように、前記底面が傾斜面となっている
請求項１８記載の電磁石。
【請求項２０】
前記傾斜面の表面に、前記コイルと接続する配線が形成されている
請求項１９記載の電磁石。
【請求項２１】
基板表面に半円筒状の窪みを形成する工程と、
前記窪みの表面に、離散した複数の第１の導線を形成する工程と、
前記窪みに、半分が前記窪みを埋め込み、残りの半分が基板表面から突出する、絶縁物からなる円筒を形成する工程と、
前記円筒の表面に、前記第１の導線と接続して１本のコイルを形成する、離散した複数の第２の導線を形成する工程とを有する
コイルの製造方法。
【請求項２２】
基板表面に多角柱をほぼ２等分した形状の窪みを形成する工程と、
前記窪みの表面に、離散した複数の第１の導線を形成する工程と、
前記窪みに、半分が前記窪みを埋め込み、残りの半分が基板表面から突出する、絶縁物からなる多角柱を形成する工程と、
前記多角柱の表面に、前記第１の導線と接続して１本のコイルを形成する、離散した複数の第２の導線を形成する工程とを有する
コイルの製造方法。
【請求項２３】
基板表面に半円筒状の窪みを形成する工程と、
前記窪みの表面に、離散した複数の第１の導線を形成する工程と、
前記窪みの表面に、前記第１の導線を被覆する第１の絶縁膜を形成する工程と、
前記窪みに、半分が前記窪みを埋め込み、残りの半分が基板表面に突出する磁性体からなる円筒を形成する工程と、
前記円筒の表面に、前記第１の絶縁膜と連続する第２の絶縁膜を形成する工程と、
前記第２の絶縁膜の表面に、前記第１の導線と接続して１本のコイルを形成する、離散した複数の第２の導線を形成する工程とを有する
電磁石の製造方法。
【請求項２４】
基板表面に多角柱をほぼ２等分した形状の窪みを形成する工程と、
前記窪みの表面に、離散した複数の第１の導線を形成する工程と、
前記窪みの表面に、前記第１の導線を被覆する第１の絶縁膜を形成する工程と、
前記窪みに、半分が前記窪みを埋め込み、残りの半分が基板表面に突出する磁性体からなる多角柱を形成する工程と、
前記多角柱の表面に、前記第１の絶縁膜と連続する第２の絶縁膜を形成する工程と、
前記第２の絶縁膜の表面に、前記第１の導線と接続して１本のコイルを形成する、離散した複数の第２の導線を形成する工程とを有する
電磁石の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11225733A JP2001052947A (ja) | 1999-08-09 | 1999-08-09 | コイル、電磁石および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11225733A JP2001052947A (ja) | 1999-08-09 | 1999-08-09 | コイル、電磁石および製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001052947A JP2001052947A (ja) | 2001-02-23 |
| JP2001052947A5 true JP2001052947A5 (ja) | 2006-04-13 |
Family
ID=16833985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11225733A Pending JP2001052947A (ja) | 1999-08-09 | 1999-08-09 | コイル、電磁石および製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001052947A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002296519A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Ricoh Co Ltd | 光変調装置及びその光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置 |
| JP6302613B1 (ja) * | 2017-03-01 | 2018-03-28 | ナノコイル株式会社 | ナノコイル型ｇｓｒセンサ素子の製造方法 |
| JP6864413B2 (ja) | 2017-06-05 | 2021-04-28 | 朝日インテック株式会社 | Ｇｓｒセンサ素子 |
-
1999
- 1999-08-09 JP JP11225733A patent/JP2001052947A/ja active Pending
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