JP2001047719A

JP2001047719A - レーザー彫刻用印材

Info

Publication number: JP2001047719A
Application number: JP22826899A
Authority: JP
Inventors: Yoshiaki Ito; 喜章伊藤; Atsushi Takeuchi; 篤志竹内
Original assignee: Toyopolymer Co Ltd
Current assignee: Toyopolymer Co Ltd
Priority date: 1999-08-12
Filing date: 1999-08-12
Publication date: 2001-02-20

Abstract

(57)【要約】【課題】同一性の担保、高い耐摩耗性、等々が求めら
れる印鑑の材料の中、レーザー加工に適したもの、即
ち、加工時に表面が燃えたり線がつぶれたりせず、また
インク等の保持や浸透性に優れたものを提供する。【解決手段】主材であるポリマーがその分子内に、Ｓ
ｉ、Ｃ、Ｈ、Ｏ以外の原子を含まないものであって、該
ポリマーは連続気孔体であり、気孔径が０．５〜６０μ
であり、全体の気孔率が３０〜８０％であるもの。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、印材に関するもの
である。

【０００２】

【従来技術】印材とは、印鑑の材料でありこれに文字や
模様を彫刻すれば、また必要ならばインク保持具等の付
属品を取りつければ印鑑になるものである。印鑑は、彫
刻された文字を朱肉で押印することによって同一性を担
保する証明器具であった。よって、この目的に叶うよ
う、印鑑は、その材質は硬度があり朱肉等によって侵さ
れないもので、複雑な文字を彫刻したものであった。

【０００３】しかし、近年このような本来の目的以外の
印鑑使用法もなされてきている。例えば、何度も書く手
間を省くだけのもの、例えば、出席、欠席の印鑑等、乱
筆を隠すためのもの等である。

【０００４】このようなものにあっては、高価な印材
（象牙、水晶、翡翠等）に熟練工が１つ１つ手で彫刻す
るようなものではなく、より安価で、１回のインク補給
で何回も押印できるものが望ましい。

【０００５】実際この種の印鑑も多数市販されている。
これらは、ソリッドゴム状（基本的に部材にインクが吸
収されない、即ち多孔質でないもの）又はゴムスポンジ
状（連続気泡のある）のもので、所望の文字や模様を形
成した型等に入れて硬化させるものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】現在市販されている上
記のソリッドゴム又はゴムスポンジ状の印鑑では、象牙
や水晶とは比べるべくもないが、安価な木材印鑑と比較
しても、印字の線が不鮮明であり細かい複雑な文字等は
表現できない。

【０００７】印鑑の重要な機能である同一性の担保とい
う機能からすれば、彫刻されている文字等はできる限り
複雑で模造の困難なものが望ましい。これは、硬度のあ
る象牙等の印材を用いて、熟練工が行なえば可能であり
実際実印等はこのようになされている。このような機能
を上記したソリッドゴム状又はゴムスポンジ状の印鑑に
求める場合、その製造が困難である。型に流し込んで製
造するにしても細かさに限界があり、細い線１本１本ま
でくっきりと成型することは難しい。更に、スポンジ材
でインクを保持するタイプのものでは貫通孔が必要なた
めほぼ不可能である。また、型に流し込んで製造するに
は、専用の設備が必要であり町の印鑑販売店等ではとて
も無理であり、そのため顧客の手に渡るまで、発注から
通常１週間はかかる。

【０００８】このような精密加工技術として、レーザー
加工法がある。この方法により、ソリッドゴム材やゴム
スポンジ材を加工することも試みられたが、材料が燃焼
する時悪臭がひどいため、とても実施できなかった。

【０００９】

【課題を解決するための手段】以上のような現状に鑑
み、本発明者は鋭意研究の結果本発明印材を完成したも
のであり、その特徴とするところは、主材であるポリマ
ーがその分子内に、Ｓｉ、Ｃ、Ｈ、Ｏ以外の原子を含ま
ないものであって、該ポリマーは連続気孔体であり、気
孔径が０．５〜６０μであり、全体の気孔率が３０〜８
０％である点にあり、更に他の態様では、主材ポリマー
の分子を構成しない添加物を混入したものであって、該
添加物は燃焼時に悪臭或いは有毒ガスを発生しないもの
である点にある。

【００１０】本発明の第１の特徴は、材料が自然物では
なく合成ポリマーであること、更にそのポリマーが分子
内に、Ｓｉ、Ｃ、Ｈ、Ｏ以外の原子を含まないものであ
ることである。このＳｉ、Ｃ、Ｈ、Ｏ以外の原子を含ま
ないことによって、悪臭を防止するのである。また、製
造ミスや余分なものを廃棄する場合であっても、公害に
なることが少ない。

【００１１】そもそもゴムやゴムスポンジが燃焼する際
の悪臭或いは有毒ガスのほとんどが、硫黄原子、窒素原
子及び塩素原子に由来するものである。それらが悪臭を
発する種々の化合物を作るのである。よって、これらの
原子を含まないだけでなく、悪臭化合物を作るか否か明
らかでないその他の原子も含まないものでポリマーを構
成することによってこれらをほぼ完全に防止するのであ
る。

【００１２】また、Ｓｉ、Ｃ、Ｈ、Ｏ以外の原子を含ま
ないということは、Ｓｉ、Ｃ、Ｈ、Ｏの原子をすべて含
むということを意味するのではない。ポリエチレンのよ
うなＣとＨのみからなるもの、ポリエーテルのような
Ｃ、Ｈ、Ｏからなるもの、また、ＳｉとＯからなるもの
等、上記４つの原子のうちのいくつかのものだけで構成
したものでもよい。本発明者の実験では悪臭と公害の観
点からは次のポリマーが好適であった。ＣとＨのみから
なるものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ス
チレン・ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イソプレン
ゴム、ブチルゴム、ＥＰＤＭ等が好適である。また、
Ｃ、Ｈ、Ｏからなるものとしては、ポリアセタールゴ
ム、ポリアセトアルデヒド、ポリケテン等が好適であ
る。更に、Ｓｉ、Ｃ、Ｈ、Ｏの４種からなるものとして
は、ジメチルシリコーンゴム、メチルフェニルシリコー
ンゴム、メチルビニルシリコーンゴム等が好適である。

【００１３】更に、本発明に用いる印材は、上記したポ
リマーの連続気孔体である。これはインク等を浸透保持
するためである。

【００１４】ここで本発明では、この連続気孔体の気孔
の径（空孔径）と気孔の割合（気孔率）を種々研究した
結果、印材としてこれが一定の値であればよいことが判
明した。即ち、気孔径が０．５〜６０μであり、気孔率
が３０〜８０％である。気孔径が０．５μ以下ではイン
クの浸透に問題があり、６０μ以上では印影が不鮮明に
なる。また、気孔率が３０％以下ではインク等の保持量
が少ないことと全体として硬くなるためである。また、
８０％以上でも印影が不鮮明である。

【００１５】本発明では、インク等を印鑑（スタンプ）
の彫刻面側からスタンプパッド等で補給しても、彫刻面
と反対側から補給してもよい。反対側から補給する場合
には気孔は両側に貫通している必要があるが、彫刻面側
から供給するタイプのものでは、気孔自体が彫刻面近傍
にのみ存在していてもよい。この場合、上記した気孔径
と気孔率は、その彫刻面近傍についてのものであり、イ
ンク等の届かない付属的な部分はどのようなものでもよ
い。

【００１６】更に、主材であるポリマー分子を構成しな
いものであるが、補強のため、成型性改良のため、イン
クとの親和性改良のため、難燃性付与のため等の理由か
ら、添加剤を加えてもよい。例えば、金属の酸化物、炭
酸化物、塩化物等、更には有機白金錯体、カーボン、オ
イル、有機酸、エーテル、アルコール等である。これら
は、ポリマー分子を構成するものではないが、混合され
て一緒に成型されるものである。しかし、無機物や単純
な有機物である。本発明においては、これらも燃焼時に
悪臭や有害ガスの発生原因とならないものにするのが好
適であるが、僅かな量である場合や、特殊な場合にしか
悪臭等が発生しないような場合には、添加剤自体はあま
り厳密に考えなくともよい。

【００１７】また、本発明の印材は全体ではなく、印鑑
の文字や模様部の表面部分のみに使用してもよい。この
場合、表面部分以外は本発明に該当しない印材を用いて
両者を接着又は融着等すればよい。共押出等によって一
体化して製造してもよい。勿論、本発明同士を固着して
もよい。

【００１８】本発明印材の製造方法としては、次のよう
な方法があるが製法自体は特に限定するものではない。（１）ゴム又はプラスチックの粉末又は微粒子を一定
の型の中に入れて、これを加圧加熱しながら、粉末又は
微粒子相互間を焼結する。この結果、微細な連続気孔が
形成される。気孔径としては、５〜４００μが可能であ
る。（２）原料ゴム等に、一定の溶媒に溶解する物質を混
入しておき、加硫（架橋）後この溶解物質を溶出させ
て、微細な連続気孔を形成する。（３）原料ゴム等に、温度等の外的条件で気化する物
質を混入しておきスポンジ成型時に気化させて、連続気
孔を形成する。

【００１９】レーザー彫刻加工は、現在使用されている
方法でよく、特に印材加工に用いられている方法やゴム
加工に用いられている方法がよい。

【００２０】

【実施例】実施例１合成ゴム（エスプレン５０１Ａ）１００部（重量部、以
下同じ）に対し、難燃剤（第一稀元素化学工業：フレー
ムカットＬ−２）１０部、カーボンブラック（東海カー
ボン製シースト６）１５部、パラフィン系オイル（出光
興産製ダイアナプロセスオイルＰＷ−９０）１００部、
酸化亜鉛（堺化学工業製１号）５部、ステアリン酸（旭
電化工業製）５部、加硫剤（日本油脂製パーオキサイ
ド）１．５部、促進剤（大内新興製）０．５部を加えた
物（以上を「実施例１の配合」という）にエチレングリ
コール８０部を加えて２本ロールで混練り後、１６０℃
で２０分プレス加硫し、水洗、１００℃で４時間乾燥す
ることで製品を得た。出来た印材は、気孔径１０〜２０
μ、気孔率６０％、かさ密度０．５１ｇ／ｃｍ ³ 、硬度
３５°（アスカーＣ）、インク含浸率５４％であった。

【００２１】実施例２実施例１の配合１００部に対し、炭酸カルシウム１００
部及びアセトン５部を添加（以上を「実施例２の配合」
という）し、加圧ニーダーで７０℃の温度で１５分混練
りする。これを、単軸押出し機で３．５ｍｍのシート状
に成型した後、１６０℃で２０分加硫する。このシート
を４０℃の１６．４％の塩酸に２４時間浸漬した後水洗
し、１％の水酸化ナトリウムで処理、更にアルカリ性が
なくなるまで水洗後、１００℃で４時間乾燥して製品を
得た。出来た印材は、気孔径５〜１０μ、気孔率６５％
であった。

【００２２】実施例３実施例２の配合８０部に対し、塩化カルシウム１００部
及びポリオキシエチレンポリプロピレングリコールエー
テル（東邦化学工業製プロナールＳＴ−１）３５部添加
し、実施例２と同様に混練り・成型し、５０℃の温水中
でバイブレーターをかけて２４時間放置。洗浄後、１０
０℃で４時間乾燥して製品を得た。出来た印材は、気孔
径４０〜５０μ、気孔率７５％であった。

【００２３】実施例４メチルビニルシリコーンゴム１００部に平均粒径１５μ
の炭酸カルシウム１００部及びアルコール５部を添加
し、加圧ニーダーで混練りする。その混合物を押出し法
によって１０ｍｍシート状に成型し、１５０℃４時間加
硫を行なう。これを４０℃の１６．４％の塩酸に１２時
間浸漬後水洗し、１％水酸化ナトリウム液で処理、更に
アルカリ性がなくなるまで水洗後１３０℃４時間乾燥し
て製品を得た。できた印材は、気孔径１０〜２０μ、気
孔率約６０％、かさ密度０．５１ｇ／ｃｍ³ 、硬度２０
°（アスカーＣ）、インク含浸率５４％であった。

【００２４】上記実施例の印材を用いて、レーザー加工
によって０．１ｍｍの幅の線による文字（漢字の「鑑」
の文字）を彫刻して、比較例と比較した。比較例１は、
従来のゴム印（ＮＢＲ製）、比較例２はポリウレタンの
多孔体によるものである。比較例２の多孔体は気孔径４
０〜５０μ、気孔率６５％であった。比較例１、比較例
２ともに、レーザー加工は不可能であった。その理由
は、表面が高温になるため粘性（ねちゃつき）がでて、
線がつぶれてしまうことと、加工中の悪臭がひどいため
である。よって、比較例は型による成型で製造した。

【００２５】実験は、まず１回ずつインクパッドに印鑑
をつけて、押印した時の文字の鮮明さを比較した。次に
インクを十分浸透保持させ、１０回以上スタンプパッド
なしで押印する時の最初と３０回目の文字の鮮明さを比
較した。その結果を表１に示す。

【表１】

【００２６】表に示す通り、実施例は印鑑として問題な
く、比較例１はインクの保持ができないため１回ごとの
実験のみであったが、比較例２では気孔が小さすぎたの
か、型によって製造したにもかかわらず気孔が潰れてい
るようであった。表から、本発明印材が、特にレーザー
彫刻する場合には優れていることが明らかである。

【００２７】

【発明の効果】以上詳細に説明した本発明では、次のよ
うな大きな効果がある。（１）本発明印材では、主材にはＳｉ、Ｃ、Ｈ、Ｏ以
外の原子は含まれていないため、レーザー加工時に悪臭
や有毒ガスが発生せず、小さい工場や印鑑販売店でもレ
ーザー加工が可能となる。更に、添加剤もそのようなも
のを選んだものでは、より効果的である。（２）難燃性であるため、レーザー加工で表面が燃え
たり、ねちゃついたりすることがない。（３）気孔率と気孔径が所定の範囲にあるため、押印
した時の線等が鮮明で、インクの保持や浸透性も優れて
いる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】主材であるポリマーがその分子内に、Ｓ
ｉ、Ｃ、Ｈ、Ｏ以外の原子を含まないものであって、該
ポリマーは連続気孔体であり、気孔径が０．５〜６０μ
であり、全体の気孔率が３０〜８０％であることを特徴
とするレーザー彫刻用印材。
【請求項２】主材ポリマーの分子を構成しない添加物
を混入したものであって、該添加物は燃焼時に悪臭或い
は有毒ガスを発生しないものである請求項１記載のレー
ザー彫刻用印材。