JP2001013525A5 - - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 9
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 9
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】
マトリクス状に配置された複数の画素TFTおよび前記複数の画素TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極に接続された反射電極を有する画素部と、
複数の駆動回路TFTを有する駆動回路とを有し、
前記画素TFTおよび前記駆動回路TFTは、第1の導電層で形成されるゲート電極を有し、
前記ゲート電極は、第2の導電層で形成されるゲート配線と接続部で電気的に接続され、
前記接続部は、前記画素TFTと前記駆動回路TFTとが有するチャネル形成領域の外側に設けられ、
前記駆動回路の一部または全部は、前記反射電極の下部に配置され、
前記駆動回路TFTのソース電極またはドレイン電極にコンタクトホールを介して接続される電源線は、前記反射電極と、前記駆動回路TFTおよび前記駆動回路TFTのソース電極またはドレイン電極との間に形成されることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項2】
マトリクス状に配置された複数の画素TFTおよび前記複数の画素TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極に接続された反射電極を有する画素部と、
複数の駆動回路TFTを有する駆動回路とを有し、
前記画素TFTおよび前記駆動回路TFTは、第1の導電層で形成されるゲート電極を有し、
前記ゲート電極は、第2の導電層で形成されるゲート配線と接続部で電気的に接続され、
前記接続部は、前記画素TFTと前記駆動回路TFTとが有するチャネル形成領域の外側に設けられ、
前記画素TFTのLDD領域は、前記画素TFTのゲート電極と重ならないように配置され、
前記駆動回路の第1のnチャネル型TFTのLDD領域は、前記第1のnチャネル型TFTのゲート電極と重なるように配置され、
前記駆動回路の第2のnチャネル型TFTのLDD領域は、前記第2のnチャネル型TFTのゲート電極と少なくとも一部が重なるように配置され、
前記駆動回路の一部または全部は、前記反射電極の下部に配置され、
前記駆動回路TFTのソース電極またはドレイン電極にコンタクトホールを介して接続される電源線は、前記反射電極と、前記駆動回路TFTおよび前記駆動回路TFTのソース電極またはドレイン電極との間に形成されることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項3】
画素部と駆動回路とを同一の基板上に有し、
前記画素部は、LDD領域がゲート電極と重ならないように設けられた複数の画素TFTおよび前記複数の画素TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極に接続された反射電極を有し、
前記駆動回路は、LDD領域の全部がゲート電極と重なるように設けた第1のnチャネル型TFTと、LDD領域の一部がゲート電極と重なるように設けた第2のnチャネル型TFTとを有し、
前記画素TFTと、前記第1および第2のnチャネル型TFTのゲート電極は、第1の導電層で形成され、且つ前記ゲート電極に接続するゲート配線は第2の導電層で形成され、
前記ゲート電極と前記ゲート配線とは、前記画素TFTと前記第1および第2のnチャネル型TFTとのチャネル形成領域の外側の接続部で電気的に接続され、
前記駆動回路の一部または全部は、前記反射電極の下部に配置され、
前記第1および第2のnチャネル型TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極にコンタクトホールを介して接続される電源線は、前記反射電極と、前記第1および第2のnチャネル型TFT、並びに前記第1および第2のnチャネル型TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極との間に形成されることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項4】
請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
前記画素部は、前記画素TFTのソースまたはドレイン領域に接続され一導電型の不純物元素を含む半導体層と、容量配線と、前記半導体層と前記容量配線との間の絶縁膜とで保持容量が形成され、
前記容量配線は前記第1の導電層と前記第2の導電層とで形成されることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項5】
請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記第1の導電層が、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とし、
前記第2の導電層が、アルミニウムまたは銅を主成分とすることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項6】
請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記第1の導電層は、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種と窒素とを含む導電層(A)と、前記導電層(A)上に形成され、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とする導電層(B)と、前記導電層(B)が前記導電層(A)に接しない領域に形成され、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種と窒素とを含む導電層(C)とを有し、
前記第2の導電層は、少なくとも、アルミニウムまたは銅を主成分とする導電層(D)と、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とする導電層(E)とを有することを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項7】
請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記第1の導電層は、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種と窒素とを含む導電層(A)と、前記導電層(A)上に形成され、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とする導電層(B)と、前記導電層(B)が前記導電層(A)に接しない領域に形成され、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種と窒素とを含む導電層(C)とを有し、
前記第2の導電層は、少なくとも、アルミニウムまたは銅を主成分とする導電層(D)と、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とする導電層(E)とを有し、前記接続部で導電層(C)と導電層(D)が接続されていることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項8】
請求項6または請求項7において、
前記導電層(B)は、添加元素としてアルゴンを含み、かつ、前記導電層(B)中の酸素濃度が30ppm以下であることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項9】
請求項1乃至請求項8のいずれか一に記載の反射型半導体表示装置において、表示媒体として液晶を用いる反射型液晶表示装置。
【請求項10】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するノートブック型パーソナルコンピュータ。
【請求項11】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するビデオカメラ。
【請求項12】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有する携帯情報端末。
【請求項13】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するデジタルカメラ。
【請求項14】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有する携帯書籍。
【請求項15】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するデジタルビデオディスクプレーヤー。
【請求項16】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するフロントプロジェクタ。
【請求項17】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するリアプロジェクタ。
【請求項1】
マトリクス状に配置された複数の画素TFTおよび前記複数の画素TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極に接続された反射電極を有する画素部と、
複数の駆動回路TFTを有する駆動回路とを有し、
前記画素TFTおよび前記駆動回路TFTは、第1の導電層で形成されるゲート電極を有し、
前記ゲート電極は、第2の導電層で形成されるゲート配線と接続部で電気的に接続され、
前記接続部は、前記画素TFTと前記駆動回路TFTとが有するチャネル形成領域の外側に設けられ、
前記駆動回路の一部または全部は、前記反射電極の下部に配置され、
前記駆動回路TFTのソース電極またはドレイン電極にコンタクトホールを介して接続される電源線は、前記反射電極と、前記駆動回路TFTおよび前記駆動回路TFTのソース電極またはドレイン電極との間に形成されることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項2】
マトリクス状に配置された複数の画素TFTおよび前記複数の画素TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極に接続された反射電極を有する画素部と、
複数の駆動回路TFTを有する駆動回路とを有し、
前記画素TFTおよび前記駆動回路TFTは、第1の導電層で形成されるゲート電極を有し、
前記ゲート電極は、第2の導電層で形成されるゲート配線と接続部で電気的に接続され、
前記接続部は、前記画素TFTと前記駆動回路TFTとが有するチャネル形成領域の外側に設けられ、
前記画素TFTのLDD領域は、前記画素TFTのゲート電極と重ならないように配置され、
前記駆動回路の第1のnチャネル型TFTのLDD領域は、前記第1のnチャネル型TFTのゲート電極と重なるように配置され、
前記駆動回路の第2のnチャネル型TFTのLDD領域は、前記第2のnチャネル型TFTのゲート電極と少なくとも一部が重なるように配置され、
前記駆動回路の一部または全部は、前記反射電極の下部に配置され、
前記駆動回路TFTのソース電極またはドレイン電極にコンタクトホールを介して接続される電源線は、前記反射電極と、前記駆動回路TFTおよび前記駆動回路TFTのソース電極またはドレイン電極との間に形成されることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項3】
画素部と駆動回路とを同一の基板上に有し、
前記画素部は、LDD領域がゲート電極と重ならないように設けられた複数の画素TFTおよび前記複数の画素TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極に接続された反射電極を有し、
前記駆動回路は、LDD領域の全部がゲート電極と重なるように設けた第1のnチャネル型TFTと、LDD領域の一部がゲート電極と重なるように設けた第2のnチャネル型TFTとを有し、
前記画素TFTと、前記第1および第2のnチャネル型TFTのゲート電極は、第1の導電層で形成され、且つ前記ゲート電極に接続するゲート配線は第2の導電層で形成され、
前記ゲート電極と前記ゲート配線とは、前記画素TFTと前記第1および第2のnチャネル型TFTとのチャネル形成領域の外側の接続部で電気的に接続され、
前記駆動回路の一部または全部は、前記反射電極の下部に配置され、
前記第1および第2のnチャネル型TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極にコンタクトホールを介して接続される電源線は、前記反射電極と、前記第1および第2のnチャネル型TFT、並びに前記第1および第2のnチャネル型TFTのそれぞれのソース電極またはドレイン電極との間に形成されることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項4】
請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
前記画素部は、前記画素TFTのソースまたはドレイン領域に接続され一導電型の不純物元素を含む半導体層と、容量配線と、前記半導体層と前記容量配線との間の絶縁膜とで保持容量が形成され、
前記容量配線は前記第1の導電層と前記第2の導電層とで形成されることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項5】
請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記第1の導電層が、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とし、
前記第2の導電層が、アルミニウムまたは銅を主成分とすることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項6】
請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記第1の導電層は、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種と窒素とを含む導電層(A)と、前記導電層(A)上に形成され、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とする導電層(B)と、前記導電層(B)が前記導電層(A)に接しない領域に形成され、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種と窒素とを含む導電層(C)とを有し、
前記第2の導電層は、少なくとも、アルミニウムまたは銅を主成分とする導電層(D)と、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とする導電層(E)とを有することを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項7】
請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記第1の導電層は、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種と窒素とを含む導電層(A)と、前記導電層(A)上に形成され、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とする導電層(B)と、前記導電層(B)が前記導電層(A)に接しない領域に形成され、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種と窒素とを含む導電層(C)とを有し、
前記第2の導電層は、少なくとも、アルミニウムまたは銅を主成分とする導電層(D)と、タンタル、タングステン、チタン、モリブデンから選ばれた少なくとも1種を主成分とする導電層(E)とを有し、前記接続部で導電層(C)と導電層(D)が接続されていることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項8】
請求項6または請求項7において、
前記導電層(B)は、添加元素としてアルゴンを含み、かつ、前記導電層(B)中の酸素濃度が30ppm以下であることを特徴とする反射型半導体表示装置。
【請求項9】
請求項1乃至請求項8のいずれか一に記載の反射型半導体表示装置において、表示媒体として液晶を用いる反射型液晶表示装置。
【請求項10】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するノートブック型パーソナルコンピュータ。
【請求項11】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するビデオカメラ。
【請求項12】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有する携帯情報端末。
【請求項13】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するデジタルカメラ。
【請求項14】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有する携帯書籍。
【請求項15】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するデジタルビデオディスクプレーヤー。
【請求項16】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するフロントプロジェクタ。
【請求項17】
請求項9に記載の反射型液晶表示装置を有するリアプロジェクタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18270499A JP4402202B2 (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 反射型半導体表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18270499A JP4402202B2 (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 反射型半導体表示装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001013525A JP2001013525A (ja) | 2001-01-19 |
JP2001013525A5 true JP2001013525A5 (ja) | 2006-08-17 |
JP4402202B2 JP4402202B2 (ja) | 2010-01-20 |
Family
ID=16122987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18270499A Expired - Fee Related JP4402202B2 (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 反射型半導体表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4402202B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4693257B2 (ja) * | 2001-02-21 | 2011-06-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
SG118117A1 (en) | 2001-02-28 | 2006-01-27 | Semiconductor Energy Lab | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
CN1245703C (zh) * | 2001-12-11 | 2006-03-15 | 精工爱普生株式会社 | 显示装置及其电子机器 |
JP4314820B2 (ja) * | 2001-12-11 | 2009-08-19 | セイコーエプソン株式会社 | 表示装置及び電子機器 |
US8717340B2 (en) | 2009-12-29 | 2014-05-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Thin film transistor, method for manufacturing same, and display apparatus |
-
1999
- 1999-06-29 JP JP18270499A patent/JP4402202B2/ja not_active Expired - Fee Related
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