JP2000507686A

JP2000507686A - 空間に空気を供給するための装置

Info

Publication number: JP2000507686A
Application number: JP9535184A
Authority: JP
Inventors: バーティル、ラーソン
Original assignee: アーベーベー、フレークト、アクチエボラーグ
Priority date: 1996-04-01
Filing date: 1997-03-20
Publication date: 2000-06-20
Also published as: SE9601280D0; AU2415497A; NO307274B1; SE9601280L; WO1997037173A1; US6080060A; NO984573L; SE508807C2; NO984573D0; EP0891521A1

Abstract

(57)【要約】空間、好ましくは異なる雰囲気が要求される領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）に分けられたクリーンルームに空気を供給するための装置が、複数の領域に分配されそこから空気が種々の領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）へ供給される圧力室（５）に空気を供給するための第１空気処理ユニット（１１）を備えている。装置は、圧力室（５）と第２空気処理ユニット（１７）と連通する少なくとも１つの混合空間（１４）を有する。混合空間は、第１空気処理ユニット（１７）と第２空気処理ユニット（１７）からの空気を混合するようになっている。混合空間は、領域のうちの少なくとも１つ（Ｂ）に混合空気を供給するために該領域（Ｂ）と連通している。

Description

【発明の詳細な説明】空間に空気を供給するための装置導入本発明は、空間、好ましくはクリーンルームに空気を供給するための装置に関している。クリーンルームは、異なる雰囲気が要求される領域に分けられている。装置は、第１空気処理ユニットを有しており、そこから空気が圧力室に供給される。圧力室は複数の領域に分配されており、そこから空気が種々の領域へ供給される。本発明は、複数の領域を有するクリーンルーム内での使用に特に適している。各領域内では、大変に高い雰囲気上の要求が、温度や湿度の点で設定される。先行技術クリーンルームは、例えば電子部品の製造や外科手術室と関連しており、より幅広く使用されている。例えば半導体を製造する際には、周囲の清浄度、温度および湿度に関する異なる雰囲気上の条件が、製造工程の異なる段階でしばしば要求される。製造が行われるクリーンルームは、従って異なる雰囲気が要求される領域に分けられている。領域は、壁やスクリーンによって互いに分離され得る。各領域の雰囲気は、それぞれの領域内に供給される空気の汚染レベル、温度および湿度を制限値内に保つことによって制御される。米国特許出願４，５４９，４７２号明細書（ＵＳ４，５４９，４７２）は、清浄度、温度および湿度に関する異なる条件を要求する複数の領域に分けられたクリーンルームの換気のための装置を開示している。各領域は、クリーンルーム内に配設されたパーティションによって互いに区画されている。クリーンルームの上方には、領域によって分配された混合室が配置され、その上方に共通空気供給室が配置されている。クリーンルームの下方には、領域によって分配される戻り室が配置されている。戻り室は戻り管を介して混合室と連通している。戻り室はまた、空気処理ユニットを介して、空気供給室と連通している。混合室内では、特有の雰囲気上の要件を有する各領域の上方において、換気装置が配置されている。換気装置は、ファン室と、分配室と、いわゆるＨＥＰＡ（高効率微粒子空気）フィルタを有するフィルタ容器とを備えている。ファン室は、混合室と空気供給室とをそれぞれ連通することが可能な２つのダンパ付き入口を有している。クリーンルーム内の雰囲気は以下のように制御される。外界の空気と戻り室から再循環される空気の一部とが、空気処理ユニットに供給される。そこで空気は、所定の温度と湿度とを与えられる。空気処理ユニットに関連して、第１の空気の濾過も行われる。このように処理された供給空気は、空気供給室に供給される。再循環される空気の他の部分は、戻り室から混合室へ案内される。換気装置の入口のダンパを制御することによって、各領域に供給される空気内における、再循環空気に対する供給空気の混合比を制御することが可能である。高い程度の清浄度を要求するけれど温度や湿度については要求のない領域は、再循環空気だけが供給される。それは実際に、最初に換気装置を通過する時にすでにＨＥＰＡフィルタを通過して濾過されている。温度と湿度に関する要求のみ有する領域は、空気処理ユニットからの供給空気のみが供給される。ある程度の清浄度とある程度の温度および湿度との両方を要求する領域は、供給空気と再循環空気とが混合されて供給される。課題前述の公知のプラントは、領域に分けられたクリーンルームに空気を供給する際にいくつかの障害を伴う。第１に、このプラントは多くの構成部品と装置を有する複雑な構成である。例えば、各領域は換気装置を有していなければならず、その換気装置は、ＨＥＰＡフィルタに加えて、中でもファンと、２つのダンパと、ファン室と、分配室とを有している。その他、そのような各換気装置は、ファンと、ダンパとを制御するための制御装置を有していなければならない。この複雑な構成は、設置および利用が高価であるだけでなく、多くの空間を必要とし、利用の中断も生じやすい。後者の事由は、かなり大きな障害となる。なぜなら、例えば半導体の製造時や手術室内におけるクリーンルームプラントの動作の信頼性は、非常に大きいものでなければならないからである。前述のプラントのさらに重要な障害は、ことによると、互いに独立してそれぞれの領域の雰囲気を制御する可能性が制限されることである。先行技術のプラントは、単一の空気処理装置のみを有しており、それは全ての領域内の温度および湿度の要求を満足しなければならない。各領域は通常少なくともある量の外界の空気を供給されなければならないので、このことは、プラントの全体の供給空気の流れのために最も厳格な要求の領域に従って温度および湿度を制御することができるように空気処理ユニットが設置されなければならないことを意味する。従って、ある領域が例えば、温度が２０℃±０．１℃に維持され、相対湿度が５０％ＲＨ±１パーセント単位に維持されることを要求する場合、空気処理装置は、全ての領域への供給空気流をこれらの狭い制限内に維持するための冷却能力と湿らし能力とを有する必要がある。このことは、たとえ他の全ての領域内において温度が２２℃±１℃に維持され、相対湿度が５０％ＲＨ±５パーセント単位に維持されれば十分な場合にもあてはまる。すなわち空気処理ユニットは、実際の雰囲気上の要求に対してかなり過大な能力を有していなければならない。そのような過大な能力が不必要なコストの増大を引起こすことは言うまでもない。さらなる障害は、温度と湿度とを制御することが、前述のプラントでは比較的遅くなることである。換気装置のダンパの制御は、領域内の雰囲気の変化をある程度だけは補償することができる。もし急速な重要な変化が生じる場合、それらは、空気処理ユニットが別の温度あるいは湿度を有する供給空気のためにもたらされることによって補償されなければならない。そのような変化は、特に空気処理ユニットを通る流速が高い場合に、即座に実行されることはできず、ある程度の調整時間を要する。その変化は関係する領域から比較的かなり離れた位置にある空気処理ユニット内で行われるので、供給空気における雰囲気の補償が領域内で顕著になるまでにさらなる時間がかかる。このプラントは結果として、最近のクリーンルームプラントにおいて雰囲気に対して行われる高い誤差要求を満足するには、制御が遅すぎる。本発明の目的は、利用時における信頼性があり、異なる雰囲気が要求される複数の領域を有するクリーンルームの雰囲気の制御を比較的低い投資と利用コストで大変に急速かつ正確に行うことができる簡単な装置を提供することである。本発明の開示本発明は導入部分に記述されたタイプの装置において、圧力室と第２空気処理ユニットが圧力室と第２空気処理ユニットからの空気を混合するための少なくとも１つの混合空間と連通するとともに、当該混合空間が複数の領域のうちの少なくとも１つに混合空気を供給するために該領域と連通していることを特徴とする装置によって達成される。結果として、特有の雰囲気が要求される領域に混合空間を割当てることが可能である。標準の雰囲気が要求される領域は、圧力室からの空気のみが供給され、圧力室は順に第１空気処理ユニットから空気が供給される。第１空気処理ユニットは、処理される空気の加熱、冷却、除湿および加湿に関する穏やかな雰囲気上の要求のみを有する多量の空気流を供給するために設置され得る。繊細な領域の厳格な雰囲気上の要求は、その代わりに、第２空気処理ユニットからの少量かつ正確に制御された流れを混合することによって達成される。第２ユニットは、このように、かなり小量の流れの雰囲気を変えるだけの能力があればよい。結果的に、比較的小さくてあまり高価でないユニットが、第２空気処理ユニットとして十分に使用される。第２空気処理ユニットは、この空気処理ユニットから混合空間へ供給される空気の温度および／または湿度を制御するようになり得る。結果として、最も重要な雰囲気上のパラメータの制御が達成される。いくつかの領域の汚染レベルの制御に関しては、フィルタを通過した空気を各領域に供給することによって行われる。濾過の程度やその孔径は、それぞれの領域の汚染レベルの要求に適合される。第２空気処理ユニットは、導管を介して、１以上の混合空間と連通している。この場合、第２空気処理ユニットから混合空間へと供給される流れを制御するための手段が配置され得る。この場合、同一の第２空気処理ユニットが複数の繊細な領域内の雰囲気を制御するために使用され得る。第２ユニットからの流れを制御する手段は、たとえこれらの領域が異なる雰囲気上の要求を有している場合でも、これらの領域に供給することを可能にする。流れを制御するための手段は、好ましくは、それぞれの混合空間の導管の近隣に配置された遠隔操作のダンパを有し得る。それぞれの混合空間の導管は、好適には混合空間内にまで延びており、混合空間内に位置する部分に沿ってその周面および／または端面を通る複数の孔と共に形成され得る。第２空気処理ユニットからの空気は、導管内の多くの孔を通って混合空間内に供給され、従って圧力室から供給される空気との良好な混合が保証される。好適な実施例によると、圧力室は、少なくとも部分的に領域の上方に配置されている。混合空間はそれぞれの領域の上方の圧力室内に配置され、部分的に壁の助けによって圧力室に対して区画されている。混合空間はさらに、混合空間の下方境界面に配置されたフィルタを介してそれぞれの領域と連通している。この構成は、結果として大変簡単かつ柔軟性のある構成であり、混合空間は、存在するクリーンルーム屋根とクリーンルーム屋根の頂部に取付けられる４つの壁とによって簡単に区画され得る。クリーンルームのいくつかの領域が移動される場合も、これに対応して、取付けられた壁と選択的にクリーンルーム屋根に設けられたフィルタとを単に移動することによって混合空間を移動することが大変に容易である。混合空間は、孔あき部を有し得る。孔あき部は、圧力室に向かう壁を１つも有しない混合空間の１以上の側部に配置される。孔あき部は、圧力室から混合空間に流れる空気が全体の断面領域にわたって均一な速度特性を得ることを保証する。これは、結果として、圧力室からと第２空気処理ユニットからの空気の混合をさらに改良する。本発明の別の実施例は、１以上の混合空間が、少なくとも部分的にフィルタによって圧力室に対して、さらに孔あき部によってそれぞれの領域に対して区画されることを示している。これらの混合空間は、好適には、フィルタを支持するクリーンルーム屋根の下方でクリーンルーム内の領域を区画する壁の内側に配置されている。この時混合空間は、孔あき部によって領域に対して下方側を区画される。この選択的な実施例は、領域のための混合空間が、領域がクリーンルームで移動した時に自動的について行くという利益を与える。本発明による装置は、いくつかの領域に分配され通常は戻り室の形態の負圧室をさらに有し得る。これは、好ましくは、領域の床の下方に配置され、減圧手段を介して領域と連通している。負圧室はまた、装置内の空気の循環のために、第１および／または第２空気処理ユニットと連通している。このことは、少なくとも供給空気の一部を再利用することを可能にし、エネルギの節約となる。なぜなら、一般に再利用される空気は、クリーンルームに再循環される前にその温度をかなりの程度変えられるという必要がないからである。図面の説明本発明の３つの例示の実施例が、添付の図面を参照して以下に説明される。図１は、本発明による装置の一実施例の概略断面図である。図２は、本発明による装置の別の実施例の概略断面図である。図３は、本発明による装置のさらに別の実施例の概略断面図である。図１に示された装置は、クリーンルーム１を備えている。クリーンルーム１は、パーティション２によって３つの異なる領域Ａ，Ｂ，Ｃに分けられている。領域ＡおよびＣにおいては、汚染レベルを米国連邦政府標準２０９Ｅ（US Federal Standard 209E）によるクラス１０００以下に維持すること、温度を２０℃±１ ℃に維持することおよび相対湿度を５０％ＲＨ±５パーセント単位に維持することが必要である。領域Ｂは、きわめて繊細な半導体製造のための装置を収容することを意図されている。領域Bのための雰囲気上の要求は、従ってかなり厳重である。汚染レベルは、ここでは前述の標準によるクラス１以下に維持されることが必要であり、温度は１８℃である必要があり、±０．０５℃だけの変化が許容される。湿度に関しては、４５％ＲＨでなければならず、最大で±１パーセント単位の変化のみが許容される。クリーンルームは、クリーンルーム屋根３によって上方を区画されており、クリーンルーム屋根３には、それぞれの領域に供給される空気の濾過のためにＨＥＰＡフィルタ４ａ，４ｂ，４ｃが挿入されている。ＨＥＰＡフィルタ４ａ，４ｃは、それを通って空気が領域ＡおよびＣに供給されるが、０．１２μｍより大径の粒子に対して９９．９９５％の濾過効率を有している。一方、微細な領域Ｂの上方のフィルタ４ｂは、最大の貫通粒子径（ＭＰＰＳ）を有する粒子に対して９９．９９９９５％の濾過効率を有している。圧力室５は、クリーンルーム屋根３の上方に配置されている。クリーンルームは、クリーンルーム壁６によって側方がさらに区画され、クリーンルーム床８によって下方が戻り室７に対して区画されている。クリーンルーム床８は、様々の領域内の圧力を調整するためのダンパ９を有している。空気供給導管１０は、第１空気処理ユニット１１から圧力室５まで延びている。戻り室７からは、戻り導管１２が第１空気処理ユニット１１まで延びている。ユニット１１は、外界空気取入口１３を有している。第１空気処理ユニット１１は、循環ファン、プレフィルタ（フィルタ効率ＥＵ６）、空気の温度と空気の除湿を調整するための熱交換機および空気の加湿機１１ａを有している。異なる空気処理装置は、同一の装置内に配置される必要はなく、互いに離れて配置され得る。以上に記述した部分は、先行技術の範囲内のものである。圧力室では、特に厳格な雰囲気上の要求を有する領域Ｂの上方に、混合空間１４が配置される。混合空間１４は、領域Ｂに対して、挿入されたＨＥＰＡフィルタ４ｂを有するクリーンルーム屋根３によって下方を区画されている。混合空間１４は、平坦な金属シートやアルミニウムパネルなどの４つの本質的に垂直な壁１５ａ，１５ｂ，１５ｃによって圧力室５に対して区画されている。壁１５ａ，１５ｂ，１５ｃは、混合空間１４が少なくともフィルタ４ｂと同じ表面積を有する長方形状の底面を得るように配置される。フィルタ４ｂを通って、空気は領域Ｂに供給される。空気供給導管１６ａ，１６ｂは、混合空間１４内で開口している。空気供給導管１６ａ，１６ｂは、混合空間１４の壁の１つ１５ｃを貫いて延びており、導管の一部１６ａは、さらに混合空間１４内に本質的に水平に延びている。その部分１６ａは、少なくとも通過した壁１５ｃと対向する壁１５ａとの間の距離の３分の２に対応する距離だけ混合空間１４内に延びている。混合空間１４内に配置される空気供給導管部１６ａは管状部を有しており、管状部外周面には、その長さの本質的部分にわたって、比較的小さい複数の貫通孔の形態の孔部が設けられている。空気供給導管の他の部分１６ｂは、第２空気処理ユニット１７に接続されている。この空気処理ユニットは、順に導管１８によって戻り室７に接続され、選択的に外界空気導管１９によって外界空気取入口（図示せず）に接続されている。第２空気処理ユニット１７は、導管１６ａ，１６ｂを通って混合空間内に供給される空気の濾過と温度および湿度の正確な制御のための装置を有する。制御バルブ２０が、導管１６ｂに、導管１６ａ，１６ｂを通って混合空間１４に供給される空気流を制御するために配置される。混合空間１４の上方部分の、空気供給導管１６ａの上方に、孔あき部２１が形成されている。孔あき部２１は貫通孔が設けられた金属シートからなり、混合空間１４の全体の断面領域にわたって本質的に水平に延びており、混合空間の４つの壁１５ａ，１５ｂ，１５ｃに当接している。以下に、前述の装置がクリーンルーム１の雰囲気を制御するためにどのように使用されるのかを記述する。第１空気処理ユニットは、導管１３を介しての外界空気と導管１２を介しての再循環空気とが供給される。この第１空気処理ユニット１１内で外界空気と再循環空気とが混合される。その空気は、比較的繊細でない領域ＡおよびＣにおける雰囲気上の要求と一致するように、濾過され、温度および湿度が与えられる。図示の実施例では、空気は２０℃まで加熱または冷却され、空気の除湿または加湿によって相対湿度は５０％ＲＨに調整される。このように処理された空気は、空気処理ユニット１１内の循環ファンによって、導管１０を介して、圧力室いわゆるプリナム室５に供給される。圧力室５からは、空気がＨＥＰＡフィルタ４ａおよび４ｂを通って比較的繊細でない領域ＡおよびＣに流れる。ＨＥＰＡフィルタを通過するとき、最後の汚染制御が行われ、０．１２ μｍ以上の直径を有する粒子の９９．９９５％以上が分離される。フィルタ４ａ，４ｃを介して領域Ａ，Ｃに供給される空気は、比較的均一かつ層流状の流れパターンを有し、領域内で生じる汚染物質は、下方への空気流に伴って、領域からダンパ９を通ってクリーンルーム床８内へ移動する。比較的繊細でない領域ＡおよびＣ内で達成されるべき雰囲気上の要求のために、これらの領域内の温度および湿度は連続的に計測される。温度や相対湿度が許容できる量である±１℃および±５パーセント単位をそれぞれ超える場合は、第１空気処理ユニット１１によって、対応する値にまで導管１０を通って供給される空気の温度および湿度を変えることによって補償がなされる。より繊細な領域Ｂは、異なる方法で空気が供給される。クリーンルーム床のダンパ９を調整することによって、第１および第２空気処理ユニット１１，１７から供給される空気流に依存して、圧力室５、混合空間１４、領域Ａ，Ｂ，Ｃおよび戻り室７の所定の圧力比が維持される。領域Ｂに関しては、この圧力比が、圧力室内の圧力が最大になるようになっており、混合空間内、領域Ｂ内および戻り室内において下方に低下するようになっている。圧力室５からの空気は、圧力室５において優勢なより高い圧力のために、孔あき部２１を通って混合空間１４に流れる。混合空間１４は、孔をあけられた管状部１６ａを有する導管１６ｂを介して、第２空気処理ユニット１４から空気を供給される。この空気は、管状部１６ａの周表面における多数の小さな開口を通って混合空間１４に供給される。第２空気処理ユニットからの空気の供給は、鋭い噴射に分けられ、それにより混合空間１４内の圧力室５からの空気との良好な混合を確実にする。孔あき部２１は、孔あき部を流れる空気が全体の断面領域にわたって均一な速度特性を得ることによっても、良好な混合に貢献する。このように良好に混合された空気は、ＨＥＰＡフィルタ４ｂを通って繊細な領域Ｂに流れる。領域Ｂに供給された空気は、領域ＡおよびＣと同様に、均一かつ本質的に層流状の流れパターンを得る。選択的に、第２の孔あき部（図示せず）が、中断されない下方に向けられた繊細な領域を通る空気の流れをさらに改良するために、ＨＥＰＡフィルタの下方に配置され得る。空気流が領域Ｂを通って流れ下りると、その空気流はダンパ９を通って戻り室７に達し、そこで他の２つの領域ＡおよびＢからの空気と混合される。図示の実施例では、繊細な領域Ｂの温度は１８℃、±０．０５℃で、すなわち他の２つの領域Ａ，Ｃより低くあるべきである。第２空気処理ユニット１７から混合空間１４へ供給される空気は、従って第１空気処理ユニット１１から圧力室５を介して供給される空気より低い温度で与えられる。２つの流れの間の温度差は、これらの流れの規模と、例えば生産機械や光付属品などとの熱交換のために領域内で生じる空気の加熱または冷却の程度と、に依存する。領域Ｂ内の相対湿度に関しては、これはこの例では４５％ＲＨ、±１パーセント単位であるべきである。第２空気処理ユニット１７から混合空間１４に供給される空気は、従って第１ユニット１１から供給される空気より乾燥しているべきである。相対湿度の実際上の差は、温度の差に類似して、２つの流れの規模と領域内の相対湿度に対する環境の影響とに依存する。２つの比較的繊細でない領域ＡおよびＣと同様に、空気の温度と湿度とは領域Ｂ内で連続的に計測される。この計測は、好ましくは領域の最下部で行われる。温度あるいは相対湿度が所与の限界値、例えばそれぞれ±０．０２℃と±０．５パーセント単位、を超えて変化するとすぐに、修正信号が制御ユニット（図示せず）に与えられる。領域Ｂ内の雰囲気は、その時、２つの異なる方法によって修正され得る。一方の方法によれば、制御ユニットは流れの修正を計算して、制御バルブ２０に流れ修正信号を与える。制御バルブ２０の調節点を変更することによって、第２空気処理ユニット１７から供給される空気流が変化する。もし、例えば領域Ｂ内の温度と相対湿度とが増大するなら、制御バルブ２０により導管１６ｂを通る流れを増大させ、より冷たく乾燥した空気をより多量に混合空間１４に加えることによって、これは補償される。もし、逆に領域Ｂ内の温度と相対湿度とが限界値より下がったなら、制御バルブにより第２空気処理ユニット１７からの流れが絞られて、混合空間１４内の混合空気はより高い温度と相対湿度とを得る。領域Ｂ内の雰囲気を修正する他の方法によれば、制御ユニットは第２空気処理ユニット１７に修正信号を与える。結果として、第２空気処理ユニット１７は、導管１６ａ、１６ｂを介して混合空間１４に供給される空気流の温度および／または相対湿度を直接的に変化させられ得る。この制御方法は、温度と相対湿度の偏差を互いに独立に補償することにより大きな可能性を与える。もちろん、領域Ｂ内の雰囲気の変化を修正するこの２つの方法を組合わせることも可能である。２つの修正方法に共通していることは、第１空気処理ユニット１１が中断されないで作動し、このユニット１１から供給される多量の空気流の温度と湿度とを修正する必要がないことである。第１空気処理ユニット１１は、従って、このユニットが単独で繊細な領域Ｂ内の雰囲気を制御可能にする場合に比べて、かなり簡単かつ比較的安価に作成され得る。第２空気処理ユニット１７は、少量の流れだけを供給すればよい。そのことは、このユニットを小さく、すなわち比較的安価に作成する可能性を与える。第２空気処理ユニットからの流れが比較的小規模であることは、高すぎるユニットの能カコストなしで、温度および湿度を大変急速に変化させることを可能にする。修正が導管１６ａ，１６ｂを通る流れを制御することによって行われる場合、領域B内の補償はほとんど瞬時に行われる。図２を参照して、本発明による装置の別の実施例が以下に説明される。図２に示す装置は、前述の実施例と同様、異なる領域Ａ，Ｂ，Ｃに分けられたクリーンルーム１を有している。領域ＡとＢは、領域の温度と湿度の変化が許容される許容量に関して、領域Ｃよりも高い要求を有している。圧力室５は、ＨＥＰＡフィルタ４ａ，４ｂ，４ｃを有するクリーンルーム屋根２の上方に配置されており、戻り室７がダンパ９を有するクリーンルーム床８の下方に配置されている。第１空気処理ユニット１１は、吸引側において、戻り室７と外界空気取入口とに接続されている。圧力側においては、第１空気処理ユニット１１は、領域Ａ，Ｂ，Ｃによって分配される圧力室５に接続されている。第２空気処理ユニット１７は、その吸引側において戻り室７と連通し、選択的に外界空気取入口（図示せず）と連通している。クリーンルーム屋根の下方では、より繊細な領域ＡおよびＢが、各々混合空間１４を有している。混合空間は、それぞれフィルタ４ａ，４ｂを有するクリーンルーム屋根３によって、圧力室５に対して上方を区画されている。混合空間１４は、それぞれの領域のパーティション２と外部壁６とによって、側方を区画されている。選択的に、独自の混合空間壁（図示せず）がクリーンルーム屋根から吊り下げられて配置され得て、より小さい断面積を有する混合空間１４がそれぞれのフィルタ４ａ，４ｂの下方に形成される。２つの混合空間１４は、孔あき部２２によって領域の下方部分に対して下方を各々区画されている。２つの混合空間１４内では、孔が形成された管状部１６ａが、空間１４を通って水平にかなりの距離にわたって延びている。孔が形成された管状部１６ａは、導管１６ｂと制御バルブ２０を介して各々第２空気処理ユニット１７と連通している。図２に示す実施例の作用は、前述の作用と同様である。後者の実施例においては、制御バルブ２０の使用が、より繊細な領域ＡおよびＢにおける許容できる限界値に加えて、雰囲気上の種々の変化を補償するために、より広い程度になされる。修正のために制御バルブ２０を使用することによって、２つのより繊細な領域ＡおよびＢにおける雰囲気上の補正を互いに独立に行うことが可能である。図２に示す実施例は、クリーンルーム上方の圧力室５の絶対高さが限定されているような現存するクリーンルームプラントに設置するのに特に好適である。図３に示す実施例は、分離ユニット２３内に配置された繊細な領域Ｂについて他の２つとは異なっている。それは、比較的繊細でない領域Ａ内に設置されている。領域Ａは、例えば普通室からなり得る。本実施例の利点は、ユニット２３が、通常のクリーンルームの要求を満足しないような空間にも容易に設置され得ることである。実際に、このユニットは、研究室、組立工場および事務所など全く普通の空間内に設置され得る。空間Ａは、フィルタを有する圧力室５を介して第１空気処理ユニット１１から空気を供給される。圧力室５は必ずしも図のように構成される必要はなく、例えば換気ダクトで構成されてもよい。圧力室はまた、フィルタを有している必要もない。圧力室が普通室に空気を供給するための換気ダクトである場合、空間内のダクトの口のところの空気供給手段または分配手段が、主としてフィルタに相当する。領域Ｂは、壁２と、ＨＥＰＡフィルタ２５を有する分離クリーンルーム屋根２４とによって、空間Ａから区画されている。分離クリーンルーム屋根２４の上方に、ファン２６が繊細な領域Ｂを通る空気の循環のために配置されている。ファン２６の上方には、下方孔あき部２７が配置されている。下方孔あき部２７は、混合空間１４の下方の境界を定める。混合空間は、さらに４つの壁１５ａ，１５ｂ、１５ｃと上方孔あき部２８とによって、空間Ａに対して区画されている。孔あき外周面を有する空気供給導管１６ａが混合空間１４内に配置されている。空気供給導管１６ａは、導管１６ｂとバルブ２０とを介して第２空気処理ユニット１７に接続されている。繊細な領域Ｂの下方部分には、ダンパ９が、空気を供給するとともに領域内の圧力を制御するために配置されている。前述のように、これらのダンパは、領域Ｂと戻り室７との間のクリーンルーム床８に配置され得る。領域ＢとＡとの間の壁２にダンパ９を配置することも可能である。領域Ｂからの排気空気は、周囲の空間Ａに排出される。床と壁との両方にダンパを組合わせて設けることも可能である。図３の実施例による装置の作用は、第１空気処理ユニット１１からの空気が圧力室５から直接的に混合空間１４に供給されないで、まず領域Ｂの周囲の空間Ａに供給される点で、先に図示された実施例と異っている。領域Ｂを通る必要な空気の循環を達成するために、ファン２６は、混合空間１４から空気を吸引してその空気をＨＥＰＡフィルタ２５を通して領域Bに吹き送るように作動される。もちろん、本発明は前述の例示の実施例には限定されないで、添付の請求の範囲の範囲内で変更され得る。例えば、装置はいくつかの異なる空気処理ユニットを有し得る。特に厳格な雰囲気上の要求を有する各領域の上方の混合空間は、好適には、それ自身の第２空気処理ユニットに接続されている。この構成は、各々の繊細な領域の大変に正確な制御を可能にする。各繊細な領域に供給される空気の状態は、圧力室からの空気の量のそれぞれの第２空気処理ユニットからの空気の量に対する混合比を変えることと、それぞれの第２ユニットから供給される空気の状態を変えることとの両方によって制御され得る。第１空気処理ユニットも第２空気処理ユニットも、再循環空気を供給される必要はなく、外界空気のみ、あるいは他からの空気が供給され得る。その時、再循環空気室は排気空気出口に取替えられ得る。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】１９９８年４月１６日（１９９８．４．１６）【補正内容】請求の範囲１．空間、好ましくは異なる雰囲気が要求される領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）に分けられたクリーンルームに空気を供給するため、複数の領域に分配されそこから空気が種々の領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）及び混合空間へ供給される圧力室（５）に空気を供給する第１空気処理ユニット（１１）を備えた装置において、圧力室と第２空気処理ユニット（１７）が圧力室と第２空気処理ユニットからの空気を混合するための少なくとも１つの混合空間（１４）と連通し、混合空間は、領域のうちの少なくとも１つ（Ｂ）に混合空気を供給するために該領域（Ｂ）と連通し、第２空気処理ユニットは、独自の導管（１６ａ，１６ｂ）を介して、１以上の混合空間と連通し、手段（２０）が第２空気処理ユニットから混合空間へ供給される流れを制御するようになっており、それぞれの混合空間の導管は、それ自体あるいはその空気分配延長部が、混合空間内に延びて、導管の周面および／または端面に複数の開口が形成されており、開口を通って第２空気処理装置から混合空間に空気が供給されることを特徴とする装置。２．第２空気処理ユニット（１７）は、この空気処理ユニットから混合空間（１４）へ供給される空気の温度および／または相対湿度を制御するようになっていることを特徴とする請求項１に記載の装置。３．流れを制御するための手段は、好ましくは、それぞれの混合空間（１４）の導管（１６ａ，１６ｂ）の内部または近隣に配置された遠隔操作のダンパ（２０）を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。４．圧力室（５）は、少なくとも部分的に領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）の上方に配置され、混合空間（１４）はそれぞれの領域（Ｂ）の上方の圧力室（５）内に配置され、部分的に壁（１５ａ，１５ｂ，１５ｃ）によって圧力室に対して区画され、混合空間（１４）は、混合空間の下方境界面に配置されたフィルタ（４ｂ）を介してそれぞれの領域（Ｂ）と連通していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の装置。５．１以上の孔あき部（２１）が、圧力室（５）に向かう壁を１つも有しない混合空間（１４）の１以上の側部に配置されていることを特徴とする請求項４に記載の装置。６．１以上の混合空間（１４）が、少なくとも部分的にフィルタ（４ｂ）によって圧力室（５）に対して、孔あき部（２２）によってそれぞれの領域（Ｂ）に対して、区画されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の装置。７．いくつかの領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）に分配され、好ましくは領域の床（８）の下方に配置され、減圧手段（９）を介して領域と連通している吸引室（７）を有するとともに、前記吸引室（７）はまた、装置内の空気の循環のために、第１空気処理ユニット（１７）および第２空気処理ユニット（１７）と連通していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ

Claims

【特許請求の範囲】１．空間、好ましくは異なる雰囲気が要求される領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）に分けられたクリーンルームに空気を供給するため、複数の領域に分配されそこから空気が種々の領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）及び混合空間へ供給される圧力室（５）に空気を供給する第１空気処理ユニット（１１）を備えた装置において、圧力室（５）と第２空気処理ユニット（１７）が圧力室（５）と第２空気処理ユニット（１７）からの空気を混合するための少なくとも１つの混合空間（１４）と連通するとともに、混合空間（１４）が領域のうちの少なくとも１つ（Ｂ）に混合空気を供給するために該領域（Ｂ）と連通していることを特徴とする装置。２．第２空気処理ユニット（１７）は、この空気処理ユニットから混合空間（１４）へ供給される空気の温度および／または相対湿度を制御するようになっていることを特徴とする請求項１に記載の装置。３．第２空気処理ユニット（１７）は、導管（１６ａ，１６ｂ）を介して、１以上の混合空間（１４）と連通するとともに、手段（２０）が第２空気処理ユニット（１７）から混合空間（１４）へ供給される流れを制御するようになっていることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。４．流れを制御するための手段は、好ましくは、それぞれの混合空間（１４）の導管（１６ａ，１６ｂ）の近隣に配置された遠隔操作のダンパ（２０）を有することを特徴とする請求項３に記載の装置。５．それぞれの混合空間（１４）の導管（１６ａ，１６ｂ）は、混合空間内に延び、導管の周面および／または端面に複数の孔が形成されており、孔を通って第２空気処理装置（１７）から混合空間に空気が供給されることを特徴とする請求項３または４に記載の装置。６．圧力室（５）は、少なくとも部分的に領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）の上方に配置され、混合空間（１４）はそれぞれの領域（Ｂ）の上方の圧力室（５）内に配置され、部分的に壁（１５ａ，１５ｂ，１５ｃ）によって圧力室に対して区画され、混合空間（１４）は、混合空間の下方境界面に配置されたフィルタ（４ｂ）を介してそれぞれの領域（Ｂ）と連通していることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の装置。７．１以上の孔あき部（２１）が、圧力室（５）に向かう壁を１つも有しない混合空間（１４）の１以上の側部に配置されていることを特徴とする請求項６に記載の装置。８．１以上の混合空間（１４）が、少なくとも部分的にフィルタ（４ｂ）によって圧力室（５）に対して、孔あき部（２２）によってそれぞれの領域（Ｂ）に対して、区画されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の装置。９．いくつかの領域（Ａ，Ｂ，Ｃ）に分配され、好ましくは領域の床（８）の下方に配置され、減圧手段（９）を介して領域と連通している圧力室（７）を有するとともに、前記圧力室（７）はまた、装置内の空気の循環のために、第１空気処理ユニット（１７）および第２空気処理ユニット（１７）と連通していることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の装置。