JP2001022448A - ステージ位置制御方法及びステージ位置制御装置 - Google Patents
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Abstract
精度、定速性の向上を図ることのできるステージ位置制
御方法を提供すること。 【解決手段】 Yステージ63をY軸方向に、独立に制
御可能なY1リニアモータ71、Y2リニアモータ72
により並進駆動可能とし、Yステージの移動量をY1リ
ニアエンコーダ76、Y2リニアエンコーダ77により
検出してY制御系20、θ制御系30にフィードバック
する。Y制御系は、Y1リニアエンコーダ、Y2リニア
エンコーダによって計測される各位置検出値の平均値を
ステージ並進方向の位置フィードバック値として受ける
ことにより並進推力指令値を出力し、θ制御系は、前記
各位置検出値の差をステージヨーイング方向の位置フィ
ードバック値として受けてヨーイング方向推力指令値を
出力する。非干渉化ブロック40は、並進推力指令値と
ヨーイング方向推力指令値よりY1リニアモータ推力指
令値、Y2リニアモータ推力指令値を出力する。以上に
より、Yステージの運動を並進方向運動とヨーイング方
向運動とに分離して独立に制御補償する。
Description
方法及びステージ位置制御装置に関し、特にステージを
X方向及びY方向に駆動するステージ機構に適したステ
ージ位置制御方法及びステージ位置制御装置に関する。
人により提案(特願平10−332213号)されてい
るX−Yステージ装置について図3を参照して説明す
る。
固定部分は上面を静圧軸受け案内面としたベース60と
ベース60上に固定された一対のガイドレール61及び
62である。ガイドレール61、62はそれぞれ、互い
に対向し合う案内面61a、62aを持つ。図3中、案
内面61a、62aに沿ってY軸方向に直線案内される
部分は、ガイドレール61と62との間に配置されて両
端にT字状部を持つYステージ63と、X−Y平面に垂
直なZ軸まわりの回転1自由度を持つ4個の継ぎ手64
(2個のみ図示)を介してYステージ63のT字状部の
側面に接続された4個の静圧空気軸受けパッド65(1
個のみ図示)と、Yステージ63の下面に接続された3
個の静圧空気軸受けパッド66−1〜66−3である。
なお、静圧空気軸受けパッド66−3は、Yステージ6
3の中心軸に対応する箇所に設けられ、静圧空気軸受け
パッド66−1、66−2はYステージ63の中心軸に
関してほぼ対称な位置に設けられる。すなわち、静圧空
気軸受けパッド66−1〜66−3は、それぞれの中心
が二等辺三角形を形成するように配置される。Yステー
ジ63は、その延在方向に平行な2つの側面がXステー
ジ67を案内するための基準面として形成されている。
軸方向にも直線案内される部分は、Yステージ63をま
たぐように組み合わされたコ字形状のXステージ67
と、Yステージ63の側面に対向するようにXステージ
67のコ字形状の内面に接続された4個の静圧空気軸受
けパッド69−1〜69−4と、Xステージ67の下面
に接続された3個の静圧空気軸受けパッド70−1〜7
0−3である。
5によって、ベース60に対するX軸方向の拘束を非接
触に受ける。Yステージ63はまた、静圧空気軸受けパ
ッド66−1〜66−3とYステージ63の自重によっ
て、ベース60に対するZ軸方向の拘束を非接触に受け
る。この2方向の拘束によりYステージ63はY軸方向
に運動(直線案内)可能となる。
パッド69−1〜69−4によって、Yステージ63に
対するY軸方向の拘束を非接触に受ける。Xステージ6
7はまた、静圧空気軸受けパッド70−1〜70−3と
Xステージ67の自重によって、ベース60に対するZ
軸方向の拘束を非接触に受ける。これらの構成により、
Xステージ67は、ベース60に対してX軸方向とY軸
方向に直線案内される。
て、ガイドレール61、62上にそれぞれ構成された一
対のY1リニアモータ71、Y2リニアモータ72を使
用し、Xステージ67の駆動系としてYステージ63上
に構成されたXリニアモータ73をそれぞれ使用してい
る。
Y2リニアモータ72について簡単に説明すると、ギャ
ップをおいて配列した多数の上側永久磁石72−1と多
数の下側永久磁石72−2との間にYステージ63から
延ばしたコイル(図示せず)を配置して成る。
イドレール61、62に設けられたY1リニアスケール
74、Y2リニアスケール75と共にY1リニアモータ
71、Y2リニアモータ72による移動量を検出するた
めのY1リニアエンコーダ76、Y2リニアエンコーダ
77が設けられる。Xステージ67には、Yステージ6
3に設けられたXリニアスケール78と共にXリニアモ
ータ73による移動量を検出するためのXリニアエンコ
ーダ79が設けられる。
ージ63は、2つの独立した駆動系により並進駆動され
る駆動軸として考えることができる。そして、このよう
な駆動軸はガントリ軸とも呼ばれる。いずれにしても、
このようなステージ構成では2つのガイドレール61、
62間の距離に対し、Yステージ63用の静圧空気軸受
け間の距離は短い。このような場合、Yステージ63の
移動時にYステージ63はZ軸方向まわりの回転運動
(ヨーイング運動)を引き起こしやすい。
1、62間の距離に対しYステージ63用の静圧空気軸
受け間の距離を長くすることが必要である。しかし、そ
のようにすると、ステージ装置のフットプリントが大き
くなる上に、ステージ装置の重量が増して高速な移動が
困難になるなどの欠点がある。
2個のモータ(Y1リニアモータ71及びY2リニアモ
ータ72)でYステージ63の両端を駆動する。このと
き駆動軸の制御方法としては、一般に次の3つの方式が
考えられる。
については同一番号を付している。この第1の方式で
は、Y1リニアモータ71とY2リニアモータ72に対
して共通のY(並進方向)制御系により、同一の推力指
令を与える方式である。Y制御系はY軸位置指令値を指
令入力Yref とし、Y1リニアエンコーダ76からの位
置検出値とY2リニアエンコーダ77からの位置検出値
の平均値をフィードバック入力Yfbk とするフィードバ
ック制御系によるPID補償を基本構成とする。このた
めに、Y1リニアエンコーダ76からの位置検出値とY
2リニアエンコーダ77からの位置検出値とを加算する
ための加算器81と、加算された値の1/2、すなわち
平均値を算出する演算器82と、Y軸位置指令値と平均
値との差を取る減算器83と、PID補償器84とを含
む。ここでは更に、追従性を向上させるためのフィード
フォワード(以下、FFと呼ぶ)補償器85を付加し、
FF補償器85の出力とPID補償器84の出力とを加
算器86で加算するようにしている。加算器86の出力
は、推力指令値としてY1リニアモータ71用のサーボ
アンプ87と、Y2リニアモータ72用のサーボアンプ
88に与えられる。
ング運動に伴う誤差は検出されないため、その誤差を抑
制する制御が行われない。ヨーイング運動に対する機械
的剛性によって、その誤差の大きさが決まる。前述した
ように、ガイドレール61、62間の距離に対してYス
テージ63の静圧空気軸受け間の距離が短い構成ではヨ
ーイング剛性が低いため大きなヨーイング誤差を生じ
る。また、Xステージ67の位置によってY方向可動部
(Yステージ63及びXステージ67)の重心位置が移
動するため、ヨーイング誤差の大きさはXステージ67
の位置によって変動する。
る。図4と同じ部分については同一番号を付している。
これはY1リニアモータ71のための制御系をY1制御
系とし、Y2リニアモータ72のための制御系をY2制
御系として個別に制御する方式である。
令入力Yref1とし、Y1リニアエンコーダ71からの検
出値をフィードバック入力Yfbk1とするフィードバック
制御系によるPID補償を基本構成とする。ここでも、
追従性を向上させるためにFF補償器85が付加されて
いる。動作は、フィードバック入力が異なることを除い
て図4で説明した通りである。
ダ76からの位置検出値を指令入力Yref2とし、Y2リ
ニアエンコーダ77からの位置検出値をフィードバック
入力Yfbk2とするフィードバック制御系によるPID補
償で構成している。このために、Y2制御系は、Y1リ
ニアエンコーダ76からの位置検出値Yref2とY2リニ
アエンコーダ77からの位置検出値Yfbk2とを加算する
加算器91と、PID補償器92とを有する。
2はY1リニアモータ71をマスターとしたスレーブ動
作を行うため、マスタースレーブ制御方式とも呼ばれ
る。この第2の方式でも、Yステージ63のヨーイング
運動に伴う誤差は検出されないため、その誤差を抑制す
る制御が行われない。Y方向移動時はY1リニアモータ
71が常に先行する状態となり、移動時はヨーイング誤
差を生じた状態となり、移動方向を逆転するとヨーイン
グ誤差の方向も反転する。このときのヨーイング誤差の
大きさを決定するのは機械的剛性である。また、Xステ
ージ63の位置によってY方向可動部(Yステージ63
及びXステージ67)の重心位置が移動するため、ヨー
イング誤差の大きさはXステージ67の位置によって変
動する。
5と同じ部分には同一番号を付している。この第3の方
式も、Y1リニアモータ71のための制御系をY1制御
系とし、Y2リニアモータ72のための制御系をY2制
御系として個別に制御する方式である。Y1制御系は図
5に示したものと同じであり、Y2制御系もY1制御系
と同じ構成としている。
令入力Yref1とし、Y1リニアエンコーダ71からの位
置検出値をフィードバック入力Yfbk1とするフィードバ
ック制御系によるPID補償を基本構成としている。一
方、Y2制御系は、Y軸位置指令値を指令入力Yref2と
し、Y2リニアエンコーダ72からの位置検出値をフィ
ードバック入力とするフィードバック制御系によるPI
D補償を基本構成としている。このために、Y2制御系
は、Y軸位置指令値Yref2とY2リニアエンコーダ77
からの位置検出値Yfbk2との差を演算するための減算器
95と、PID補償器96とを含む。ここでも、追従性
を向上させるためにFF補償器97を付加し、FF補償
器97の出力とPID補償器96の出力とを加算器98
で加算するようにしている。加算器98の出力は、推力
指令値としてY2リニアモータ72用のサーボアンプ8
8に与えられる。
1とY2リニアモータ72を独立のモータとして考え、
制御を行う。このため、Yステージ63のヨーイング運
動に伴う誤差も各モータの並進方向の誤差として検出さ
れ、制御される。しかし、実際にはY1リニアモータ7
1とY2リニアモータ72は機械的に結合しているた
め、両方の制御系は機械剛性によって干渉する。このた
め、独立に制御を行うことは原理的に問題があり、これ
は、位置決め精度及び応答性を向上させるために制御ゲ
インを上げた場合に顕著に表れる。機械剛性で結合され
た片方のリニアモータの挙動が他方のリニアモータへの
外乱として作用するため、制御系の安定性を劣化させる
という問題である。
は、Y1制御系とY2制御系の応答性が完全に一致して
いれば原理的には、モータ推力による干渉はない。しか
し、ステージに対し、何らかの外乱力が加わった場合、
その力で生じるヨーイング運動はリニアモータ間の干渉
を発生させる。また、Xステージ67の位置によって可
動部の重心位置が移動するため、この干渉成分は変動し
ヨーイング誤差も変動する。
式の共通の問題点として、各ステージへの給電ケーブル
・空気配管等のテンション、リニアモータの推力リップ
ルといった外乱による位置決め精度・定速性への影響が
ある。
ック制御系の制御ゲインを高くすることによって、誤差
を低減しなければならない。しかし、ステージ機構の機
械共振周波数あるいは制御のためのコントローラの演算
時間などによって決定される制御系の安定性の限界から
設定できる制御ゲインには上限があり、実際にはこのよ
うな外乱要素によって位置決め誤差あるいは速度変動を
生じる。
体製造装置、計測装置等の各種産業機器の構成要素であ
る位置決めステージ機構に適し、その位置決め精度、定
速性の向上を図ることのできるステージ位置制御方法を
提供することにある。
制御方法に適したステージ位置制御装置を提供すること
にある。
ジを搭載して一軸方向に駆動される駆動軸を独立に制御
可能な第1、第2の駆動系により並進駆動可能とし、前
記第1、第2の駆動系による移動量をそれぞれ第1、第
2の位置検出器により検出して第1、第2のフィードバ
ック制御系によりそれぞれ前記第1、第2の駆動系を制
御するステージ位置制御方法において、前記第1のフィ
ードバック制御系は、前記第1、第2の位置検出器によ
って計測される各位置検出値の平均値をステージ並進方
向の位置フィードバック値として受けることにより前記
第1、第2の駆動系に並進推力指令値を出力し、前記第
2のフィードバック制御系は、前記各位置検出値の差を
ステージヨーイング方向の位置フィードバック値として
受けて前記第1、第2の駆動系にヨーイング方向推力指
令値を出力することにより、ステージの運動を並進方向
運動とヨーイング方向運動とに分離して独立に制御補償
することを特徴とするステージ位置制御方法が提供され
る。
並進推力指令値と前記ヨーイング方向推力指令値とを加
算して前記第1の駆動系に出力すると共に、前記並進推
力指令値と前記ヨーイング方向推力指令値との差を算出
して前記第2の駆動系に出力することにより推力の非干
渉化を実現することができる。
一軸方向に駆動される駆動軸を独立に制御可能な第1、
第2の駆動系により並進駆動可能とし、前記第1、第2
の駆動系による移動量をそれぞれ第1、第2の位置検出
器により検出して第1、第2のフィードバック制御系に
よりそれぞれ前記第1、第2の駆動系を制御するステー
ジ位置制御装置において、前記第1、第2の位置検出器
によって計測される各位置検出値の平均値を算出してス
テージ並進方向の位置フィードバック値として前記第1
のフィードバック制御系に出力すると共に、前記各位置
検出値の差を算出してステージヨーイング方向の位置フ
ィードバック値として前記第2のフィードバック制御系
に出力する座標変換ブロックを備え、前記第1のフィー
ドバック制御系は、ステージ並進方向の位置指令値と前
記ステージ並進方向の位置フィードバック値との差を算
出する第1の減算器と、該第1の減算器で算出された差
を入力として推力目標値を出力する第1のPID補償器
と、前記推力目標値から算出される並進推力指令値と前
記ステージ並進方向の位置フィードバック値とに基づい
てステージ推定外乱力を演算する外乱オブザーバと、演
算された前記ステージ推定外乱力を前記推力目標値から
差し引くことにより新たな並進推力指令値を算出して前
記第1、第2の駆動系に出力する第2の減算器とを含
み、前記第2のフィードバック制御系は、ステージヨー
イング方向の指令値と前記ステージヨーイング方向の位
置フィードバック値との差を算出する第3の減算器と、
該第3の減算器で算出された差を入力としてヨーイング
方向推力指令値を前記第1、第2の駆動系に出力する第
2のPID補償器とを含むことを特徴とするステージ位
置制御装置が提供される。
並進推力指令値と前記ヨーイング方向推力指令値とを加
算して前記第1の駆動系に出力する第1の加算器と、前
記並進推力指令値と前記ヨーイング方向推力指令値との
差を算出して前記第2の駆動系に出力する第4の減算器
とから成る推力非干渉化ブロックを更に備えることによ
り、推力の非干渉化を実現することができる。
値をローパスフィルタにてフィルタリングした推力指令
推定値と、ステージの逆モデル及びローパスフィルタに
て前記ステージ並進方向の位置フィードバック値より推
定した入力推力推定値との差分により前記ステージ推定
外乱力を演算することを特徴とする。
を入力とするフィードフォワード補償器と、該フィード
フォワード補償器の出力と前記第1のPID補償器の出
力とを加算して前記推力目標値として出力する第2の加
算器とを更に備えることが望ましい。
モータで構成され、前記第1、第2の位置検出器はそれ
ぞれリニアエンコーダであることが好ましい。
動系と第1、第2の位置検出器とが、ある一定距離をお
いて配置され構成される駆動軸(ガントリ軸)におい
て、ステージのヨーイングによる誤差の発生を抑制し、
ステージに働く外乱力を補償することで、ステージの位
置決め精度を向上させることができる。
運動とヨーイング運動に分離して制御補償することで、
ステージの並進運動精度だけでなく、ヨーイング運動精
度の向上を図っている。更に、並進運動については機構
に働く外乱トルクを推定し補償することで、ステージの
速度変動及び位置変動を抑制している。
実施の形態について説明する。本発明による制御装置の
構成を図1に示す。図1において、ステージ機構の構成
は、図3で説明したものと同じとする。本発明による制
御装置の制御系は、座標変換ブロック10、Y1リニア
モータ71をフィードバック制御するためのY(ステー
ジ並進方向)制御系20、Y2リニアモータ72をフィ
ードバック制御するためのθ(ステージヨーイング方
向)制御系30、推力非干渉化ブロック40より構成さ
れる。
コーダ76からの位置検出値とY2リニアエンコーダ7
7からの位置検出値とを加算する加算器10−1と、そ
の加算結果の1/2、すなわち平均値を演算する演算器
10−2とを含み、Y1リニアエンコーダ76からの位
置検出値とY2リニアエンコーダ77からの位置検出値
の平均値によりY方向並進位置を算出し、Y制御系への
フィードバック入力Yfbk とする。座標変換ブロック1
0はまた、Y1リニアエンコーダ76からの位置検出値
とY2リニアエンコーダ77からの位置検出値の差を演
算する減算器10−3を有し、Y1リニアエンコーダ7
6からの位置検出値とY2リニアエンコーダ77からの
位置検出値の差によりヨーイング方向位置を算出し、θ
制御系30へのフィードバック入力θfbk とする。
力Yref とし、これとフィードバック入力Yfbk との差
を演算する減算器(第1の減算器)20−1と、その加
算結果を入力とするPID補償器(第1のPID補償
器)20−2と、指令入力Yre f を入力とするFF補償
器20−3と、PID補償器20−2の出力とFF補償
器20−3の出力とを加算して推力目標値Frefyを算出
する加算器20−4と、加算器20−5及び外乱オブザ
ーバ20−6とを有する。すなわち、Y制御系20は、
Y軸位置指令値を指令入力Yref とし、座標変換ブロッ
ク10からのフィードバック入力Yfbk をフィードバッ
ク入力とするフィードバック制御系を構成するPID補
償器20−2と外乱オブザーバ20−6とを基本構成と
する。FF補償器20−3は、前述したように、追従性
を向上させるためのものであり、削除される場合もあ
る。Y制御系20は、PID補償器20−2と外乱オブ
ザーバ20−6及びFF補償器20−3によりY方向並
進推力指令値Fcomyを算出する。
力θref としてこれと座標変換ブロック10からのフィ
ードバック入力θfbk との差を演算する減算器(第3の
減算器)30−1と、PID補償器(第2のPID補償
器)30−2とを有する。すなわち、θ制御系30は、
θ軸位置指令値を指令入力θref とし、座標変換ブロッ
ク10からのフィードバック入力θfbk をフィードバッ
ク入力とするフィードバック制御系をPID補償器30
−2で構成する。θ制御系30は、PID補償器30−
2によりθ方向推力指令値Fcom θを算出する。
1の加算器)40−1によりY方向並進推力指令値F
comyとθ方向推力指令値Fcom θとの和を演算してY1
リニアモータ71ヘの推力指令値Fcom1を算出する。推
力非干渉化ブロック40はまた、減算器(第4の減算
器)40−2によりY方向並進推力指令値Fcomyとθ方
向推力指令値Fcom θとの差を演算してY2リニアモー
タへの推力指令値Fcom2を算出する。推力指令値
Fcom1、Fcom2はそれぞれ、サーボアンプ51、52を
通してY1リニアモータ71、Y2リニアモータ72へ
与えられる。
力指令値Fcomyを入力とするローパスフィルタ20−6
1と、フィードバック入力Yfbk を入力とする入力推力
推定フィルタ20−62と、入力推力推定フィルタ20
−62の出力とローパスフィルタ20−61の出力から
推定外乱力eFdyを演算する減算器20−63とで構成
される。
器)20−5は、推力目標値Frefyから推定外乱力eF
dyを減算してY方向並進推力指令値Fcomyを出力する。
る。座標変換ブロック10は、Y1リニアエンコーダ7
6からの位置検出値とY2リニアエンコーダ77からの
位置検出値をYステージ63のY方向並進位置Yfbk と
ヨーイング方向位置θfbk に座標変換する。また、推力
非干渉化ブロック40は、Y方向並進推力指令値Fcomy
とθ方向推力指令値Fcom θを、Y1リニアモータ71
への推力指令値Fcom1とY2リニアモータ72への推力
指令値Fcom2に変換する。このため、座標変換ブロック
10と推力非干渉化ブロック40との間ではY方向並進
運動とヨーイング方向運動は分離されており、2つの自
由度の運動に対する制御補償が独立な制御系として設計
・調整可能になる。
するため、Y方向並進運動に対しては外乱オブザーバ2
0−6により外乱力補償が行える。
照して説明する。まず、Yステージ63のY方向並進運
動はリニアモータで発生するY方向並進推力Fcomyと、
Y方向外乱力Fdyによって駆動される慣性体(M)の運
動である。これは伝達関数表現により、 M・s2 ・Yfbk =Fcomy+Fdy と表される。これより外乱力は、 Fdy=M・s2 ・Yfbk −Fcomy で計算できる。ただし、実際のY方向並進推力指令値F
comyとフィードバック入力Yfbk はノイズ成分を含むた
め、上式を直接用いると制御系の安定性が劣化する。こ
のため、ローパスフィルタ20−61によって外乱を抑
制する帯域を制限し、推定外乱力eFdyを計算する。ロ
ーパスフィルタ20−61はY方向並進推力指令値F
comyを外乱抑制したい周波数帯域でフィルタリングす
る。入力推力推定フィルタ20−62は、Yステージ6
3の公称伝達関数Mnom ・s2 に基づいてフィードバッ
ク入力Yfbk より入力推力を推定する。この入力推力推
定フィルタ20−62もローパスフィルタ20−61と
同様のフィルタ特性を持たせ、外乱抑制したい周波数帯
の入力推力のみを算出する。ローパスフィルタ20−6
1でフィルタリングされた推力指令と、入力推力推定フ
ィルタ20−62からの推定入力推力との差を減算器2
0−63で演算することにより推定外乱力eFdyを算出
する。ローパスフィルタ20−61の特性をG(s)と
すると、上記の演算は以下の式で表される。
(s)・Fcomy ただし、 G(s)=ω2 /(s2 +2ζ・ω・s+ω2 ) である。
を用い、外乱力を打ち消すように推力目標値Frefyにフ
ィードバックし、Y方向並進推力指令値Fcmdyを算出す
る。
したが、本発明が適用されるステージ機構の駆動系はリ
ニアモータに限定されず、あらゆるアクチュエータを用
いても可能である。また、ステージ機構の案内系は静圧
空気軸受けに限定されず、リニアベアリング等の機械接
触式の案内系を用いても良い。
独立な制御系を構成するため、Y方向並進運動に対して
は外乱オブザーバにより外乱力補償が行え、ステージの
給電ケーブル・空気配管等のテンション、モータの推力
リップルといった外乱による位置決め精度・定速性への
影響を低減できる。
械構造による干渉等を考慮した制御補償が可能となり、
Y方向移動時のヨーイング誤差を低減できる。
ゲインを可変とすることにより、ヨーイング誤差の変動
を低減できる。また、θ軸位置指令値を与えることによ
り積極的にヨーイング方向位置を移動させることも可能
となる。
した図である。
ための図である。
た図である。
御装置の第1の例の構成を示した図である。
御装置の第2の例の構成を示した図である。
御装置の第3の例の構成を示した図である。
9−1〜69−4 70−1〜70−3 静圧空気軸受けパッド 67 Xステージ 71 Y1リニアモータ 72 Y2リニアモータ 73 Xリニアモータ 74 Y1リニアスケール 75 Y2リニアスケール 76 Y1リニアエンコーダ 77 Y2リニアエンコーダ 78 Xリニアスケール 79 Xリニアエンコーダ
Claims (7)
- 【請求項1】 ステージを搭載して一軸方向に駆動され
る駆動軸を独立に制御可能な第1、第2の駆動系により
並進駆動可能とし、前記第1、第2の駆動系による移動
量をそれぞれ第1、第2の位置検出器により検出して第
1、第2のフィードバック制御系によりそれぞれ前記第
1、第2の駆動系を制御するステージ位置制御方法にお
いて、 前記第1のフィードバック制御系は、前記第1、第2の
位置検出器によって計測される各位置検出値の平均値を
ステージ並進方向の位置フィードバック値として受ける
ことにより前記第1、第2の駆動系に並進推力指令値を
出力し、 前記第2のフィードバック制御系は、前記各位置検出値
の差をステージヨーイング方向の位置フィードバック値
として受けて前記第1、第2の駆動系にヨーイング方向
推力指令値を出力することにより、ステージの運動を並
進方向運動とヨーイング方向運動とに分離して独立に制
御補償することを特徴とするステージ位置制御方法。 - 【請求項2】 請求項1記載のステージ位置制御方法に
おいて、前記並進推力指令値と前記ヨーイング方向推力
指令値とを加算して前記第1の駆動系に出力すると共
に、前記並進推力指令値と前記ヨーイング方向推力指令
値との差を算出して前記第2の駆動系に出力することに
より推力の非干渉化を実現することを特徴とするステー
ジ位置制御方法。 - 【請求項3】 ステージを搭載して一軸方向に駆動され
る駆動軸を独立に制御可能な第1、第2の駆動系により
並進駆動可能とし、前記第1、第2の駆動系による移動
量をそれぞれ第1、第2の位置検出器により検出して第
1、第2のフィードバック制御系によりそれぞれ前記第
1、第2の駆動系を制御するステージ位置制御装置にお
いて、 前記第1、第2の位置検出器によって計測される各位置
検出値の平均値を算出してステージ並進方向の位置フィ
ードバック値として前記第1のフィードバック制御系に
出力すると共に、前記各位置検出値の差を算出してステ
ージヨーイング方向の位置フィードバック値として前記
第2のフィードバック制御系に出力する座標変換ブロッ
クを備え、 前記第1のフィードバック制御系は、ステージ並進方向
の位置指令値と前記ステージ並進方向の位置フィードバ
ック値との差を算出する第1の減算器と、該第1の減算
器で算出された差を入力として推力目標値を出力する第
1のPID補償器と、前記推力目標値から算出される並
進推力指令値と前記ステージ並進方向の位置フィードバ
ック値とに基づいてステージ推定外乱力を演算する外乱
オブザーバと、演算された前記ステージ推定外乱力を前
記推力目標値から差し引くことにより新たな並進推力指
令値を算出して前記第1、第2の駆動系に出力する第2
の減算器とを含み、 前記第2のフィードバック制御系は、ステージヨーイン
グ方向の指令値と前記ステージヨーイング方向の位置フ
ィードバック値との差を算出する第3の減算器と、該第
3の減算器で算出された差を入力としてヨーイング方向
推力指令値を前記第1、第2の駆動系に出力する第2の
PID補償器とを含むことを特徴とするステージ位置制
御装置。 - 【請求項4】 請求項3記載のステージ位置制御装置に
おいて、前記並進推力指令値と前記ヨーイング方向推力
指令値とを加算して前記第1の駆動系に出力する第1の
加算器と、前記並進推力指令値と前記ヨーイング方向推
力指令値との差を算出して前記第2の駆動系に出力する
第4の減算器とから成る推力非干渉化ブロックを更に備
えることにより、推力の非干渉化を実現することを特徴
とするステージ位置制御装置。 - 【請求項5】 請求項3記載のステージ位置制御装置に
おいて、前記外乱オブザーバは、前記並進推力指令値を
ローパスフィルタにてフィルタリングした推力指令推定
値と、ステージの逆モデル及びローパスフィルタにて前
記ステージ並進方向の位置フィードバック値より推定し
た入力推力推定値との差分により前記ステージ推定外乱
力を演算することを特徴とするステージ位置制御装置。 - 【請求項6】 請求項3記載のステージ位置制御装置に
おいて、前記ステージ並進方向の位置指令値を入力とす
るフィードフォワード補償器と、該フィードフォワード
補償器の出力と前記第1のPID補償器の出力とを加算
して前記推力目標値として出力する第2の加算器とを更
に備えたことを特徴とするステージ位置制御装置。 - 【請求項7】 請求項3記載のステージ位置制御装置に
おいて、前記第1、第2の駆動系はそれぞれリニアモー
タであり、前記第1、第2の位置検出器はそれぞれリニ
アエンコーダであることを特徴とするステージ位置制御
装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18933699A JP3312297B2 (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | ステージ位置制御装置 |
US09/608,068 US6584367B1 (en) | 1999-07-02 | 2000-06-30 | Stage position control method and stage position control apparatus capable of improving positioning precision |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18933699A JP3312297B2 (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | ステージ位置制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001022448A true JP2001022448A (ja) | 2001-01-26 |
JP3312297B2 JP3312297B2 (ja) | 2002-08-05 |
Family
ID=16239644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18933699A Expired - Fee Related JP3312297B2 (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | ステージ位置制御装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6584367B1 (ja) |
JP (1) | JP3312297B2 (ja) |
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