JP2001001548A - 液体噴射装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インクジェット等の液体噴射装置の噴出をス
ムーズかつ安定したものにする。 【解決手段】 加圧体８によって加圧される加圧室５の
一方側に液体噴射口６を設け、他方側に液体供給口７を
設けた液体噴射装置において、他方側の液体供給口７の
手前に液体自身からなる圧力伝達抑制部１５を設けたの
で、圧力が効率よく液体噴射口６側に伝達され、噴出性
能が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばプリンター
等の液体噴射装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種液体噴射装置の構成は、次
のような構成となっていた。すなわち、加圧室に液体噴
射口と、液体の供給口を連結し、液体の供給口から加圧
室内に供給した液体に対して加圧体から圧力を加え、こ
れによって液体噴射口から液体を噴射させるような構成
となっていたのである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の液体噴射装
置については、液体噴射口からのスムーズな液体噴射が
できないという問題があった。すなわち、加圧室に連結
した液体の供給口部分にはオリフィス等を設けることに
よって、絞った構成となっている。これは加圧体により
加圧室内に圧力を加えた場合に、その圧力が液体の供給
口側に逃げることによって、液体噴射口部分から液体が
噴射されなくなってしまうのを防止するためである。

【０００４】しかしながら、このように液体の供給口側
をオリフィスなどを設けることによって絞ってしまった
場合、加圧体による加圧により液体噴射口から液体が噴
射した次の瞬間、液体の供給口から加圧室内に噴射した
分の補給する動作がスムーズに行われることが、以後の
スムーズなる噴射につながることになるのであるが、こ
の液体の供給口は前述のごとくオリフィス等を設けて絞
っているので、この液体の供給口から加圧室内に液体の
供給がスムーズに行われず、この結果として次の瞬間に
おける液体の噴射口からの液体噴射がスムーズに行われ
なくなることがあったのである。そこで本発明は、液体
噴射口からスムーズな液体の噴射が安定して行われるよ
うにすることを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】そしてこの目的を達成す
るために本発明は、加圧室と、この加圧室の一方側に連
結した液体噴射口と、前記加圧室の他方側に連結した液
体供給口と、前記加圧室の一方側と他方側の間に設けら
れた加圧体とを備え、前記加圧室の加圧体と液体供給口
との間部分に、この部分に存在する液体自身の慣性によ
って前記加圧体を駆動した際に発生する圧力が、液体供
給口側に伝達されるのを抑制する圧力伝達抑制部を設け
たものである。

【０００６】すなわちこのような構成とした場合、加圧
体による加圧力が加圧室に加わった場合に、その圧力が
液体供給口側に伝達されようとすることは、そこに存在
する液体自身の慣性による圧力伝達抑制部において阻止
され、すなわちここには液体が存在しているのである
が、この液体には加圧体からの圧力が直接的には加わっ
ていない状態であるので、この部分の液体は慣性により
そこにいつづけようとすることになる。そしてこのよう
にこの部分に存在しようとすること自体の慣性力によっ
て、加圧体によって液体が圧力を受けた場合その圧力
は、液体供給口側には伝達されにくくなり、この結果と
して加圧室の一方側に連結された液体噴射口からスムー
ズに吐出することになるのである。

【０００７】そしてその次の瞬間、加圧室内の他方側に
存在した圧力伝達抑制部分に存在した液体は、先ほどの
吐出による液体の不足部分を補うかのごとく、加圧体に
対向する部分に移動することになる。この結果、加圧室
内においては次の加圧体による圧力が加わった場合、直
ちに液体を液体噴射口から噴射することができる状態が
形成され、この結果としてスムーズなる液体の噴射が安
定的に行われるようになるのである。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、加圧室と、この加圧室の一方側に連結した液体噴射
口と、前記加圧室の他方側に連結した液体供給口と、前
記加圧室の一方側と他方側の間に設けられた加圧体とを
備え、前記加圧室の加圧体と液体供給口との間部分にこ
の部分に存在する液体自身の慣性によって、前記加圧体
を駆動した際に発生する圧力が前記液体供給側に伝達さ
れるのを抑制する圧力伝達抑制部を設けた液体噴射装置
であって、圧力伝達抑制部に存在する液体の慣性によっ
て、加圧体によって加圧室内部を加圧した際に液体が液
体供給口側へ移動するのを防ぎ、かつ加圧が解除された
状態においては噴出によって失われた液体を即座に補う
ことにより、スムーズな噴出を連続かつ安定して行える
といった効果が得られる。

【０００９】次に本発明の請求項２に記載の発明は、加
圧室の一方側と他方側の間の壁面を加圧体で覆うととも
に、この加圧体の一方側に対応する壁面部分には開口を
設け、この加圧体の他方側に対向する壁面部を残し、こ
の壁面部分に対応する加圧室内部分で圧力伝達抑制部を
形成した請求項１に記載の液体噴射装置であって、圧力
伝達抑制部を加圧室を形成する工程で作ることができる
ので、製造が容易になるという効果が得られる。すなわ
ち加圧室は例えばシリコン基板をエッチングをする等し
て形成していくものであるが、この際にこのシリコン基
板において、加圧体を設ける部分に対応する部分は、シ
リコン基板の一面から他面に向けた貫通孔が形成される
ようにエッチングを行うが、加圧体の他方側に対向する
部分の壁面を残すべく、この際にはマスクを用いて簡単
に壁面を残すことができる。そしてこのように残壁面を
設けることによれば、この壁面がある部分を加圧体が覆
ったとしても、加圧体からの圧力はこの面によって加圧
室内に伝達されにくくなり、このことが加圧室の他方側
において、圧力伝達抑制部を形成することになるのであ
る。

【００１０】次に本発明の請求項３に記載の発明は、加
圧室の一方側と他方側の間の壁面に開口を設け、この開
口を振動による加圧体で覆うとともに、この加圧体の他
方側の加圧室とは反対側の面に振動抑制体を設け、この
振動抑制体に対応する加圧室内部分で圧力伝達抑制部を
形成した請求項１に記載の液体噴射装置であり、加圧室
の他方側において加圧体の上面を振動抑制体で覆うこと
によって、この部分の加圧体が振動しにくくなり、この
結果として圧力室の他方側には圧力伝達抑制部が形成さ
れる。この結果として請求項１で説明した効果、すなわ
ちスムーズなる噴出が安定して行われるといった効果が
得られるということになるのである。

【００１１】次に本発明の請求項４に記載の発明は、加
圧体は、加圧室側から順に設けた第１の電極層、圧電
層、第２の電極層より構成し、圧電層の他方側において
は第２の電極層の非被覆部を形成した請求項１から３の
いずれか一つに記載の液体噴射装置であって、加圧体に
おいて、その他方側において圧電層を第２の電極層で覆
っていない、すなわち非被覆部を形成することによっ
て、この他方側における圧電層は振動体とはなり得ず、
このことが、この他方側に対応する加圧室内に圧力伝達
抑制部を形成することとなり、結果として請求項１で説
明したスムーズな噴出が安定して行われるといった効果
が得られることになるものである。

【００１２】次に本発明の請求項５に記載の発明は、非
被覆部は、第２の電極層を圧電層の他方側の手前でこの
圧電層外に屈曲させることで形成した請求項４に記載の
液体噴射装置であって、第２の電極層を圧電層の他方側
の手前で圧電層外に屈曲させることにより、この他方側
に存在する圧電層は、第２の電極層で覆われていない部
分、すなわち振動しない部分となり、結果としてそこに
対応する加圧室内に圧力伝達抑制部が形成される。これ
により請求項１で説明した効果、すなわちスムーズな液
体噴射が安定して行われるという効果が得られることに
なるものである。

【００１３】次に本発明の請求項６に記載の発明は、非
被覆部は、圧電層の他方側の手前でこの第２の電極層の
幅を狭くして形成した請求項４に記載の液体噴射装置で
あって、第２の電極層の幅が圧電層の他方側においては
狭くなっていることにより、圧電層として振動する部分
が少なくなり、このことがこの他方側に対応する加圧室
内において圧力伝達抑制部を形成することとなり、これ
によって請求項１に記載したスムーズなる液体噴射が安
定して行われるという効果が得られることになるのであ
る。

【００１４】次に本発明の請求項７に記載の発明は、加
圧体は、加圧室側から順に積層して設けた第１の電極、
圧電層、第２の電極によって構成し、この積層体はその
一方側より他方側の厚さを厚くした請求項１から３のい
ずれか一つに記載の液体噴射装置であって、加圧体を構
成する第１の電極、圧電層、第２の電極の積層体におい
て、その他方側の厚みを厚くした場合にこの他方側にお
ける振動がしにくくなり、このことがこの他方側に対応
する加圧室内に圧力伝達抑制部を形成することとなり、
これにより請求項１で説明したスムーズなる液体噴射が
安定して行えるという効果が得られることになるのであ
る。

【００１５】次に本発明の請求項８に記載の発明は、加
圧室の内壁面を粗面化した請求項１から７のいずれか一
つに記載の液体噴射装置であって、加圧室の内壁面を粗
面化することにより、この内壁面に接する液体自身がそ
の内壁面に接していることで移動しにくくなり、すなわ
ち加圧室において加圧体から圧力を受けた液体は、その
内壁面部分に接している液体以外の部分だけがその圧力
の大部分の影響を受けることとなって、この結果として
液体噴射口からスピーディーな噴出が行われることにな
るのである。また次の瞬間、この加圧室の内壁面に接す
る液体は、その内包部分が液体の不足した状態となって
いるので、それを包み込むかのごとく外周方向からスム
ーズに供給され、結果直ちに次の液体噴射の準備が整う
ことになる。そしてこのことが、請求項１で説明した、
スムーズな液体噴出が安定して行えるという効果につな
がるものである。

【００１６】次に本発明の請求項９に記載の発明は、加
圧室はシリコン基板をエッチングして形成した請求項８
に記載の液体噴射装置であって、加圧室を形成する場合
にシリコン基板をエッチングして形成すれば、そのエッ
チングによって加圧室の内壁面を大きく粗面化すること
ができ、この結果として請求項８で説明した効果が得ら
れることにつながるものである。

【００１７】次に本発明の請求項１０に記載の発明は、
加圧体は、加圧室の開口側から順に設けた第１の電極
層、圧電層、第２の電極層により構成し、この加圧体で
覆われる加圧室の開口は、圧電層よりも幅を大きくした
請求項１から９のいずれか一つに記載の液体噴射装置で
あって、加圧体で覆われる加圧室の開口が、圧電層より
も大きくなっているということは、この開口部において
圧電層の両側部分においては第１の電極層だけが存在す
る部分となり、ここを第１の電極と圧電層の２層で覆っ
た場合よりも薄い層とすることができ、これにより圧電
層が振動する場合には、その両側の部分が薄くなってい
るので振動しやすく、これにより振動が効率的に、また
これによって液体の噴射もスムーズに行われるようにな
る。

【００１８】以下、本発明の一実施形態を、添付図面に
従って説明する。

【００１９】図１、図２において、１、２はガラス基板
であって、そのガラス基板１、２上にシリコン基板３が
設けられている。すなわち本実施の形態で説明する液体
噴射装置は、基本的にはこの３層構造によって形成され
ているものである。具体的には、後に詳細に説明する
が、このガラス基板１と２、およびガラス基板２とシリ
コン基板３はそれぞれの境界面において、直接接合がさ
れているものである。さてそのように構成されたものに
おいて、ガラス基板２には開口が形成され、この開口が
液体供給路４となっている。そしてこの液体供給路４に
連結するごとく、シリコン基板３には加圧室５が形成さ
れているものである。この加圧室５の一方側には液体噴
射口６が連結され、他方側においては液体供給路４と連
結する液体供給口７が設けられることになっている。そ
してこのように加圧室５は図１から明らかなように、１
つの液体噴射装置において横方向に複数個連結されたよ
うな状態となっている。当然のことながら、この図１に
示すごとく、液体噴射口６も横方向に整列した状態とな
っている。さてこのような加圧室５それぞれの上には、
加圧体８が設けられている。すなわち加圧室５の一方側
と他方側の間においてその上面側部分には開口９が形成
され、開口９を覆うように加圧体８が設けられているも
のである。この加圧体８は図２に示すがごとく、クロム
よりなる第１の電極層１０と、その上面に設けた圧電層
１１と、その上面に設けた第２の電極層１２からなる積
層体で構成されている。このような加圧体８は、図１に
おいてそれぞれの独立した加圧室５の上に、図５のごと
く独立した状態で設けられているものである。したがっ
て図２に示すような状態において、各々の加圧室５から
それぞれの液体噴射口６を介して、液体を適宜噴射する
ことができるようになっているものである。なお図３
は、シリコン基板３の裏面側を示すために設けた図面で
あって、この図に示すように、シリコン基板３において
加圧室５および液体噴射口６部分はエッチングによって
形成され、その後切断線１３部分で切断されることによ
って、図２に示すような状態となる。さてこの図２、図
３に示すごとく、加圧室５の他方側、すなわち加圧体８
と液体供給口７の間部分における加圧室５の上面壁は、
図２に示すごとく、エッチングでは完全には取り除かず
残した状態、すなわち残壁面１４となっている。この状
態は図３にも示しているが、この残壁面１４を形成する
ために、この加圧室５の他方側におけるエッチングをマ
スクを用いて加圧室５部分よりもエッチング深さを浅く
することによって結論として残壁面１４を形成するもの
である。このように構成した場合、残壁面１４部分の上
方にも加圧体８は存在することになるのであるが、この
部分においては残壁面１４があることによって、開口し
た状態の前方部分に比べて加圧体８による振動が加わり
にくくなる。そしてこのことが次に説明する、ここの部
分に圧力伝達抑制部１５を形成することになるのであ
る。

【００２０】ここで動作を説明すると、図２において液
体供給路４を介して供給された液体は、液体供給口７を
介して加圧室５内に満たされた状態となっている。そし
てここにおいて加圧体８の第１、第２の電極１０、１２
間に電気信号を加えられると圧電層１１が振動し、第１
の電極層１０とともに加圧室５の内方に向けて変位す
る。この状態となると、加圧室５は圧力を受けることと
なる。そしてその圧力は、当然のことながら液体供給口
７部分にも伝達しようとすることになるが、それよりも
手前部分において上述したように本実施形態においては
圧力伝達抑制部１５が存在することになる。この圧力伝
達抑制部においては、先ほどの加圧体８による圧力を受
けない部分となっているので、この部分に存在する液体
はそれ自身の慣性力の作用で、それよりも前方側の圧力
が押し寄せようとするのを、ここに存在する液体がそれ
を受けとめ、後方に伝達されるのを抑制してしまうこと
になる。このようになるとその圧力というものは、前方
の液体噴射口６に向けて及ぶこととなり、結果として液
体噴射口６から勢い良く液体が噴射されることとなるの
である。そしてこの圧力が解除された瞬間においては、
加圧室５内に液体の補充が行われることとなるのである
が、本実施形態においては加圧室５の他方部分に存在す
る液体が、直ちに不足した液体を補うがごとく移動する
こととなり、この結果として直ちに加圧室５内において
は、次の圧力を受ければ直ちに液体をスムーズに噴射す
ることができるような体制が整う。このことがスムーズ
な液体の供給が安定的に行われることにつながるもので
ある。

【００２１】なおこの図２にも示しているが、液体供給
路４部分および液体供給口７部分は十分な大きさをもっ
ているので、これらの部分を介して吐出する液体をスム
ーズに加圧室５内へ供給することができるようになって
いるのである。

【００２２】さて図４は、加圧室５の更に詳細な状態を
示すものである。この図４において特に説明しておきた
いことは、加圧室５の長手方向における両側部分がこの
図４においては示されているが、この部分の壁面が粗面
化されているということである。すなわち上述したよう
に、シリコン基板３をエッチングすることによって加圧
室５を形成するので、形成時においてこの長手方向の壁
面は粗面化されたような状態となっている。このことは
この壁面に接する液体が流れにくくなるということであ
って、これにより液体噴射口６から噴出する液体がより
スムーズに行われるということが説明されることにな
る。更に具体的にこれを説明すれば、このように内壁面
が粗面となった状態においては、これに接する液体は流
動性が悪くなり、加圧体８による圧力を受けたときには
この内壁面に接する液体は動きにくく、そのことはこの
内壁面に接していない部分の液体を集中して液体噴射口
６から噴出させることができることにつながるものであ
り、また噴射してしまった場合には図２において説明し
たものは、加圧室５に不足分を補うための液体は、圧力
伝達抑制部１５部分から補充されることを説明したが、
このように内壁面が粗面となっていた場合には、圧力伝
達抑制部１５部分だけでなく、その長手方向の両側に位
置する粗面化部分に存在した液体が、不足した部分をも
補うように移動することになる。すなわち不足した液体
を他方側からだけでなく両側からスムーズに補うことに
なるのである。このことが不足した液体のスムーズな補
充ということになり、すなわち噴射するインターバルを
より短くすることができるといった効果につながってい
くものである。

【００２３】図６は先ほどの加圧室５の製造工程を説明
するための図面である。まず図６の（Ａ）に示すごと
く、シリコン基板３の図２における下面側の部分にマス
ク１６を設ける。マスク１６には開口１７、１８が設け
られており、この開口１７は液体噴射口６を形成するた
めのものであり、開口１８は圧力伝達抑制部１５を形成
するためのものである。まずこのようにマスク１６にお
いて、シリコン基板３を覆った状態で、ドライエッチン
グを行う。その状態が（Ｂ）に示してある。そしてこの
ように液体噴射口６が形成された状態においては、
（Ｃ）に示すごとくその液体噴射口６の上面にマスク１
９をかぶせた状態で更にドライエッチングを行う。その
後マスク１９を取り除けば（Ｄ）に示すごとく液体噴射
口６と圧力伝達抑制部１５が形成された状態となる。そ
して次に（Ｅ）に示すごとくシリコン基板３の反対側に
マスク２０をかぶせ、開口２１部分からシリコン基板３
を貫通するごとくドライエッチングを行う。この貫通し
た状態の部分が加圧室５となるものである。そしてこの
ようなドライエッチングを行えば、図４で説明したごと
く、加圧室５の長手方向の両側に位置する壁面、特にこ
の部分が重要なのであるが、この部分は粗面化された状
態となっている。

【００２４】図７は他の製造方法を示しており、（Ａ）
においてはシリコン基板３の下面にマスク２２を設け、
更に開口２３、２４を設けた状態となっている。更に続
いて（Ｂ）においては、開口２３上にマスク２５を設け
てこれを完全に覆った後に、ドライエッチングを行って
開口２４に対応する部分のシリコンのみをエッチングし
た状態となっている。この時エッチングによって形成さ
れる加工部２６の深さは、圧力伝達抑制部１５の所定の
深さよりも、概略液体噴射口６の深さの分だけ浅くして
おく。更に続いて（Ｃ）においては、マスク２５を取り
除いて開口２３を露出させた後に、再びドライエッチン
グを行った状態を示しており、この状態においては液体
噴射口６と、圧力伝達抑制部１５となる加工部が形成さ
れていることとなる。この後の（Ｄ）、（Ｅ）において
は、先ほどの図６の（Ｄ）、（Ｅ）で説明したものと同
じであり、この方法によっても先ほどと同様に加工が行
えるとともに、壁面の粗面化といった同様の効果が得ら
れる。更に加えて言うならば、（Ｂ）において開口２３
をマスク２５で覆う際に、図６の製造方法と異なり開口
２３に対応する部分は加工が行われておらずに平坦であ
るので、マスクを設けることが容易である。すなわち、
加工された上にマスクを設ける場合には、ドライフィル
ム状のマスクであればマスクが中空で保持された状態と
なるため非常に弱く、ドライエッチングの際に破損して
しまう可能性が高くなる。また液状のレジストなどを硬
化させてマスクとする場合には、加工部内にレジストが
進入して完全なる除去が難しく、かつ加工部と表面の平
坦部の境目である角部においてはレジストの塗布が難し
く、加工後の形状が不均一になりやすいといった問題が
考えられる。しかしながら図７に示す方法によるなら
ば、それらの問題をいっさい生じることなく加工を行え
るといった効果を有する。

【００２５】図８、図９は本発明の他の実施形態を示し
ており、この実施形態においては加圧室５の他方部分に
残壁面１４を設けていない構成となっている。そのかわ
りこの図８、図９に示すごとく、その部分に対応する加
圧体８の上面部分にガラス体２９を塗布することによっ
て、この部分における加圧体８の振動を抑制するように
している。その結果としてこのガラス体２９部分に対応
する他方部分において、圧力伝達抑制部１５が形成され
るものである。そしてこれによれば上述の実施の形態と
同様に圧力伝達抑制部１５からの圧力伝達抑制により、
スムーズな噴出が行われる。

【００２６】図１０は他の実施形態を示しており、この
実施形態においては加圧室５を形成する際に、ドライエ
ッチングをシリコン基板３の図１０における下方側から
行った場合で、特に加圧体８側の開口面積を大きくする
ようにしたものである。すなわちこのような構成の場合
重要なのは、この加圧室５の開口９は第１の電極１０で
覆われて、この開口９よりも圧電層１１の幅が小さくな
り、この図１０に示すごとく圧電層１１の両側部分は、
第１の電極層１０のみで加圧体８が支えられた状態とな
っている。このような状態となれば、圧電層１１が振動
する場合に振動がスムーズに行われ、圧力が伝達しやす
くなるものである。

【００２７】図１１は本発明の更に他の実施形態を示し
ており、この実施形態においては加圧体８における第２
の電極を、加圧室５の他方側における部分でこの図１１
に示すごとく側方に屈曲させ、加圧室５の他方側に位置
する圧電層１１を覆わないような構成とした。このよう
にすれば、この他方側に位置する圧電層１１は実質的な
振動部となり得ず、このことがそれに対応する加圧室５
部分に圧力伝達抑制部１５を作ることになるものであ
る。

【００２８】図１２は同じくこの他方側における第２の
電極の幅を細くしたものであって、このようにすれば加
圧室５の他方側に対応する圧電層１１の振動部分が少な
くなり、このことがそれに対応する加圧室５の他方側に
圧力伝達抑制部を形成することにつながるものである。

【００２９】図１３も同じものであって、図１２と違う
のは図１２においては第２の電極１２の幅を徐々に細く
したが、図１３においては急激にその手前で細くしたも
のである。

【００３０】図１４は本発明の更に他の実施形態を示
し、本実施形態においては第１の電極層１０、圧電層１
１、第２の電極層１２の積層体によって加圧体８を形成
するものであるが、加圧体８の、加圧室５の他方側の各
々の厚さを厚くすることによって、その一方側、すなわ
ち液体噴射口６側は振動しやすく、それとは反対側の液
体供給口７側は振動しにくく、すなわちこれによってこ
の部分に圧力伝達抑制部を構成したものである。

【００３１】

【発明の効果】以上のように本発明は、加圧室の他方側
に圧力伝達抑制部を設けたことにより、圧力伝達抑制部
に存在する液体の慣性によって、加圧体によって加圧室
内部を加圧した際に液体が液体供給口側へ移動するのを
防ぎ、かつ加圧が解除された状態においては噴出によっ
て失われた液体を即座に補うことにより、スムーズな噴
出を連続かつ安定して行えるといった効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態における液体噴射装置の斜
視図

【図２】同側面断面図

【図３】同シリコン基板の詳細を示す斜視図

【図４】同正面断面図

【図５】同加圧体側からの平面図

【図６】（Ａ）〜（Ｅ）はそれぞれ同液体噴射装置の製
造工程図

【図７】（Ａ）〜（Ｅ）はそれぞれ同液体噴射装置の製
造工程図

【図８】本発明の他の実施形態における液体噴射装置の
側面断面図

【図９】同加圧体側からの平面図

【図１０】本発明の他の実施形態における液体噴射装置
の正面断面図

【図１１】本発明の他の実施形態における液体噴射装置
の加圧体側からの平面図

【図１２】本発明の他の実施形態における液体噴射装置
の加圧体側からの平面図

【図１３】本発明の他の実施形態における液体噴射装置
の加圧体側からの平面図

【図１４】本発明の他の実施形態における液体噴射装置
の側面断面図

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ ガラス基板 ３ シリコン基板 ４ 液体供給路 ５ 加圧室 ６ 液体噴射口 ７ 液体供給口 ８ 加圧体 ９ 開口 １０ 第１の電極層 １１ 圧電層 １２ 第２の電極層 １４ 残壁面 １５ 圧力伝達抑制部 ２９ ガラス体

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Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 加圧室と、この加圧室の一方側に連結し
   た液体噴射口と、前記加圧室の他方側に連結した液体供
   給口と、前記加圧室の一方側と他方側の間に設けられた
   加圧体とを備え、前記加圧室の加圧体と液体供給口との
   間部分に、この部分に存在する液体自身の慣性によっ
   て、前記加圧体を駆動した際に発生する圧力が前記液体
   供給側に伝達されるのを抑制する圧力伝達抑制部を設け
   た液体噴射装置。
2. 【請求項２】 加圧室の一方側と他方側の間の壁面を加
   圧体で覆うとともに、この加圧体の一方側に対応する壁
   面部分には開口を設け、この加圧体の他方側に対向する
   壁面部を残し、この壁面部分に対応する加圧室内部分で
   圧力伝達抑制部を形成した請求項１に記載の液体噴射装
   置。
3. 【請求項３】 加圧室の一方側と他方側の間の壁面に開
   口を設け、この開口を振動による加圧体で覆うととも
   に、この加圧体の他方側の加圧室とは反対側の面に、振
   動抑制体を設け、この振動抑制体に対応する加圧室内部
   分で圧力伝達抑制部を形成した請求項１に記載の液体噴
   射装置。
4. 【請求項４】 加圧体は、加圧室側から順に設けた第１
   の電極層、圧電層、第２の電極層より構成し、圧電層の
   他方側においては第２の電極層の非被覆部を形成した請
   求項１から３のいずれか一つに記載の液体噴射装置。
5. 【請求項５】 非被覆部は、第２の電極層を圧電層の他
   方側の手前でこの圧電層外に屈曲させることで形成した
   請求項４に記載の液体噴射装置。
6. 【請求項６】 非被覆部は、圧電層の他方側の手前でこ
   の第２の電極層の幅を狭くして形成した請求項４に記載
   の液体噴射装置。
7. 【請求項７】 加圧体は、加圧室側から順に積層して設
   けた第１の電極、圧電層、第２の電極によって構成し、
   この積層体はその一方側より他方側の厚さを厚くした請
   求項１から３のいずれか一つに記載の液体噴射装置。
8. 【請求項８】 加圧室の内壁面を粗面化した請求項１か
   ら７のいずれか一つに記載の液体噴射装置。
9. 【請求項９】 加圧室はシリコン基板をエッチングして
   形成した請求項８に記載の液体噴射装置。
10. 【請求項１０】 加圧体は、加圧室の開口側から順に設
    けた第１の電極層、圧電層、第２の電極層により構成
    し、この加圧体で覆われる加圧室の開口は、圧電層より
    も幅を大きくした請求項１から９のいずれか一つに記載
    の液体噴射装置。