JP2000506879A - 新規な三環式化合物、それらの製造方法及びこの方法の中間体、それらの薬剤としての使用並びにそれらを含有する製薬組成物 - Google Patents

新規な三環式化合物、それらの製造方法及びこの方法の中間体、それらの薬剤としての使用並びにそれらを含有する製薬組成物

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Abstract

(57)【要約】 本発明の主題は、次式(I): (ここで、R1、R2、R3、R4、R5及びGは明細書に記載した通りであり、点線は存在しうる第二の結合を表す)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステル、それらの製造方法及びこの方法の中間体化合物、それらの薬剤としての用途並びにそれらを含有する製薬組成物にある。

Description

【発明の詳細な説明】 新規な三環式化合物、それらの製造方法及びこの方法の中間体、 それらの薬剤としての使用並びにそれらを含有する製薬組成物 本発明は、新規な三環式化合物、それらの製造方法及びこの方法の中間体、そ れらの薬剤としての使用並びにそれらを含有する製薬組成物に関する。 本発明の主題は、次の一般式(I): [ここで、 R1は次式: −C≡C−[A]−[B]−COR6、 −CH=CH−[A]−[B]−COR6、 −(CH22−[A]−[B]−COR6、 −O−[A]−[B]−COR6、 −CH2CO−[A]−[B]−COR6 {ここで、 −[A]−は ・1〜12個の炭素原子を含有し且つ酸素、窒素及び硫黄原子から選択される1 〜6個の複素原子を含有する飽和又は不飽和の線状又は分岐状の構造から誘導さ れる2価の炭化水素化基か、或いは ・1〜12個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の線状又は分岐状の非環式炭 化水素から誘導される2価の基 のいずれかを表し、 [B]はフェニル基、CH[Z]基又は単結合を表し、ここで、Zは水素原子 、下記の基: (D)0-6−NRaRb、(D)0-6−NH−SO2−Rc、 (D)0-6−NH−CO2−Rc、(D)0-6−NH−CO−Rc、 (D)0-6−NH−SO2−NH−Rc、(D)0-6−NH−CO−NH−Rc、 (D)0-6−CO2−Rc、(D)0-6−SO2−RC、(D)0-6−CO−Rc 又は(D)0-6−Rc (ここで、(D)0-6は0〜6個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の線状又 は分岐状の非環式炭化水素から誘導される2価の基であり、 Ra、Rb及びRcは水素原子、(CH20-3−Ar基(ここで、Arは6〜 18個の炭素原子を含有する炭素環式アリール基を表す)、(CH20-3−He t基(ここで、Hetは1〜9個の炭素原子を含有し且つ酸素、窒素及び硫黄原 子から選択される1〜5個の複素原子を含有する飽和又は不飽和の芳香族又は非 芳香族複素環から誘導される基を表す)、(CH20-3−Alk基(ここで、A lkは1〜12個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の線状、分岐状又は環状 の非芳香族炭化水素から誘導される基を表す)(Het、Ar及びAlkは非置 換でも又は置換されていてよい)を表し、 或いはRa及びRbはそれらが結合している窒素原子と共に飽和又は不飽和の 芳香族又は非芳香族窒素複素環(酸素、窒素及び硫黄原子から選択される1個以 上の複素原子を含有し得る。この基は置換又は非置換であってよい)を表す)の 一つを表し、 R6はヒドロキシル基、O−Alk、O−Ar、NH2、NH−Alk、N(A lk)2基又はL若しくはD−アミノ酸の残基(ここで、Alk及びArは上で 定義した通りであり、置換又は非置換であってよい)を表す} の基を表し、 R2及びR3は、同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシル 基、O−Alk基又はO−(CH20-3−Ar基(ここで、Alk及びArは上 で定義した通りである)を表すか、或いはR2及びR3は一緒になって−O−(C RdRe)n−型(ここで、nは1〜5にの整数であり、Rd及びReは互いに 独立して水素原子、1〜6個の炭素原子を含有するアルキル基又はフェニル基を 表す)の環を形成し、 R4は水素原子、ハロゲン原子、又は次の基:ヒドロキシル、アミノ、ニトロ 、シアノ、CF3、1〜12個の炭素原子を含有するアシル若しくはアシルオキ シ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルチオ、アルコキシ、アルキル アミノ、ジアルキルアミノ、ジアルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアル キルオキシ基(これらの基で、アルキル基は1〜6個の炭素原子を含有する)の 一つを表し、 R5は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、O−Alk基又はO−(C H20-3−Ar基(ここで、Alk及びArは上で定義した通りである)を表し 、 Gは ・次式G1: (ここで、Rhは水素原子又は前記のようなAlk基を表し、(Het’)は次 式: (ここで、(H)は、N=C−NH−単位と一緒になって1〜9個の炭素原子を 含有し且つ酸素、窒素及び硫黄原子から選択される2〜5個の複素原子を含有す る飽和又は不飽和の単環式又は二環式の芳香族又は非芳香族複素環の残基を形成 する。この基は置換又は非置換であってよい) の複素環である) の基か、又は ・−NRaRb基(基G2)(ここで、Ra及びRbは上で定義した通りである )か、又は ・前記のような(Het)基(基G3)か、又は ・−NRh−C(=X)−NHRc基(基G4)(ここで、Xは硫黄若しくは酸 素原子又はNHであり、Rh及びRcは上で定義した通りである)か、又は ・−NRh−SO2Rc基(基G5)(ここで、Rh及びRcは上で定義した通 りである) のいずれかを表し、 点線は、随意の第二の結合を表す] の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステルにある。 R1,R2及びR3は、三環の8、9又は10位置にあることができる。 式(I)の化合物とは、個々に独立して又は混合物として取りうる全ての可能 な幾何学的異性体及び立体異性体を意味する。 1〜12個の炭素原子を含有し且つ酸素、窒素及び硫黄原子から選択される1 〜6個の複素原子を含有する飽和又は不飽和の線状又は分岐状の構造から誘導さ れる2価の炭化水素化基を表す−[A]−基とは、特に、アルカンであって、そ の炭素原子のいくつかが酸素又は硫黄原子により、或いは次の基:C=O、SO 、SO2、NH、N(Alk)、NH−CO、N(Alk)−CO、CO−NH 、CO−N(Alk)、SO2−NH、SO2−N(Alk)(ここで、Alkは 上で定義した通りである)により置き換えられたものから誘導される基を意味す る。従って、それは、例えば次の基: −CH2−CH2−O−CH2−CH2− −CH2−CH2−N(CH3)−CH2−CH2− −CH2−CH2−C(O)−CH2−CH2− −CH2−CH2−C(O)−C(Me)2−CH2− であることができる。 −[A]−が−1〜12個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の線状又は分 岐状の非環式炭化水素から誘導される2価の基を表すときは、これは、特に、式 −(CH2n−(ここで、nは1〜12の整数である)のアルキレン基、例えば −CH2−、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−又は-CH2CH2CH2CH2 −、或いはアルケニレン基又はアルキニレン基、例えば−CH=CH−CH2− 又は−C≡C−CH2−を意味する。 これらの2価の基が分岐状であるときは、それらは、−CH(CH2)−、 −C(Me)2−、−CH2−C(Me)2−、−CH(Et)−、 −CH(C=CH)−又は−C(C≡cH)(Et)−のような基であることが できる。 [B]が−Ph−2価基を表すときは、COR6基はo−、m−又はp−位置 にあることができる。それは好ましくはp−位置にある。 (D)0-6が0〜6個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の線状又は分岐状 の非環式炭化水素から誘導される2価の基を表すときは、(D)0-6は前記の[ A]の意味のうちから選択される。(D)0とは、この基の不存在を意味し、そ して単一の共有結合を有する。(D)は、好ましくは単結合又は(CH2n基( ここで、nは1、2又は3の整数である)である。 Ra、Rb及びRcが(CH20-3−Ar基、(CH20-3−Het基、(C H20-3−Alk基を表すときは、(CH20-3は(CH20の場合の単結合或 いは−CH2−、−(CH22−又は−(CH23−を表す。 6〜18個の炭素原子を含有する炭素環式アリール基を表す用語(Ar)とは 、芳香族環式炭化水素から誘導される基、例えばフェニル、ナフチル、フェナン トレニル基、或いはベンゼン環を含有する縮合二環式又は三環式炭化水素から誘 導される基、例えばインダニル、インデニル、ジヒドロナフチル、テトラヒドロ ナフチル又はフルオレニル基を意味する。接合はベンゼン環のレベルで起こる。 これは好ましくはフェニル基である。 1〜9個の炭素原子を含有し且つ酸素、窒素及び硫黄原子から選択される1〜 5個の複素原子を含有する飽和又は不飽和の芳香族又は非芳香族複素環から誘導 される基を表す用語(Het)とは、特に下記のものを意味する。 ・単環式複素環式基、例えば、下記の基:チエニル、フリル、ピラニル、ピロリ ル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダ ジニル、チアゾリル、オキサゾリル、フラザニル、ピロリニル、イミダゾリニル 、ピラゾリニル、チアゾリニル、トリアゾリル、テトラゾリル、 ・縮合複素環式環、例えば、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンゾイミダゾ リル、ベンゾチアゾリル、ナフト[2,3−b]チエニル、チアントレニル、イ ソベンゾフラニル、クロメニル、キサンテニル、フェノキサチエニル、インドリ ジニル、イソインドリル、3H−インドリル、インドリル、インダゾリル、プリ ニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル 、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバゾリル 、β−カルボリニル、アクリジニル、フェナジニル、フェノチアジニル、フェノ キサジニル、インドリニル、イソインドリニル、イミダゾピリジル、イミダゾピ リミジニル、或いはまた上で定義したような単環式複素環式基より構成される縮 合多環式基、例えばフロ[2,3−b]ピロール又はチエノ[2,3−b]フラ ン、 ・飽和複素環式基、例えばピロリジン、ピペリジン、モルホリン。 さらに、この用語(Het)は上で定義したような(Het’)の意味を包含 する。 飽和又は不飽和の線状、分岐状又は環状の非芳香族炭化水素から誘導される基 を表す用語(Alk)とは、非環式炭化水素の場合には、アルキル基、例えばメ チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、n −ペンチル、n−ヘキシル、2−メチルペンチル、2,3−ジメチルブチル、n −ヘプチル、2−メチルヘキシル、2,2−ジメチルペンチル、3,3−ジメチ ルペンチル、3−エチルペンチル、n−オクチル、2,2−ジメチルヘキシル、 3,3−ジメチルヘキシル、3−メチル−3−エチルペンチル、ノニル、2,4 −ジメチルヘプチル又はn−デシル、アルケニル基、例えばビニル、プロペニル 、イソプレニル、アリル、2−メチルアリル、ブテニル又イソブテニル、或いは アルキニル基、例えばエチニル、プロピニル、プロパルギル、ブチニル又はイソ ブチニル、そして環状の基の場合にはシクロアルキル基、例えばシクロプロピル 、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はアダマンチルを意味する 。 Ra及びRbがそれらが結合している窒素原子と一緒になって窒素複素環を表 すときは、それらは特に次の飽和複素環:モルホリン、ピペリジン、ピペラジン 、ピロリジン、或いは不飽和複素環、例えばピリミジン、ピリジン又はピラジン である。 R2、R3、R4及びR5が1〜12個の炭素原子を含有するO−(Alk)基を 表すときは、それらは好ましくはメトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプ ロピルオキシ、ブチルオキシ、アレニルオキシ又はプロパルギルオキシである。 R2、R3、R4及びR5がO−(CH20-3−Ar基を表すときは、それらは好ま しくはフェニルエトキシ及びフェニルプロピルオキシ基である。 R2及びR3が一緒になって−O−(CRdRe)n−O−型(ここで、nは1 〜5の整数である)の環を形成するときは、それは特に−O−CH2−O−、− O−C(Me2)−O−、−O−C(Ph2)−O−基である。 R2及びR3はそれぞれo−位置になければならない。 R6がO−Alk又はO−Ar基(ここで、Alk及びArは置換又は非置換 であってよい)を表すときは、それは、特に次の基の一つ:(C1〜C8)アルキ ル、(C6〜C14)アリール、(C1〜C8)アルコキシ、(C6〜C14)アリール オキシ、(C1〜C8)アルキルカルボニルオキシ、(C1〜C8)アルキルアミノ カルボニルメトキシ、(C1〜C8)ジアルキルアミノカルボニルメトキシである 。 R6がNH−alk、NH(alk)2又はNH−Ar基を表すときは、それは 、特に次の基の一つ:(C1〜C8)アルキルアミノ、ジ(C1〜C8)アルキルア ミノ、(C6〜C14)アリール,(C2〜C8)アルキルアミノ、(C6〜C14)ア リールアミノである。 R6がアミノ酸の残基を表すときは、それはL又はD−アミノ酸であってよい 。 L又はD−アミノ酸は天然型又は非天然型であってよい。好ましくはα−アミ ノ酸である。例えば、オーベン−ウエイル著「有機化学の方法」第XV/1及び 2、ジョージ・チエム・フエルラーク、シュタットガルト、1974に記載のも の:Aad、Abu、γAbu、Abz、2Abz、εAca、Ach、Acp 、Adpd、Ahb、Aib、βAib、Ala、βAla、ΔAla、Alg 、All、Ama、Amt、Ape、Apm、Apr、Arg、Asn、Asp 、Asu、Aze,Azi、Bai、Bph、Can、Cit、Cys、(Cy s)2、Cyta、Daad、Dab、Dadd、Dap、Dapm、Dasu 、Djen、Dpa、Dtc、Fel、Gln、Glu、Rly、Guv、hA la、hArg、hCys、hGln、hGlu、His、hlle、hLeu 、hLys、hMet、hPhe、hPro、hSer、hThr、hTrp、 hTyr、Hyl、Hyp、3Hyp、Ile、Ise、Iva、Kyn、La nt、Lcn、Leu、Lsg、Lsy、ΔLsy、Met、Mim、Min、 nArg、Nle、Nva、Oly、Orn、Pan、Pec、Pen、Phe 、Phg、Pic、Pro、ΔPro、Pse、Pya、Pyr、Pza、Qi n、Ros、Sar、Sec、Sem、Ser、Thi、βThi、Thr、T hy、Thx、Tia、Tle、Tly、Trp、Trta、Tyr、Val、 t−ブチルグリシン(Tbg)、ネオペンチルグリシン(Npg)、シクロヘキ シルグリシン(Chg)、シクロヘキシルアラニン(Cha)、2−チエニルア ラニン(Thia)、2,2−ジフェニルアミノ酢酸、2−(p−トリル)−2 −フェニルアミノ酢酸、2−(p−クロルフェニル)アミノ酢酸、或いはまた2 −ピロリジン酢酸、1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン−3−酢酸、デ カヒドロイソキノリン−3−酢酸、オクタヒドロイソインドール−2−酢酸、デ カヒドロキノリン−2−酢酸、オクタヒドロシクロペンタ[b]ピロール−2− カルボン酸、2−アザビシクロ[2,2,2]オクタン−3−カルボン酸、2− アザビシクロ[2,2,1]ヘプタン−3−カルボン酸、2−アザビシクロ[3 ,1,0]ヘキサン−3−カルボン酸、2−アザスピロ[4,4]ノナン−3− カルボン酸、2−アザスピロ[4,5]デカン3−カルボン酸、スピロ(ビシク ロ[2,2,1]ヘプタン)−2,3−ピロリジン−5−カルボン酸、スピロ( ビシクロ[2,2,2]オクタン)−2,3−ピロリジン−5−カルボン酸、2 −アザトリシクロ[4,3,0,16,9]デカン3−カルボン酸、デカヒドロシ クロヘプタ[b]ピロール−2−カルボン酸、デカヒドロシクロオクタ[c]ピ ロール−2−カルボン酸、オクタヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2−カル ボン酸、オクタヒドロイソインドール−1−カルボン酸、2,3,3a,4,6 a−ヘキサヒドロシクロペンタ[b]ピロール−2−カルボン酸、2,3,3a , 5,7a−ヘキサヒドロインドール−2−カルボン酸、テトラヒドロチアゾール −4−カルボン酸、イソオキサゾリン−3−カルボン酸、ピラゾリジン−3−カ ルボン酸、ヒドロキシピロリジン−2−カルボン酸、これらは適当ならば置換さ れていてよい(下記の式を参照)。 上記のような複素環残基は、例えば下記の特許又は特許出願:US−A−4, 344,949;US−A−4,374,847;US−A−4,350,70 4;EP−A−29,488;EP−A−31,741;EP−A−46,95 3;EP−A−49,605;EP−A−49,658;EP−A−50,80 0;EP−A−51,020;EP−A−52,870;EP−A−79,02 2;EP−A−84,164;EP−A−89,637;EP−A−90,34 1;EP−A−90,362;EP−A−105,102;EP−A−109, 020;EP−A−111,873;EP−A−271,865及びEP−A− 344,682から既知である。 さらに、アミノ酸は、エステル又はアミドの形態、例えばメチルエステル、エ チルエステル、イソプロピルエステル、イソブチルエステル、t−ブチルエステ ル、ベンジルエステル、エチルアミド、セミカルバジド又はω−アミノ(C2〜 C8)アルキルアミドであってよい。 最後に、これらのアミノ酸の官能基は、保護することができる。ウレタン保護 基、カルボキシ保護基又は側鎖保護基のような好適な保護基は、ヒューブッフ、 コンタクテにより(Merck)1979,No.3,p.14−23に及びビ ュレスバッハ、コンタクテにより(Merck)1980,No.1,p.23 −35に記載されている。 例えば、下記のものが挙げられる。Aloc、Pyoc、Fmoc、Tcbo c、Z、Boc、Ddz、Bpoc、Adoc、Msc、Moc、Z(NO2) 、Z(Haln)、Bobz、Iboc、Adpoc、Mboc、Acm、te rt−ブチル、Obzl、Onbzl、Ombzl、Bzl、Mob、Pic、 Trt。 Gが次式G1: の基であり、(Het')が一般式:(ここで、(H)はN=C−NH−と共に1〜9個の炭素原子を含有し且つ酸素 、窒素及び硫黄原子から選択される2〜5個の複素原子を含有する飽和又は不飽 和の単環又は二環式の芳香族又は非芳香族複素環(この基は置換又は非置換であ ってよい)を形成する) の複素環であるときは、G1は、特に下記の基: (ここで、pは1〜4の整数である) である。 ・Gが−NRaRb基(G2という)であるときは、Ra及びRbは水素原子、 (CH20-3−Ar、(CH20-3−Het又は(CH20-3−Alkであるこ とができる。Ar、Het及びAlk基は、以下に定義するような基により置換 されることができる。 G2は、特に、NH2、NHMeのようなNH−Alk基、NHet、NMe2 、NEt2、NMeEtのようなN(Alk)2、NHPh、NHCH2Phのよ うなNH−(CH20-1−Ar又はNHCH2−ピロール−2−イルのようなN HCH2Het基であることができる。 Raが水素原子又は(Alk)基であり且つRbが(Het’)基であるとき は、G1の意味が見出される。 Ra及びRbがそれらが結合している窒素原子と共に窒素複素環を形成すると きは、それは特に前記のような複素環式基(これらは置換又は非置換であってよ い)である。 ・Gが(Het)基(基G3)(この基は置換又は非置換であってよい)である ときは、それは特に前記したような複素環、詳しくは前記のような一般式(He t’)の複素環である。この複素環がその窒素原子のレベルで接続しているとき は、Ra及びRbがそれらを持っている窒素原子と共に窒素複素環を形成するG 2の意味が見出される。 ・Gが−NRh−C(=X)−NHRc基(G4基)又はNRhSO2Rc基( 基G5)(ここで、Xは前記のように硫黄若しくは酸素原子又はNHであり、R h及びRcは上記の通りである)であるときは、それは特に次の基の一つである 。−NH−C(=NH)−NH2、−NH−C(=O)−NH2又は-NH−C( =S)−NH2、−NH−C(=NH)−NHCH2−Ar、例えば−NH−C( =NH)−NHCH2−Ph、−NH−C(=NH)−NHCH2−Het、−N H−C(=NH)−NHCH2−Het’、−NH−C(=NH)−NH−Al k、例えば−NH−C(=NH)−NHCH2又は−NH−SO2−Ph(ここで 、Ar、Het、Het’又はAlkは置換又は非置換であってよい)。(Al k)、(Ar)、(Het)、(Het’)又は複素環を形成するNRaRb基 の可能な置換基は、好ましくは下記の基である。 ・ハロゲン:フッ素、塩素、臭素、沃素。 ・1〜12個の炭素原子を含有するアルキル、アルケニル、アルキニル、例えば メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、 ビニル又はアレニル。これらの基は、それ自体1個以上のハロゲン原子、例えば 弗素により置換されていてよく、例えばトリフルオルメチルである。 ・オキソ、シアノ、ニトロ、ホルミル、カルボキシ及び1〜6個の炭素原子を含 有するカルボキシアルキル、カルボキサミド。 ・1〜12個の炭素原子を含有するアルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、プ ロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ。 ・1〜12個の炭素原子を含有するアルキルチオ、例えばメチルチオ、エチルチ オ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ。 ・アミノ、1〜12個の炭素原子を含有するアルキルアミノ、例えばメチルアミ ノ又はエチルアミノ、2〜24個の炭素原子を含有するジアルキルアミノ、例え ばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ(これらのジアルキル アミノ基のそれぞれは酸化された形であってよい)。 ・1〜12個の炭素原子を含有するアミノアルキル、例えばアミノメチル又はア ミノエチル。 ・3〜25個の炭素原子を含有するジアルキルアミノアルキル、例えばジメチル アミノメチル又はエチル。 ・3〜25個の炭素原子を含有するジアルキルアミノアルキルオキシ、例えばジ メチルアミノエチルオキシ。 ・1〜12個の炭素原子を含有するアシル化されていてよいヒドロキシル、例え ばアセトキシ。 ・1〜12個の炭素原子を含有するアシル、例えばホルミル、アセチル、プロピ オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、スクシニル、ピバ ロイル、ベンゾイル。これらは例えば塩素、臭素又は弗素原子により置換されて いてよく、クロルアセチル、ジクロルアセチル、トリクロルアセチル、ブロムア セチル又はトリフルオルアセチル基が挙げられる。 ・炭素環式又は複素環式アリール、例えばフェニル、フリル、チエニル、ピリジ ニル、或いはアラルキル、例えばベンジル。これらの基は、それ自体、前記のよ うなハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アミノアルキル又はジア ルキルアミノにより置換されていてよい。 もちろん、1種以上の同一又は異なった置換基が存在できる。(Het)の場 合には、置換基は、NH基又は炭素原子のレベルにあることができる。 また、これらの置換基は、R4の定義を例示する。 R1、R2、R3、R4、R5、R6、Ra、Rb及びRcが前記のようなアルキル 、アリール又は複素環式基を含有するときは、それらは互いに同一であっても異 なっていてもよい。 本発明は、当然に、式(I)の化合物の塩類、例えば、式(I)の化合物がア ミノ又はアミノグアニジン官能基を含有するときは、次の酸:塩酸、臭化水素酸 、硝酸、硫酸、燐酸、酢酸、トリフルオル酢酸、ぎ酸、プロピオン酸、安息香酸 、マレイン酸、フマル酸、こはく酸、酒石酸、くえん酸、しゅう酸、グリオキシ ル酸、アスパラギン酸、アルカンモノスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、エ タンスルホン酸、プロパンスルホン酸、アリールモノスルホン酸、例えばベンゼ ンスルホン酸及びp−トルエンスルホン酸、アリールカルボン酸により形成され た塩類、或いは式(I)の化合物が酸官能基を含有するときは、アルカリ金属又 はアルカリ土類金属塩或いはまた置換されていてよいアンモニウム塩まで及ぶ。 また、本発明は、式(I)の化合物のエステルまで及ぶ。 第一の好ましいグループとして、本発明の主題は、次の一般式(I'): [ここで、 R'1は次の基: −C≡C−[A']−[B']−COR'6、 −CH=CH−[A']−[B']−COR'6、 −(CH22−[A']−[B']−COR'6、 −O−[A']−[B']−COR'6、 −CH2CO−[A']−[B']−COR'6 {ここで、−[A']−は1〜6個の炭素原子を含有する2価のアルキレン、ア ルケニレン又はアルキニレン基を表し、[B']はCH[Z']基又は単結合を表 し、ここにZ’は水素原子、次の基: (CH20-6−NRaRb、(CH20-6−NH−SO2−Rc、 (CH20-6−NH−CO2−Rc、(CH20-6−NH−CO−Rc、 (CH20-6−NH−SO2−NH−Rc、 (CH20-6−NH−CO−NH−Rc、(CH20-6−CO2−Rc、 (CH20-6−SO2−Rc、(CH20-6−CO−Rc又は (CH20-6−Rc (Ra、Rb及びRcは上記の通りである) の一つ表し、R'6はOH、アミノ又は1〜8個の炭素原子を含有するアルコキシ 基(ヒドロキシル、アミノ、フェニル、アルキルアミノ又はジアルキルアミノ基 から選択される1個以上の基により置換されていてよい)を表す} の一つを表し、 R'2及びR'3は水素原子又はメトキシ基を表し、 Gは前記の通りであり、 点線は随意の第二の結合を表す] に相当する前記の通りの一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付 加塩並びにそれらのエステルにある。 第二の好ましいグループとして、本発明の主題は、R6が次の基: −OH、−OCH3、−OCH2CH3、−O−(CH22−OH、 −O−(CH22−N−(CH32、−NH2又は−O−(CH2)−フェニルの 一つを表す前記の通りの一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付 加塩並びにそれらのエステルにある。 第三の好ましいグループとして、本発明の主題は、R1が−O−(CH20-6 −CH(Z')−COOH又は(CH20-7−CH(Z')−COOH基を表す前 記の通りの一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びにそ れらのエステルにある。 第四の好ましいグループとして、本発明の主題は、(Z')が水素原子を表す 前記の通りの一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びに それらのエステルにある。 第五の好ましい変形として、本発明の主題は、(Z')が(CH20-6−NH −CO2−Rc又は(CH20-6−NHRb基(ここで、Rb及びRcは前記の 通りである)を表す前記の通りの一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩 基との付加塩並びにそれらのエステルにある。 第六の好ましいグループとして、本発明の主題は、Rb及びRcが (CH2)0-3−Ar又は(CH20-3−Alk(ここで、Ar及びAlkは前 記の通りであり、置換又は非置換であってよい)を表す前記の通りの一般式(I )の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステルにある 。 第七の好ましいグループとして、本発明の主題は、Gが式:−NH−C(=N H)−NHRc(ここで、Rcは前記の通りである)のG4基である前記の通り の一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエ ステルにある。 第八の好ましいグループとして、本発明の主題は、Gが式:−NH−C(=N H)−NH2のG4基である前記の通りの一般式(I)の化合物並びにそれらの 酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステルにある。 第九の好ましいグループとして、本発明の主題は、Gが前記のような−NH− Het’基、特に(ここで、pは2、3又は4の整数である。これらの複素環は置換又は非置換で あってよい) である前記の通りの一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩 並びにそれらのエステルにある。 第十の好ましいグループとして、本発明の主題は、Gが次式: (ここで、pは2、3又は4の整数である) の基である前記の通りの一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付 加塩並びにそれらのエステルにある。 第十一の好ましいグループとして、本発明の主題は、化合物名が次の通りの式 (I)の化合物にある。 ・4−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ブタン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−8,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−9−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸、 ・6−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ヘキサン酸、 ・7−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ヘプタン酸、 ・5−((9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−4 −((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾノ)−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ペンタン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸エチル塩酸塩、 ・4−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−8,9−ジメトキシ− 1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−10−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ブタン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−8,9−ジメトキシ− 1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−10−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸、 ・5−((4−(((アミノ)カルボニル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキ シ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オ キシ)ペンタン酸、 ・5−((4−(((アミノ)チオカルボニル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメ トキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル )オキシ)ペンタン酸、 ・4−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−8,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−9−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ブタン酸、 ・6−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ヘキサン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9、10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキシ )−3,3−ジメチル−4−オキソペンタン酸、 ・5−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)−3,3−ジメチル−4−オキソペンタン酸 、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸塩酸塩、 ・4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ブタン酸、 ・5−((8−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−6,7,8,9,10 ,11−ヘキサヒドロアズレノ(5,6−d)−1,3−ベンゾジオキソール− 4−イル)オキシ)ペンタン酸、 ・5−((8−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−2,2−ジフェニル− 6,7,8,9,10,11−ヘキサヒドロアズレノ(4,5−e)−(1,3 )−ベンゾジオキソール−4−イル)オキシ)ペンタン酸、 ・4−((9,10−ジメトキシ−4−((1,4,5,6−テトラヒドロ−2 −ピリミジニル)ヒドラゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− べンゾ(e)アズレニル)オキシ)ブタン酸、 ・2−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)エタン酸、 ・3−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)プロパン酸、 ・4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−9−べンゾ(e)アズレニル )オキシ)ブタン酸、 ・4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル )オキシ)ブタン酸、 ・O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾ ノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホ モセリン、 ・O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾ ノ]−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ[e]アズレニル] −N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホモセリン、 ・O−[4−[(1,2,3、4−テトラヒドロ−6−ピリミジニル)ヒドラゾ ノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホ モセリン、 ・O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−4− [(1,4,5、6−テトラヒドロ−2−ピリミジニル)ヒドラゾノ]−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホ モセリンの(2,3−ジヒドロキシプロピル)エステル、 ・O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾ ノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[(8−キノリニル)スルホニル]−DL−ホモ セリン、 ・O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾ ノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[[3−[4−(3−ピリジニル)−1H−イミ ダゾール−1−イル]プロポキシ]カルボニル]−DL−ホモセリンの一塩酸塩 、 ・5−[[4−[(4,5−ジヒドロ−4−オキソ−1H−イミダゾール−2− イル)ヒドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサ ヒドロ−8−ベンゾ[e]アズレニル]オキシ]ペンタン酸、 ・O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−4− [(4、5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジアゼピン−2−イル)ヒ ドラゾノ]−8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カル ボニル]−DL−ホモセリン、 ・O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−4− [(3a,4、5,6,7,7a−ヘキサヒドロ−1H−ベンゾイミダゾール− 2−イル)ヒドラゾノ]−8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメ トキシ)カルボニル]−DL−ホモセリン。 また、本発明の主題は、上記の一般式(I)の化合物を製造するにあたり、 ・次式(II): (ここで、R2、R3、R4及びR5は、ヒドロキシルの意味を除いて前記した通り である) の化合物に塩基の存在下に次式(F1): Hal−[A]−[B]−COR6 (F1) の化合物を作用させ又はホスフィン及びアゾジカルボン酸ジエチルの存在下に次 式(F'1): HO−[A]−[B]−COR6 (F'1) の化合物(これらの式において、Halはハロゲン原子であり、[A]、[B] 及びR6は前記の通りであり、[B]は次式: の基も表すことができる)を作用させて次式(IIIa): の化合物を得るか、或いは ・活性化基を作用させ、次いで触媒の存在下に次式(F2): の化合物を作用させて次式(IIIb): の化合物を得、式(IIIa)又は(IIIb)の化合物に次式(F3): H2N−G (F3) (ここで、Gは前記の通りである) の化合物を作用させて式(I)のある種の化合物に相当する次式(IVa)又は(IV b): の化合物を得、適当ならば、これらの化合物を、適当な順序で、下記の反応: ・エステルを解裂させ相当する酸を得るため塩基又は酸の作用、 ・R1基の不飽和を部分的に又は完全に還元するのに好適な還元剤の作用、 ・三重結合への水和剤の作用、 ・脱アルキル剤の作用、 ・[B]がCH−NHP基を表すときのCO−R6のβ−位置のNH−P官能基 の脱保護剤の作用、 ・式(I)の相当する化合物を得るためCO−R6のβ−位置の相当するアミン からNH−SO2Rc、NH−CO2Rc、NH−CORc、NH−SO2−NH −Rc、NH−CO−NHRc基の形成、次いで適当ならばこれらに対して相当 する塩類を得るため酸又は塩基の作用或いは相当するエステルを得るためエステ ル化剤の作用 に付することを特徴とする一般式(I)の化合物の製造方法にある。 式Hal−[A]−[B]−COR6(F1)の化合物の作用は、好ましくは 、炭酸カリウム又は炭酸ナトリウムのような無機塩基の存在下に、ジメチルホル ムアミドのような中性双極性溶媒中で行われる。Halは好ましくは塩素又は臭 素原子である。 式HO−[A]−[B]−COR6(F'1)の化合物の作用は、トリフェニル ホスフィンのようなホスフィン及びアゾジカルボン酸ジエチル(DEAD)のよ うな薬剤の存在下に塩化メチレンのような中性溶媒中で行われる。 式H−C≡C−[A]−[B]−COR6(F2)の化合物の作用は、式(O SO2CF3)の相当するトリフレートを形成させるためピリジンのような塩基の 存在下に式(CF3SO22Oのトリフル酸無水物のような活性化基の作用によ って先行され、次いでPd(PPh34のようなパラジウム誘導体(Pd0)の 存在下に行われる。 NH2−G(F3)の作用は、溶媒なしか、或いはエタノール又はブタノール のようなアルコール溶媒中で行われる。シントンNH2−Gは、要すれば、塩酸 塩又は臭化水素酸塩のような塩の形で使用される。 エステル官能基のけん化反応は、例えば、テトラヒドロフラン又はメタノール 若しくはエタノールのような低級アルコール中で苛性ソーダ又はカリのようなア ルカリ塩基の作用により行われる。また、エステルは、当業者に知られた方法に より酸媒体中で解裂させることができる。 不飽和の還元は、チャコールに担持したパラジウム又はウイルキンソン試薬の ようなロジウム触媒の如き触媒の存在下に水素の作用により完全に、或いはピリ ジン又はトリエチルアミンにより被毒させた硫酸バリウムに担持したパラジウム のような被毒触媒の作用により部分的に(アルキニレンがアルケニレンになる) 行うことができる。 −C≡C−[A]−[B]−COR6から−CH2CO−[A]−[B]−CO R6を得るのを可能にさせる水和反応は、好ましくは、硫酸水銀の存在下に水の 作用により行われる。 R2、R3、R4又はR5がヒドロキシル基を表す式(I)の化合物を得るのを可 能にさせる脱アルキル反応は、塩化アルミニウム又は三臭化硼素の存在下に行わ れる。 [B]がCH−NH2又はCHNH2・HClを表すCOR6のα位のNH2の官 能基化は、有機化学において知られた標準的な方法により行われる。 相当するアミンからNHSO2Rcの形成は、好ましくは、例えばトリエチル アミンのような塩基の存在下にRcSO2Halの作用により行われる。 相当するアミンからのNHCO2Rcの形成は、好ましくは、中間でイソシア ネートを得るために重炭酸ナトリウムの存在下にトリホスゲンを予め反応させた 後にJ.Org.Chem.,61,3929−3934に記載の方法に従って RcOHを反応させることによって行われる。 塩形成反応は、通常の条件下で行うことができる。例えば、R1の末端CO2H 基を塩形成させるためには、操作は、炭酸ナトリウムのようなナトリウム塩又は 炭酸水素ナトリウム若しくはカリウムの存在下に行われる。 同様に、Gにより表され得るアミン又はアミノグアジニンの酸による塩形成は 、通常の条件下で行われる。その操作は、例えば塩酸により例えばエタノール溶 液中で行われる。 場合により行う化合物のエステル化は、当業者に知られた標準的な条件下で行 われる。 この操作は、一般的には、式(I)の化合物又はその官能性誘導体を、エステ ル基の導入剤であってそのリストを先のR6の定義で示したものと反応させるこ とによって行われる。 一般式(F1)、(F'1)、(F2)及び(F3)の化合物は、既知である か又は当業者に知られた方法に従って製造される。 また、種々の反応剤のグラフト化の順序は、逆にすることができる。即ち、式 (II)の化合物には、式F3の化合物を作用させて中間で次式(IIIc):の化合物を得、この化合物に式(F1)、(F'1)又は(F2)の化合物を作 用させて相当する式(IVa)及び(IVb)の化合物が得られる。 この場合においては、式(IIIc)の化合物のG基を保護し、次いで式(F1 )、(F'1)又は(F2)を導入した後に当業者に知られた方法に従って脱保 護することが必要であろう(T.W.グリーン、「有機合成における保護基」ジ ョン・ウイリー&ソンズ社、1991)。 また、[B]がCH−NHP基を表すCO−R6のβ位のNH−P基の脱保護 反応は、当業者に知られた方法により、特に、PがCO2tBu基を表すときは 、例えば塩酸の作用のような脱炭酸反応によって行われる。 骨は、骨吸収及び骨形成を含む動的な課程に常に付される。これらの課程は、 専門化された細胞によって仲介される。骨形成は骨芽細胞による鉱物基質の沈積 の結果であり、骨吸収は破骨細胞によるこの骨基質の溶解の結果である。骨粗鬆 症は、この骨基質のドライな損失を特徴とする。活性化された成熟破骨細胞が、 蛋白分解酵素の分泌によって骨基質に付着した後に骨及び付着帯域内のプロトン を吸収し、破骨細胞自体が骨を離れる時点で現れる骨の表面に窪み又は孔をもた らす。 式(I)の化合物並びにそれらの製薬上許容できる付加塩は、有用な薬理学的 性質を有する。これらの化合物は、破骨細胞により仲介される骨吸収を阻害させ る。 従って、本発明の化合物は、骨基質の損失に起因する疾病、特に骨粗鬆症、悪 性高カルシウム血症、骨転移に起因する骨減少症、歯周炎、上皮小体亢進症、慢 性関節リュウマチにおける間接周囲浸食、パージェット病、固定化、グルココル チコイド治療又は男性若しくは女性の性ホルモンの欠乏により誘発される骨減少 症の治療に有用である。 それらは、また、炎症性癌性障害並びにアテローム硬化症、狭窄の再発を含め て心臓血管障害の治療に使用することができる。 最後に、それらは脈管形成の阻害剤として、従ってその新生血管形成の阻害に より腫瘍の治療に、糖尿病性網膜症及びネフロパシーの治療に使用することがで きる。 最近の研究は、骨への破骨細胞の固定が受容体:インテグリン(integr ines)によって仲介されることが示された。 インテグリンは、細胞/細胞、詳しくいえば、特に血小板受容体としてのα2b β3(フィブリノーゲン)並びにビテロネクチン及び骨シアロプロテイン例えば オステオポンチン及びトロンボスポンジンの受容体としてのαvβ3を含めて、細 胞/基質付着課程を仲介する受容体のスーパーファミリーである。 2個のサブユニットα及びβからなる蛋白ヘテロダイマーであるこれらの受容 体は、特にCa2+のような2価イオンのための固定部位並びにこれらのサブユニ ットの特質により予め決定されたそれらのリガンドのための認識部位を持ってい る。 αvβ3受容体は、内皮細胞、平滑筋細胞、破骨細胞及び癌細胞を含めて多くの 細胞内に発現される経膜糖蛋白であって、これが本発明の化合物の多能性をもた らす。 破骨細胞の膜上に発現したαvβ3受容体は、付着/吸収課程の基礎であり、細 胞骨格の構築に寄与し、骨粗鬆症に関係がある(ローズ他、J.Biol.Ch em.,1887,262,7703)。 大動脈の平滑筋の細胞内に発現したαvβ3受容体は、新生内膜へそれらが移動 するのを刺激し、これがアテローム硬化の生成及び血管形成後の狭窄の再発をも たらす(ブラウン他、Cardiovascular Res.,(1994) ,28,1815)。 内皮細胞は、内皮のために有糸分裂性であり、新たな血管の形成(脈管形成) に寄与しうる増殖因子を分泌する。血管形成の剌激は新たな血管の形成の原因と なる。従って、インテグリンαvβ3の拮抗薬は、脈管形成性血管のアポプトシス を誘発させることにより癌性腫瘍の後退をもたらす(ブルック他、Cell,( 1994),79,1157)。 インテグリンαvβ3の天然リガンドは、全てRGDユニット(Arg−Gly −Asp)を含有する。このRGDユニット並びに抗αvβ3抗体を含有するペプ チドは、それらが象牙質の吸収を阻害し、無機化基質への破骨細胞の付着を防止 する能力について知られている(ホートン他、Exp.Cell.Res.,( 1991),195,368)。 また、RGDユニットを含有する蛇毒から単離されたペプチドのエキスタチン は、骨への破骨細胞の付着の阻害剤として記載されており、従ってインビトロで 培養された組織における(佐藤他、J.Cell.Biol.,(1990), 111,1713)並びにラットでインビボにおけける(フィッシャー他、En docrinology,(1993),132,1441)骨吸収の阻害剤で ある。 式(I)の化合物並びにそれらの製薬上許容できる付加塩及びそれらのエステ ルは、特に、天然リガンドに対する結合を阻害させることによって、ビトロネレ クチン受容体αvβ3に対する親和性又はビトロネクチンをリガンドとして有する その他のインテグリン(αvβ1、αvβ5、α2bβ3)に対する親和性を有すること ができる。 従って、この性質は、本発明の化合物をその根底にある病因がビトロネクチン 受容体と相互作用するリガンド又は細胞にある疾病の予防又は治療に有用ならし めるものである。 また、これらの化合物は、これらの受容体と関連する病状を治療するのに使用 できる薬理学的性質を付与するRGDトリペプチド配列によりそれらのリガンド と相互作用するその他のインテグリンに対する活性を有することができる。 従って、インテグリンに対するこの活性は、本発明の化合物を、上記したよう な又はダーモット・コックスによりDN&P,8(4),May 1995,1 97−205に概説されている多くの疾病の治療に使用せしめるものである 従って、本発明の主題は、薬剤としての式(I)の化合物並びにそれらの製薬 上許容できる付加塩及びそれらのエステルにある。 本発明の化合物のうちでも、特に実験の部に記載する化合物が挙げられる。 これらの化合物のうちでも、特に上でリストした式(I)の化合物化蘭留薬剤 が挙げられる。 薬量は、治療すべき疾病及び投与方法によって変わる。例えば、それは成人に ついて経口投与で1日当たり1mgから1000mgであろう。 本発明は、上記のような薬剤の少なくとも1種を活性成分として含有する製薬 組成物まで及ぶ。 本発明の化合物は、消化器経路、非経口的又は局所経路で、例えば経皮的に使 用される。 これらの製薬組成物は、無味の若しくは糖衣錠剤、カプセル、顆粒、座薬、ペ ッサリー、注射用調合剤、軟膏、クリーム、ゲル、マイクロビーズ、ナノビーズ 、インプラント、パッチの形状で製剤化できる。それら通常の方法により製造さ れる。 活性成分は、これらの製薬組成物に通常使用される補助剤、例えはタルク、ア ラビアゴム、ラクトース、でんぷん、ステアリン酸マグネシウム、ココアバター 、水性若しくは非水性のビヒクル、動物性若しくは植物性の脂肪物質、p−フィ ン誘導体、グリコール類、各種の湿潤、分散若しくは乳化剤、保存剤と配合する ことができる。 ヒドロキシル基が10位置にあり、8位置のR2及び9位置のR3がO−(Al k)又はO−(CH20-3−Ar基を表し、R4及びR5が水素原子である式(II )の化合物は、ヨーロッパ特許出願第0729933号並びに後記の実験の部( 製造例2)に記載の方法に従って製造される。 二つの他の位置異性体は、次の方法で製造することができる。 次式(IIA):の化合物に脱アルキル試薬を作用させて次式(IIB): の化合物を得、式(IIB)の化合物に ・塩基性媒体中でジオールの保護試薬を作用させて次式(IIC): (ここで、Pはジオールの保護試薬の残基を表す) の化合物を選択的に得、この化合物にフェノールの保護試薬、ジオールの脱保護 試薬、次いでアルキル化剤、次いでフェノールの脱保護試薬を続けて作用させて 、8位置にOHを有する式(II)の三置換化合物に相当する次式(IID): の化合物を得るか、或いは ・フェノールの保護試薬、アルキル化剤、次いで脱保護試薬を続けて作用させて 、9位置にOHを有する式(II)の三置換化合物に相当する次式(IIE):の化合物を得る。 脱アルキル試薬とは、好ましくは、三臭化硼素又は塩化アルミニウムのような 試薬を意味する。 式(IIB)の化合物に反応させるジオールの保護試薬は、硼酸、硼酸トリアル キル、例えば硼酸トリメチル若しくはトリエチル、又は硼砂のような硼素誘導体 であることができる。 フェノールの保護試薬とは、特に、塩化又は臭化メシル又はトシルのようなハ ロゲン化物或いはまたベンジルトシレート又はメシレートのようなベンジル化誘 導体を意味する。 ジオールの脱保護試薬とは、特に強酸、例えば塩酸、硫酸又はp−トルエンス ルホン酸或いはまた酸化剤、例えば硼素誘導体による保護の場合の過酸化水素を 意味する。 アルキル化剤とは、フェノールのアルキル化のために当業者に知られた任意の 標準的な試薬を意味する。例えば、塩化メチル又はエチルのようなハロゲン化ア ルキル、硫酸メチル又はエチルのような硫酸アルキル或いはジアゾメタンなどが 挙げられる。 脱保護試薬とは、苛性ソーダ、苛性カリ或いはまた炭酸ナトリウム又はカリウ ムのような塩基を意味する。 R2、R3、R4及びR4が水素原子を表す式(II)の一置換化合物は、ヨーロッ パ特許出願第0729933号に記載された方法と類似の方法に従って製造され る。 (i)次式(a):(ここで、O−(Alk)はアルキルカルボン酸のm−又はp−位置にあり、( Alk)は前記の通りである) の化合物にハロゲン化剤を作用させて相当するハロゲン化アシルを得、 (ii)この化合物に次式(b): (ここで、R(I)及びR(II)は同一であっても異なっていてもよく、1〜6個の 炭素原子を含有するアルキル基を表すか、或いはR(I)及びR(II)はそれらが結 合している窒素原子と共にO及びNから選択される別の複素原子を含有しうる5 又は6員の飽和又は不飽和の複素環を表す) の試薬を作用させて次式(c): の化合物を得、 (III)この化合物にハロゲン化剤を作用させて次式(d): (ここで、Hal1はハロゲン原子を表す) の化合物を得、 (iv)この化合物にルイス酸を作用させて次式(e): の化合物を得、 (v)この化合物に脱アルキル試薬を作用させて、所期の式(II)の一置換化 合物に相当する次式(IIF): の化合物を得る。 R2がO−(Alk)又はO−(CH20-3−Arを表し、R3、R4及びR5が 水素原子であり、OH及びR2が8、9又は10位置にある式(II)の二置換化 合物は、前記のような方法に従って、次式(a'): (ここで、O−(Alk)及びR2はアルキルカルボン酸のm−又はp−位置に あり、R2はO−(A1k)又はO−(CH20-3−Ar基を表す) の化合物から出発し、この化合物を前記の反応(i)、(ii)、(iii)、(iv)及び(v )に続けて付して、所期の式(II)の二置換化合物に相当する次式(IIG):の化合物を得る。 式(a)又は(a')の化合物に反応させるハロゲン化剤は、例えば、塩化チ オニル、塩化オキサリル又は酸ハロゲン化物の形成のために当業者に知られた任 意のその他の試薬である。 式(b)の試薬は、シクロペンタノンと第二アミン、例えばジエチルアミン、 ピペリジン、ピペラジン、又は好ましくはモルホリンとから出発して製造される 。この操作は、強酸触媒、例えば、p−トルエンスルホン酸の存在下に行われる 。 酸ハロゲン化物に対する式(b)のエナミンの作用は、好ましくは、トリエチ ルアミン又はピリジンのような第三アミンの存在下に行われる。 式(c)の化合物又は式(c')の二置換均等物に反応させるハロゲン化剤は 、例えば塩化チオニル、ホスゲン、オキシ塩化燐又は好ましくは塩化オキサリル であってよい。 式(d)又は式(d')の二置換均等物を環化させるのに使用されるルイス酸 は、例えば塩化アルミニウム、四塩化チタン又は好ましくは塩化第二鉄若しくは 四塩化錫である。その反応は、上記の反応と同じように、例えば、塩化メチレン 、クロロホルム又はジクロルメタンのようなハロゲン化溶媒中で行うことができ る。 式(e)又は式(e')の二置換均等物を脱アルキルして相当するフェノール を得るための試薬は、好ましくは塩化アルミニウム又は三臭化硼素である。 R4が水素原子と異なる式(II)の化合物は、当業者に知られた標準的な芳香 族親電子性及び求核性置換によって製造される。 R5が水素原子と異なる式(II)の化合物は、当業者に知られた方法に従って 、特にヨーロッパ特許出願第0729933号に記載された方法に従って、即ち ハロゲン化、次いで水又は適当なアルコールの作用によって製造される。 R5が水素原子であり且つ1−2位置に二重結合が存在する式(II)の化合物 は、当業者に知られた方法に従って、特にヨーロッパ特許出願第0729933 号に記載された方法に従って、即ち無水酸媒体中の脱水又は脱アルコキシルによ って製造される。 5位置の環と7位置の環との間の接合が飽和である式(II)の化合物は、特に 、p−ジウム担持チャコールの存在下に相当する二重結合に対する標準的な水素 化方法によって製造される。 R4及びR5の導入並びに水素化反応は、好ましくは、式(IIA)、(IID)、 (IIE)、(IIF)又は(IIG)の化合物について行われる。 オルト位置にあるR2及びR4が前記のような−O−(CRdRe)n−O型の 環を形成する式(II)の化合物も、当業者に知られた方法に従って、特に後記の 実験の部に記載の方法によって製造される。 また、本発明の主題は、中間体化合物としての式(IIIa)、(IIIb)、(II Ic)及び(II)(ただし、式(IIc)の化合物及び下記の化合物: ・2,3,5,6−テトラヒドロ−9,10−ジメトキシ−8−ヒドロキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン、及び ・2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9−ジメトキシ−10−ヒドロキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン は除く) にある。これらの二つの化合物の製造は後記の実験の部に示す。 下記の実施例は本発明を例示するものであって、これを何ら制限するものでは ない。製造例1 :2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9,10−トリヒドロキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン工程A :3,4,5−トリメトキシベンゼンプロパン酸 3,4,5−トリメトキシフェニルプロペン酸21.44gと水45ミリリッ トルとの溶液に炭酸カリウム6.8gを添加し、次いでこの媒体を10%パラジ ウム担持活性炭1.8gの存在下で1200〜1300ミリバールの圧力下で1 時間水素化し、こうして水素2.1リットルが吸収された。この反応媒体を濾過 し、次いで水で洗浄し、2N塩酸50ミリリットルで酸性にする。分離した後に 、残渣を水で洗浄し、減圧下で室温において乾燥させる。こうして所期の化合物 19.8gが得られた。融点=102〜103℃。 IRスペクトル(CHCl3) カルボニル:{1712cm-1(max) {1740cm-1(sh) 芳香族: {1592cm-1 {1510cm-1 NMRスペクトル(CDCl3 2.91(t)} 3.83(s)}3 H3CO−C− 3.85(s)} 6.43(s) 芳香族の2H 10.50(m) 移動性1H工程B :3,4,5−トリメトキシベンゼンプロパノイルクロリド 工程Aにおいて得られた化合物6gを塩化メチレン21ミリリットル中に含有 させた溶液を硫酸マグネシウム1.5gで乾燥させ、濾過した後にこの反応媒体 を5℃に冷却し、塩化チオニル2.2ミリリットルを添加し、次いでこの溶液を 周囲温度において20時間撹拌する。これを減圧下でシクロヘキサンによる2回 の飛沫同伴を行なうことによって蒸発乾固させ、こうして目的化合物6.46g が採集された。融点=60℃。工程C :2−[3−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−1−オキソプロピ ル]シクロペンタノン 工程Bにおいて得られた化合物4.27gを塩化メチレン15ミリリットル中 に含有させた溶液を、後記のようにして得られる1−(N−モルホリニル)シク ロペンテン2.4ミリリットル、トリエチルアミン2.31ミリリットル及び塩 化メチレン15ミリリットルの5℃に冷却した溶液に+5℃において1時間30 分かけて添加する。この反応媒体を+5℃において1時間撹拌し、次いで温度を 上昇させながら2N塩酸10ミリリットルを添加し、次いで周囲温度において1 時間撹拌し、デカンテーションし、水で洗浄し、次いで飽和重炭酸ナトリウム溶 液で洗浄し、乾燥させ、濾過し、減圧下で蒸発乾固させる。所期の化合物5gが 得られた。この粗製生成物を酢酸エチル10容中に溶解させ、1N苛性ソーダ溶 液で抽出し、アルカリ性相を酢酸エチルで洗浄し、濃塩酸によってpH1の酸性 にし、次いで塩化メチレンで抽出し、乾燥させ、減圧下で蒸発乾固させることに よって精製する。精製された化合物2.75gが採集された。 IRスペクトル(CHCl3): カルボニル:{1741cm-1 {1709cm-1 芳香族: {1592cm-1 {1509cm-1 カルボニル {1658cm-1、 +C=C {〜1610cm-1(キレート化した形のOHと共に) NMRスペクトル(CDCl3) 6.41(s) 芳香族2H(インテグレーションベース) 3.81(s)、3.82(s)}4つ全部のタイプの 1.86(m) CH2−CH2−CH2〜1.5H 1.95〜2.95(m) 〜7.5H(いくつかのタイプの=C−CH2の 全部) 11.2(幅広m) 移動性H工程Cにおいて用いた1−(N−モルホリニル)シクロペンテンの製造 : シクロヘキサン100ミリリットル、シクロペンタノン20ミリリットル、モ ルホリン50ミリリットル及びp−トルエンスルホン酸100mgの溶液を還流 下で生成する水を除去しながら4時間30分撹拌する。減圧下で溶媒を蒸発させ た後に、12〜13ミリバールの圧力下で蒸留して、目的化合物27.44gが 得られた(沸点=83℃)。工程D :1−(2−クロル−1−シクロペンテン−1−イル)−3−(3,4, 5−トリメトキシフェニル)プロパン−1−オン 工程Cにおいて得られた化合物23gとクロロホルム230ミリリットルとの 溶液に周囲温度において塩化オキサリル13ミリリットルを添加する。この反応 媒体を周囲温度において3時間撹拌し、減圧下でシクロヘキサンによる2回の飛 沫同伴を行なうことによって濃縮する。粗製生成物28gが得られ、これをシク ロヘキサン50ミリリットルとジイソプロピルエーテル50ミリリットルとの混 合物から部分的に濃縮した後に再結晶する。結晶を分離し、ジイソプロピルエー テルで洗浄し、圧力下で乾燥させる。所期の化合物16.24gが得られた。融 点=93℃。 IRスペクトル(CHCl3): 1659cm-1:カルボニル 1599cm-1 1586cm-1: C=C + 芳香族 1508cm-1 NMRスペクトル(CDCl3) 1.93(m):中央のCH2 2.69(m)〜2.81(m):シクロペンテンのC−CH2−C= 2.85(t、j=7.5)〜3.08(t、j=7.5):その他の=C− CH2−C 2.44: CH3−C= 3.68〜3.81: OCH3 6.59〜6.68(d、j=2):メタ結合した芳香族CH= 7.31〜7.80(d、j=8):芳香族工程E :2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9,10−トリメトキシベンゾ[ e]アズレン−4(1H)−オン 工程Dにおいて得られた化合物900mg、1,2−ジクロルエタン9ミリリ ットル及び塩化第二錫0.9ミリリットルを周囲温度において20時間撹拌する 。次いで水及び氷9ミリリットルを添加し、この混合物をデカンテーションし、 水で洗浄し、塩化メチレンで1回再抽出し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させ 、濾過し、減圧下で蒸発乾固させて所期の(粗製)化合物1gが得られ、これを シリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は10%酢酸エチル含有シクロヘキ サン、次いで25%酢酸エチル含有シクロヘキサン)によって精製する。濃縮し た後に、生成物700mgが採集され、これをn−ヘキサン5ミリリットルから 結晶化させ、次いで0℃に冷却し、分離し、最少量のn−ヘキサンで洗浄し、減 圧下で周囲温度において乾燥させて、所期の化合物630mgが得られた。融点 =101〜102℃。 NMRスペクトル(CDCl3) 1.86(m) 中央のCH2 2.65(dd)2H} 2.72(t) 2H} その他のCH2 2.84(dd)2H} 3.06 2H} 3.84} 3.86} OMe 3.90} 6.59(s) 芳香族H工程F :2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9,10−トリヒドロキシベンゾ [e]アズレン−4(1H)−オン 製造例1aの工程Bにおけるように操作することによって、所期のジメチル化 化合物が得られた。製造例1a :2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9,10−トリヒドロキシベ ンゾ[e]アズレン−4(1H)−オン工程A :2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9,10−トリメトキシベンゾ[ e]アズレン−4(1H)−オン 製造例2において得られる化合物60g、1,2−ジクロルエタン600ミリ リットル、2N苛性ソーダ342ミリリットル、臭化テトラブチルアンモニウム 1,2g及び硫酸ジメチル33ミリリットルを20℃において2時間30分撹拌 する。次いで過剰分の硫酸ジメチルを分解するためにトリエチルアミン39ミリ リットルを導入し、20℃±2℃において1時間撹拌する。脱イオン水342ミ リリットルを添加し、次いで20℃±2℃において15分間撹拌し、デカンテー ションし、水性相を120ミリリットルずつの1,2−ジクロルエタンで2回再 抽出する。1,2−ジクロルエタン相を一緒にし、240ミリリットルずつの脱 イオン水で4回洗浄し、次いで300ミリリットルの1N塩酸で1回洗浄し、次 いで240ミリリットルずつの脱イオン水で3回(中性が得られるまで)洗浄す る。有機相を一緒にし、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、常圧下で83℃に おいて残留容積480ミリリットルまで濃縮する。工程B :2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9,10−トリヒドロキシベンゾ [e]アズレン−4(1H)−オン 工程Aにおいて得られた溶液480ミリリットルを無水塩化アルミニウム10 2.3gと一緒に1時間加熱還流する。この媒体を0℃±2℃に冷却し、次いで 脱イオン水600ミリリットルと純(濃)硫酸192ミリリットルとの前もって 約0℃に冷却しておいた混合物を反応媒体の温度を20℃以下に保ちながら2時 間かけて添加する。20℃±2℃において脱イオン水300ミリリットルを5分 かけて導入し、20℃±2℃において16時間撹拌し、次いで分離し、60ミリ リットルずつの1,2−ジクロルエタンで2回洗浄し、次いで脱イオン水で洗浄 し、減圧下で乾燥させて、目的化合物52.2gが得られた。製造例2 :8,9−ジメトキシ−10−ヒドロキシ−2,3,5,6−テトラヒ ドロベンゾ[e]アズレン−4(1H)−オン工程A :3,4−ジメトキシ−5−[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オ キシ]ベンゼンプロパン酸 3,4−ジメトキシ−5−[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オキシ] 桂皮酸(その製造は後記する)29,76g、炭酸カリウム43.5g、メタノ ール60ミリリットル及び10%パラジウム担持活性炭1.48gを用いて製造 例1の工程Aにおけるように操作を実施する。こうして目的化合物28.23g が無色の結晶の形で得られた。融点48〜149℃。 UVスペクトル(EtOH) M=380.4について max 226nm ε=22100 infl 263nm ε= 2000 infl 269nm ε= 2400 max 274nm ε= 2800 infl 279nm ε= 2500 infl 307nm ε= 450 NMRスペクトル(CDCl3) 2.45(s) CH3 2.61(m) =C−CH2−CH2−C= 2.86(m) 3.68(s) 2 CH3O−C= 3.81(s) 6.61(d、j=2) 6.65(d、j=2) H4、H6 7.32(wd) H3、H5 7.80(wd) H2、H6 工程B :3,4−ジメトキシ−5−[[(4−メチルフエニル)スルホニル]オ キシ]ベンゼンプロパノイルクロリド 工程Aにおいて得られた化合物1.9g、塩化メチレン9.5ミリリットル及 び塩化チオニル0.7ミリリットルを用いて製造例1の工程Bにおけるように操 作を実施する。目的化合物2.24gが得られ、これをそのまま次の工程で用い た。工程C :2−[3−[3,4−ジメトキシ−5−[[(4−メチルフェニル)ス ルホニル]オキシ]フェニル]−1−オキシプロピル]シクロペンタノン 工程Bにおいて得られた酸クロリド2.24gから出発し、1−(N−モルホ リニル)シクロペンテン(製造例1の工程Cにおいて製造)770mg、塩化メ チレン6ミリリットル及びトリエチルアミン0.77ミリリットルを用いて製造 例1の工程Cにおけるように操作を実施する。ジイソプロピルエーテルから再結 晶した後に、目的化合物1.27gが得られた。融点=84℃。 IRスペクトル(CHCl3) カルボニル:{1742cm-1 O−SO2 {1374cm-1 {1709cm-1 1178cm-1 1658cm-1 C=C + 芳香族{1608cm-1 1599cm-1 1586cm-1 1 508cm-1 NMRスペクトル(CDCl3) 2.44(s) CH3−O 3.67(s) } 2 OCH3 3.79(s) 3.81(s)} 6.59〜6.65(m) Oのオルト位の芳香族2H 7.32(wd) H3、H5 7.89(wd) H2、H6 13.58(幅広m) エノール形のOH 1.8〜3.4(m) 10〜11H 他のプロトン UVスペクトル 1−EtOH(+ジオキサン) M=446.52について max 225nm ε=23000 max 282nm ε= 7900 infl 270、277、290、300、313nm 2−EtOH(0.1N NaOH) max 310nm ε=21600 infl 268、272、276nm工程D :1−(2−クロル−1−シクロペンテン−1−イル)−3−[3,4− ジメトキシ−5−[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オキシ]フェニル] プロパン−1−オン 工程Cにおいて得られた化合物8.7g、クロロホルム70ミリリットル及び 塩化オキサリル3.5ミリリットルを用いて製造例1の工程Dにおけるように操 作を実施する。ジイソプロピルエーテルから結晶化させた後に、目的化合物7. 75gが得られた。融点73℃。この化合物をそのまま次の工程で用いた。 分析試料は、塩化メチレン2.5容及びジイソプロピルエーテル5容から再結 晶し、次いで3容に濃縮し、分離し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、減圧下 で周囲温度において乾燥させることによって得た。融点77〜78℃。 IRスペクトル(CHCl3) カルボニル:{1659cm-1 芳香族C=C:{1599cm-1−1586cm-1−1508cm-1 UVスペクトル(EtOH) max 227nm ε=26100 infl 248nm ε=12800 infl 272nm ε= 5300 infl 280nm ε= 3200 infl 320nm NMRスペクトル(CDCl3) 1.93(m) 中央の−C−CH2−C−} 2.69(m)}C−CH2−C= } 2.81(m)} } 2.85(t、j=7.5)}その他の=C−CH2−C 3.08(t、j=7.5)} 2.44 CH3-C= 3.68} OCH3 3.81} 6.59(d、j=2) 芳香族のCH 6.68(d、j=2) メタ結合 7.31(d、j=8)} 7.80(d、j=8)}工程E :8,9−ジメトキシ−10−[[(4−メチルフェニル)スルホニル] オキシ]−2,3,5,6−テトラヒドロベンゾ[e]アズレン−4(1H)− オン 工程Cにおいて得られた化合物2.32gを1,2−ジクロルエタン50ミリ リットル中に含有させた溶液に周囲温度において98%塩化第二鉄1.65gを 添加する。この混合物を周囲温度において48時間撹拌し、次いで氷と水との混 合物中に注ぎ、15分間激しく撹拌し、次いで塩化メチレンで抽出し、抽出物を 水で洗浄し、次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄する。乾燥させて減圧下で 蒸発乾固させた後に、粗製化合物2.15gが得られ、これをクロマトグラフィ ー(溶離剤は50%酢酸エチル含有シクロヘキサン)にかけて生成物1.8gが 採集され、これを再びクロマトグラフィーにかけ、クロロホルムとジイソプロピ ルエーテルとの混合物から再結晶して、目的化合物720mgが得られた。融点 =138℃。 IRスペクトル(CHCl3) カルボニル:{1650cm-1 {1599cm-1 C=C + {1556cm-1 芳香族 {1512cm-1−1498cm-1 UVスペクトル(EtOH) max 230nm ε=25300 infl 254nm ε= 9400 max 323nm ε=10300 NMRスペクトル(CDCl3) 〜1.61(m) (2H) 中央のCH2 〜2.41 Ph−CH3 3.88(s)} OCH3 3.90(s)} 6.74 H4 7.21 (d)} C−Ph−SO2 7.64(d)}工程F :8,9−ジメトキシ−10−ヒドロキシ−2,3,5,6−テトラヒド ロベンゾ[e]アズレン−4(1H)−オン 上記の工程Eにおいて得られた化合物350g、メタノール1750ミリリッ トル、脱イオン水350ミリリットル及び純苛性ソーダアルカリ液(濃厚物)3 50ミリリットルの混合物を2時間加熱還流する。この反応媒体を約2℃±2℃ に冷却し、濃塩酸467ミリリットルを温度を2℃±2℃に保ちながら45分か けて導入する。次いで温度を2℃±に保ちながら脱イオン水1645ミリリット ルを10分かけて添加し、次いでこの反応媒体を依然として2℃±2℃において 30分間撹拌する。生成した結晶を分離し、20℃において700ミリリットル ずつの脱イオン水で5回清澄化することによって洗浄し、次いで減圧下で40℃ において乾燥させて、目的化合物199.1gが得られた。製造例2の出発時に用いた3,4−ジメトキシ−5−[[(4−メチルフェニル )スルホニル]オキシ]桂皮酸の製造例 工程A :3,4−ジメトキシ−5−[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オ キシ]安息香酸メチル 没食子酸メチル200gと塩化メチレン2リットルとの撹拌された混合物に周 囲温度においてトリエチルアミン303ミリリットルを10分かけて添加する。 溶解させた後に、この反応媒体を0〜5℃に冷却し、次いでジクロルジメチルシ ラン130ミリリットルをこの温度において1時間かけて添加し、さらに30分 間この温度において撹拌する。温度を0〜5℃に保ちながら、トリエチルアミン 303.2ミリリットルを25分かけて添加し、次いで塩化トシル227.6g を15分かけて添加する。0〜5℃において1時間撹拌を続け、撹拌下で酢酸2 00ミリリットル及び脱イオン水500ミリリットルを10分かけて添加しなが ら温度を20〜22℃に上昇させ、20℃において15分間撹拌を続ける。減圧 下で塩化メチレンを一定容量(3.3リットル)で蒸留して脱イオン水に置き換 え、20℃において2時間撹拌し、次いで分離し、脱イオン水で洗浄して、3, 4−ジヒドロキシ−5−[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オキシ]安息 香酸メチル(3−トシル没食子酸メチル)523g(減衰重量)が得られた。得 られた減衰化合物を2N苛性ソーダ2.17リットル及び塩化メチレン2.17 リットル中に取り出す。溶解するまで20℃において撹拌し、次いで臭化テトラ ブチルアンモニウム18gを20℃において添加し、次いで20℃において15 分かけて硫酸ジメチル237ミリリットルを添加する。この反応媒体を20〜2 2℃において1.5時間撹拌する。20〜22℃においてトリエチルアミン78 ミリリットルを添加し、20〜22℃において一晩撹拌し、次いでデカンテーシ ョンし、脱イオン水400ミリリットルで洗浄し、純酢酸20ミリリットルを有 機相に添加し、次いで15分間撹拌し、脱イオン水400ミリリットルを添加し 、次いでデカンテーションする。有機相を一緒にして最初に大気圧下で、次いで 40mmHgの減圧下で60℃以上の温度において濃縮乾固させる。メタノール 400ミリリットルを用いて飛沫同伴を実施し、次いで得られた乾燥抽出物をメ タノール600ミリリットル中に取り出し、化合物が完全に溶解するまで加熱還 流し、次いで0〜5℃に冷却し、この温度において1時間撹拌する。分離し、− 10℃において200ミリリットルずつのメタノールで2回洗浄し、減圧下で4 0℃において乾燥させた後に、こうして3,4−ジメトキシ−5−[[(4−メ チルフェニル)スルホニル]オキシ]安息香酸メチル330.4gが採集された 。この粗製生成物をトルエン330ミリリットルから再結晶することによって精 製する。−10℃において2時間撹拌した後に、分離を実施し、次いで82ミリ リットルずつのトルエンで2回洗浄し、−15℃に冷却し、40℃において減圧 下で乾燥させて、精製された目的化合物230.3gが得られた。工程B :3,4−ジメトキシ−5−[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オ キシ]桂皮酸 (a)トルエン600ミリリットルを0℃に冷却し、トルエン中70%のvitrid e(登録商標)溶液202ミリリットルを0℃において添加し、モルホリン67 .6ミリリットルを0〜2℃において1時間かけて添加し、温度を18℃に上昇 させる。こうして得られた溶液を即座に次の工程に用いる。 (b)工程Aにおいて得られた3,4−ジメトキシ−5−[[(4−メチルフェ ニル)スルホニル]オキシ]安息香酸メチル200g及びトルエン1400ミリ リットルを20〜22℃において10分間、完全に溶解するまで撹拌する。上で 得られた試薬の溶液を10℃において1時間かけて添加する。1時間撹拌を続け ながら温度を18℃に上昇させる。濃硫酸200ミリリットルと脱イオン水10 00ミリリットルとの10℃に冷却した溶液を10℃において1時間かけて導入 する。20℃において16時間撹拌し、次いで有機相をデカンテーションし、2 00ミリリットルずつの脱イオン水で5回洗浄し、乾燥させ、濾過し、100ミ リリットルずつの塩化メチレンで3回洗浄する。こうして得られた中間体のアル デヒドの溶液をそのまま次の工程で用いた。 (c)上で得られた中間体のアルデヒドの溶液、2−ピコリン200ミリリット ル、マロン酸120g及びピペリジン20ミリリットルを70℃±2℃において 16時間加熱する(常圧下で塩化メチレンを除去しながら)。この反応媒体を2 0〜22℃に冷却し、この温度を保ちながら濃塩酸200ミリリットルと脱イオ ン水400ミリリットルとの溶液を15分かけて添加する。20〜22℃におい て2時間撹拌し、次いで0℃に冷却した後に、生成した結晶を分離し、脱イオン 水で洗浄し、減圧下で40℃において乾燥させて、所期の3,4−ジメトキシ− 5−[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オキシ]桂皮酸171.7gが得 られた。製造例3 :9,10−ジメトキシ−8−ヒドロキシ−2,3,5,6−テトラヒ ドロベンゾ[e]アズレン−4(1H)−オン工程A :9,10−ジヒドロキシ−8−[[(4−メチルフェニル)スルホニル ]オキシ]−2,3,5,6−テトラヒドロベンゾ[e]アズレン−4(1H) オン 製造例1又は1aに従って得られた2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9, 10−トリヒドロキシベンゾ[e]アズレン−4(1H)−オン30g、テトラ ヒドロフラン300ミリリットル、トリエチルアミン60ミリリットル及び硼酸 トリメチル12.9ミリリットルを20℃±2℃において1時間30分撹拌する 。塩化トシル30gを添加し、20℃±2℃において16時間撹拌し、次いで2 0℃±2℃において10分間撹拌し、この反応媒体を脱イオン水900ミリリッ トルと濃塩酸150ミリリットルとの撹拌された混合物中に注ぎ、次いでテトラ ヒドロフラン90ミリリットル及び塩化メチレン60ミリリットルを添加する。 得られた溶液を20℃において1時間撹拌し、次いで塩化メチレン150ミリリ ットルを導入し、15分間撹拌し、次いでデカンテーションし、75ミリリット ルずつの塩化メチレンで2回再抽出する。有機相を一緒にして150ミリリット ルずつの脱イオン水で4回洗浄し、塩化メチレン75ミリリットルで再抽出し、 20ミリバールの減圧下で50℃において蒸留が停止するまで濃縮した後に、目 的化合物47.6gが得られた。工程B :9,10−ジメトキシ−8−[[(4−メチルフェニル)スルホニル] オキシ]−2,3,5,6−テトラヒドロベンゾ[e]アズレン−4(1H)− オン 上で得られた化合物47.6g、塩化メチレン300ミリリットル、2N苛性 ソーダ300ミリリットル、臭化t−ブチルアンモニウム0.6g及び硫酸ジメ チル30ミリリットルを20℃において16時間撹拌する。次いで過剰分の硫酸 ジメチルを分解するためにトリエチルアミン30ミリリットルを導入し、この反 応媒体を20℃±2℃においてさらに1時間撹拌し、次いで脱イオン水150ミ リリットルを添加し、15分間撹拌を続け、次いでデカンテーションする。水性 相を75ミリリットルずつの塩化メチレンで2回再抽出し、有機相を一緒にして 120ミリリットルずつの脱イオン水で3回洗浄し、次いで1N塩酸120ミリ リットルで洗浄し、120ミリリットルずつの脱イオン水で3回洗浄し、有機相 を一緒にして硫酸ナトリウムで乾燥させ、次いでシリカゲル(60メッシュ)1 20gを20℃±2℃において撹拌しながら1時間かけて添加し、20℃におい てさらに1時間撹拌し、次いで濾過し、塩化メチレンで洗浄し、減圧下で50℃ において濃縮乾固させて、目的化合物47.4gが得られた。この粗製生成物を エタノール390ミリリットルから再結晶することによって精製し、エタノール 90ミリリットルを蒸留した後に0O℃±2℃において撹拌する。残渣を分離し 、0℃においてエタノール30ミリリットルで洗浄し、次いで減圧下で40℃に おいて乾燥させて、目的化合物41.1gが得られた。融点=129℃。工程C :9,10−ジメトキシ−8−ヒドロキシ−2,3,5,6−テトラヒド ロベンゾ[e]アズレン−4(1H)−オン 工程Bにおいて得られた9,10−ジメトキシ−8−[[(4−メチルフェニ ル)スルホニル]オキシ]−2,3,5,6−テトラヒドロベンゾ[e]アズレ ン−4(1H)−オン10g及びメタノール100ミリリットルを含有させた懸 濁液に苛性カリ4.5gを添加し、次いでトリエチルアミン10ミリリットルを 添加する。この反応媒体を1時間加熱還流し、酢酸20ミリリットルを添加する ことによって酸性にし、次いで水20ミリリットルを添加する。ジクロルメタン で抽出し、抽出物を水で洗浄し、溶媒を減圧下で40℃において蒸発させて、所 期の化合物5.7gが採集された。製造例4 :2,3,5,6−テトラヒドロ−8−ヒドロキシ−9−メトキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン及び2,3,5,6−テトラヒドロ−9− ヒドロキシ−8−メトキシベンゾ[e]アズレン−4(1H)−オン 3−(3,4−ジメトキシフェニル)プロピオン酸から出発して製造例2の工 程B、C、D、E及びFと同等の態様で操作を実施してモノヒドロキシル化化合 物の混合物(8−OH/9−OMe及び9−OH/8−OMe)を含有する粗製 生成物1.08gが得られ、これをシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤 はシクロヘキサンと酢酸エチルとの比7:3の混合物)によって分離する。こう して次の2種のレジオ異性体が得られた。 8−OH/9−OMe 0.494g Rf(シクロヘキサン/酢酸エチル、比6/4)=0.42 8−OMe/9−OH 0.041g Rf(シクロヘキサン/酢酸エチル、比6/4)=0.33製造例5 :2,3,5,6−テトラヒドロ−8−ヒドロキシ−10−メトキシベ ンゾ[e]アズレン−4(1H)−オン及び2,3,5,6−テトラヒドロ−1 0−ヒドロキシ−8−メトキシベンゾ[e]アズレン−4(1H)−オン 3−(3,5−ジメトキシフェニル)プロピオン酸から出発して製造例2の工 程B,C,D、E及びFと同等の態様で操作を実施してモノヒドロキシル化化合 物の混合物(8−OH/10−OMe及び10−OH/8−OMe)並びにジヒ ドロキシル化化合物(8−OH/10−OH)を含有する生成物1.428gが 得られ、これらをシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤はシクロヘキサン と酢酸エチルとの比7:3の混合物)によって分離した。製造例6 :2,3,5,6−テトラヒドロ−9−ヒドロキシベンゾ[e]アズレ ン−4(1H)−オン 3−(4−メトキシフェニル)プロピオン酸から出発して製造例2の工程B、 C、D、E及びFと同等の態様で操作を実施して、所期の化合物0.448gが 得られた。脱メチルは三臭化硼素を用いて実施した。 Rf=0.15(シクロヘキサン/酢酸エチル、比7/3)製造例7 :2,3,5,6−テトラヒドロ−8−ヒドロキシベンゾ[e]アズレ ン−4(1H)−オン 3−(3−メトキシフエニル)プロピオン酸10.0gから出発して製造例2 の工程B、C、D、E及びFと同等の態様で操作を実施して、所期の化合物2. 9gが得られた。脱メチルは三臭化硼素を用いて実施した。 Rf=0.15(シクロヘキサン/酢酸エチル、比95/5)製造例8 :(DL)−4−ブロム−2−(フェニルメトキシカルボニルアミノ) ブタン酸のメチルエステル 24%臭化水素ガス含有酢酸200ミリリットル中の2−アミノ−4−ブチロ ラクトン臭化水素酸塩25gを密閉チャンバー内で120℃において18時間撹 拌する。この反応媒体を周囲温度に冷却し、大気圧に戻し、減圧下で濃縮し、残 渣をメタノール200ミリリットル中に取り出し、次いで温度を35℃以下に保 ちながら塩酸流を2時間吹き込む。減圧下で溶媒を蒸発させ、2−アミノ−4ー ブロムブタン酸のメチルエステルが得られ、これをアセトン250ミリリットル 及び水100ミリリットル中に取り出し、この溶液を2N苛性ソーダを用いて中 和し、次いでクロル蟻酸ベンジル35ミリリットルをゆっくり添加する。48時 間撹拌し、次いで濾過し、酢酸エチルで抽出し、溶媒を蒸発させ、残渣をシリカ を用いたクロマトグラフィー(溶離剤はシクロヘキサンと酢酸エチルとの比7: 3の混合物)にかけて、所期の化合物27.9gが回収された。融点=90℃。製造例9 :4−ブロム−2−(t−ブトキシカルボニルアミノ)ブタン酸のメチ ルエステル 製造例8において製造した2−アミノ−4−ブロムブタン酸のメチルエステル 5.7gを、トリエチルアミン24ミリリットル及びジ−t−ブチルジカーボネ ート9gと共にメタノール120ミリリットル中で周囲温度において48時間撹 拌する。溶媒を蒸発させ、残渣を水及びジクロルメタン中に取り出し、次いで濾 過し、ジクロルメタンで抽出し、溶媒を蒸発させ、残渣をシリカを用いたクロマ トグラフィー(溶離剤はシクロヘキサンと酢酸エチルとTEAの比7:3:0. 5の混合物)にかけて、所期の化合物1.575gが得られた。 Rf=0.52。製造例10 :4−(3−ピリミジニル)−1H−イミダゾール−1−プロパノー ル ナトリウムエチラート505mgをジメチルホルムアミド12.5ミリリット ルと混合し、3−(1H−イミダゾール−4−イル)ピリジン1gを添加し、次 いでクロルプロパノール0.64ミリリットルを添加し、55℃において16時 間撹拌を実施する。溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣をクロマトグラフィー(溶離 剤は塩化メチレンとメタノールとの比98:2の混合物)にかけて、所期の化合 物1.015gが回収された。 IRスペクトル(CHCl3) OH 3626cm-1+関連 複素環 1601、1578、1551、1499cm-1 製造例11 :ヘキサヒドロ−2H−1,3−ジアゼピン−2−オンヒドラゾン ニトログアニジン3.3g、水7ミリリットル、苛性カリ3.47g及びジア ミン二塩酸塩5gを含有させた懸濁液を65〜70℃に1時間加熱する。亜鉛1 0.5gを添加し、周囲温度において30分間撹拌し、次いで酢酸2ミリリット ルを添加し、この全体を40℃に1時間加熱し、次いで濾過し、塩化アンモニウ ム3gを添加し、次いで重炭酸ナトリウム4gを添加する。ジクロルメタンで抽 出し、溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶 離剤は塩化メチレンとメタノールとNH4OHとの比8:4:2の混合物)にか けて、所期の化合物1.650gが回収された。製造例12 :3a,4,5,6,7,7a−ヘキサヒドロ−2−(プロピルチオ )−1H−ベンゾイミダゾール一臭化水素酸塩 オクタヒドロ−2H−ベンゾイミダゾール−2−チオン1g及びブロムプロパ ン1.3ミリリットルをエタノール20ミリリットル中で完全に溶解するまで加 熱還流する。溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣を最少量のジクロルメタン中に取り 出し、イソプロピルエーテルを添加し、溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣をイソプ ロピルエーテルから再結晶し、分離し、乾燥させて、所期の化合物が得られた。 収率95%。融点=136℃。例1 :7−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジ メトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘサヒドロベンゾ(e)アズレン−8−イ ル)オキシ)ヘプタン酸工程A :7−(4−オキソ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6 −ヘキサヒドロベンゾ(e)アズレン−8−イル)オキシ)ヘプタン酸のメチル エステル 2,3,5,6−テトラヒドロ−8−ヒドロキシ−9,10−ジメトキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン(製造例3)0.684g、ジメチルホル ムアミド(DMF)12ミリリットル、テトラヒドロフラン(THF)12ミリ リットル、炭酸カリウム0.7g及び7−ブロムエナント酸メチル0.835g を含有させた懸濁液を40℃において4時間撹拌する。減圧下で蒸発させた後に 、粗製生成物をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとア セトンとの比95:5の混合物)にかける。こうして精製化合物1.000gが 黄色油状物の形で得られた。 Rf(塩化メチレン/アセトン、比95/5)=0.5。 IR(CHCl3) C=O 1732cm-1 CMe 1438cm-1 共役ケトン 1641cm-1 C=C + 芳香族 1592cm-1、1557cm-1、1492cm-1 工程B :7−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10− ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロベンゾ(e)アズレン−8 −イル)オキシ)ヘプタン酸のメチルエステル 前の工程Aの生成物0.5g、エタノール5ミリリットル及びアミノグアニジ ン塩酸塩0.330gを含有させた懸濁液を周囲温度において48時間撹拌し、 溶媒を減圧下で蒸発させ、粗製生成物をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶 離剤は塩化メチレンとメタノールと水酸化アンモニウムとの比80:20:4の 混合物)によって精製する。こうして精製化合物0.466gが白色ムース状物 の形で得られた。 Rf(塩化メチレン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80/20/4)= 0.8。 IR(Nujol法) NH/NH2 3495cm-1、3155cm-1十関連 C=O 1731cm-1 C=N 1674cm-1 C=C 1625cm-1 芳香族 1595cm-1(F) NH/NH2 1534cm-1、1491cm-1 工程C :7−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10− ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロベンゾ(e)アズレン−8 −イル)オキシ)ヘプタン酸 前の工程で得られた化合物0.44g、エタノール5ミリリットル及び1N苛 性ソーダ2ミリリットルを含有させた溶液を周囲温度において3時間撹拌し、次 いでこれを1N塩酸2ミリリットルで中和する。減圧下で蒸発させた後に、粗製 生成物をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとメタノー ルと水酸化アンモニウムとの比80:20:4の混合物)によって精製する。こ うして精製化合物0.192gが得られ、メタノールから再結晶した。 Rf(塩化メチレン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80/20/4)= 0.17。 NMR(D2O+1N苛性ソーダ1滴) 3.92 wt 2H C 2−O 2.17 t 2H C 2−COOH 1.34 m 4H 1.55 m 2H 中央のCH2+ CH2−C= 1.70 m 4H 2.50〜2.90 m 8H 6.62 S 1H 芳香族H7 3.64 S 3H OC 3 3.73 S 3H OC 3 微量分析 計算値(%) C 62.86 H 7.47 N 12.21 実測値(%) C 62.9 H 7.5 N 12.1 2,3,5,6−テトラヒドロ−8−ヒドロキシ−9,10−ジメトキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン(製造例3)から出発し、様々なアルキル 化用基及びG−NH2基を用いて例1の工程A、B及びCと同等の態様で操作を 実施することによって、式(I)の次の化合物を製造した。例2 :4−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジ メトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロベンゾ(e)アズレン−8− イル)オキシ)ブタン酸例3 :4−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジ メトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロベンゾ(e)アズレン−8− イル)オキシ)ペンタン酸例4 :5−((4−(((アミノ)カルボニル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメ トキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル )オキシ)ペンタン酸例5 :6−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジ メトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニ ル)オキシ)ヘキサン酸例6 :5−((9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾノ)− 8−ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ペンタン酸例7 :5−((4−(((アミノ)チオカルボニル)ヒドラゾノ)−9,10− ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレ ニル)オキシ)ペンタン酸例8 :6−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ヘキサン酸例9 :5−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−9、10−ジ メトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニ ル)オキシ)−3,3−ジメチル−4−オキソペンタン酸例10 :5−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル) ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −8−ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)−3,3−ジメチル−4−オキソペン タン酸例11 :4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル) ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −8−ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ブタン酸例12 :4−((9,10−ジメトキシ−4−((1,4,5,6−テトラヒド ロ−2−ピリミジニル)ヒドラゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −8−ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ブタン酸例13 :2−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル) ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −8−ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)エタン酸例14 :3−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル) ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −8−ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)プロパン酸 次の表中、Rfはジクロルメタン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80 /20/4を用いて測定したものである。 例15:5−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10− ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロベンゾ(e)アズレン−8 −イル)オキシ)ペンタン酸塩酸塩 例3の化合物86mgを水2ミリリットル及び0.1N塩酸4リットルと混合 し、次いで数分後にこの媒体を凍結乾燥させる。所期の塩91mgが得られた。例16 :4−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−8,9−ジ メトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−10−ベンゾ(e)アズレ ニル)オキシ)ブタン酸例17 :5−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−8,9−ジ メトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−10−ベンゾ(e)アズレ ニル)オキシ)ペンタン酸 2,3,5,6−テトラヒドロ−10−ヒドロキシ−8,9−ジメトキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン(製造例2)から出発して例1の工程A、 B及びCにおけるように操作を実施する。 例18:4−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−8,10− ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−9−ベンゾ(e)アズレ ニル)オキシ)ブタン酸例19 :5−((4−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−8,10− ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−9−ベンゾ(e)アズレ ニル)オキシ)ペンタン酸 2,3,5,6−テトラヒドロ−9−ヒドロキシ−8,10−ジメトキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オンから出発して例1の工程A、B及びCにお けるように操作を実施する。 例20:4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル) ヒドラゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−9−ベンゾ(e)アズ レニル)オキシ)ブタン酸工程A :4−(4−オキソ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロベンゾ( e)アズレン−9−イル)オキシ)ブタン酸のエチルエステル 2,3,5,6−テトラヒドロ−9−ヒドロキシベンゾ[e]アズレン−4( 1H)−オン(製造例6)0.6g、ジメチルホルムアミド(DMF)12ミリ リットル、テトラヒドロフラン(THF)12ミリリットル、炭酸カリウム0. 7g及びブロム酪酸エチル0.7ミリリットルを含有させた懸濁液を周囲温度に おいて一晩撹拌する。減圧下で蒸発させた後に、粗製生成物をシリカを用いたク ロマトグラフィー(溶離剤はジクロルメタンとアセトンとの比95:5の混合物 )にかける。こうして精製された化合物0.608gが黄色油状物の形で得られ た。 IR(CHCl3) C=O 1728cm-1 共役ケトン 1641cm-1 芳香族C=C 1610cm-1、1590cm-1、1569cm-1、1499 cm-1 工程B :4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル) ヒドラゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロベンゾ(e)アズレン− 9−イル)オキシ)ブタン酸のエチルエステル 前の工程Aの生成物608mg、ブタノール10ミリリットル及び次の環状ア ミノグアニジン臭化水素酸塩:(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2− イル)ヒドラジン600mgを還流下で25時間撹拌し、溶媒を減圧下で蒸発さ せ、粗製生成物をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンと メタノールと水酸化アンモニウムとの比80:20:4の混合物)によって精製 する。こうして所期の化合物0.604gが得られた。 IR(CHCl3) =C−NH− 3451cm-1 C=O 1728cm-1 C=N + C=C + 芳香族:1627cm-1(F)、1568cm-1、 1548cm-1、1497cm-1、1488cm-1 工程C :4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル) ヒドラゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロベンゾ(e)アズレン− 9−イル)オキシ)ブタン酸 前の工程で得られた化合物0.604g、エタノール8ミリリットル、テトラ ヒドロフラン5ミリリットル及び2N苛性ソーダ2ミリリットルを含有させた溶 液を周囲温度において4時間撹拌し、次いでこれを塩酸2ミリリットルで中和す る。減圧下で蒸発させた後に、粗製生成物をシリカを用いたクロマトグラフィー (溶離剤はジクロルメタンとメタノールと水酸化アンモニウムとの比80:20 :4の混合物)によって精製する。こうして精製された化合物0.298gが得 られ、メタノールから再結晶した。 Rf(ジクロルメタン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80/20/4) =0.2。 NMR(D2O+1N苛性ソーダ1滴) 1.71(w)2H O−CH2−C 2−CH2−CO 1.96(m)2H シクロペンテンの2位のCH2 2.30(t)2H C 2−CO 2.50〜2.75 8H C 2−C= 3.45(ws) 4H C 2−N= 3.89(wt) 2H Ph−O−C 2−C 6.70(m)2H H10及びH8 7.00(d、J=8) H7 例21 :4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル) ヒドラゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズ レニル)オキシ)ブタン酸 2,3,5,6−テトラヒドロ−8−ヒドロキシベンゾ[e]アズレン−4( 1H)−オン(製造例7)0856gから出発して例20におけるように操作を 実施して、所期の化合物0.299gが得られた。 Rf(ジクロルメタン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80/20/4) =0.27。例22 :5−((8−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−6,7,8 ,9,10,11−ヘキサヒドロアズレノ(5,6−d)−1,3−ベンゾジオ キソール−4−イル)オキシ)ペンタン酸工程A :5−(((4−オキソ)−9,10−ジヒドロキシ−1,2,3,4, 5,6−ヘキサヒドロベンゾ(e)アズレン−9−イル)オキシ)ペンタン酸の エチルエステル (1)保護 2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9,10−トリヒドロキシベンゾ[e] アズレン−4(1H)−オン(製造例1)10gをテトラヒドロフラン100ミ リリットル中に含有させた溶液に不活性雰囲気下において温度を37〜39℃の 範囲に保ちながらトリメトキシボレート4.42ミリリットル及びトリエチルア ミン20.4ミリリットルを添加し、次いでこの反応媒体を周囲温度において3 時間撹拌する。 (2)アルキル化及び脱保護 次に5−ブロム吉草酸エチル9.7ミリリットル、ジメチルホルムアミド10 0ミリリットル及び炭酸カリウム8.4gを添加し、60℃において2日間撹拌 する。次いでこの反応混合物を水120ミリリットル及び36N濃塩酸50ミリ リットルで処理し、1時間撹拌し、酢酸エチルを添加し、有機相と水性相とを分 離する。次いで有機相を洗浄し、乾燥させ、減圧下で蒸発させる。粗製化合物が 得られ、これをシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤はシクロヘキサンと 酢酸エチルとの比70:30の混合物)によって精製する。純粋な所期の化合物 5.2gが得られた。 Rf(ジクロルメタン/メタノール、比95/5)=0.82。 Rf(シクロヘキサン/酢酸エチル、比70/30)=0.23。工程B :5−(((8−オキソ)−6,7,8,9,10,11−ヘキサヒドロ アズレノ(5,6−d)−1,3−ベンゾジオキソール−4−イル)オキシ)ペ ンタン酸のエチルエステル 前の工程で得られた化合物2.5g、ジメチルホルムアミド17ミリリットル 、CsF3.6g及びジブロムメタン1.4ミリリットルを不活性雰囲気下で6 0℃において1時間混合する。濾過し、メタノールですすいだ後に、減圧下で蒸 発させ、粗製生成物をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤はシクロヘキ サンと酢酸エチルとの比85:15の混合物)によって精製する。純粋な所期の 化合物1.73gが得られた。融点=118℃。 Rf(シクロヘキサン/酢酸エチル、比80/20)=0.25。工程C :5−((8−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−6,7,8 ,9,10,11−ヘキサヒドロアズレノ(5,6−d)−1,3−ベンゾジオ キソール−4−イル)オキシ)ペンタン酸のエチルエステル 前の工程で得られた化合物551mg及びアミノグアニジン塩酸塩467mg を120℃において一晩混合し、次いでクロマトグラフィー(溶離剤はジクロル メタンとメタノールと水酸化アンモニウムとの比80:20:4の混合物)によ って精製する。所期の化合物174mgが得られた。 Rf(ジクロルメタン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80/20/4) =0.98。工程D :5−((8−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−6,7,8 ,9,10,11−ヘキサヒドロアズレノ(5,6−d)−1,3−ベンゾジオ キソール−4−イル)オキシ)ペンタン酸 前の工程で得られた化合物274mg及び1N苛性ソーダ1.86ミリリット ルを周囲温度において1時間30分間混合し、次いでこの混合物をIN塩酸溶液 で中和し、減圧下で蒸発させる。粗製生成物をクロマトグラフィー(溶離剤はジ クロルメタンとメタノールと水酸化アンモニウムとの比80:20:4の混合物 )によって精製する。所期の化合物141mgが得られた。 Rf(ジクロルメタン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80/20/4) =0.23。 NMR(DMSO) 1.55〜1.9(m) 4H O−CH2−C 2−C 2−CH2−CO 1.55〜1.9(m) 2H シクロペンテンの2位のCH2 2.26(t) 2H C 2−CO 2.65〜3.00(m) 8H C 2−C= 4.07(t) 2H O−C 2−CH2− 5.95(s) 2H −O−C 2−O 6.61(m) 1H H8 移動性H(幅広m) NH−C(=NH)−NH2 例23 :5−((8−(((アミノ)イミノメチル)ヒドラゾノ)−2,2−ジ フェニル−6,7,8,9,10,11−ヘキサヒドロアズレノ(4,5−e) −(1,3)−ベンゾジオキソール−4−イル)オキシ)ペンタン酸 前の例の工程Aにおいて得られた化合物374mg及びジフェニルジクロルメ タン0.19ミリリットルから出発して前の例におけるように操作を実施する。 所期の化合物198mgが得られた。 Rf(ジクロルメタン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80/20/4) =0.17。例24 :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−D L−ホモセリン工程A :O−[(4−オキソ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5, 6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ )カルボニル]−DL−ホモセリンのメチルエステル 2,3,5,6−テトラヒドロ−8−ヒドロキシ−9,10−ジメトキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン(製造例3)0.6g、ジメチルホルムア ミド(DMF)10ミリリットル、テトラヒドロフラン10ミリリットル、炭酸 カリウム1g及び製造例8に示したようにして製造した(DL)−4−ブロム− 2−(フェニルメトキシカルボニルアミノ)ブタン酸のメチルエステル0.86 7gを周囲温度において一晩撹拌する。減圧下で蒸発させた後に、粗製生成物を シリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとアセトンとの比9 5:5の混合物)にかける。こうして精製された化合物1.166gが黄色油状 物の形で得られた。 IR(CHCl3) C=O 1740cm-1(sh.)、1721cm-1 共役ケトン 1642cm-1 芳香族C=C 1593cm-1、1559cm-1、1508cm-1、1493 cm-1 工程B :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−D L−ホモセリンのメチルエステル 前の工程Aの生成物539mg、ブタノール15ミリリットル及び次の環状ア ミノグアニジン臭化水素酸塩:(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2− イル)ヒドラジン600mgを120℃において24時間撹拌し、溶媒を減圧下 で蒸発させ、粗製生成物をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メ チレンとメタノールと水酸化アンモニウムとの比80:20:4の混合物)によ って精製する。こうして所期の化合物0.641gが得られた。 IR(CHCl3) =C−NH− 3451cm-1+関連 C=O 1740cm-1(sh.)、1720cm-1(max) C=N + C=C + 芳香族 + アミドII:1667cm-1(F)、1 606cm-1、1508cm-1、1490cm-1 工程C :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−D L−ホモセリン 前の工程で得られた化合物0.6g、エタノール10ミリリットル及び2N苛 性ソーダ2ミリリットルを含有させた溶液を周囲温度において2時間撹拌し、次 いでこれを塩酸2ミリリットルで中和する。減圧下で蒸発させた後に、粗製生成 物をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとメタノールと 水酸化アンモニウムとの比80:20:4の混合物)によって精製する。こうし て精製された化合物0.349gが得られ、これをメタノールから再結晶した。 Rf(ジクロルメタン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80/20/4) =0.37。例25 :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ[e]アズレ ニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホモセリン 2,3,5,6−テトラヒドロ−9−ヒドロキシベンゾ[e]アズレン−4( 1H)−オン(製造例7)から出発して例24と同等の態様で操作する。所期の 化合物245mgが得られた。 Rf(ジクロルメタン/メタノール/水酸化アンモニウム、比80/20/4) =0.5。例26 :O−[4−[(1,2,3、4−テトラヒドロ−6−ピリミジニル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−D L−ホモセリン工程A :O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−[(1,4,5,6−テトラヒドロ−2−ピリミジニル)ヒドラゾノ]− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−D L−ホモセリンのメチルエステルの一臭化水素酸塩 例24の工程Aにおいて得られた化合物200mgをブタノール2ミリリット ル中に含有させたもの及びテトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノンヒドラゾン 一臭化水素酸塩74.5mgから出発して例24の工程Bにおけるように操作を 実施する。16時間加熱還流する。この反応媒体を周囲温度に戻し、ジクロルメ タンで抽出し、抽出物を乾燥させ、溶媒を減圧下で蒸発させて、所期の化合物1 52mgが得られた。工程B :O−[4−[(1,2,3、4−テトラヒドロ−6−ピリミジニル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−D L−ホモセリン 上記の工程Aにおいて得られた化合物131mgをエタノール1.3ミリリッ トル及び1N苛性ソーダ0.43ミリリットル中に含有させた溶液を用いて例2 4の工程Cにおけるように操作を実施する。この反応媒体を1N塩酸を添加する ことによって中和し、溶媒を蒸発させ、濾過し、乾燥させた後に、所期の化合物 78mgが得られた。融点=172℃。 NMRスペクトル(CDCl3) 1.90(m) (2H) 9位のCH2 2.03(m) 中央のCH2 2.36(m) (2H) 2.60〜3.00(8H) =C−CH2 3.48(wm)(4H) =N−CH2 3.77(s)、3.78(s) (9H) =C−OMe 4.01(m)(1H)、4.17 φ−O−CH2 4.67(p) =C−CH−N−C= 5.14(ws) COO−CH2−φ 6.13(d) =C−NH−CH 6.49(ws) H4 例27:O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−[(1,4,5,6−テトラヒドロ−2−ピリミジニル)ヒドラゾノ]− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−D L−ホモセリンの(2,3−ジヒドロプロピル)エステル工程A :O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−[(1,4,5,6−テトラヒドロ−2−ピリミジニル)ヒドラゾノ]− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−D L−ホモセリンの[(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)メ チル]エステル 例26におけるようにして製造した化合物0.3gをジメチルホルムアミド1 ミリリットル及びジクロルメタン1ミリリットル中に含有させたもの、1−(3 −ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩96mg並びに 1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物68mgを0℃に冷却する。この混合 物を周囲温度において30分間撹拌し、ソルケタール(solketal)0.06ミリ リットルを導入し、3時間30分撹拌を続ける。この反応媒体を水で希釈し、ジ クロルメタンで抽出して粗製生成物0.6gが回収され、これをシリカを用いた クロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとメタノールとの比90:10の混 合物)によって精製する。所期の化合物0.352gが得られた。 IRスペクトル(CHCl3) NH 3400cm-1 C=O 1745(sh)、1719cm-1 C=N、C=C } 芳香族、アミドII}1672(F)、1645、1597、1565(f)、 1507、1492cm-1 工程B :O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−テトラヒドロ −4−[(1,4,5,6−テトラヒドロ−2−ピリミジニル)ヒドラゾノ]− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−D L−ホモセリンの(2,3−ジヒドロキシプロピル)エステル 工程Aにおいて得られた化合物0.320gをエタノール3ミリリットル及び 2N塩酸1ミリリットル中で周囲温度において6時間撹拌する。溶媒を蒸発させ 、シリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとメタノールとN H4OHとの比80:20:4の混合物)にかけた後に、所期の化合物0.11 2gが得られた。 NMRスペクトル(CDCl3) 1.88(m) 2H } 1.98 } 中央のCH2及び9位のCH2 2.36 } 2.60〜3.10(8H) =C−CH2 3.43(m) 4H) =N−N−CH2 3.79(s) } 3.81 } φ−OMe 3.60〜3.9 } O−CH2−CH−O } φ−O−CH2−CH2 4.64(m)、1H =C−CH−N−C= 5.13(s) COO−CH2−φ 6.53(s) H4 7.20〜7.38 φ−C例28 :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(8−キノリニル)スルホニル]−DL −ホモセリン工程A :O−(9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−オキソ−8−ベンゾ(e)アズレニル)−N−[(1,1−ジメチルエト キシ)カルボニル]−DL−ホモセリンのメチルエステル 製造例3において製造した化合物4.1g及び製造例9において製造したエス テル5gをジメチルホルムアミド50ミリリットル及びテトラヒドロフラン50 ミリリットル中で炭酸カリウム5g及びジメチルアミノピリジンの存在下で周囲 温度において65時間撹拌する。溶媒を減圧下で蒸発させる。残渣をシリカを用 いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとアセトンとの比95:5の混 合物)によって精製して、所期の化合物7.3gが回収された。 IRスペクトル(CHCl3) =C−NH 3430cm-1 C=O 1744cm-1(メチルエステル) 1710cm-1(NH−BOC) 1648cm-1(共役ケトン) 芳香族+アミドII 1593、1559、1493cm-1 工程B :O−(9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−オキソ−8−ベンゾ(e)アズレニル)−DL−ホモセリンの一塩酸塩 工程Aにおいて製造した化合物6gを酢酸エチル10ミリリットル中に含有さ せた3つのロットに酢酸エチル中の塩酸10ミリリットルを添加し、次いで周囲 温度において16時間撹拌する。溶媒を減圧下で蒸発させて、所期の化合物0. 656gが得られ、これをそのまま次の工程で用いた。工程C :O−(9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−オキソ−8−ベンゾ(e)アズレニル)−N−[(8−キノリニル)スル ホニル]−DL−ホモセリン 上で得られた化合物0.656gをジクロルメタン5ミリリットル中に取り出 し、トリエチルアミン1ミリリットル及び8−クロルスルホニルキノリン0.6 38gを添加し、周囲温度において2時間撹拌する。減圧下で溶媒を蒸発させ、 シリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとメタノールとの比 95:5の混合物)にかけた後に、所期の化合物0.956gが回収された。工程D :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[(8−キノリニル)スルホニル]−DL −ホモセリンのメチルエステル 前の工程Aの生成物0.9g、ブタノール5ミリリットル及び次の環状アミノ グアニジン臭化水素酸塩:(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル )ヒドラジン0.6gを120℃において16時間撹拌し、溶媒を減圧下で蒸発 させて、所期の化合物0.786gが得られ、これをそのまま次の工程で用いた 。工程E :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(8−キノリニル)スルホニル]−DL −ホモセリン 前の工程で得られた化合物0.786g、メタノール5ミリリットル及び2N 苛性ソーダ2ミリリットルを含有させた溶液を周囲温度において2時間撹拌し、 次いで2N塩酸2ミリリットルで中和し、10分間撹拌を続ける。減圧下で蒸発 させた後に、粗製生成物をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メ チレンとメタノールと水酸化アンモニウムとの比80:20:4の混合物)によ って精製する。メタノールから再結晶した後に、所期の化合物0.438gが得 られた。 Rf=0.40(塩化メチレン−メタノール−NH4OH、比80−20−4) 。 NMRスペクトル(DMSO) 1.81(ws) 9位のCH2 2.40〜3.20 =C−CH2 3.35(w) =N−CH2 3.55(ws) =C−OMe 6.63(ws) H4 7.58(dd) H'3 7.67(t) H'6 8.19(d)、8.29(d) H'5及びH'7 8.45(d) H4 8.90(d) H2 7.31(ws) } 7.97 } 移動性H 10.40(f) } 12.62 }例29 :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[[3−[4−(3−ピリジニル)−1H −イミダゾール−1−イル]プロポキシ]カルボニル]−DL−ホモセリンの一 塩酸塩工程A :4−[[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒド ロ−4−オキソ−8−ベンゾ(e)アズレニル]オキシ]−2−イソシアナトブ タン酸メチル 例28の工程Bにおいて得られたアミン450mgを飽和重炭酸ナトリウム水 溶液10.2ミリリットル及びジクロルメタン10.2ミリリットル中で0℃に おいて10分間撹拌する。この反応媒体の有機相にジクロルメタン2ミリリット ル中にトリホスゲン204mgを含有させた溶液を添加し、10分間撹拌し、次 いでジクロルメタンで抽出し、抽出物を乾燥させ、溶媒を減圧下で蒸発させて、 所期の化合物430mgが得られ、これをそのまま次の工程で用いた。工程B :O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−オキソ−8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[[3−[4−(3−ピリ ジニル)−1H−イミダゾール−1−イル]プロポキシ]カルボニル]−DL− ホモセリン 工程Aにおいて得られた化合物430mgをジクロルメタン20ミリリットル 中で0℃に冷却し、製造例10において製造したアルコール414mgをジクロ ルメタン10ミリリットル中に含有させたものを添加する。この反応媒体を周囲 温度に戻し、48時間撹拌し、溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣をアルミナを用い たクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとメタノールとの混合物)にかけ て、所期の化合物298mgが回収された。工程C :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[[3−[4−(3−ピリジニル)−1H −イミダゾール−1−イル]プロポキシ]カルボニル]−DL−ホモセリンの一 臭化水素酸塩 上記の工程Bにおいて得られた化合物277mg及びブタノール13ミリリッ トル中の環状アミノグアニジン臭化水素酸塩164mgから出発して例24の工 程Bにおけるように操作を実施する。アルミナを用いたクロマトグラフィー(溶 離剤は塩化メチレンとメタノールとの比95:5の混合物)の後に、所期の化合 物289mgが得られた。 IRスペクトル(CHCl3) C=O 1746(sh) 1723(max)cm-1 共役系 } +芳香族 } 1668、1625(F)、1599(sh)、1551、 +アミドII} 1509、1489cm-1 OH 3618cm-1 工程D :O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒ ドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ− 8−ベンゾ(e)アズレニル]−N−[[3−[4−(3−ピリジニル)−1H −イミダゾール−1−イル]プロポキシ]カルボニル]−DL−ホモセリンの一 塩酸塩 上記の工程Cにおいて得られた化合物277mgをエタノール10ミリリット ル中に含有させたものに1N苛性ソーダ0.3ミリリットルを添加し、30分間 撹拌し、水10ミリリットルを添加し、この反応媒体を1N塩酸を用いてpH2 .5の酸性にし、溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣をシリカを用いたクロマトグラ フィー(溶離剤は塩化メチレンとメタノールとNH4OHとの比40:10:2 の混合物)にかけ、濾液を減圧下で蒸発させ、残渣をイソプロピルエーテル中に 取り出し、沈殿を濾別し、乾燥させて、所期の化合物126mgが採集された。 NMRスペクトル(DMSO) 1.78(m) (2H) } 1.90〜2.30(m)(5H) } 3−CH2 1.60〜2.90(m)(8H) CH2−C= 3.69(s)、3.71(s) CH3O−C= 3.90〜4.20(m)(7〜8H) CH2及びCH 6.73(s) H4 7.20(d、幅広) CO−NH−CH− 7.35(dd) H'5 8.04(d) H'4 8.37(wd) H'6 8.94(ws) H'2 7.72(s)、7.80(s) CH=イミダゾール例30 :5−[[4−[(4,5−ジヒドロ−4−オキソ−1H−イミダゾール −2−イル)ヒドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6− ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル]オキシ]ペンタン酸 例3の工程Aにおいて製造した化合物300mgをエタノール6ミリリットル 中に含有させたものを周囲温度において重炭酸ナトリウム61mg及びブロム酢 酸エチル0.7ミリリットルと混合する。溶媒を蒸発させ、残渣をシリカを用い たクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとメタノールとの比95:5の混 合物)にかけて、中間体のエチルエステル139mgが得られた。このエステル 110mgを周囲温度において2N苛性ソーダ0.5ミリリットルの存在下でエ タノール1ミリリットルと2時間混合する。この反応媒体を2N塩酸を用いて中 和した後に、生成した沈殿を濾別し、乾燥させて、所期の化合物44mgが回収 された。 NMRスペクトル(DMSO) 2.30(t)(2H) =C−CH2(鎖) 2.30〜3.20 =C−CH2 3.73(s)、3.75(s) φ−OMe 3.83(ws) =C−N−CH2−C= 4.02(t) φ−O−CH2 6.76(s) H4 7.20(ws)(1H) } 8.28(ws)(1H) }移動性H 12.04(1H) }例31 :O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−[(4、5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジアゼピン−2−イ ル)ヒドラゾノ]−8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ )カルボニル]−DL−ホモセリン 例24の工程Aにおいて製造した化合物1gをブタノール5ミリリットル中に 含有させたものと製造例11におけるようにして製造した環状アミノグアニジン 0.9gとを130℃において16時問互いに混合する。溶媒を減圧下で蒸発さ せ、残渣をシリカを用いたクロマトグラフィー(溶離剤は塩化メチレンとメタノ ールとの比90:10の混合物)にかけて、中間体のエステル0.8gが得られ 、これをメタノール3ミリリットル中で2N苛性ソーダ2ミリリットルと共に周 囲温度において1時間30分撹拌する。この反応媒体を2N塩酸を用いて中和し 、減圧下で溶媒を蒸発させた後に、残渣をシリカを用いたクロマトグラフィー( 溶離剤は塩化メチレンとメタノールとNH4OHとの比90:15:2の混合物 )にかけて、所期の化合物0.22gが回収された。例32 :O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ −4−[(3a,4、5,6,7,7a−ヘキサヒドロ−1H−ベンゾイミダゾ ール−2−イル)ヒドラゾノ]−8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェ ニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホモセリン 例24の工程Aにおいて製造した化合物200mg及び製造例12におけるよ うにして製造した環状アミノグアニジン176mgから出発して例24の工程B 及びCにおけるように操作を実施する。中間体のエステル102mgが回収され 、その100mgを鹸化反応用に用いる。所期の化合物59mgが得られた。 Rf=0.24(塩化メチレンーメタノール−NH4OH、比85−15−3) 。製薬組成物 下記の処方に相当する錠剤を調製した。 ・例1の化合物・・・・50mg ・補助剤(タルク、でんぷん、ステアリン酸マグネシウム)・・・・1錠120 mgとするに要する量本発明の化台物の薬理学的研究 1.結合:ビトロネクチン/ビトロネクチン受容体(αv、β3)の置換に対する 本発明の化合物の研究プロトコール MaxiSorp96−ウエルプレートに100μlのヒトビトロネクチン( ヤトーゴ他、Cell.,Structure and fraction 1 3:281−292(1988)を参照)を2μg/mlの量で4℃で終夜コー チングする(コーチング用緩衝液で希釈)。 翌日、ウエルを空にし、次いでリガンド(ビトロネクチン)を穏やかに撹拌し ながら周囲温度で1時間固定させる(固定用緩衝液を参照)。 ウエルを6回洗浄し(洗浄用緩衝液を参照)、次いで下記の物質を各ウエルに その順序で添加する。 ・40μlのインキュベーション用緩衝液、 ・10μlの被検化合物の希釈液(化合物をDMSO−H2Oの50/50混合 物で希釈する)、 ・50μlのヒトαvβ3受容体(ピテラ他、Methods Enzymol. (1987),144:475を参照)(受容体のバッチに従って及びリガンド に従って適合するようにインキュベーション用緩衝液で希釈)。 リガンド、ヒトαvβ3受容体及び被検化合物を穏やかに攪拌しながら周囲温度 で3時間インキュベーションする。 ウエルを再び6回洗浄し、次いで、100μlの抗−受容体である、ペルオキ シダーゼに結合させた4B12−HRP抗体の存在下に穏やかに攪拌しながら周 囲温度で2時間インキュベーションする(この4B12−HRP抗体はインキュ ベーション用緩衝液で希釈する。希釈は、受容体のバッチに従って適合されるべ きである)。 次いで、ウエルを6回洗浄してから、リガンド−受容体の結合をペルオキシダ ーゼ・リビラーキット(TMBマイクロウエル・ペルオキシダーゼ・基質システ ム・カークガード:Ref.cat.50−76−00)により測定する。 このキットは、基質(3,3,5',5'−テトラメチルベンジジン、0.4g /l)の瓶A及び瓶B(くえん酸塩/くえん酸緩衝液中0.02%H22)を含 む。即座に、Aの容量をBの容量と混合し、次いで反応混合物を100μl/ウ エルの割合で分配する。酵素反応をビトロネクチン/αvβ3のために12時間に わたり発現させ、その発現を100μlの1M燐酸の添加により停止させる。 光学密度を450nmで測定する。緩衝液 ・コーチング用緩衝液:炭酸塩0.05M、NaOH pH9.6、 ・固定用緩衝液:0.5%のBSAを含有するPBS(pH7.4)、 ・洗浄用緩衝液:0.05%のツイーン20を含有するPBS(pH7.4)、 ・下記の物質を含有するインキュベーション用緩衝液: 50mMのTRIS pH7.4 0.5%のBSA 0.05%のツイーン20 1mMのMnCl2 50μMのCaCl2 50μMのMgCl2 100mMのNaCl結果の表出 次の曲線:各被検化合物の濃度の対数の関数としてのヒトビトロネクチンの結 合率%を引く。 各化合物について、IC50を次式: IC50= (BO+Bmin)/2 (ここで、BO=化合物の不存在下での最大の結合、Bmin=最高濃度の化合 物の存在下での最小の結合) に従って決定する。 2.マウス頭蓋冠の試験原理 新生マウスの頭蓋帽からの45Caの放出を測定することによって骨吸収を研究 するために、妊娠中の雌のマウスにトレーサー量の45Ca(CaCl2)を注射 する。目的 骨吸収に対する分子の活性の決定、ex−vivo研究物質: 1)被検化合物: ビヒクル:DMSO、H2O/BSA(0.1%) 薬量:可変(スクリーニングで10μM) 2)参照物質: エキスタチン(H−9010−BACHEMを参照) ビヒクル:H2O/BSA 薬量:10μM 3)放射性トレーサー: CaCl2水溶液の形の45Ca(CES3 AMERSHAM又はNEZ−0 13 NENを参照) ビヒクル:生理学的血清 薬量:25μCi/マウス/0.4ml 4)培地: フェノールレッド(参照番号041−01535M/GIBCO)を加え、0 .1%のBSA及びペニシリン/ストレプトマイシンを補給したCMRL106 6方法 1)妊娠中のマウス(OF1、株:スイス)に45Caの注射 a)標識付き溶液の調製 190μlのカルシウム母溶液(2mCi/ml)を6mlの生理学的血清に 添加する。 b)注射 妊娠17日目に、マウスに400ul(即ち25μCi/マウス)のこの溶液 を与える。 2)組織(頭蓋帽(頭蓋冠))の切除 誕生から6日後に、新生マウスを断頭し、次いで頭を回収し、皮膚を頂部から 前頭まで切開する。頭蓋冠をはさみで切断して切除し、パンチを使用して2個の 正確に同等の半頭蓋冠(左側の一つと右側の一つ)を壁側骨から切断する。一方 は対照例として働き、他方は被検化合物を試験するために使用される。 3)“すすぎ”段階 全部がウエルの底と接触しないようにするために100μmのポリエチレン及 びナイレックスの支持体上で、1mlの培地を入れた24個のウエルプレートの ウエルにそれぞれの半頭蓋冠を入れる。 24時間後に、頭蓋冠を保持したポリエチレン支持体を、1mlの新しい培地 及び被検化合物又はそれらの溶媒を入れた新しい24個のウエルプレートに移す 。第一のプレートから200μlの培地を各ウエルより取り出し、放射能の第一 回カウントを行う(値A)。 この培地の変更は、切除と関連する機械的応力の全てを除去させるものである 。 4)“吸収”段階 組織を被検化合物と接触させてから48時間後に、各ウエルから200μlの 培地を取り出し、いわゆる吸収段階中の培地から放出される45Caの量を決定す るためにカウントする(値B)。 次いで、頭蓋冠を1mlの5%トリクロル酢酸中で完全にデミネラライズし、 消化した後にまた200μlを取り出し、骨中に残存するカルシウムの量を決定 するためにカウントする(値C)。結果の表出 骨吸収率%は、それぞれの半頭蓋冠(各ウエル)について次のように計算され る。 骨吸収率% = dpm B/dpm(A+B+C)×100 dpm(A+B+C)の合計が、切除の日におけるそれぞれの骨部分に取り込 まれた45Caの量を表す。 被検化合物の効果を測定するために、処理したウエルの骨吸収率と相当する対 照例ウエルの骨吸収率の比率を各点について計算する。見出される値は、吸収指 数といわれ、被検化合物が骨吸収を阻害させるならば0〜1の間にあり、化合物 がそれを潜在化させるならば>1である。次いで、各化合物の6個の指数(1グ ループにつき6個の点があったから)の平均を計算して、化合物1個につき1個 の指数が与えられる。この指数を値1から引き算すれば、その化合物の阻害力が 得られ、これは%で表すことができる。 さらに、個々の吸収指数を点対点で比較することによって統計的試験(学生試 験、T試験)を行う。結果
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 31/505 A61K 31/505 C07C 49/747 C07C 49/747 C 281/18 281/18 337/08 337/08 C07D 233/52 C07D 233/52 239/42 239/42 Z 317/70 317/70 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ ,MD,RU,TJ,TM),AL,AU,BA,BB ,BG,BR,CA,CN,CU,CZ,EE,GE, HU,IL,IS,JP,KP,KR,LC,LK,L R,LT,LV,MG,MK,MN,MX,NO,NZ ,PL,RO,SG,SI,SK,TR,TT,UA, US,UZ,VN,YU (72)発明者 カルニアトー,ドニ フランス国 エフ91460 マルクーシ,ア ブニュ ド レタンヌフ,10 (72)発明者 グールベスト,ジャンフランソワ フランス国 エフ77410 クレイ スイイ, リュ ド ラ ビブロンヌ,12 (72)発明者 トゥーシュ,ジャンジョルジュ フランス国 エフ93500 パンタン,リュ ラボワジェ,3,バティマン3,レジダ ンス ラボワジェ (72)発明者 クノレ,ヨッヘン ドイツ連邦共和国 デー65830 クリフテ ル,ホーヒステル シュトラーセ 21 (72)発明者 シュティルツ,ハンスウルリヒ ドイツ連邦共和国 デー65929 フランク フルト アム マイン,ヨハネスアレ 18 (72)発明者 ヴェーネル,フォルクマル ドイツ連邦共和国 デー97657 ザントベ ルク 2,リンデンシュトラーセ 1 (72)発明者 ボダリー,セイラ シー. アメリカ合衆国 94066 カリフォルニア, サンブルーノー,クレストムーア ドライ ブ 3530 (72)発明者 ガデック,トマス アール. アメリカ合衆国 94611 カリフォルニア, オークランド,チェルシー ドライブ 2838 (72)発明者 マクダウエル,ロバート エス. アメリカ合衆国 94114 カリフォルニア, サンフランシスコ,チャーチ ストリート 1264 (72)発明者 ピティー,ロバート エム. アメリカ合衆国 94530 カリフォルニア, エル セリートー,リバティー ストリー ト 1110

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 次の一般式(I): [ここで、 R1は次式: −C≡C−[A]−[B]−COR6、 −CH=CH−[A]−[B]−COR6、 −(CH22−[A]−[B]−COR6、 −O−[A]−[B]−COR6、 −CH2CO−[A]−[B]−COR6 {ここで、 −[A]−は ・1〜12個の炭素原子を含有し且つ酸素、窒素及び硫黄原子から選択される1 〜6個の複素原子を含有する飽和又は不飽和の線状又は分岐状の構造から誘導さ れる2価の炭化水素化基か、或いは ・1〜12個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の線状又は分岐状の非環式炭 化水素から誘導される2価の基 のいずれかを表し、 [B]はフェニル基、CH[Z]基又は単結合を表し、ここで、Zは水素原子 、下記の基: (D)0-6−NRaRb、(D)0-6−NH−SO2−Rc、 (D)0-6−NH−CO2−Rc、(D)0-6−NH−CO−Rc、 (D)0-6−NH−SO2−NH−Rc、(D)0-6−NH−CO−NH−Rc、 (D)0-6−CO2−Rc、(D)0-6−SO2−Rc、(D)0-6−CO−Rc又 は(D)0-6−Rc (ここで、(D)0-6は0〜6個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の線状又 は分岐状の非環式炭化水素から誘導される2価の基であり、 Ra、Rb及びRcは水素原子、(CH20-3−Ar基(ここで、Arは6〜 18個の炭素原子を含有する炭素環式アリール基を表す)、(CH20-3−He t基(ここで、Hetは1〜9個の炭素原子を含有し且つ酸素、窒素及び硫黄原 子から選択される1〜5個の複素原子を含有する飽和又は不飽和の芳香族又は非 芳香族複素環から誘導される基を表す)、(CH20-3−Alk基(ここで、A lkは1〜12個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の線状、分岐状又は環状 の非芳香族炭化水素から誘導される基を表す)(Het、Ar及びAlkは非置 換でも又は置換されていてよい)を表し、 或いはRa及びRbはそれらが結合している窒素原子と共に飽和又は不飽和の 芳香族又は非芳香族窒素複素環(酸素、窒素及び硫黄原子から選択される1個以 上の複素原子を含有し得る。この基は置換又は非置換であってよい)を表す)の 一つを表し、 R6はヒドロキシル基、O−Alk、O−Ar、NH2、NH−Alk、N(A lk)2基又はL若しくはD−アミノ酸の残基(ここで、Alk及びArは上で 定義した通りであり、置換又は非置換であってよい)を表す} の基を表し、 R2及びR3は、同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシル 基、O−Alk基又はO−(CH20-3−Ar基(ここで、Alk及びArは上 で定義した通りである)を表すか、或いはR2及びR3は一緒になって−O−(C RdRe)n−型(ここで、nは1〜5にの整数であり、Rd及びReは互いに 独立して水素原子、1〜6個の炭素原子を含有するアルキル基又はフェニル基を 表す)の環を形成し、 R4は水素原子、ハロゲン原子、又は次の基:ヒドロキシル、アミノ、ニトロ 、シアノ、CF3、1〜12個の炭素原子を含有するアシル若しくはアシルオキ シ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルチオ、アルコキシ、アルキル アミノ、ジアルキルアミノ、ジアルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアル キルオキシ基(これらの基で、アルキル基は1〜6個の炭素原子を含有する)の 一つを表し、 R5は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、O−Alk基又はO−(C H20-3−Ar基(ここで、Alk及びArは上で定義した通りである)を表し 、 Gは ・次式G1: (ここで、Rhは水素原子又は前記のようなAlk基を表し、(Het’)は次 式: (ここで、(H)は、N=C−NH−単位と一緒になって1〜9個の炭素原子を 含有し且つ酸素、窒素及び硫黄原子から選択される2〜5個の複素原子を含有す る飽和又は不飽和の単環式又は二環式の芳香族又は非芳香族複素環の残基を形成 する。この基は置換又は非置換であってよい) の複素環である) の基か、又は ・−NRaRb基(基G2)(ここで、Ra及びRbは上で定義した通りである )か、又は ・前記のような(Het)基(基G3)か、又は ・−NRh−C(=X)−NHRc基(基G4)(ここで、Xは硫黄若しくは酸 素原子又はNHであり、Rh及びRcは上で定義した通りである)か、又は ・−NRh−SO2Rc基(基G5)(ここで、Rh及びRcは上で定義した通 りである) のいずれかを表し、 点線は、随意の第二の結合を表す] の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステル。 2. 次の一般式(I'): [ここで、 R'1は次の基: −C≡C−[A']−[B']−COR'6、 −CH=CH−[A']−[B']−COR'6、 −(CH22−[A']−[B']−COR'6、 −O−[A']−[B']−COR'6、 −CH2CO−[A']−[B']−COR'6 {ここで、−[A']−は1〜6個の炭素原子を含有する2価のアルキレン、ア ルケニレン又はアルキニレン基を表し、[B']はCH[Z']基又は単結合を表 し、ここにZ'は水素原子、次の基: (CH20-6−NRaRb、(CH20-6−NH−SO2−Rc、 (CH20-6−NH−CO2−RC、(CH20-6−NH−CO−Rc、 (CH20-6−NH−SO2−NH−Rc、 (CH20-6−NH−CO−NH−Rc、(CH20-6−CO2−Rc、 (CH20-6−SO2−RC、(CH20-6−CO−Rc又は (CH20-6−Rc (Ra、Rb及びRcは請求項1に記載の通りである) の一つ表し、R'6はOH、アミノ又は1〜8個の炭素原子を含有するアルコキシ 基(ヒドロキシル、アミノ、フェニル、アルキルアミノ又はジアルキルアミノ基 から選択される1個以上の基により置換されていてよい)を表す} の一つを表し、 R'2及びR'3は水素原子又はメトキシ基を表し、 Gは請求項1に記載の通りであり、 点線は随意の第二の結合を表す] に相当する請求項1に記載の一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基と の付加塩並びにそれらのエステル。 3. R6が次の基: −OH、−OCH3、−OCH2CH3、−O−(CH22−OH、 −O−(CH22−N−(CH32、−NH2又は−O−(CH2)−フェニルの 一つを表す請求項1又は2に記載の一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び 塩基との付加塩並びにそれらのエステル。 4. R1が−O−(CH20-6−CH(Z')−COOH又は(CH20-7−C H(Z')−COOH基を表す請求項1、2又は3に記載の一般式(I)の化合 物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステル。 5. (Z')が水素原子を表す請求項1〜4のいずれかに記載の一般式(I) の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステル。 6. (Z')が(CH20-6−NH−CO2−Rc又は(CH20-6−NH−R b基(ここで、Rb及びRcは請求項1に記載の通りである)を表す請求項1〜 4のいずれかに記載の一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加 塩並びにそれらのエステル。 7. Rb及びRcが(CH20-6−Ar又は(CH20-3−Alk(ここで、 Ar及びAlkは請求項1に記載の通りであり、置換又は非置換であってよい) を表す請求項6に記載の一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付 加塩並びにそれらのエステル。 8. Gが式:−NH−C(=NH)−NHRc(ここで、Rcは請求項1に記 載の通りである)のG4基である請求項1〜7のいずれかに記載の一般式(I) の化合物並びにそれらの酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステル。 9. Gが水素原子である請求項8に記載の一般式(I)の化合物並びにそれら の酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステル。 10.GがNH−(Het')基(ここで、(Het')は請求項1に記載の通り である)である請求項1〜7のいずれかに記載の一般式(I)の化合物並びにそ れらの酸及び塩基との付加塩並びにそれらのエステル。 11.Gが下記の複素環: (ここで、pは2、3又は4の整数である。これらの複素環は置換又は非置換で あってよい) である請求項10に記載の一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基との 付加塩並びにそれらのエステル。 12.Gが次式: (ここで、pは2、3又は4の整数である) の基である請求項10に記載の一般式(I)の化合物並びにそれらの酸及び塩基 との付加塩並びにそれらのエステル。 13.化合物名が下記: ・4−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ブタン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−8,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−9−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸、 ・6−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ヘキサン酸、 ・7−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ヘプタン酸、 ・5−((9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−4 −((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾノ)−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ペンタン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸エチル塩酸塩、 ・4−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−8,9−ジメトキシ− 1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−10−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ブタン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−8,9−ジメトキシ− 1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−10−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸、 ・5−((4−(((アミノ)カルボニル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキ シ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オ キシ)ペンタン酸、 ・5−((4−(((アミノ)チオカルボニル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメ トキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル )オキシ)ペンタン酸、 ・4−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−8,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−9−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ブタン酸、 ・6−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ヘキサン酸、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9、10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)−3,3−ジメチル−4−オキソペンタン酸、 ・5−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)−3,3−ジメチル−4−オキソペンタン酸 、 ・5−((4−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−9,10−ジメトキシ −1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル)オキ シ)ペンタン酸塩酸塩、 ・4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ブタン酸、 ・5−((8−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−6,7,8,9,10 ,11−ヘキサヒドロアズレノ(5,6−d)−1,3−ベンゾジオキソール− 4−イル)オキシ)ペンタン酸、 ・5−((8−((アミノイミノメチル)ヒドラゾノ)−2,2−ジフェニル− 6,7,8,9,10,11−ヘキサヒドロアズレノ(4,5−e)−(1,3 )−ベンゾジオキソール−4−イル)オキシ)ペンタン酸、 ・4−((9,10−ジメトキシ−4−((1,4,5,6−テトラヒドロ−2 −ピリミジニル)ヒドラゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)ブタン酸、 ・2−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)エタン酸、 ・3−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8− ベンゾ(e)アズレニル)オキシ)プロパン酸、 ・4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−9−ベンゾ(e)アズレニル )オキシ)ブタン酸、 ・4−((4−((4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラ ゾノ)−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ(e)アズレニル )オキシ)ブタン酸、 ・O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾ ノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホ モセリン、 ・O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾ ノ]−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベンゾ[e]アズレニル] −N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホモセリン、 ・O−[4−[(1,2,3、4−テトラヒドロ−6−ピリミジニル)ヒドラゾ ノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホ モセリン、 ・O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−4− [(1,4,5、6−テトラヒドロ−2−ピリミジニル)ヒドラゾノ]−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−DL−ホ モセリンの(2,3−ジヒドロキシプロピル)エステル、 ・O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾ ノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[(8−キノリニル)スルホニル]−DL−ホモ セリン、 ・O−[4−[(4,5−ジヒドロ−1H−イミダゾール−2−イル)ヒドラゾ ノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−8−ベ ンゾ[e]アズレニル]−N−[[3−[4−(3−ピリジニル)−1H−イミ ダゾール−1−イル]プロポキシ]カルボニル]−DL−ホモセリンの一塩酸塩 、 ・5−[[4−[(4,5−ジヒドロ−4−オキソ−1H−イミダゾール−2− イル)ヒドラゾノ]−9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサ ヒドロ−8−ベンゾ[e]アズレニル]オキシ]ペンタン酸、 ・O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−4− [(4、5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジアゼピン−2−イル)ヒ ドラゾノ]−8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメトキシ)カル ボニル]−DL−ホモセリン、 ・O−[9,10−ジメトキシ−1,2,3,4,5,6−ヘキサヒドロ−4− [(3a,4、5,6,7,7a−ヘキサヒドロ−1H−ベンゾイミダゾール− 2−イル)ヒドラゾノ]−8−ベンゾ[e]アズレニル]−N−[(フェニルメ トキシ)カルボニル]−DL−ホモセリン のいずれかである、請求項1に記載の式(I)の化合物。 14.請求項1に記載の一般式(I)の化合物を製造するにあたり、 ・次式(II): (ここで、R2、R3、R4及びR5は、ヒドロキシルの意味を除いて請求項1に記 載の通りである) の化合物に塩基の存在下に次式(F1): Hal−[A]−[B]−COR6 (F1) の化合物を作用させ又はホスフィン及びアゾジカルボン酸ジエチルの存在下に次 式(F'1): HO−[A]−[B]−COR6 (F'1) の化合物(これらの式において、Halはハロゲン原子であり、[A]、[B] 及びR6は前記の通りであり、[B]は次式: の基も表すことができる)を作用させて次式(IIIa): の化合物を得るか、或いは ・活性化基を作用させ、次いで触媒の存在下に次式(F2) の化合物を作用させて次式(IIIb): の化合物を得、式(IIIa)又は(IIIb)の化合物に次式(F3): H2N−G (F3) (ここで、Gは請求項1に記載の通りである) の化合物を作用させて式(I)のある種の化合物に相当する次式(IVa)又は(IV b): の化合物を得、適当ならば、これらの化合物を、適当な順序で、下記の反応: ・エステルを解裂させ相当する酸を得るため塩基又は酸の作用、 ・R1基の不飽和を部分的に又は完全に還元するのに好適な還元剤の作用、 ・三重結合への水和剤の作用、 ・脱アルキル剤の作用、 ・[B]がCH−NHP基を表すときのCO−R6のβ−位置のNH−P官能基 の脱保護剤の作用、 ・式(I)の相当する化合物を得るためCO−R6のβ−位置の相当するアミン からNH−SO2Rc、NH−CO2Rc、NH−CORc、NH−SO2−NH −Rc、NH−CO−NHRc基の形成、次いで適当ならばこれらに対して相当 する塩類を得るため酸又は塩基の作用或いは相当するエステルを得るためエステ ル化剤の作用 に付することを特徴とする一般式(I)の化合物の製造方法。 15.(II)の化合物に予め式(F3)の化合物を作用させて次式(IIIc): の化合物を得、式(IIIc)の化合物に適当ならばGの保護をした後に、式(F1 )、(F'1)又は(F2)の化合物を作用させ、次いで適当ならばGの脱保護 を して相当する式(IVa)及び(IVb)の化合物が得、次いで適当ならばこれらの 化合物を請求項14に記載のような種々の反応に付する(ここで、式(II)、( F1)、(F'1)、(F2)、(F3)、(IVa)及び(IVb)の化合物は請 求項14に記載の通りである)ことを特徴とする、請求項1に記載の一般式(I )の化合物の製造方法。 16.請求項14に記載の式(II)の化合物であって、R2、R3、R4及びR4が 水素原子を表し且つOHが8、9又は10位置にある化合物を製造するにあたり 、 (i)次式(a): (ここで、O−(Alk)はアルキルカルボン酸のm−又はp−位置にあり、( Alk)は請求項1に記載の通りである) の化合物にハロゲン化剤を作用させて相当するハロゲン化アシルを得、 (ii)この化合物に次式(b): (ここで、R(I)及びR(II)は同一であっても異なっていてもよく、1〜6個の 炭素原子を含有するアルキル基を表すか、或いはR(I)及びR(II)はそれらが結 合している窒素原子と共にO及びNから選択される別の複素原子を含有しうる5 又は6員の飽和又は不飽和の複素環を表す) の試薬を作用させて次式(c): の化合物を得、 (iii)この化合物にハロゲン化剤を作用させて次式(d): (ここで、Hal1はハロゲン原子を表す) の化合物を得、 (iv)この化合物にルイス酸を作用させて次式(e):の化合物を得、 (v)この化合物に脱アルキル試薬を作用させて、所期の式(II)の一置換化 合物に相当する次式(IIF): の化合物を得ることを特徴とする該式(II)の化合物の製造方法。 17.請求項14に記載の一般式(II)の化合物であって、R2がO−(Alk )又はO−(CH20-3−Ar基を表し、R3、R4及びR5が水素原子であり、 OH及びR2が8、9又は10位置にある化合物を製造するにあたり、次式(a' ): (ここで、R2及びO−(Alk)はアルキルカルボン酸のm−又はp−位置に あり、R2はO−(Alk)又はO−(CH20-3−Ar基を表す) の化合物を前記の反応(i)、(ii)、(iii)、(iv)及び(v)に続けて付して、所期の 式(II)の二置換化合物に相当する次式(IIG):の化合物を得ることを特徴とする該式(II)の化合物の製造方法。 18.請求項14に記載の一般式(II)の化合物であって、R2及びR3がO−( Alk)又はO−(CH20-3−Ar基を表し、R4及びR5が水素原子であり、 OHが8又は9位置にある化合物を製造すにあたり、次式(IIA): の化合物に脱アルキル試薬を作用させて次式(IIB): の化合物を得、式(IIB)の化合物に ・塩基性媒体中でジオールの保護試薬を作用させて次式(IIC): (ここで、Pはジオールの保護試薬の残基を表す) の化合物を選択的に得、この化合物にフェノールの保護試薬、ジオールの脱保護 試薬、次いでアルキル化剤、次いでフェノールの脱保護試薬を続けて作用させて 、8位にOHを有する式(II)の三置換化合物に相当する次式(IID):の化合物を得るか、或いは ・フェノールの保護試薬、アルキル化剤、次いで脱保護試薬を続けて作用させて 、9位にOHを有する式(II)の三置換化合物に相当する次式(IIE): の化合物を得ることを特徴とする該式(II)の化合物の製造方法。 19.請求項1〜12のいずれかに記載の式(I)の化合物並びにそれらの製薬 上許容できる付加塩及びそれらのエステルからなる薬剤。 20.請求項13に記載の式(I)の化合物からなる薬剤。 21.請求項19又は20に記載の薬剤の少なくとも1種を活性成分として含有 する製薬組成物。 22.新規な中間体化合物としての、請求項14〜18のいずれかに記載の一般 式(IIIa)、(IIIb)、(IIIc)及び(II)(ただし、式(IIc)の化合物 及び下記の化合物: ・2,3,5,6−テトラヒドロ−9,10−ジメトキシ−8−ヒドロキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン、及び ・2,3,5,6−テトラヒドロ−8,9−ジメトキシ−10−ヒドロキシベン ゾ[e]アズレン−4(1H)−オン は除く)。
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