JP2001023128A5 - - Google Patents
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Description
図３は本発明の薄膜磁気ヘッドにおける成膜層付近を示す斜視図であり、図３を参照して薄膜磁気ヘッド２０について説明する。
図３の薄膜磁気ヘッド２０において、基板ブロック２１に成膜層３０が薄膜形成技術によって形成されていて、成膜層３０はＭＲ素子３１、シールドコア３２等と有している。ＭＲ素子３１は、磁気テープＴＰから発生する磁界を読み取り、磁気テープＴＰに記録されている情報を再生する機能を有している。
シールドコア３２、３２はＭＲ素子３１を挟むように形成されていて、磁気テープＴＰからの漏れ磁界をＭＲ素子３１へ効率よく導くとともに、ＭＲ素子３１から離れたところからくる磁束を遮断する機能を有している。また、シールドコア３２、３２はセンダスト等の磁性材からなっている。
図３の薄膜磁気ヘッド２０において、基板ブロック２１に成膜層３０が薄膜形成技術によって形成されていて、成膜層３０はＭＲ素子３１、シールドコア３２等と有している。ＭＲ素子３１は、磁気テープＴＰから発生する磁界を読み取り、磁気テープＴＰに記録されている情報を再生する機能を有している。
シールドコア３２、３２はＭＲ素子３１を挟むように形成されていて、磁気テープＴＰからの漏れ磁界をＭＲ素子３１へ効率よく導くとともに、ＭＲ素子３１から離れたところからくる磁束を遮断する機能を有している。また、シールドコア３２、３２はセンダスト等の磁性材からなっている。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11189292A JP2001023128A (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | 薄膜磁気ヘッド及びこれを用いた回転磁気ヘッド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11189292A JP2001023128A (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | 薄膜磁気ヘッド及びこれを用いた回転磁気ヘッド装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001023128A JP2001023128A (ja) | 2001-01-26 |
| JP2001023128A5 true JP2001023128A5 (ja) | 2006-04-20 |
Family
ID=16238899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11189292A Pending JP2001023128A (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | 薄膜磁気ヘッド及びこれを用いた回転磁気ヘッド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001023128A (ja) |
-
1999
- 1999-07-02 JP JP11189292A patent/JP2001023128A/ja active Pending
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