JP2001051402A - フォトマスクの位置合わせ用バーニアおよびその構成方法 - Google Patents
フォトマスクの位置合わせ用バーニアおよびその構成方法Info
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- JP2001051402A JP2001051402A JP22366199A JP22366199A JP2001051402A JP 2001051402 A JP2001051402 A JP 2001051402A JP 22366199 A JP22366199 A JP 22366199A JP 22366199 A JP22366199 A JP 22366199A JP 2001051402 A JP2001051402 A JP 2001051402A
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フォトマスクと基板のアライメント１種類に
つき複数のバーニアを使用して合わせずれ量の測定を行
う必要があり、作業効率が悪かった。また、数種類のフ
ォトマスクを使用する場合、それぞれのフォトマスクに
対して個々にバーニアが必要となり、多数のバーニアを
配置する必要があるため、異なるバーニアで測定してし
まうというミスが生じ易かった。 【解決手段】 フォトマスク・パターンにおいて、一定
の線幅を有し、円に内接する複数の八角形パターンから
成り、十字形状となる軸を該軸の中心が該円の中心点と
同一に配置されるような合わせ補正用バーニアの構成。
つき複数のバーニアを使用して合わせずれ量の測定を行
う必要があり、作業効率が悪かった。また、数種類のフ
ォトマスクを使用する場合、それぞれのフォトマスクに
対して個々にバーニアが必要となり、多数のバーニアを
配置する必要があるため、異なるバーニアで測定してし
まうというミスが生じ易かった。 【解決手段】 フォトマスク・パターンにおいて、一定
の線幅を有し、円に内接する複数の八角形パターンから
成り、十字形状となる軸を該軸の中心が該円の中心点と
同一に配置されるような合わせ補正用バーニアの構成。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトリソグラフ
ィ工程に使用するフォトマスクのパターン構成方法に関
するものである。
ィ工程に使用するフォトマスクのパターン構成方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２に、フォトマスクの合わせずれ補正
用バーニアの構成方法の従来技術例を示す。
用バーニアの構成方法の従来技術例を示す。
【０００３】従来は例えば、図２（ａ）に示すような、
下向きの櫛形形状である基板ウェハ側に設けたメスバー
ニア９と、図２（ｂ）に示すような、上向きの櫛形形状
でフォトマスク側に設けたオスバーニア１０との組合せ
で、図２（ｃ）に示すような、単方向の合わせずれ補正
用バーニアを構成していた。メスバーニア９における前
記下向きの櫛形で構成される第１の間隔３は任意に一定
である。一方、オスバーニア１０における前記上向きの
櫛形で構成される第２の間隔８は第１の間隔３とは異な
るが、所定の間隔を保ち一定となる。前記単方向バーニ
アは単一方向のみしか合わせずれ補正ができず、複数の
方向を補正するためには前記単方向バーニアを対応する
向きに複数配置する必要があった。
下向きの櫛形形状である基板ウェハ側に設けたメスバー
ニア９と、図２（ｂ）に示すような、上向きの櫛形形状
でフォトマスク側に設けたオスバーニア１０との組合せ
で、図２（ｃ）に示すような、単方向の合わせずれ補正
用バーニアを構成していた。メスバーニア９における前
記下向きの櫛形で構成される第１の間隔３は任意に一定
である。一方、オスバーニア１０における前記上向きの
櫛形で構成される第２の間隔８は第１の間隔３とは異な
るが、所定の間隔を保ち一定となる。前記単方向バーニ
アは単一方向のみしか合わせずれ補正ができず、複数の
方向を補正するためには前記単方向バーニアを対応する
向きに複数配置する必要があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述の従来技術には、
フォトマスクと基板のアライメント１種類につき複数の
バーニアを使用して合わせずれ量の測定を行う必要が有
り、作業効率が悪いという欠点があった。また、数種類
のフォトマスクを使用する場合、それぞれのフォトマス
クに対して個々にバーニアが必要となり、多数のバーニ
アを配置する必要があるため、異なるバーニアで測定し
てしまうというミスが生じ易かった。
フォトマスクと基板のアライメント１種類につき複数の
バーニアを使用して合わせずれ量の測定を行う必要が有
り、作業効率が悪いという欠点があった。また、数種類
のフォトマスクを使用する場合、それぞれのフォトマス
クに対して個々にバーニアが必要となり、多数のバーニ
アを配置する必要があるため、異なるバーニアで測定し
てしまうというミスが生じ易かった。
【０００５】本発明の目的は、上記のような欠点を除去
し、合わせずれ量測定時の作業効率を向上させることに
ある。さらに、対応しない異なるバーニアで測定してし
まうというミスの低減化を図ったものである。
し、合わせずれ量測定時の作業効率を向上させることに
ある。さらに、対応しない異なるバーニアで測定してし
まうというミスの低減化を図ったものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、合わせずれ補正用バーニアを、一定の線幅を有
し、円に内接し、対向する辺が該円の中心点から等間隔
となる八角形パターン、および、十字形状となる軸で構
成する。
めに、合わせずれ補正用バーニアを、一定の線幅を有
し、円に内接し、対向する辺が該円の中心点から等間隔
となる八角形パターン、および、十字形状となる軸で構
成する。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図１を
用いて説明する。
用いて説明する。
【０００８】図１（ａ）は、１層目にパターニングする
メスバーニア１のパターン構成図である。実際の使用時
はメスバーニア１は基板ウェハ側のパターンである。メ
スバーニア１を構成している八角形パターン２同士の第
１の間隔３は一定である。メスバーニアはｘｙ両方向の
合わせ基準となる基準軸１４を本基準軸１４の中心とメ
スバーニア１の中心１５が一致する位置に有し、基準軸
１４が合わせずれ０の基準である。基準軸１４と最内側
の八角形パターン１２との距離は八角形パターン１２同
士の第１の間隔３と同じである。基準軸１４はメスバー
ニア１の最外側の八角形パターン１２よりも任意にはみ
出すような突起形状６とし、ｘ方向およびｙ方向の軸が
識別し易いようにした。
メスバーニア１のパターン構成図である。実際の使用時
はメスバーニア１は基板ウェハ側のパターンである。メ
スバーニア１を構成している八角形パターン２同士の第
１の間隔３は一定である。メスバーニアはｘｙ両方向の
合わせ基準となる基準軸１４を本基準軸１４の中心とメ
スバーニア１の中心１５が一致する位置に有し、基準軸
１４が合わせずれ０の基準である。基準軸１４と最内側
の八角形パターン１２との距離は八角形パターン１２同
士の第１の間隔３と同じである。基準軸１４はメスバー
ニア１の最外側の八角形パターン１２よりも任意にはみ
出すような突起形状６とし、ｘ方向およびｙ方向の軸が
識別し易いようにした。
【０００９】図１（ｂ）は、２層目にパターニングする
オスバーニア７のパターン構成図である。実際の使用時
はオスバーニア７はフォトマスク側のパターンである。
メスバーニア１とオスバーニア７は中心座標が中心１
５，７５で一致する。オスバーニア７の形状は、メスバ
ーニア１の形状と同等であるが、メスバーニア１におけ
る八角形パターン１２同士の第１の間隔３とは異なる。
オスバーニア７の基準軸７４と最内側の八角形パターン
７２との第２の間隔８が合わせずれ補正精度を決め、他
の八角形パターン１２と７２同士の間隔も前記第２の間
隔８と同等になる。そして、オスバーニア７の第２の間
隔８はメスバーニア１における第１の間隔３よりも狭
い。
オスバーニア７のパターン構成図である。実際の使用時
はオスバーニア７はフォトマスク側のパターンである。
メスバーニア１とオスバーニア７は中心座標が中心１
５，７５で一致する。オスバーニア７の形状は、メスバ
ーニア１の形状と同等であるが、メスバーニア１におけ
る八角形パターン１２同士の第１の間隔３とは異なる。
オスバーニア７の基準軸７４と最内側の八角形パターン
７２との第２の間隔８が合わせずれ補正精度を決め、他
の八角形パターン１２と７２同士の間隔も前記第２の間
隔８と同等になる。そして、オスバーニア７の第２の間
隔８はメスバーニア１における第１の間隔３よりも狭
い。
【００１０】図３（ａ）に、図１（ａ）の点線Ｘ１にお
けるメスバーニアの断面図、および、図１（ｂ）の点線
Ｘ２におけるオスバーニアの断面図を示す。本発明のバ
ーニア構造で、合わせずれ補正精度が１マイクロメート
ルとすると、メスバーニア１における第１の間隔３より
もオスバーニア７における第２の間隔８は１マイクロメ
ートル狭い。図３（ａ）のように、メスバーニア１の断
面図およびオスバーニア７の断面図におけるそれぞれの
基準軸１５と７５の断面部が点線部Ｈで一致しており、
これが合わせずれ０の状態である。また、図３（ｂ）
は、オスバーニア７の断面がメスバーニア１の断面に対
してプラス方向に１マイクロメートルずれた状態を示
し、メスバーニア１の断面およびオスバーニアの断面７
におけるそれぞれの八角形パターン７２と１２の断面部
１４が点線部Ｉで一致する。同様に、図３（ｃ）は、オ
スバーニア７の断面がメスバーニア１の断面に対してプ
ラス方向に２マイクロメートルずれた状態を示し、図３
（ｄ）は、オスバーニアの断面７がメスバーニア１の断
面に対してプラス方向に３マイクロメートルずれた状態
を示し、図３（ｃ）および（ｄ）の各々、メスバーニア
の断面およびオスバーニアの断面におけるそれぞれの八
角形パターン７２，１２の断面が点線部Ｊ，Ｋで一致す
る。
けるメスバーニアの断面図、および、図１（ｂ）の点線
Ｘ２におけるオスバーニアの断面図を示す。本発明のバ
ーニア構造で、合わせずれ補正精度が１マイクロメート
ルとすると、メスバーニア１における第１の間隔３より
もオスバーニア７における第２の間隔８は１マイクロメ
ートル狭い。図３（ａ）のように、メスバーニア１の断
面図およびオスバーニア７の断面図におけるそれぞれの
基準軸１５と７５の断面部が点線部Ｈで一致しており、
これが合わせずれ０の状態である。また、図３（ｂ）
は、オスバーニア７の断面がメスバーニア１の断面に対
してプラス方向に１マイクロメートルずれた状態を示
し、メスバーニア１の断面およびオスバーニアの断面７
におけるそれぞれの八角形パターン７２と１２の断面部
１４が点線部Ｉで一致する。同様に、図３（ｃ）は、オ
スバーニア７の断面がメスバーニア１の断面に対してプ
ラス方向に２マイクロメートルずれた状態を示し、図３
（ｄ）は、オスバーニアの断面７がメスバーニア１の断
面に対してプラス方向に３マイクロメートルずれた状態
を示し、図３（ｃ）および（ｄ）の各々、メスバーニア
の断面およびオスバーニアの断面におけるそれぞれの八
角形パターン７２，１２の断面が点線部Ｊ，Ｋで一致す
る。
【００１１】図４にメスバーニア１とオスバーニア７を
重ね合わせた構造図を示す。これは、合わせずれ量が０
の状態であり、メスバーニア１とオスバーニア７のそれ
ぞれの基準軸１４と７４が一致して重なる。また、それ
ぞれの八角形パターン１２と７４は全てずれて重なる。
図５に、メスバーニア１とオスバーニア７との間に合わ
せずれが生じた場合の例を示す。
重ね合わせた構造図を示す。これは、合わせずれ量が０
の状態であり、メスバーニア１とオスバーニア７のそれ
ぞれの基準軸１４と７４が一致して重なる。また、それ
ぞれの八角形パターン１２と７４は全てずれて重なる。
図５に、メスバーニア１とオスバーニア７との間に合わ
せずれが生じた場合の例を示す。
【００１２】図５（ａ）は、ｘ方向にマイナス１マイク
ロメートル、ｙ方向にプラス１マイクロメートル、それ
ぞれ合わせずれが生じた場合の図である。本発明のバー
ニアにおいて、合わせずれ量の補正精度は、基準軸１
４，７４と交差する八角形パターン１２，７２の各辺を
使用して測定した場合、ｘｙ両方向ともにプラスマイナ
ス１マイクロメートルであるが、基準軸１４，７４と交
差しない八角形パターン１２，７２のそれぞれの辺を使
用して測定した場合、プラスマイナス０．５マイクロメ
ートルとなる。ただし、ｘｙ両方向に絶対値で同じ量だ
け合わせずれが生じた場合にのみ０．５マイクロメート
ルの精度で読み取ることができ、また、基準軸１４，７
４と交差する八角形パターン１２，７２の各辺でメスバ
ーニア１とオスバーニア７の一致がある場合は、基準軸
１４，７４と交差しない八角形パターン１２，７２のそ
れぞれの辺におけるメスバーニア１とオスバーニア７の
一致は無視する。基準軸１４，７４と交差しない八角形
パターン１２，７２のそれぞれの辺を使用して測定した
場合、合わせずれ補正精度はプラスマイナス０．５マイ
クロメートルになるが、基準軸１４，７４と交差しない
八角形パターン１２，７２のそれぞれの辺でのメスバー
ニア１における第１′の間隔１５とオスバーニア７にお
ける第２′の間隔１６の差は、基準軸１４，７４と交差
する八角形パターン１２，７２の各辺を使用した場合の
合わせ補正精度をＲとすると、Ｒ＊ルート２／２とな
る。図５（ａ）では、領域Ａ、Ｂ、Ｃで、メスバーニア
１とオスバーニア７のそれぞれの八角形パターン１２，
７２が一致して重なり、それ以外の八角形パターン１
２，７２および基準軸１４，７４は一致していない。こ
の場合、ｘｙ両方向に絶対値で同じ距離だけ合わせずれ
が生じているため、領域ＡおよびＢ同様、領域Ｃの一致
からも合わせずれ量を読み取ることができる。
ロメートル、ｙ方向にプラス１マイクロメートル、それ
ぞれ合わせずれが生じた場合の図である。本発明のバー
ニアにおいて、合わせずれ量の補正精度は、基準軸１
４，７４と交差する八角形パターン１２，７２の各辺を
使用して測定した場合、ｘｙ両方向ともにプラスマイナ
ス１マイクロメートルであるが、基準軸１４，７４と交
差しない八角形パターン１２，７２のそれぞれの辺を使
用して測定した場合、プラスマイナス０．５マイクロメ
ートルとなる。ただし、ｘｙ両方向に絶対値で同じ量だ
け合わせずれが生じた場合にのみ０．５マイクロメート
ルの精度で読み取ることができ、また、基準軸１４，７
４と交差する八角形パターン１２，７２の各辺でメスバ
ーニア１とオスバーニア７の一致がある場合は、基準軸
１４，７４と交差しない八角形パターン１２，７２のそ
れぞれの辺におけるメスバーニア１とオスバーニア７の
一致は無視する。基準軸１４，７４と交差しない八角形
パターン１２，７２のそれぞれの辺を使用して測定した
場合、合わせずれ補正精度はプラスマイナス０．５マイ
クロメートルになるが、基準軸１４，７４と交差しない
八角形パターン１２，７２のそれぞれの辺でのメスバー
ニア１における第１′の間隔１５とオスバーニア７にお
ける第２′の間隔１６の差は、基準軸１４，７４と交差
する八角形パターン１２，７２の各辺を使用した場合の
合わせ補正精度をＲとすると、Ｒ＊ルート２／２とな
る。図５（ａ）では、領域Ａ、Ｂ、Ｃで、メスバーニア
１とオスバーニア７のそれぞれの八角形パターン１２，
７２が一致して重なり、それ以外の八角形パターン１
２，７２および基準軸１４，７４は一致していない。こ
の場合、ｘｙ両方向に絶対値で同じ距離だけ合わせずれ
が生じているため、領域ＡおよびＢ同様、領域Ｃの一致
からも合わせずれ量を読み取ることができる。
【００１３】次に、図５（ｂ）は、ｘ、ｙ方向にそれぞ
れプラス１．５マイクロメートル合わせずれが生じた場
合の図である。この場合は、ｘｙ中間軸１７上の領域Ｄ
でメスバーニア１とオスバーニア７の八角形パターン１
２，７２が一致して重なり、それ以外の八角形パターン
１２，７２および基準軸１４，７４は一致しない。した
がって、領域Ｄの一致から、ｘ、ｙ方向にそれぞれプラ
ス１．５マイクロメートルの合わせずれが生じたことを
読み取ることができる。
れプラス１．５マイクロメートル合わせずれが生じた場
合の図である。この場合は、ｘｙ中間軸１７上の領域Ｄ
でメスバーニア１とオスバーニア７の八角形パターン１
２，７２が一致して重なり、それ以外の八角形パターン
１２，７２および基準軸１４，７４は一致しない。した
がって、領域Ｄの一致から、ｘ、ｙ方向にそれぞれプラ
ス１．５マイクロメートルの合わせずれが生じたことを
読み取ることができる。
【００１４】次に、図５（ｃ）は、ｘ方向にプラス１マ
イクロメートル、ｙ方向にマイナス２マイクロメート
ル、それぞれ合わせずれが生じた場合の図である。領域
Ｅ、Ｆ、Ｇでメスバーニア１とオスバーニア７のそれぞ
れの八角形パターン１２，７２が一致して重なってい
る。この場合は、ｘｙ中間軸１７上の領域Ｇでの一致は
無視し、基準軸４上の領域ＥおよびＦの一致から合わせ
ずれ量を読み取る。したがって、領域ＥおよびＦから、
ｘ方向にプラス１マイクロメートル、ｙ方向にマイナス
２マイクロメートルの合わせずれが生じたことを読み取
ることができる。
イクロメートル、ｙ方向にマイナス２マイクロメート
ル、それぞれ合わせずれが生じた場合の図である。領域
Ｅ、Ｆ、Ｇでメスバーニア１とオスバーニア７のそれぞ
れの八角形パターン１２，７２が一致して重なってい
る。この場合は、ｘｙ中間軸１７上の領域Ｇでの一致は
無視し、基準軸４上の領域ＥおよびＦの一致から合わせ
ずれ量を読み取る。したがって、領域ＥおよびＦから、
ｘ方向にプラス１マイクロメートル、ｙ方向にマイナス
２マイクロメートルの合わせずれが生じたことを読み取
ることができる。
【００１５】以上は３つの八角形パターン１２，７２で
構成したバーニアについて述べたが、任意に多数の八角
形パターン１２，７２で構成すると、合わせずれ補正精
度は変わらずにさらに大きな合わせずれ量が測定でき
る。例えば、合わせずれ補正精度がプラスマイナス１マ
イクロメートルの場合、３つの八角形パターン１２，７
２で構成したバーニアでは合わせずれ量がプラスマイナ
ス３マイクロメートルまでしか測定できないが、５つの
八角形パターン１２，７２ではプラスマイナス５マイク
ロメートルまで測定できる。
構成したバーニアについて述べたが、任意に多数の八角
形パターン１２，７２で構成すると、合わせずれ補正精
度は変わらずにさらに大きな合わせずれ量が測定でき
る。例えば、合わせずれ補正精度がプラスマイナス１マ
イクロメートルの場合、３つの八角形パターン１２，７
２で構成したバーニアでは合わせずれ量がプラスマイナ
ス３マイクロメートルまでしか測定できないが、５つの
八角形パターン１２，７２ではプラスマイナス５マイク
ロメートルまで測定できる。
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、八角形パ
ターンおよび十字形状とからなる軸でバーニアを構成す
ることで、１種類のパターンで２方向の合わせずれ量が
同時に測定でき、作業効率が向上する。また、従来技術
と比較して、配置するバーニアの数は半分にできるた
め、異なるバーニアを使用して合わせずれ量の測定を行
ってしまうというミスの低減化にもつながる。
ターンおよび十字形状とからなる軸でバーニアを構成す
ることで、１種類のパターンで２方向の合わせずれ量が
同時に測定でき、作業効率が向上する。また、従来技術
と比較して、配置するバーニアの数は半分にできるた
め、異なるバーニアを使用して合わせずれ量の測定を行
ってしまうというミスの低減化にもつながる。
【図１】本発明の一実施例を示すバーニアの平面構成図
【図２】従来のバーニアの平面構成図
【図３】本発明の一実施例のバーニアの説明断面図
【図４】本発明のバーニアの説明平面図
【図５】本発明の一実施例のバーニアの説明平面図
１：メスバーニア、１２，７２：八角形パターン、３：
第１の間隔、１４，７４：基準軸、５：中心、６：突起
形状、７：オスバーニア、８：第２の間隔、９：従来の
メスバーニア、１０：従来のオスバーニア、１５：第
１′の間隔、１６：第２′の間隔、１７：ｘｙ中間軸。
第１の間隔、１４，７４：基準軸、５：中心、６：突起
形状、７：オスバーニア、８：第２の間隔、９：従来の
メスバーニア、１０：従来のオスバーニア、１５：第
１′の間隔、１６：第２′の間隔、１７：ｘｙ中間軸。
Claims (2)
- 【請求項１】 フォトマスク・パターンバーニアにおい
て、一定の線幅を有し、円に内接し、対向する辺が該円
の中心点から等間隔な八角形パターンから成り、前記一
定の線幅を持つ十字形状となる軸を、前記八角形パター
ンの辺と直行するように、かつ、該十字形状となる軸の
中心点が該円の中心点と同一座標に配置されることを特
徴とする位置合わせ用バーニア。 - 【請求項２】 請求項１において、内面積が異なるよう
に構成し、各前八角形パターンを十字形状となる軸の中
心点を基準として、同一層上に、かつ、それぞれの間の
距離、および、前記八角形パターンのうち内面積が最小
となる該八角形パターンと前記十字形状となる軸との距
離も前記八角形パターン間の距離と同じになるように組
み合わせた第１のパターンと、前記第１のパターンにお
けるそれぞれの前記八角形パターン間の距離、および、
内面積が最小となる前記八角形パターンと前記十字形状
となる軸との距離が、前記第１のパターンの場合とは異
なり、かつ、一定となるようにした第２のパターンを、
前記第１のパターンの配置層とは異なる層に、かつ、前
記十字形状となる軸の中心点と同一座標に配置すること
を特徴とする合わせ補正用バーニアの構成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22366199A JP2001051402A (ja) | 1999-08-06 | 1999-08-06 | フォトマスクの位置合わせ用バーニアおよびその構成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22366199A JP2001051402A (ja) | 1999-08-06 | 1999-08-06 | フォトマスクの位置合わせ用バーニアおよびその構成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001051402A true JP2001051402A (ja) | 2001-02-23 |
Family
ID=16801678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22366199A Pending JP2001051402A (ja) | 1999-08-06 | 1999-08-06 | フォトマスクの位置合わせ用バーニアおよびその構成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001051402A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003107756A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-09 | Nec Toppan Circuit Solutions Toyama Inc | 自動露光機および位置合わせ方法 |
| JP2007504664A (ja) * | 2003-09-02 | 2007-03-01 | アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド | Ｘイニシアティブレイアウト設計のためのパターン認識および方法のための構造 |
-
1999
- 1999-08-06 JP JP22366199A patent/JP2001051402A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003107756A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-09 | Nec Toppan Circuit Solutions Toyama Inc | 自動露光機および位置合わせ方法 |
| JP2007504664A (ja) * | 2003-09-02 | 2007-03-01 | アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド | Ｘイニシアティブレイアウト設計のためのパターン認識および方法のための構造 |
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