KR0131262B1 - 포토 마스크 제작 방법 - Google Patents

포토 마스크 제작 방법

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KR0131262B1
KR0131262B1 KR1019940040773A KR19940040773A KR0131262B1 KR 0131262 B1 KR0131262 B1 KR 0131262B1 KR 1019940040773 A KR1019940040773 A KR 1019940040773A KR 19940040773 A KR19940040773 A KR 19940040773A KR 0131262 B1 KR0131262 B1 KR 0131262B1
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김주용
현대전자산업주식회사
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/44Testing or measuring features, e.g. grid patterns, focus monitors, sawtooth scales or notched scales
    • GPHYSICS
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    • G03F1/42Alignment or registration features, e.g. alignment marks on the mask substrates

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

1.청구범위에 기재된 고안이 속한 기술분야 : 정확한 정렬지수(overlayregistration)의 측정을 기하면서 좁은 공간에서도 많은 버니어를 입력 시킬 수 있는 리딩버니어(Reading Vernier)를 형성하여 포토 마스트를 제작하는 방법에 관한 것임.
2. 고안이 해결하려고 하는 기술적 과제 : 좁은 스크라이브레인(Scribe Lane)내에 많은 버니어를 입력함에 따른 공간 면적분배의 문제가 있었고, 그로 인하여 휠드엣지(field edge)쪽 버니어는 만들지 못하는 문제점이 있었음.
3. 고안의 해결 방법의 요지 : X, Y축에 대하여 대각선 방향으로 일정한 크기의 정사각형으로 모 버니어를 형성하는 단계와, 모 버니어를 형성 한뒤 모 버니어와 같거나, 작은 형태의 버니어를 중첩시켜 1줄의 리딩버니어를 얻는 단계를 포함하여서 되는 것임.
4. 고안의 중요한 용도 : 본 발명은 종래 X, Y축으로 두줄의 모, 자 버니어를 형성함에 따른 스크라이브 레인 공간의 차지율을 훨씬 줄일 수 있게 되었고, 읽어드리기면에서도 두개의 X, Y축에 의한 리딩상태 보다 중첩된 1 줄의 대각선 리딩상태가 오차의 발생을 현저히 줄일 수 있게 되었음.

Description

포토 마스크 제작 방법
제 1도는 본 발명 모 버니어가 스크라이브 레인 내에 설정된 상태의 예시도.
제 2도는 본 발명 자 버니어가 스크라이브 레인내에 설정되는 상태를 설명하기 위한 예시도.
제 3도는 본 발명 모, 자 버니어를 중첩시켜 스크라이브 레인내에 설정한 상태의 도면.
제 4도는 본 발명에 의한 모, 자 버니어가 다수 설정된 스크라이브 레인의 예시도.
제 5도는 종래 모, 자 버니어의 중첩상태와 설정된 상태의 스크라이브 레인의 개략도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 모 버니어(母, Vernier) 2 : 자 버니어(子, Vernier)
본 발명은 포토 마스크 제작 방법에 관한 것으로 특히, 정확한 정렬지수(overlay registration)의 측정을 기하면서 좁은 공간에서도 많은 버니어를 입력 시킬 수 있는 리딩버니어(Reading Vernier)를 형성하여 포토 마스크를 제작하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로 고집적 반도체 장치의 포토마스크에서는 좋은 스크라이브레인(Scribe Lane)내에 수많은 실패모드(Mode), 테스트 패턴(Test Pattern), 각종 포토마스크 정력 마크(Align Mark), 모니터링 박스(Mornitering Box), 리딩버니어(Reading Vernier)등을 필수적으로 입력(In-Put)해야만 하기 때문에 공간상 문제가 있었고, 그로 인하여 휠드엣지(Field edge)쪽 버니어는 만들지 못하는-레티클에 입력시키지 못하는-문제점을 안고 있었다. (휠드엣지쪽 버니어는 왜곡버니어임)
즉, 첨부도면 제5도에서 나타내는 바와같이 스크라이브 레인내에 설정되는 종래의 모, 자 버니어의 중첩 형태는 X축과 Y축을 따라 직선상으로 약 100-200μm의 범위를 갖는 정사각형을 형성함으로 크기가 지나치게 크고 면적범위도 200×200μm 정도로 매우 넓어 보다 많은 버니어를 스크라이브 레인내에 입력시킬 수 없는 문제점이 있다. 따라서, 스크라이브 레인내에 버니어를 충분하게 입력시킬 수 있는 포토 마스크 제작방법이 요구되는 것이다.
본 발명은 리딩 비니어가 차지하는 면적을 줄이고, 좀더 정확한 정렬지수(overlay registration)을 읽어드릴 수 있는 버니어를 구비한 포토 마스크 제작 방법을 제공하는 데에 그 목적을 둔다.
이와같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 포토 마스크 제작방법은 5×5μm의 정사각형의 버니어를 X, Y축에 대하여 대각선상으로 일정한 간격으로 배치하여 모 버니어를 형성하고, 3×3μm 정도의 정사각형으로 자 버니어를 형성한뒤 모 버니어와 동일하게 대각선 방향으로 모 버니어에 중첩시켜서 되는 것으로 A, Y축 2줄의 버니어를 형성 하지 않고도 1줄의 대각선 버니어 만으로도 X, Y축 정렬지수를 동시에 읽어드릴 수 있게 되는 것이다.
이하, 본 발명의 구체적 실시예를 첨부 도면과 함께 상세히 설명하면 다음과 같다.
첨부도면중 제1도는 본 발명 모 버니어를 스크라이브 레인내에 설정한 예시도이고, 제2도는 본 발명 자 버니어가 스크라이브 레인내에 설정된 상태를 예시하며, 제3도는 본 발명 모, 자 버니어를 중첩시켜 스크라이브 레인내에 설정한 상태이며, 제4도는 본 발명에 의한 중첩 버니어가 다수 설정된 스크라이브 레인의 예시도이다.
본 발명은 모 버니어(1)를 형성하는 단계와, 자 버니어(2)를 형성하는 단계와 모, 자 버니어를 중첩하는 단계로 이루어진다.
즉, 제1 단계는 모 버니어(1)를 5×5μm의 정사각형으로 하여 X, Y축에 대하여 대각선상으로 일정한 간격으로 배치하는 것이고, 제2 단계는 자 버니어(2)를 3×3μm 정도의 정사각형으로 모 버니어와 동일하게 대각선 방향으로 배치하여서 되는 것이며, 제3 단계는 스크라이브 레인내의 상기 모 버니어(1)에 상기 자 버니어(2)를 중첩시켜 1줄의 리딩 버니어를 형성하여서 된다.
중첩된 상태의 모, 자 버니어에 있어 Y축 하방에서는 모 버니어의 Y축 방향으로 자 버니어를 일치시켜 모, 자 버니어를 한쪽으로 일치시킨 상태에서 Y=-0.3μm의 포인트를 설정하며, X축 상방에서는 모, 자 버니어의 일치상태에서 X=+0.2μm의 일치 포인트를 설정하여서 된다.
첨부도면 제5도는 본 발명 리딩 버니어가 다수 평행으로 나란히 실시된 상태를 나타낸다. 이와같은 다수의 리딩 버니어 설정으로 인하여 결국 보다 많은 버니어의 설정이 가능하게 되는 것이다.
본 발명은 종래 X, Y축으로 두줄의 모, 자 버니어를 형성함에 따른 스크라이브 레인 공간의 차지율을 훨씬 줄일 수 있게 되었고, 읽어드리기면에서도 두개의 X, Y축에 의한 리딩상태 보다 중첩된 1 줄의 대각선 리딩상태가 오차의 발생을 현저히 줄일 수 있게 되었다.
이와같이 실시된 본 발명의 모, 자 버니어의 크기는 변형할 수 있으나, 모 버니어의 내부에 자 버니어가 같거나 더 작은 크기로 실시하는 것이며 그 크기가 변화하더라도 같은 결과를 얻을 수 있으며, 대각선의 각도는 읽어드리기가 좋은 여러 각도에서 설시될 수 있다.
이와 같은 모, 자 버니어의 크기와 각도를 변경하더라도 그 변경의 범위는 본 발명의 청구범위에 모두 포함된다.

Claims (5)

  1. 리딩버니어로서 정렬지수를 축정하는 포토 마스크를 제조하는 방법에 있어서, X, Y축에 대하여 대각선 방향으로 일정한 크기의 경사각형을 모 버니어를 형성하는 단계와, 모 버니어를 형성한 뒤 모 버니어 보다 작은 형태의 자 버너어를 중첩시켜 1줄의 리딩버니어를 얻는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 제작방법.
  2. 제1항에 있어서, 모 버니어의 크기가 5×5μm±0.5μm로 되게 함을 특징으로 하는 포토 마스크 제작방법.
  3. 제1항에 있어서, 자 버니어의 크기가 3×3μm±0.3μm로 되게 함을 특징으로 하는 포토 마스크 제작방법.
  4. 제1항에 있어서, 리딩 버니어의 대각선 길이를 50-100μm로 되게 함을 특징으로 하는 포토 마스크 제작방법.
  5. 제1항에 있어서, 자 버니어가 모 버니어의 사각형내에 중첩되게 함을 특징으로 하는 포토 마스크 제작방법.
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