JP2000511199A - キシリトールの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、キシロースおよびキシロン酸を含有する材料からのキシリトールの製造方法に関する。該方法に従うと、キシロースおよびキシロン酸をキシロースおよびキシロン酸を含有する材料から分離し、その後分離したキシロースおよびキシロン酸をキシリトールに還元し、そしてキシリトールを回収する。

Description

【発明の詳細な説明】 キシリトールの製造方法 本発明は、キシロースおよびキシロン酸を含有する材料からのキシリトールの 製造方法に関する。キシロースおよびキシロン酸は、例えばスルフィット蒸解の 蒸解液中に見いだされる。 スルフィット蒸解液は、マスがスルフィット法で製造されるとき得られること ができる。スルフィット蒸解液は、不溶性木材材料、リグニン、ヘキソースおよ びペントース糖、有機酸並びに蒸解薬品を含む。これらの蒸解液は以前は通常水 系に放出される。しかしながら、これは環境に関する法律によって近年禁止され 、そして従って、スルフィット蒸解液を利用するための方法が開発されてきた。 蒸解後、スルフィット蒸解液を蒸発させそして燃焼し、熱エネルギーを生成する ことが可能であり、そして該液のスルフィットおよび塩基を蒸解処理に戻すこと ができる。しかしながら、この処理は、スルフィット蒸解液の大量の硫黄含有量 のために新たな環境の害を生じる。有効な使用は、スルフィット蒸解液をその成 分に分別することを必要とする。 キシロースに加えて、スルフィット蒸解液はまた、該液からのキシロースの分 離をより困難にするキシロン酸をも含む。しかしながら、キシロン酸がキシリト ールの製造における原材料として使用されることができることが好ましい。 キシリトールは天然発生糖アルコールであって、キシロースの還元を通して得 られかつ“通常の糖”に相当する甘味を有するが通常の糖よりも低いカロリー含 有量（２．４ｋｃａｌ／ｋｇ）を有する。キシリトールは様々な果物および野菜 中に少量見いだされ、また通常の代謝生成物として人間の体内においても形成さ れる。特定の代謝特性、歯科特性および技術特性のために、キシリトールは、異 なる目的、例えばチューインガム、甘味、キャンディー等のための大変良好な特 別な甘味料である。キシリトール代謝がインシュリン代謝から独立しており、そ して従って糖尿病患者がキシリトールをまた使用できることは例として述べられ ることができる。キシリトールはまた下腸運動（ｄｏｗｎ ｂ ｏ ｗ ｅ ｌ ｍｏｖｅｍｅｎｔ）の速度を低下させ、そして従って規定食において使用され 得る。キシリトールが虫歯を起こさないだけでなく、虫歯予防効果さえ有し得る こ ともまた見いだされた。 キシリトールの多くの利点にもかかわらず、その使用はやや限定されている。 これはキシリトールの相対的な高価格のためであり、該高価格は大規模でキシリ トールを製造することにおける困難から生じる。 キシリトールは以前はキシラン含有材料から加水分解によって製造されていた 。これは、例えば、キシロースを含む単糖混合物を生じる。その後、キシロース は触媒還元（水素化）を通して、通常ニッケル触媒、例えばラネーニッケルの存 在下でキシリトールに還元される。従来技術の文献は、キシロースおよび／また はキシリトールをキシラン含有材料から製造するいくつかの方法を記載している 。例は、アメリカ合衆国特許第３７８４４０８号（Ｊａｆｆｅ等）、アメリカ合 衆国特許第４０６６７１１号（Ｍｅｌａｊａ等）、アメリカ合衆国特許第４０７ ５４０６号（Ｍｅｌａｊａ等）、アメリカ合衆国特許第４００８２８５号（Ｍｅ ｌａｊａ等）およびアメリカ合衆国特許第３５８６５３７号（Ｓｔｅｉｎｅｒ等 ）を含む。 いくつかの植物において、ヘミセルロースの大部分はキシロースに加水分解さ れることができるキシランである。キシランについての第一の開始材料は、主に キシランからなる落葉樹木のヘミセルロースである。セルロース産業の副生成物 として得られるキシランおよびキシロースの使用はまた、しだいにより注意が払 われる対象である。例えば、キシロースは、典型的な塩基がＭｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｎ Ｈ₄ ⁺およびＮａ⁺を含むところの酸性スルフィット蒸解において形成される。開 始材料はまた、キシランのキシロ−オリゴマーが加水分解された後の、中性スル フィット蒸解の蒸解液であることもできる。酸性スルフィット蒸解の蒸解液にお いて、ヘミセルロースは既に単糖形態にある。用語“蒸解液”は、これに関して 、蒸解において使用されるか、または蒸解の後に得られる溶液、またはその一部 に関する。キシリトールの製造において使用されるキシロースを還元するための 既知の触媒法は、還元されるキシロースが有害な不純物を含まないことを必要と する。精製は非常に要求され、そして多工程処理を必要とし（合衆国特許第４６ ３１１２９号、ＨｅｉｋｋｉｌａおよびＰＣＴ／ＦＩ９５／００２２４、Ｈｅｉ ｋｋｉｌａ等を見よ。）、例えば、それはキシロース還元反応において使 用される触媒が不純物に大変敏感であるからである（Ｈａｒｋｏｎｅｎ，Ｍ．お よびＮｕｏｊｕａ，Ｐ．、Ｋｅｍｉａ−Ｋｅｍｉ、ｎｏ ３（１９８０）頁９８ −１００を見よ。）。 スルフィット蒸解液がキシロースのための原材料として使用されるとき、問題 は蒸解条件における変化である。該条件に依存して、木材のヘミセルロースは異 なる様式において溶解し、そして大量または少量のキシロースを生成する。少量 のキシロースのみが生成される蒸解条件において、有意な量のキシロン酸もまた 形成され得る。キシロースが精製される場合、そのような生成物中に見いだされ たキシロースをキシロン酸を含む液から、例えばクロマトグラフィーによって分 離することは困難である。溶液中に存在するキシロン酸は、キシロースの分離を より困難にし、そして従って、キシロースの結晶化収量における減少を引き起こ す。しかしながら、キシリトールのための原材料としてキシロン酸を使用するこ とができることが好ましい（ＷＯ９３／１９０３、Ｖｕｏｒｉｎｅｎを見よ。） 。スルフィット蒸解液からのキシロースの分離それ自体は、例えばＷＯ９４／２ ６３８０、Ｈｅｉｋｋｉｌａ等およびＷＯ９５／２９００２、Ｈｅｉｋｋｉｌａ 等から既知である。 本発明は、キシロースおよびキシロン酸を含有する材料からのキシリトールの 製造方法に関する。該方法は、キシロン酸をキシロースおよびキシロン酸を含有 する材料から分離し、その後分離したキシロン酸を還元することを特徴とする。 本発明の好ましい態様において、キシロースはまた分離される。キシロースおよ びキシロン酸は好ましくは、クロマトグラフィーで、抽出、イオン交換または結 晶化によって分離される。 キシロースおよびキシロン酸を含有する材料は、好ましくはスルフィット蒸解 の蒸解液、例えばマグネシウムスルフィット蒸解の蒸解液である。クロマトグラ フィーでのマグネシウム蒸解液からの最適な方法におけるキシロースの製造は、 マグネシウムを除くほとんどの他のカチオンがセルロース製造における化学循環 に戻されることができないという事実のために制限される。該処理において使用 されるクロマトグラフィー樹脂は、好ましくはマグネシウムイオン形態（Ｍｇイ オン分離）にあり、その場合には分離処理から戻されるアニオンはマグネシウム 塩である。しかしながら、二価形態において使用される分離樹脂は、一価形態に ある分離樹脂よりもより低い効率でキシロースを分離する、例えばフィンランド 国特許第７８７３４号（Ｈｅｉｋｋｉｌａ）を見よ。本発明が適用されるとき、 二つの連続するマグネシウムイオン分離の代わりに、一つのマグネシウムイオン 分離と一つのナトリウムイオン分離を、その間にマグネシウムイオンをナトリウ ムイオンに交換するところの軟化処理を行って使用することが可能である。第一 の分離の画分中で支配的なカチオンはマグネシウムであり、そしてそれ自身はセ ルロース製造における薬品循環に戻すことができる。第二の分離の残渣画分はセ ルロース製造の循環（薬品の回収、エネルギー生成）に戻すことができない、な ぜならばそれは外部からのカチオン（＝ナトリウム）を含むからである。本発明 に従うと、第二の分離の全残渣画分は、水素形態にあるカチオン交換体を通して 流される。第二の分離から得られかつカチオン交換に供される画分のイオン強度 は、イオン交換後に相対的に強酸性（低いｐＨ）に相当し、そして従って、第二 の分離の供給物を軟化するために使用されるカチオン交換樹脂を水素形態に再生 するために使用されることができる。同時に、軟化の間にカチオン交換樹脂中に 残存したマグネシウムイオンは、セルロース製造の循環に戻されることができる 。 残渣画分のカチオン交換のために使用される樹脂は、イオン交換後、主にナト リウム形態にある。この樹脂は、酸で水素形態に再生し戻され、そして再生の開 始時にカラムから放出されるナトリウムを軟化カラムに戻し、（以前に再生され た水素形態から）対応する（＝ナトリウム）形態にする。該開始時に水素形態の 軟化カラム（ナトリウムが水素に交換される。）から放出される酸は、今度は、 残渣画分のカチオン交換のために使用される樹脂を水素形態に再生するために使 用されることができる。 他方、二工程Ｍｇ−Ｍｇ分離はまた、本発明に従うキシロースおよびキシロン 酸の分離のために有利に使用されることができることも見いだされた。ｐＨが調 節されていない（ｐＨ１．５ないし２．５）の溶液で行われるキシロースのクロ マトグラフィーでのＭｇ²⁺の第二の分離において、キシロン酸はキシロースとほ ぼ同時に溶出され、それは今度は、キシロース画分の純度を低下させる。供給溶 液のｐＨがＭｇＯで約３またはそれ以上のｐＨ値にまで増加されるとき、キシロ ン酸はより後に溶出され、それはキシロース画分の純度およびキシロース画分の 幅を増加する。ｐＨはまた第一の分離工程においても調節されることができるが 、しかし薬品の消費に関して、第二の分離においてのみ調節することが好ましい 。 Ｍｇ分離に関する上記の開示はまた、Ｃａ−スルフィット蒸解液の処理にも適 用する。 本発明に従うと、分離を ａ）マグネシウムスルフィット蒸解の蒸解液を、マグネシウム分離樹脂を使用す ることによってクロマトグラフィー分離に供し、キシロースに富んだ画分、混 合した画分およびマグネシウム形態にある残渣画分を得ること、および ｂ）得られたキシロースに富んだ画分を、マグネシウムまたは一価金属の形態に ある分離樹脂を使用することによってクロマトグラフィーし、そしてキシロー スに関して濃縮された画分を回収し、そしてキシロン酸に関して濃縮されかつ 塩形態にある画分を回収すること のようにして適当に行われる。 一価金属、好ましくはナトリウムの形態にある分離樹脂が工程ｂ）において使 用されるとき、工程ａ）において得られるキシロース含有画分は工程ｂ）の前に 軟化される。樹脂が工程ｂ）においてマグネシウム形態にあるとき、工程ａ）に おいて得られる画分のｐＨは、好ましくは３．０ないし６．５、特に５．５の値 に調節される。 分離はまた、抽出によって、好ましくはエタノールで、またはイオン交換また はＭｇ−キシロネートの結晶化によって行われることもできる。 分離されるキシロースおよびキシロン酸は触媒を使用して、または金属水素化 物試薬、例えば水素化ホウ素ナトリウムを使用することによって還元されること ができることが判明した。還元は適当な触媒を使用して行われ、その場合好まし い触媒はラネー−型触媒および貴金属触媒、例えばＲｕ、Ｐｄ、ＲｈおよびＰｔ 、特にＲｕを含む。 触媒還元における適当な還元温度は、７０ないし１５０℃、好ましくは１００ ないし１３０℃であり、また還元は５０００ないし２００００Ｐａ、好ましくは １００００ないし１３０００ｋＰａの圧力で適当に行われる。還元されるキシロ ースのｐＨは、好ましくは５ないし７であり、またキシロン酸のｐＨは好ましく は１．５ないし２．５である。 還元の前に分離されるキシロースおよびキシロン酸画分を、例えばイオン交換 によってできる限り精製しなければならない。該キシロースおよびキシロン酸画 分は、中和／沈殿／ろ過および／または炭素もしくは吸着剤での処理によるさら なる精製を必要とし得る。二工程水素化を使用することも可能であり、例えば、 第一工程において水素化は例えばラネーニッケル触媒で行われ、そして第二工程 において貴金属触媒で行われることを意味する。本発明を行う手段を与える方法 は、予備酸化を行うことであり、その場合、溶液からのキシロン酸濃縮物の分離 はより効果的になる。本発明に従って製造されるキシリトールは、還元の生成溶 液から、クロマトグラフィーで、または好ましくは結晶化によって好ましく分離 される。 本発明に従う方法はキシリトールを製造する費用を著しく減少させることを可 能にする。該方法は、例えば、原材料のより良い使用を可能にする（原材料はキ シリトールの多くとも約二倍の量で十分である。）。 以下の実施例は本発明を説明する。 実施例１ Ｍｇ−Ｎａ分離 マグネシウムスルフィット蒸解の蒸解液から得られた試料を、それ自体は既知 の方法（ＷＯ９４／２６３８０）において、マグネシウム形態にある強酸性カチ オン交換樹脂（ポリスチレン骨格、スルホン化によって活性化）を使用すること によってクロマトグラフィーし、キシロースに富んだ画分、混合した画分および マグネシウムスルフィット蒸解の蒸解酸の製造に戻すマグネシウム含有残渣画分 を得た。キシロースに富んだ画分を軟化、またはＨ⁺形態にありかつスルフリン 酸（ｓｕｌｐｈｕｒｉｃ ａｃｉｄ）で再生される強カチオン交換樹脂（ＤＯＷ ８８）を使用することによって脱カチオン化した。温度は５０℃であり、また流 速は１時間あたり２バルク体積であった。供給物の屈折率乾燥固形分含有量（Ｒ ＤＳ）は２０重量％であり、また循環長（ｃｙｃｌｅ ｌｅｎｇｔｈ）は乾燥物 質約０．６ｋｇ／樹脂０．５Ｌであった。 得られた軟化（脱カチオン化）したシロップのｐＨを、５．５にＮａＯＨで調 節し、そしてそれらの中に含まれるカチオンは主にナトリウムイオンであり、ま た該シロップはほとんど二価カチオンを含まなかった。該シロップをナトリウム 形態にある強酸性カチオン交換樹脂（Ｆｉｎｅｘ Ｖ ０９ Ｃ^TM）を使用する ことによりクロマトグラフィーし、キシロースに関して濃縮されかつ回収される 画分、および大量のナトリウムを含む塩形態にある残渣画分（塩画分）を得た。 供給物画分中のキシロース量は乾燥物質で３７．２％であった。分離後に得られ た生成物画分中のキシロース量は乾燥物質で５５％であり、また残渣画分中では 乾燥物質で２％であった。 塩画分を、Ｈ⁺形態にある強酸性カチオン交換樹脂（ＤＯＷ ８８^TM）を使用 することによって脱カチオン化した。流速は１時間あたり２バルクであり、温度 は５０℃であり、また供給物の乾燥固形分含有量（ＲＤＳ）は５．６重量％であ った。全循環長は７．２Ｌ／樹脂１Ｌであった。脱カチオン化塩画分のｐＨは約 １であり、またそれは０．２５２Ｈ⁺当量／Ｌを含んでいた。全脱カチオン化塩 画分（７．２Ｌ）を、主にマグネシウムイオンを含む軟化樹脂（５００ｍＬ）を 再生するために使用した。再生を、循環の開始時に得られた酸性画分およびさら なる酸をマグネシウム形態にある軟化樹脂をＨ⁺形態に変換するために使用する ようにして行った。再生循環の開始時に得られた脱カチオン化樹脂のＮａ含有画 分を、軟化樹脂をＮａ形態に変換するために使用した。軟化および脱カチオン化 の異なる工程での樹脂の容量およびカチオン含有量を表１に表す。 実施例２ Ｍｇ−Ｍｇ分離 Ｍｇ蒸解液（工程ｂ））の第二の分離を、Ｍｇ²⁺分離樹脂を有するクロマトグ ラフィーカラム中で以下の条件下で行った。 分離樹脂：Ｆｉｎｅｘ Ｖ １１ Ｃ^TM、ＤＶＢ^*６．５％ 温度 ：６５℃ 流速 ：０．９ｍ／ｈ ^*ポリスチレン骨格を有するスルホン化樹脂、ジビニルベンゼンと架橋 供給物のキシロース純度は乾燥物質で２９．１％であり、キシロン酸純度は乾 燥物質で２１．６％であった。三つの画分を回収した。キシロース画分のキシロ ース純度は乾燥物質で約４４％であり、またキシロン酸画分のキシロン酸含有量 は乾燥物質で約４１％であった。回収した画分の流出の順序は：塩、キシロース 、キシロン酸であった。 分離をｐＨを調節していない溶液（ｐＨ２．１）で行ったとき、キシロース画 分の容量は乾燥物質／ｈ／ｍ³で５．２ｋｇであった。該液のｐＨを分離の前に ＭｇＯで３．５、４．５、５．３および６．５に調節したとき、キシロース容量 はそれぞれ乾燥物質／ｈ／ｍ³で１１．８、１０．７、１１．６および１０．７ ｋｇであった。分離のｐＨが増加したとき、キシロン酸の樹脂へのより強い付着 のためにより良い結果を得た。 実施例３ Ｍｇ−Ｍｇ分離 実施例２に従うＭｇ蒸解液の第二の分離を、Ｍｇ²⁺形態にある分離樹脂を有す るクロマトグラフィーカラム中で実施例２において記載した条件下で行った。そ の後のキシロースおよびキシロン酸画分の純度を表２に示す。 実施例４ Ｃａ−スルフィット蒸解液からのエタノール抽出によるキシロースおよびキシ ロン酸の分離 市販で入手可能な楽量樹木の乾燥かつ粉末Ｃａ−スルフィット蒸解液、表３（ １）において表す組成、をエタノールで抽出した。抽出における粉末の量は１５ ００ｇであり、９５％エタノールの量は１５Ｌであった。混合物を５０℃で４時 間混合し、その後ろ過し、そして得られたケーキを乾燥した。溶解した固形分の 量は３２％であった。ろ液を回転乾燥機で減圧下で蒸発させた。蒸発残渣を水約 ８Ｌ中に溶解した。溶液の組成を表３（２）に表す。キシロース収率は約７８％ であり、またキシロン酸収率は約４３％であった。エタノール抽出を繰り返した とき、収率はそれぞれ９５％および５６％に増加した。 ^*粉末の乾燥固形分含有量をＫ．Ｆｉｓｃｈｅｒ法で決定し、そして溶液の乾燥 固形分含有量を純キシロースについての屈折率表を利用することによって屈折率 計を使用して決定した。 実施例５ キシロン酸へのキシロースの酸化 ＭｇＯ３．６ｇ、キシロース６ｇおよびＳＯ₂溶液２００ｇ（濃度７０ないし ７１ｇ ＳＯ₂／Ｌ）をオートクレーブ中に添加した。オートクレーブを密閉し 、そして１５０℃でグリセロール浴中に置いた。オートクレーブを１ｈ、 ２ｈ、４ｈおよび６ｈ保持し、その後それらを冷却した。溶液をろ過し、そして 分析した。キシロース６７％がキシロン酸に２時間のうちに酸化した。 実施例６ 水からのＭｇ−キシロネートの結晶化 開始溶液はＭｇ−スルフィット蒸解液から分離したキシロン酸画分であった。 キシロン酸画分を１０℃で結晶化し、そして母液をデカンテーションにより分離 した。Ｍｇ−キシロネート結晶マス（乾燥物質５６．２％、キシロン酸の乾燥物 質について計算した純度５８．５％）を、結晶マス１２０ｇ／エタノール１Ｌの 比のエタノール−水溶液から結晶化した。結晶を室温で乾燥した。Ｍｇ−キシロ ネート結晶の純度は、キシロン酸の乾燥物質について計算して８０．９％であっ た。結晶を水中に約５０％溶液まで溶解した。色を炭素およびろ過によって溶液 から除去した。 マグネシウムキシロネート溶液（２０４０ｇ、乾燥固体含有量４５．８％（Ｋ ａｒｌ−Ｆｉｓｃｈｅｒ）、乾燥物質でキシロン酸純度７９．３％）を２Ｌ容器 に移し（供給溶液）、Ｍｇ−キシロネートを以下の方法において結晶化した。 マス（Ｔ_mass５７℃）をＭｇ−キシロネート溶液１ｍＬで種付けした。種付け １時間後、直線７０時間冷却プログラム（６０℃から２０℃へ）を開始した。直 線冷却プログラム終了後、Ｍｇ−キシロネートを定温（２０℃）で７２時間保持 した。結晶をろ過し、そしてエタノールで洗浄した。結晶を４５℃で乾燥した。 収量は３３７ｇであった。結晶のキシロン酸純度は乾燥物質基準について９４． ３％であった。 実施例７ 水からのＭｇ−キシロネートの結晶化 開始溶液はＭｇ−スルフィット蒸解液から分離したキシロン酸画分であった。 キシロン酸画分を１０℃で結晶化し、そして母液をデカンテーションを通して分 離した。Ｍｇ−キシロネート結晶マスを、結晶マス１２０ないし１５０ｇ／エタ ノール１Ｌの比におけるエタノール−水溶液から結晶化した。結晶を室温で乾燥 した。Ｍｇ−キシロネート結晶の純度は、キシロン酸の乾燥物質について計算し て８０ないし９４％であった。結晶を水中にキシロン酸純度７１％を有する約３ ５％溶液まで溶解した。 マグネシウムキシロネート溶液（ＲＤＳ３４．３％）１８．４ｋｇを供給溶液 として使用した。水を溶液（Ｔ_mass４０ないし５５℃）から蒸発させた。マスの ＲＤＳが５２．８％に達したとき、マスを６Ｌ冷却結晶化機に移した（７．１ｋ ｇ）。３０分後、該マスをＭｇ−キシロネート結晶０．７ｇで６３℃で種付けし た。種付け１時間後、直線７０時間冷却プログラム（６０℃から２０℃へ）を開 始した。乾燥物質についてキシロン酸純度７２．８％および乾燥固形分含有量４ ７．９％（Ｋａｒｌ−Ｆｉｓｃｈｅｒ）を有するマスを、４５００ｒｐｍで５分 間遠心分離し、そして４５℃で乾燥した。収量は結晶１２８５ｇであった。Ｍｇ −キシロネート結晶のキシロン酸純度は、乾燥物質基準について９０．２％ であった。 実施例８ 水からのＭｇ−キシロネートの結晶化 開始溶液はＭｇ−スルフィット蒸解液から分離したキシロン酸画分であった。 マグネシウムキシロネート溶液（ＲＤＳ４０．８％）２０．６ｋｇを供給溶液 として使用した。水を溶液（Ｔ_mass４０ないし５５℃）から蒸発させた。マスの ＲＤＳが５９．５％に達したとき、自発的な結晶化が起こった。該マスを１０Ｌ 結晶化機に移した。１５分後、直線１８時間冷却プログラム（６０℃から２０℃ へ）を開始した。乾燥物質基準についてキシロン酸純度７４．２％および乾燥固 形分含有量５１．５％（Ｋａｒｌ−Ｆｉｓｃｈｅｒ）を有するマスを、４５００ ｒｐｍで５分間遠心分離し、そして４５℃で乾燥した。収量は結晶３．４ｋｇで あった。Ｍｇ−キシロネート結晶のキシロン酸純度は、乾燥物質基準について８ ２．５％であった。 実施例９ 弱塩基性アニオン交換樹脂へのキシロン酸の吸着 供給溶液は、Ｍｇ−スルフィット蒸解液のクロマトグラフィー分離処理からの 実施例１に従う第一の分離のキシロース画分であった。該画分を、強酸性カチオ ン交換樹脂（ＤＯＷ ８８^TM）および二つの弱塩基性アニオン交換樹脂（ＤＯＷ ６６^TM）からなる一連のイオン交換体に供給した。カチオンをカチオン交換樹 脂に吸着し、そしてキシロン酸をその塩から遊離させ、即ち、遊離酸に変換し、 その後アニオンをアニオン交換樹脂に吸着した。 供給溶液の乾燥固形分含有量は３２％であり、温度は４０℃であり、また流速 は２ｂｖ／ｈ／カラム（ｂｖ＝バルク体積）であった。この実験において、溶液 を全樹脂体積にほぼ相当する量で処理した。 そのような試行において、キシロン酸は：第一の樹脂に２２ｇ／Ｌおよび第二 の樹脂に６３ｇ／Ｌで、双方のアニオン交換樹脂に吸着した。供給物および生成 物の分析を表５に表す。 実施例１０ 弱酸性カチオン交換樹脂を使用することによるキシロースの分離 Ｍｇ−スルフィット蒸解液のクロマトグラフィー分離を弱酸性カチオン交換樹 脂、Ｆｉｎｅｘ ＣＡ ２４ ＧＣ^TMを使用することによって行った。温度は６ ５℃であり、また流速は０．１９ｍ／ｈであった。供給溶液のｐＨは１．２であ り、キシロース含有量は９．８％であった。２５％の画分純度を有するキシロー ス画分容量は乾燥物質／ｍ³／ｈで９．６ｋｇであり、分離におけるキシロース の最高純度は３１．４％であった。供給溶液中のキシロン酸含有量は５．５％／ 乾燥物質（ＲＤＳ）であり、またキシロース画分中では１６．７％／乾燥物質で あった。溶出の順序は：塩の大部分に続いて、キシロースおよびキシロン酸がほ ぼ同時であった（キシロン酸がわずかに後）。 実施例１１ 弱酸性カチオン交換樹脂を使用することによるキシロースの分離 Ｍｇ−スルフィット蒸解液のクロマトグラフィー分離を弱酸性カチオン交換樹 脂、Ｐｕｒｏｌｉｔｅ Ｃ １０５^TMを使用することによって行った。温度は６ ５℃であり、また流速は０．７ｍ／ｈであった。供給溶液のｐＨは４．５であり 、またキシロース含有量は１０．９％であった。画分純度２５％を有するキシロ ース画分容量は乾燥物質／ｍ³／ｈで１９．０ｋｇであり、画分純度４０％を 有するものでは乾燥物質／ｍ³／ｈで７．８ｋｇであり、そして分離におけるキ シロースの最高純度は４２．７％であった。供給溶液中のキシロン酸含有量は５ ．６％／乾物質（ＲＤＳ）であった。２５％／キシロースの乾燥物質の画分純度 を有するキシロース画分におけるキシロン酸純度は１１．７％/乾燥物質であり 、４０％／キシロースの乾燥物質の画分純度を有するキシロース画分においては キシロン酸純度は１８．５％／乾燥物質であった。塩、キシロースおよびキシロ ン酸がほぼ同時に溶出した（キシロン酸がわずかに後）。 実施例１２ 繊維様カチオン交換樹脂を使用することによるキシロースの分離 Ｍｇ−スルフィット蒸解液のクロマトグラフィー分離を繊維様（ステープルフ ァイバー）カチオン交換樹脂、Ｓｍｏｐｔｅｃ １０１，３^TM、スルホン酸で活 性化したポリスチレン骨格を使用することによって行った。温度は６５℃であり 、また流速は１．８ｍ／ｈであった。供給溶液のｐＨは２．２であり、またキシ ロース含有量は８．９％であった。分離におけるキシロースの最高純度は２３． ４％であった。供給溶液中のキシロン酸含有量は５．１％／乾燥物質（ＲＤＳ） であり、またキシロース画分における最高純度は１５．０％／乾燥物質であった 。溶出の順序は：塩の大部分、そして一緒にキシロースおよびキシロン酸であっ た。 実施例１３ 強酸性カチオン交換樹脂を使用することによるキシロースの分離 Ｍｇ−スルフィット蒸解液のクロマトグラフィー分離を強酸性カチオン交換樹 脂、Ｆｉｎｅｘ ＣＳ １１ ＧＣ^TMを使用することによって行った。温度は６ ５℃であり、また流遠は０．７ｍ／ｈであった。供給溶液のｐＨは１．０であり 、またキシロース含有量は１１．９％であった。画分純度４０％を有するキシロ ース画分容量は乾燥物質／ｍ³／ｈで１１．２ｋｇであり、また分離におけるキ シロースの最高純度は４４．８％であった。供給溶液中のキシロン酸含有量は５ ．５％／乾燥物質（ＲＤＳ）であり、またキシロース画分においては２５％／乾 燥物質であった。流出の順序は：塩、キシロースそしてキシロン酸であった。二 つの後者の画分は部分的に重複していた。 実施例１４ キシロースの酸化 ＭｇＯ２ｇ、Ｍｇ−スルフィット蒸解液６２ｇおよびＳＯ₂溶液（濃度７０な いし７２ｇ ＳＯ₂／Ｌ）１４０ｇをオートクレーブ中に添加した。オートクレ ーブを密閉し、そして１５０℃でグリセロール浴中に置いた。オートクレーブを ３０分、１ｈ、２ｈおよび４ｈ保持し、その後それらを冷却した。溶液をろ過し 、そして分析した。キシロース２８％がキシロン酸に４時間のうちに酸化した。 実施例１５ キシロン酸の水素化 原材料は、実施例６、７および８において記載したように製造しかつマグネシ ウムがカチオン交換によって除去されたキシロン酸画分であった。 水素化を５Ｌ Ｍｅｄｉｍｅｘオートクレーブ（回分式反応器）において、１ １０℃かつ圧力１３０００ｋＰａで、触媒としてＲｕ／炭素（炭素についてＲｕ ５％、Ｅｎｇｅｌｈａｒｄ ＣＰ ５６ × Ｌ／Ｒ／ＷＷ）を使用することに より、それらの投入量は乾燥物質の１８％で行った。水素化の時間は３時間であ った。表７は開始材料および得られた生成物の組成を表す。 実施例１６ 水素化ホウ素ナトリウムでのクロマトグラフィー分離によって生成した酸化キ シロース−キシロン酸画分の還元 反応を常圧かつ室温で混合によって行った。反応時間は試薬の添加後（徐々に 添加）２時間であった。画分をそれ自体で、および約１０％の乾燥固形分含有量 でのカチオン交換後に還元した。水素化ホウ素ナトリウムを、３ｇ／溶液の本来 の重量１００ｇ（＝乾燥物質の１０ｇ）の比で添加した。水素化ホウ素ナトリウ ムを４％水溶液の形態で添加した。反応を６Ｎ塩酸で溶液を酸性化すること（ｐ Ｈ２）によって終了させた。結果を表８に表す。 実施例１７ ラネーニッケルでのキシロン酸に関して濃縮した混合物の水素化 ７０％メタノール中のキシロン酸１６６ｇ／Ｌをオートクレーブ中でラネーニ ッケル（２ｇ）で、１２２℃かつ圧力６５００ｋＰａで１８時間水素化した。結 果を表９に表す。 実施例１８ ロジウムでのキシロン酸に関して濃縮した混合物の水素化 水中のキシロン酸１６６ｇ／Ｌをオートクレーブ中で触媒として５％Ｒｈ／２ ％Ｍｏ／Ａｌ₂Ｏ₃を使用することによって、１４０℃かつ圧力６５００ｋＰａで １８時間水素化した。結果を表１０に表す。 実施例１９ キシリトールの結晶化 原材料は実施例１５ないし１８において記載したように製造したキシリトール であった。 キシリトール（ＲＤＳ１１．４％、供給溶液）９７ｇを、ＲＤＳ含有量９１． ４％に６０℃で蒸発させた。マスを１Ｌ反応容器に移し、キシリトール結晶０． ０６ｇで６０℃で種付けした。直線４９時間冷却プログラム（６０．５℃から３ ０℃へ）を開始した。冷却後、マスの温度を約３℃上昇させ、そしてマスを遠心 分離した。マスのキシリトール純度は乾燥物質で７７％であった。結晶を４５０ ０ｒｐｍで５分間の遠心（バスケット直径２２ｃｍ、メッシュ寸法０．１５ｍｍ ）で分離し、そして結晶を洗浄した。収量は乾燥結晶３０ｇであった。結晶のキ シリトール純度は乾燥物質基準について８１．２％であった。 実施例２０ キシリトールの結晶化 原材料は実施例１５ないし１８において記載したように製造したキシリトール であった。 キシリトール溶液を１２μｍの膜を通してろ過した。キシリトール（ＲＤＳ１ ９．７％、供給溶液）１７０ｇ（乾燥物質）を、ＲＤＳ含有量９１．３％に６０ ℃で蒸発させた。マスを１Ｌ反応容器に移し、キシリトール結晶０．０５ｇで６ ０℃で種付けした。直線４１時間冷却プログラム（６０．５℃から３０℃へ）を 開始した。冷却後、マスの温度を約３℃上昇させ、そしてマスを遠心分離した。 マスのキシリトール純度は乾燥物質で６４．３％であった。結晶を４５００ｒｐ ｍで５分間の遠心（バスケット直径２２ｃｍ、メッシュ寸法０．１５ｍｍ）で分 離し、そして洗浄した。収量は乾燥結晶５４ｇであった。結晶のキシリトール純 度は乾燥物質基準について９３．３％であった。 実施例２１ キシリトールの結晶化 原材料は実施例１５ないし１８において記載したように製造したキシリトール であった。 キシリトール溶液を１２μｍの膜を通してろ過した。キシリトール（ＲＤＳ２ ０．９％、供給溶液）１８５ｇ（乾燥物質）を、ＲＤＳ含有量９２．２％に６０ ℃で蒸発させた。マスをＩＬ反応容器に移し、キシリトール結晶０．０５ｇで５ ６．５℃で種付けした。直線６９時間冷却プログラム（５７℃から３０℃へ）を 開始した。冷却後、マスの温度を約３℃上昇させ、そしてマスを遠心分離した。 マスのキシリトール純度は乾燥物質で５６．５％であった。結晶を４５００ｒｐ ｍで５分間の遠心（バスケット直径２２ｃｍ、メッシュ寸法０．１５ｍｍ）で分 離し、そして洗浄した。収量は乾燥結晶５５ｇであった。結晶のキシリトール純 度は乾燥物質基準について６８．０％であった。 実施例２２ キシロースの水素化 原材料は実施例１において記載されたように得、かつ慣用のイオン交換に供し たキシロース画分であった。 水素化を回分式オートクレーブ（Ｍｅｄｉｍｅｘ）中で、圧力が４０００ｋＰ ａ、温度が１００℃およびシロップの乾燥固形分含有量が４７．８重量％の 条件下で行った。触媒（ラネーニッケル、Ｃｈｅｍｃａｔ Ｊ １０ ＧＳ^TM） の量はシロップの乾燥物質について計算して、湿式触媒スラリーの１０％であっ た。反応時間は９０分であった。供給物および生成溶液のキシロースおよびキシ リトール含有量を表１１に表す。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成１０年６月１８日（１９９８．６．１８） 【補正内容】 請求の範囲 １． キシロースおよびキシロン酸を含有する材料からのキシリトールの製造方 法であって、キシロン酸をキシロースおよびキシロン酸を含有する材料から分 離し、ここでキシロースおよびキシロン酸を含有する材料はスルフィット蒸解 からの蒸解液であるかまたはその一部であり、その後分離したキシロン酸をキ シリトールに還元し、そしてキシリトールを回収することを特徴とする方法。 ２． キシロースをまたキシロースおよびキシロン酸を含有する材料から分離す るところのさらなる工程を含むことを特徴とする、請求項１記載の方法。 ３． 分離したキシロースをキシリトールに還元し、そしてキシリトールを回収 することを特徴とする、請求項２記載の方法。 ４． 分離したキシロースを結晶化および回収し、そしてキシロン酸をできる限 りキシリトールに還元することを特徴とする、請求項２記載の方法。 ５． キシロースおよびキシロン酸を含有する材料はマグネシウムスルフィット 蒸解からの蒸解液であることを特徴とする、請求項１ないし４のうちいずれか 一項記載の方法。 ６． キシロースおよびキシロン酸を含有する材料はカルシウムスルフィット蒸 解からの蒸解液であることを特徴とする、請求項１ないし４のうちいずれか一 項記載の方法。 ７． 分離をクロマトグラフィーで、抽出、結晶化またはイオン交換によって行 うことを特徴とする、請求項１ないし６のうちいずれか一項記載の方法。 ８． 分離をクロマトグラフィーで行うことを特徴とする、請求項１ないし７の うちいずれか一項記載の方法。 ９． 分離を回分式処理または連続式処理として行うことを特徴とする、請求項 ８記載の方法。 １０． 以下の工程 ａ）マグネシウムスルフィット蒸解からの蒸解液を、マグネシウム形態にある 分離樹脂を使用することによってクロマトグラフィーし、キシロースに富ん だ画分、混合した画分およびマグネシウム形態にある残渣画分を得ること、 および ｂ）得られたキシロースに富んだ画分を、マグネシウムまたは一価金属の形態 にある分離樹脂を使用することによってクロマトグラフィーし、そしてキシ ロースに関して濃縮された画分を回収し、そして塩形態にありかつキシロン 酸に関して濃縮された画分を回収すること からなることを特徴とする、請求項９記載の方法。 １１． 工程ａ）において得られたマグネシウム形態にある残渣画分をマグネシ ウムスルフィット蒸解の蒸解酸の製造に戻すことを特徴とする、請求項１０記 載の方法。 １２． 工程ａ）およびｂ）における樹脂は強酸性カチオン交換樹脂であること を特徴とする、請求項１０または１１のいずれかに記載の方法。 １３． 工程ｂ）における樹脂は一価金属の形態にあることを特徴とする、請求 項１０ないし１２のうちいずれか一項記載の方法。 １４． 一価金属はナトリウムであることを特徴とする、請求項１３記載の方 法。 １５． 工程ａ）において得られたキシロース含有画分を工程ｂ）の前に軟化す るところのさらなる工程を含む、請求項１３または１４のいずれかに記載の方 法。 １６． 脱カチオン化をナトリウム形態にあるカチオン交換樹脂を使用すること によって行うことを特徴とする、請求項１５記載の方法。 １７． 軟化を水素形態にあるカチオン交換樹脂を使用することによって行うこ とを特徴とする、請求項１５記載の方法。 １８． 軟化において得られたキシロース含有画分のｐＨを約５．５に調節する ことを特徴とする、請求項１５ないし１７のうちいずれか一項記載の方法。 １９． ｐＨを水酸化ナトリウムで調節することを特徴とする、請求項１８記載 の方法。 ２０． 工程ｂ）において得られた塩形態にある残渣画分を水素形態にあるカチ オン交換体に通し、そして得られた酸を工程ｂ）の前に行う軟化において製造 されかつマグネシウム形態にあるカチオン交換樹脂の水素形態への再生のため に使用することを特徴とする、請求項１５記載の方法。 ２１． カチオン交換後に得られたナトリウム形態にある樹脂を酸で再生し、そ して得られたナトリウム塩を、水素形態に再生した軟化カラムをナトリウム形 態に変換するために使用することを特徴とする、請求項２０記載の方法。 ２２． 水素形態に再生した軟化カラムをナトリウム形態に変換することによっ て得られた酸を使用することを特徴とする、請求項２１記載の方法。 ２３． 軟化において使用したカチオン交換樹脂の再生において形成したマグネ シウム画分をマグネシウムスルフィット蒸解の蒸解酸の製造に戻すことを特徴 とする、請求項２０記載の方法。 ２４． 工程ｂ）における樹脂はマグネシウム形態にあることを特徴とする、請 求項１０ないし１２のうちいずれか一項記載の方法。 ２５． キシロースに富みかつ工程ａ）において得られた画分のｐＨを３．５な いし６．５に調節することを特徴とする、請求項２４記載の方法。 ２６． ｐＨを５．５に調節することを特徴とする、請求項２５記載の方法。 ２７． ｐＨをＭｇＯで調節することを特徴とする、請求項２５または２６のい ずれかに記載の方法。 ２８． 工程ｂ）において得られたマグネシウムキシロネートを結晶化すること を特徴とする、請求項１０または２４ないし２７のうちいずれか一項記載の方 法。 ２９． 分離を抽出によって行うことを特徴とする、請求項１ないし７のうちい ずれか一項記載の方法。 ３０． 抽出をエタノールで行うことを特徴とする、請求項２９記載の方法。 ３１． 分離をイオン交換によって行うことを特徴とする、請求項１ないし４の うちいずれか一項記載の方法。 ３２． 分離したキシロースを還元の前にキシロン酸に酸化することを特徴とす る、請求項１ないし３または５ないし３１のうちいずれか一項記載の方法。 ３３． 還元を触媒を使用して行うことを特徴とする、請求項１ないし３または ５ないし３２のうちいずれか一項記載の方法。 ３４． 触媒はＲｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、ラネー−ＮｉまたはＲｈであることを特徴と する、請求項３３記載の方法。 ３５． 触媒はＲｕであることを特徴とする、請求項３４記載の方法。 ３６． 還元を７０ないし１５０℃で行うことを特徴とする、請求項３３ないし ３５のうちいずれか一項記載の方法。 ３７． 還元を１００００ないし１３０００ｋＰａの圧力で行うことを特徴とす る、請求項３３ないし３６のうちいずれか一頂記載の方法。 ３８． キシロースの還元を５ないし７のｐＨで行い、またキシロン酸の還元を １．５ないし２．５のｐＨで行うことを特徴とする、請求項３３ないし３７の うちいずれか一項記載の方法。 ３９． 還元を金属水素化物試薬を使用することによって行うことを特徴とす る、請求項１ないし３または５ないし３２のうちいずれか一項記載の方法。 ４０． 金属水素化物試薬は水素化ホウ素ナトリウムであることを特徴とする、 請求項３９記載の方法。 ４１． キシリトールを還元の生成物溶液からクロマトグラフィーで分離するこ とを特徴とする、請求項１ないし３または５ないし４０のうちいずれか一項記 載の方法。 ４２． キシリトールを還元の生成物溶液から結晶化によって分離することを特 徴とする、請求項１ないし３または５ないし４０のうちいずれか一項記載の方 法。 用される触媒が不純物に大変敏感であるからである（Ｈａｒｋｏｎｅｎ，Ｍ．お よびＮｕｏｊｕａ，Ｐ．、Ｋｅｍｉａ−Ｋｅｍｉ、ｎｏ ３（１９８０）頁９８ −１００を見よ。）。 スルフィット蒸解液がキシロースのための原材料として使用されるとき、問題 は蒸解条件における変化である。該条件に依存して、木材のヘミセルロースは異 なる様式において溶解し、そして大量または少量のキシロースを生成する。少量 のキシロースのみが生成される蒸解条件において、有意な量のキシロン酸もまた 形成され得る。キシロースが精製される場合、そのような生成物中に見いだされ たキシロースをキシロン酸を含む液から、例えばクロマトグラフィーによって分 離することは困難である。溶液中に存在するキシロン酸は、キシロースの分離を より困難にし、そして従って、キシロースの結晶化収量における減少を引き起こ す。しかしながら、キシリトールのための原材料としてキシロン酸を使用するこ とができることが好ましい（ＷＯ９３／１９０３０、Ｖｕｏｒｉｎｅｎを見よ。 ）。スルフィット蒸解液からのキシロースの分離それ自体は、例えばＷＯ９４／ ２６３８０、Ｈｅｉｋｋｉｌａ等およびＷＯ９５／２９００２、Ｈｅｉｋｋｉｌ a等から既知である。 本発明は、キシロースおよびキシロン酸を含有する材料からのキシリトールの 製造方法に関する。該方法は、キシロン酸をキシロースおよびキシロン酸を含有 する材料から分離し、その後分離したキシロン酸を還元することを特徴とする。 本発明の好ましい態様において、キシロースはまた分離される。キシロースおよ びキシロン酸は好ましくは、クロマトグラフィーで、抽出、イオン交換または結 晶化によって分離される。 キシロースおよびキシロン酸を含有する材料は、好ましくはスルフィット蒸解 の蒸解液、例えばマグネシウムスルフィット蒸解の蒸解液である。クロマトグラ フィーでのマグネシウム蒸解液からの最適な方法におけるキシロースの製造は、 マグネシウムを除くほとんどの他のカチオンがセルロース製造における化学循環 に戻されることができないという事実のために制限される。該処理において使用 されるクロマトグラフィー樹脂は、好ましくはマグネシウムイオン形態（Ｍｇイ オン分離）にあり、その場合には分離処理から戻されるアニオンはマグネシウム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，Ｆ Ｉ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ， ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，Ｍ Ｘ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ， ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ (72)発明者 チリ マッチ フィンランド国 エフアイエヌ―02460 カントビク リスチカッリオンチエ 19 (72)発明者 ニカンデル ハンネル フィンランド国 エフアイエヌ―02760 エスポオ アラカッリオンチエ ２ エフ 18 (72)発明者 ニグレン ヨハンナ フィンランド国 エフアイエヌ―08700 ビルッカラ バッラアンチエ 21 ディー 27 (72)発明者 リンドロス ミルジャ フィンランド国 エフアイエヌ―02400 キルッコヌッミ ポーヨイスピハ ８ (72)発明者 エロマ オッリ―ペッカ フィンランド国 エフアイエヌ―48100 コトカ メリカツ ８

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． キシロースおよびキシロン酸を含有する材料からのキシリトールの製造方 法であって、キシロン酸をキシロースおよびキシロン酸を含有する材料から分 離し、その後分離したキシロン酸をキシリトールに還元し、そしてキシリトー ルを回収することを特徴とする方法。 ２． キシロースをまたキシロースおよびキシロン酸を含有する材料から分離す るところのさらなる工程を含むことを特徴とする、請求項１記載の方法。 ３． 分離したキシロースをキシリトールに還元し、そしてキシリトールを回収 することを特徴とする、請求項２記載の方法。 ４． 分離したキシロースを結晶化および回収し、そしてキシロン酸をできる限 りキシリトールに還元することを特徴とする、請求項２記載の方法。 ５． キシロースおよびキシロン酸を含有する材料はスルフィット蒸解からの蒸 解液またはその一部であることを特徴とする、請求項１ないし４のうちいずれ か一項記載の方法。 ６． キシロースおよびキシロン酸を含有する材料はマグネシウムスルフィット 蒸解からの蒸解液であることを特徴とする、請求項５記載の方法。 ７． キシロースおよびキシロン酸を含有する材料はカルシウムスルフィット蒸 解からの蒸解液であることを特徴とする、請求項５記載の方法。 ８． 分離をクロマトグラフィーで、抽出、結晶化またはイオン交換によって行 うことを特徴とする、請求項１ないし７のうちいずれか一項記載の方法。 ９． 分離をクロマトグラフィーで行うことを特徴とする、請求項１ないし８の うちいずれか一項記載の方法。 １０． 分離を回分式処理または連続式処理として行うことを特徴とする、請求 項９記載の方法。 １１． 以下の工程 ａ）マグネシウムスルフィット蒸解からの蒸解液を、マグネシウム形態にある 分離樹脂を使用することによってクロマトグラフィーし、キシロースに富ん だ画分、混合した画分およびマグネシウム形態にある残渣画分を得ること、 および ｂ）得られたキシロースに富んだ画分を、マグネシウムまたは一価金属の形態 にある分離樹脂を使用することによってクロマトグラフィーし、そしてキシ ロースに関して濃縮された画分を回収し、そして塩形態にありかつキシロン 酸に関して濃縮された画分を回収すること からなることを特徴とする、請求項１０記載の方法。 １２． 工程ａ）において得られたマグネシウム形態にある残渣画分をマグネシ ウムスルフィット蒸解の蒸解酸の製造に戻すことを特徴とする、請求項１１記 載の方法。 １３． 工程ａ）およびｂ）における樹脂は強酸性カチオン交換樹脂であること を特徴とする、請求項１１または１２のいずれかに記載の方法。 １４． 工程ｂ）における樹脂は一価金属の形態にあることを特徴とする、請求 項１１ないし１３のうちいずれか一項記載の方法。 １５． 一価金属はナトリウムであることを特徴とする、請求項１４記載の方 法。 １６． 工程ａ）において得られたキシロース含有画分を工程ｂ）の前に軟化す るところのさらなる工程を含む、請求項１４または１５のいずれかに記載の方 法。 １７． 脱カチオン化をナトリウム形態にあるカチオン交換樹脂を使用すること によって行うことを特徴とする、請求項１６記載の方法。 １８． 軟化を水素形態にあるカチオン交換樹脂を使用することによって行うこ とを特徴とする、請求項１６記載の方法。 １９． 軟化において得られたキシロース含有画分のｐＨを約５．５に調節する ことを特徴とする、請求項１６ないし１８のうちいずれか一項記載の方法。 ２０． ｐＨを水酸化ナトリウムで調節することを特徴とする、請求項１９記載 の方法。 ２１． 工程ｂ）において得られた塩形態にある残渣画分を水素形態にあるカチ オン交換体に通し、そして得られた酸を工程ｂ）の前に行う軟化において製造 されかつマグネシウム形態にあるカチオン交換樹脂の水素形態への再生のため に使用することを特徴とする、請求項１６記載の方法。 ２２． カチオン交換後に得られたナトリウム形態にある樹脂を酸で再生し、そ して得られたナトリウム塩を、水素形態に再生した軟化カラムをナトリウム形 態に変換するために使用することを特徴とする、請求項２１記載の方法。 ２３． 水素形態に再生した軟化カラムをナトリウム形態に変換することによっ て得られた酸を使用することを特徴とする、請求項２２記載の方法。 ２４． 軟化において使用したカチオン交換樹脂の再生において形成したマグネ シウム画分をマグネシウムスルフィット蒸解の蒸解酸の製造に戻すことを特徴 とする、請求項２１記載の方法。 ２５． 工程ｂ）における樹脂はマグネシウム形態にあることを特徴とする、請 求項１１ないし１３のうちいずれか一項記載の方法。 ２６． キシロースに富みかつ工程ａ）において得られた画分のｐＨを３．５な いし６．５に調節することを特徴とする、請求項２５記載の方法。 ２７． ｐＨを５．５に調節することを特徴とする、請求項２６記載の方法。 ２８． ｐＨをＭｇＯで調節することを特徴とする、請求項２６または２７のい ずれかに記載の方法。 ２９． 工程ｂ）において得られたマグネシウムキシロネートを結晶化すること を特徴とする、請求頂１１または２５ないし２８のうちいずれか一項記載の方 法。 ３０． 分離を抽出によって行うことを特徴とする、請求項１ないし８のうちい ずれか一項記載の方法。 ３１． 抽出をエタノールで行うことを特徴とする、請求項３０記載の方法。 ３２． 分離をイオン交換によって行うことを特徴とする、請求項１ないし５の うちいずれか一項記載の方法。 ３３． 分離したキシロースを還元の前にキシロン酸に酸化することを特徴とす る、請求項２、３または５ないし３２のうちいずれか一項記載の方法。 ３４． 還元を触媒を使用して行うことを特徴とする、請求項１ないし３または ５ないし３３のうちいずれか一項記載の方法。 ３５． 触媒はＲｕ、Ｐｄ、Ｐｔラネー−ＮｉまたはＲｈであることを特徴と する、請求項３４記載の方法。 ３６． 触媒はＲｕであることを特徴とする、請求項３５記載の方法。 ３７． 還元を７０ないし１５０℃で行うことを特徴とする、請求項３４ないし ３６のうちいずれか一項記載の方法。 ３８． 還元を１００００ないし１３０００ｋＰａの圧力で行うことを特徴とす る、請求項３４ないし３７のうちいずれか一項記載の方法。 ３９． キシロースの還元を５ないし７のｐＨで行い、またキシロン酸の還元を １．５ないし２．５のｐＨで行うことを特徴とする、請求項３４ないし３８の うちいずれか一項記載の方法。 ４０． 還元を金属水素化物試薬を使用することによって行うことを特徴とす る、請求項１ないし３または５ないし３３のうちいずれか一項記載の方法。 ４１． 金属水素化物試薬は水素化ホウ素ナトリウムであることを特徴とする、 請求項４０記載の方法。 ４２． キシリトールを還元の生成物溶液からクロマトグラフィーで分離するこ とを特徴とする、請求項１ないし３または５ないし４１のうちいずれか一項記 載の方法。 ４３． キシリトールを還元の生成物溶液から結晶化によって分離することを特 徴とする、請求項１ないし３または５ないし４１のうちいずれか一項記載の方 法。