JP2001044067A - 積層セラミックコンデンサ - Google Patents
積層セラミックコンデンサInfo
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Abstract
Pd合金を用いた内部電極層とを同時焼成した場合で
も、クラックやデラミネーションを防止できる積層セラ
ミックコンデンサを提供する。 【解決手段】金属元素としてPbおよびBiのうち少な
くとも一方を含有する誘電体層1と、Pdの含有率が4
0重量%以下のAg−Pd合金からなる内部電極層2と
を交互に積層してなるコンデンサ本体3の両端部に、外
部電極4を形成してなる積層セラミックコンデンサであ
って、コンデンサ本体3中にAgを全量中5重量%以上
含有する。
Description
ンデンサに関するものであり、特に、内部電極層として
Pdの含有率が40重量%以下のAg−Pd合金を用
い、誘電体層として、高周波領域で好適に使用され、か
つ高誘電率、低損失の誘電体磁器組成物を用いた積層セ
ラミックコンデンサに関するものである。
回路の高周波化、小型化が急速に進行し、電子部品も高
周波化、小型化が要求されるようになってきている。特
に、高周波大電流回路では、損失による自己加熱が問題
となる場合があり、この場合には低損失のコンデンサが
使用されていた。これらの回路の多くはAC電源回路と
して使用されることが多く、定格電圧として200V以
上要求される場合が少なくなく、中高圧コンデンサが使
用されていた。
損失で、温度特性、電圧依存性が小さい等の特性を有す
るフィルムコンデンサが用いられている。しかしなが
ら、フィルムコンデンサはモールドタイプが殆どであ
り、小型化、表面実装に対応できない。
電体磁器組成物として、特公昭57−37963号公報
および特公平7−45337号公報に開示されるような
ものが知られている。
た誘電体磁器組成物は、Sr、Ti、Bi、Pbおよび
Caからなる基本成分と、Cu、Mnからなる添加成分
とから構成されている。そして、SrTiO3 、Bi2
O3 、TiO2 、PbTiO3 、CaTiO3 、Cu
O、MnCO3 を混合し、930℃で仮焼し、1200
〜1400℃で焼成して作製されている。この誘電体磁
器組成物では、測定周波数1kHzでの比誘電率が50
0〜1500、誘電損失tanδが0.15〜0.5%
であった。
された誘電体磁器組成物は、Sr、Ti、Bi、Pb、
CaおよびSnからなる基本成分と、希土類酸化物と、
ガラス成分とから構成されている。そして、SrC
O3 、Pb3 O4 、CaCO3 、Bi2 O3 、Ti
O2 、SnO2 、希土類元素酸化物を混合し、950℃
で仮焼し、940〜1240℃で焼成して作製されてい
る。この誘電体磁器組成物では、測定周波数1kHzで
の比誘電率が1240〜1470、誘電損失tanδが
0.25〜0.36%であった。
組成物中には、PbおよびBiのうち少なくとも一方を
含有している。
よびBiのうち少なくとも一方を含有する誘電体磁器組
成物を積層セラミックコンデンサの誘電体層として、内
部電極層と同時焼成する場合は以下の問題点がある。
ため、内部電極層の電極材料としてNiを用いることは
非常に困難である。酸化雰囲気で焼成できる電極材料と
してPdがあるが、Pb、BiはPdと反応しやすく、
Pdの含有率が40重量%以下のAg/Pd合金を用い
て、1150℃以下の焼成温度で焼成する必要がある。
この条件においては、Pb、Biとの反応によるPdの
酸化は起こりにくく、酸化膨張により磁器にクラックが
発生することなく内部電極との同時焼成が可能である。
ストとして、Pd比率が40重量%以下のAg/Pd合
金を用いた場合には、焼成時にAgが誘電体層中に拡散
することにより内部電極層の組成がずれて、クラックが
発生することがあった。
より内部電極層中のPdの含有率が高くなり、内部電極
層中のPdが、焼成温度からの降温時において酸化膨張
し、最外層の内部電極層からコンデンサ本体の角部へ向
けてクラックが発生したり、内部電極層でデラミネーシ
ョンが発生するという問題があった。
iが還元され、このPb、Biが内部電極層のAg/P
d合金と合金化し、内部電極層の融点が低下し、これに
より、内部電極層が焼成温度で過焼結となり、内部電極
層の収縮量が増加し、最外層の内部電極層からコンデン
サ本体の角部へ向けてクラックが発生したり、内部電極
層でデラミネーションが発生するという問題があった。
体層と、Ag/Pd合金を用いた内部電極層とを同時焼
成した場合でも、クラックやデラミネーションを防止で
きる積層セラミックコンデンサを提供することを目的と
する。
コンデンサでは、金属元素としてPbおよびBiのうち
少なくとも一方を含有する誘電体層と、Pdの含有率が
40重量%以下のAg−Pd合金からなる内部電極層と
を交互に積層してなるコンデンサ本体の両端部に、外部
電極を形成してなる積層セラミックコンデンサであっ
て、前記コンデンサ本体中にAgを全量中5重量%以上
含有するものである。
中5重量%以上含有せしめることにより、理由は明確で
はないが、焼成時において誘電体層中に内部電極層のA
gが拡散することによる内部電極のAg/Pd比が変化
することを抑制できると考えられ、これによりコンデン
サ本体にクラックやデラミネーションが発生することを
抑制できる。
あることが望ましい。このように誘電体層の厚みを20
μm以上とすることにより、不活性層の積層数を減少さ
せてもAgを全量中5重量%以上含有せしめることがで
き、コンデンサ本体の寸法を結果として小さくできる。
サは、図1に示すように、複数の誘電体層1と複数の内
部電極層2を交互に積層してなるコンデンサ本体3の両
端部に、外部電極4を形成してなるものである。コンデ
ンサ本体3は有効部5と不活性部6とから構成され、有
効部5は誘電体層(有効層)1と内部電極層2とを交互
に積層して形成され、容量を発生させる部分で、不活性
部6は、例えば、誘電体層1と同一材料からなる不活性
層を複数積層して構成されている。
bおよびBiのうち少なくとも一方を含有しており、内
部電極層2は、Pdの含有率が40重量%以下のAg−
Pd合金から構成されている。
うに、Sr、Ti、Bi、PbおよびCaからなる基本
成分と、Cu、Mnからなる添加成分とから構成したも
のや、Sr、Ti、Bi、Pb、CaおよびSnからな
る基本成分と、希土類酸化物と、ガラス成分とから構成
したものがある。
とが望ましい。これは、誘電体層1の厚みが20μm以
上の場合は、不活性層の積層数を減少させ、特に不活性
部6の厚みを150μm以下としても、Agを全量中5
重量%以上含有せしめることができ、コンデンサ本体の
寸法を結果として小さくできるからである。
重量%以下のAg−Pd合金からなるものであるが、P
b、BiとPdの反応を抑制するという理由から特にP
dの含有率が30重量%以下のAg−Pd合金からなる
ものが望ましい。
サでは、コンデンサ本体3中にAgを全量中5重量%以
上含有するものである。Agは内部電極層2中には勿論
のこと、焼成時に内部電極層2から拡散するため、有効
部5の誘電体層1および不活性部6の不活性層中にも存
在するが、Agを全量中5重量%以上含有するとは、こ
れらの内部電極層2および誘電体層1および不活性層中
に存在するAgが、コンデンサ本体3中に金属換算で全
量中5重量%以上含有することを意味するものである。
中5重量%以上含有したのは、5重量%よりも少ない場
合には、クラックやデラミネーションの発生抑制効果が
小さいからである。一方、Ag量が多くなると、電極が
厚くなり、デラミネーションが発生し易くなるため、全
量中15重量%以下であることが望ましい。
ンデンサは、例えば、SrCO3 、CaCO3 、Pb
O、Bi2 O3 、TiO2 の各原料粉末を混合し、これ
らを仮焼して得られた仮焼物と、Liおよび/またはB
を含有するガラス成分を所定量秤量し、混合粉砕し、例
えば、ドクターブレード法によりフィルム状シートを作
製する。
有率が40重量%以下のAg−Pd合金からなる内部電
極ペーストをスクリーン印刷法等により印刷した後、内
部電極ペーストが塗布されたフィルム状シートを複数積
層、熱圧着プレス、カットし、脱バインダー処理後、1
050〜1150℃において0.5〜2時間焼成を行
い、タンブリング後、端子電極の焼き付け、メッキ後、
本発明の積層セラミックコンデンサが得られる。
中5重量%以上とするためには、内部電極層厚みを厚く
したり、誘電体層中に予めAgを添加することにより達
成することができる。
ンデンサでは、コンデンサ本体中にAgを全量中5重量
%以上含有せしめることにより、焼成時に誘電体層中に
Agが拡散することによる内部電極のAg/Pd比が変
化することを抑制でき、コンデンサ本体にクラックやデ
ラミネーションが発生することを抑制できる。
ることにより、不活性層の積層数を減少させてもAgを
全量中5重量%以上含有せしめることができ、コンデン
サ本体の寸法を小さくできる。
O、Bi2 O3 、TiO2 の各原料粉末を、SrCO3
0.31モル%、CaCO3 0.05モル%、Pb
O 0.07モル%、Bi2 O3 0.05モル%、T
iO2 0.52モル%の割合で秤量し、該原料粉末に
媒体として純水を加えて24時間、ZrO2 ボールを用
いたボールミルにて混合した後、該混合物を乾燥し、次
いで、該乾燥物を1150℃の温度で大気中2時間仮焼
した。
モル%、B2 O3 0.045モル%、SiO2 0.
63モル%、Al2 O3 0.10モル%からなる助剤
成分を、全量中1重量%となるように添加し、分散剤、
分散媒とともに24時間ボールミルにて混合粉砕し、原
料スラリーを調整した。
加え、充分撹拌後、ドクターブレード法により厚み10
μm、20μm、30μm、50μmのフィルム状シー
トに成形した。このフィルム状シートに、内部電極用に
調整したAg−Pdペースト(Ag70重量%、Pd3
0重量%)をスクリーン印刷法により印刷した。印刷塗
布量は1.5mg/cm2 とした。
シートを、表1に示す枚数だけ(有効層積層数)積層
し、この積層体の上下面にAg−Pdペーストが印刷さ
れていないフィルム状シートを、不活性層として表1に
示す枚数だけ(不活性層積層数)それぞれ積層し、熱圧
着後、切断し、積層成形体を得た。
熱して脱バインダー処理し、引き続いて1100℃で大
気中で2時間焼成した。タンブリング後、磁器の寸法
3.2mm×1.6mm、有効電極面積2.8×1.4
mm、誘電体層厚み7μm、13μm、20μm、33
μm×所定層数のコンデンサ本体を作製した。
ンデンサ本体中のAg含有量を測定した。
倍に拡大し、外観を観察した。また、コンデンサ本体の
端面および側面を研磨し、内部観察し、クラック、デラ
ミネーション発生の有無を調べ、クラック、デラミの発
生の有無として記載した。結果を表1に示す。
含有量が5重量%以上の本発明の積層セラミックコンデ
ンサは、クラックやデラミネーションの発生がないこと
が判る。一方、コンデンサ本体中のAg含有量が5重量
%よりも少ない場合には(試料No.3、7、8、11、
12)、クラックやデラミネーションが発生することが
判る。
ることにより、不活性層の積層数を片側6層以下、つま
り不活性部の厚みを150μm以下としても、また、有
効層数が40層以下でも、Agを全量中5重量%以上含
有せしめることができ、コンデンサ本体の寸法を小さく
できることが判る。
O、Bi2 O3 、TiO2 の各原料粉末を、表2で示す
割合で秤量し、該原料粉末に媒体として純水を加えて2
4時間、ZrO2 ボールを用いたボールミルにて混合し
た後、該混合物を乾燥し、次いで、該乾燥物を1150
℃の温度で大気中2時間仮焼した。
モル%、B2 O3 0.045モル%、SiO2 0.
63モル%、Al2 O3 0.10モル%からなる助剤
成分を、全量中1重量%となるように添加し、さらにA
gOを表2に示すように、全量中0〜4重量%となるよ
うに添加し、分散剤、分散媒とともに24時間ボールミ
ルにて混合粉砕し、原料スラリーを調整した。
加え、十分撹拌後ドクターブレード法により厚み30μ
m、50μmのフィルム状シートに成形した。このフィ
ルム状シートに、内部電極用に調整したAg−Pdペー
スト(Ag70重量%、Pd30重量%)をスクリーン
印刷法により印刷した。印刷塗布量は、1.5mg/c
m2 である。
シートを、表3に示す枚数だけ(有効層積層数)積層
し、この積層体の上下面にAg−Pdペーストが印刷さ
れていないフィルム状シートを、不活性層として表1に
示す枚数だけ(不活性層積層数)それぞれ積層し、熱圧
着後、切断し、積層成形体を得た。
熱して脱バインダー処理し、引き続いて1100℃で大
気中で2時間焼成した。タンブリング後、磁器の寸法
3.2mm×1.6mm、有効電極面積2.8×1.4
mm、誘電体厚み20μm、33μm×所定層数のコン
デンサ本体を作製した。
様にして内部観察し、クラック、デラミネーション発生
の有無を調べた。また、コンデンサ本体中のAg含有量
を測定した。結果を表3に示す。
中にAgを含有させることにより、不活性層の積層数が
少なくても(不活性部の厚みが150μm以下)、ま
た、有効層数が20層以下でも、コンデンサ本体におけ
るAg量を5重量%以上とでき、クラックやデラミネー
ションの発生を防止できることが判る。
ックコンデンサでは、コンデンサ本体中にAgを全量中
5重量%以上含有せしめることにより、焼成時に誘電体
層中にAgが拡散することによる内部電極のAg/Pd
比が変化することを抑制でき、Pb、BiとPdとの反
応を防止して、コンデンサ本体にクラックやデラミネー
ションが発生することを抑制でき、特に高周波領域にお
いて有用な積層セラミックコンデンサを得ることができ
る。
示す斜視図である。
Claims (2)
- 【請求項1】金属元素としてPbおよびBiのうち少な
くとも一方を含有する誘電体層と、Pdの含有率が40
重量%以下のAg−Pd合金からなる内部電極層とを交
互に積層してなるコンデンサ本体の両端部に、外部電極
を形成してなる積層セラミックコンデンサであって、前
記コンデンサ本体中にAgを全量中5重量%以上含有す
ることを特徴とする積層セラミックコンデンサ。 - 【請求項2】誘電体層の厚みが20μm以上であること
を特徴とする請求項1記載の積層セラミックコンデン
サ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21805999A JP3744739B2 (ja) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | 積層セラミックコンデンサ |
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---|---|---|---|
JP21805999A JP3744739B2 (ja) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | 積層セラミックコンデンサ |
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JP2001044067A true JP2001044067A (ja) | 2001-02-16 |
JP3744739B2 JP3744739B2 (ja) | 2006-02-15 |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0714740A (ja) * | 1993-06-22 | 1995-01-17 | Toshiba Corp | 積層セラミックコンデンサ |
JPH11154805A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-06-08 | Tdk Corp | 積層セラミック部品 |
-
1999
- 1999-07-30 JP JP21805999A patent/JP3744739B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH0714740A (ja) * | 1993-06-22 | 1995-01-17 | Toshiba Corp | 積層セラミックコンデンサ |
JPH11154805A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-06-08 | Tdk Corp | 積層セラミック部品 |
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