JP2000506682A

JP2000506682A - 基板を処理するための装置

Info

Publication number: JP2000506682A
Application number: JP10524175A
Authority: JP
Inventors: オシノボジョン
Original assignee: ステアーグミクロテヒゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
Priority date: 1996-11-22
Filing date: 1997-10-01
Publication date: 2000-05-30
Anticipated expiration: 2017-10-01
Also published as: KR100323901B1; DE19648498C1; EP0948804A1; WO1998024114A1; US6189552B1; JP3365638B2; TW377498B; KR20000057197A

Abstract

(57)【要約】処理流体を含有する容器（１）と、少なくとも１つの基板ホルダ（１０）とを備え、処理流体に接触する容器（１）、及び／又は基板ホルダ（１０）の構成部材が保護層（２４）を有している基板を処理するための装置では、基板（５）用のガイドエレメント、及び／又は保持エレメント（６，６３）が前記保護層（２４）に溶接されていると、長い寿命を有する簡単で廉価な構造が可能である。

Description

【発明の詳細な説明】基板を処理するための装置本発明は、処理流体を含有する容器と、少なくとも１つの基板ホルダとを備えた基板を処理するための装置であって、処理流体に接触する容器、及び／又は基板ホルダの構成部材が保護層を有しており、基板用のガイドエレメント、及び／又は保持エレメントが前記保護層に溶接されている形式のものに関する。このような形式の装置は、国際公開第９５／０２４７３号パンフレットに基づき公知である。更に、基板、特に半導体ウェーハを処理するための別の装置が、刊行物ドイツ連邦共和国特許出願公開第４４１３０７７号明細書、及び同一出願人のドイツ連邦共和国特許出願公開第１９５４６９９０号明細書に基づき公知であり、更に、未公開のドイツ特許出願第１９６１６４０２．８号明細書、ドイツ特許出願第１９６１５９６９．５号明細書、ドイツ特許出願第１９６３７８７５．３号明細書、ドイツ特許出願第１９６４４２５３．２号明細書及びドイツ特許出願第１９６４４２５４．０号明細書に記載されている。この公知の装置の場合、例えば特殊鋼等の金属から成る容器、又は基板ホルダは、保護層によってコーティングされており、この保護層は、腐食作用を有する処理流体から容器壁と基板ホルダとを保護し、且つ処理流体が金属部材によって汚染されることを防止する。特開平６−２８３４８６号公報、又はドイツ連邦共和国特許出願公開第３９３００５６号明細書に基づき公知の、ウェーハの搬送及び保持のためのウェーハカセット、又はウェーハケージにおいては、複数のガイド兼保持エレメントが設けられており、これらのガイド兼保持エレメントは、ウェーハの収納及び取出し時に、該ウェーハにおける損傷を防止するために所定の形状、又は丸い面取り部を有している。刊行物特開平４−１３０７２４号公報、及び特開平６−２０４１９７号公報には、処理容器、若しくはウェーハホルダが石英から成るウェーハ洗浄装置が開示されている。本発明の課題は、特に基板用のガイド兼保持エレメントに関して容器内に最適に形成され、廉価に製作可能であり且つ長い寿命を有する、基板を処理するための装置を提供することである。この課題を解決するために本発明では、ガイドエレメントが、プラスチックコードから形成されており、これらのプラスチックコードが、前記保護層に溶接され、且つプラスチックコード同士で互いに溶接されているようにした。本発明による手段、即ちコードの形の基板用ガイドエレメント及び／又は保持エレメントを保護層に溶接することに基づき、このような形式の装置の製作は特に簡単且つ廉価である。純度の高い石英から製作された容器よりも著しく廉価な、金属から成る容器を選択することも可能である。これにより、縁部領域、又は先細りに延びる領域における保護層の付与が、確実には可能でなく、該領域において特に容易に損傷されるという問題も最早生じることはない。例えば１ｍｍの厚さの保護層、又は保護薄膜が、ペルフルオロアルコキシポリマー（ＰＦＡ）から成っていると有利である。コーティングされた容器壁の互いに向かい合う内面において、基板のための、プラスチックから成るガイドエレメントが保護層に溶接されていると有利である。このことは、同じガイドエレメントを備えた石英容器よりも、著しく廉価である。更に、比較的粗い石英における基板の粒子含有性の摩砕が防止される。容器のための基礎材料としては、例えば特殊鋼、又はアルミニウム等の金属も使用され得る。本発明の有利な構成では、ガイドエレメントはそれぞれ複数のプラスチックストリップから成っており、これらのプラスチックストリップは流体容器の内壁にそれぞれ互いに向かい合うように接着、若しくは溶接されている。この場合、プラスチックストリップは、有利にはガイドエレメントの高さに相応する厚さを有している。本発明の別の有利な構成では、プラスチックコードは、例えば４ｍｍの直径を有している。適当なガイドエレメントを形成するために、これらのプラスチックコードは保護層に溶接され、且つプラスチックコード同士で互いに溶接される。ガイドエレメントの形はコード縁部を丸く面取りするか、又は平滑化することにより得られる。基板用のガイドスリットが、互いに適宜間隔の置かれたガイドエレメントによって形成されない場合は、適当な幅のプラスチックストリップ、又はプラスチックコードから形成されたプラスチックストリップに基板用のガイドスリットを形成することが特に有利である。この場合、ガイドスリットの間隔は、流体処理のために設けられる基板パッケージのパッケージ密度に対応して選択され、且つ互いに等間隔を有している。基板用のガイドエレメント、つまり溶接されたプラスチックストリップ、又はプラスチックコードは、有利には保護層と同じ材料から成っている。このためにはＰＦＡが有利である。ガイドスリットを基板用の出入り口領域においてＶ字形に形成することは極めて有利であり、これにより、導入された基板は本来のガイド兼保持領域に向かってセンタリングされ、且つ入口領域でガイドエレメントに接触して傾斜しない。更に、基板用のＶ字形の出入り口領域は、該Ｖ字形の出入り口領域に基づき、例えば洗浄液等の処理流体による洗浄及び貫流がより良好であるという利点も有している。処理流体に接触する容器壁に保護層を設け、この保護層にガイド兼保持エレメントを溶接するという本発明に基づき、容器壁、若しくは容器全体のための基本材料として金属、有利には特殊鋼、又はアルミニウムを使用することも可能である。これにより、より一層少ない製作コストも比較的長い寿命も得られる。なぜならば、容器は一般には石英から製作されており、石英の寿命は、例えば半導体ウェーハに使用される処理流体との関連において制限されているからである。本発明の更に別の有利な構成では、容器は保護層、及び該保護層に基板用のガイド兼保持エレメントを溶接するという本発明による可能性にも関わらず、石英から製作されている。このことは、例え確実で摩擦の無い基板処理を保証しようとしても、保護層が何らかの理由で損傷され、これにより、鋼容器、又はアルミニウム容器では処理流体の汚染が生じる恐れがある場合に、特に有利である。石英容器では、前記の危険は保護層が損傷した場合にも生じることはない。この石英容器は保護層に基づき、従来の装置よりも著しく長い寿命を有している。本発明の特に有利な構成では、基板ホルダは金属から成るウェブを有しており、このウェブは、本発明によれば保護層によってコーティングされており、且つ保護層によるコーティングの後でプラスチックから成る刃状の基板支持エレメントが溶接されている。プラスチックから成る刃状の基板収容エレメントは、保護層によるコーティングにも関わらず溶接可能であるために、本発明では金属から成るウェブも使用可能なので、基板ホルダは極めて狭幅に製作され、延いては流れ技術的に最適化され得る。従って、前掲の未公開のドイツ特許出願第１９６４４２５４．０号明細書に記載されているように、基板ホルダの周囲の流れ特性を改良するための手段を設けて形成することは最早必要ない。本発明の更に別の有利な構成では、プラスチックから成る刃状の基板支持エレメントを保護層によってコーティングされた金属の基板ホルダに溶接する代わりに、基板支持エレメントを基板ホルダにキャップ又はカバーとして被せ嵌めることも可能である。刃状の基板支持エレメントは、基板を基板ホルダにおいて互いに等間隔で保持するために、有利には基板用の、均等に間隔を置かれた複数のノッチを備えて形成されている。基板ホルダの本発明による特に有利な構成では、基板ホルダに対して平行に配置され、且つ該基板ホルダに結合された少なくとも１つの安定ウェブが設けられている。これにより更に、基板が支持される本来の基板ホルダを一層狭幅に、延いては流れが一層好適になるように形成することが可能である。それというのも、１つの安定ウェブ、又は基板ホルダの両側に配置された安定ウェブが、基板ホルダが固定的であり、且つ振動しないために働くからである。この場合、流れのためにできるだけ小さな裂断縁部を達成し、延いては乱流をできるだけ小さく抑止するためには、前記安定ウェブが流れ技術的な理由から可能な限り狭幅であり、且つ特に上側、つまり流れの裂断領域において可能な限り鋭利であることも望ましい。しかし、刃状エレメント等の縁部、又は先細に延びる縁部を保護層によってコーティングすることは非常に困難、又は全く不可能であるので、特にこのような縁部においては、保護層は密ではないか、又は付着し続けない。この理由から、本発明の更に別の有利な構成では、保護層によってコーティングされている安定ウェブも、その上側においては刃状に形成されているのではなく、刃状エレメントが設けられており、この刃状エレメントは、安定ウェブの保護層に溶接、又は被せ嵌められている。以下に、本発明の有利な実施例を図面につき詳しく説明する。第１図は本発明による装置の概略横断面図であり、第２図は、ガイドエレメントを説明するための、第１図に示した実施例の拡大部分断面図であり、第３ａ図、第３ｂ図及び第３ｃ図は、プラスチックコードによる製作を説明するための、ガイドエレメントの拡大横断面図であり、第４ａ図、第４ｂ図及び第４ｃ図は、第３ａ図、第３ｂ図及び第３ｃ図に示した横断面の側面図であり、第５図は、ガイドスリットに向かう注視方向で見たガイドエレメントの拡大図であり、第６図は、基板ホルダ領域の拡大横断面図であり、第７図は、第６図に横断面で示された基板ホルダの側面図である。第１図に示した流体容器は、側壁２，３、並びに処理すべき基板５の円形形状に適合された容器底部４を有している。容器側壁２，３の内面には、基板５のための複数のガイドエレメント６が互いに上下に配置されており、これらのガイドエレメント６において基板が導入・導出の際に案内され、且つ流体処理中に保持される。容器底部４には、基板ホルダ１０、及び安定ウェブ１１，１２のための各１つの取付け穴７，８，９が設けられており、これらの取付け穴７，８，９には、前記基板ホルダ１０、及び安定ウェブ１１，１２がそれぞれ沈下可能である。横方向支柱１３を介して安定ウェブ１１，１２は基板ホルダ１０に結合されており、且つこの基板ホルダ１０を付加的に機械的に保持するので、基板ホルダ１０は固定され、且つ上下移動の際にも振動しない。流体容器の下側には複数の流体流入ノズル１４が位置しており、これらの流体流入ノズル１４は、それぞれノズルプレート１６において流体通路１５に接続されており、これらの流体通路１５を介して処理流体が、流れ特性を沈静化するための流体領域１７に流入する。その後この処理流体は、互いに等間隔、且つ平行に配置された複数のプレート１８間を貫流する。これらのプレート１８は、それぞれ流れスリットを備えた中間室を形成し、これらの中間室を通って処理流体が容器底部４から容器内部領域に流出する。容器側壁２，３の下側領域、つまりプレート１８の領域にも、やはりプレート用の複数のガイドエレメント、若しくは保持エレメント１９が設けられており、これらのガイドエレメント、若しくは保持エレメント１９は、有利には基板５用のガイドエレメント６と同じ形式で形成されているか、又は異なって形成されていてもよい。図示の実施例では、個々のプレートは流れ領域１７の上位に位置するプレートウェブ２０，２１に載置されている。流体容器１の少なくとも一方の側壁３の外側には超音波変換器２２が位置しており、この超音波変換器２２によって、容器内部が超音波、又はメガヘルツ領域の超音波（Megaschall）によって負荷される。この装置、及び基板５のための処理過程の別の詳細に関する反復を避けるためには、本願の内容となる前掲のドイツ連邦共和国特許第４４１３０７７号明細書、ドイツ連邦共和国特許第１９５４６９９０号明細書及びドイツ連邦共和国第１９６４４２５３．２号明細書を参照されたい。第２図は、第１図に示した本発明による実施例の概略横断面図の部分拡大図である。側壁２は、例えば特殊鋼又はアルミニウム等の金属から例えば成っている。処理流体にさらされる側壁の内面には、例えば１ｍｍの厚さを有する例えばＰＦＡ層、又はＰＦＡ薄膜等の保護層２４が付与されている。この保護層２４には、基板５用のガイドエレメント、若しくは保持エレメント６が溶接されている。これらのガイド兼保持エレメント６は、有利にはプラスチックから、特に保護層２４と同じ材料、つまり、この実施例の場合もＰＦＡから成っている。ガイド兼保持エレメント６にはガイドスリット２５が位置しており、これらのガイドスリット２５において、基板５が収納・取出しの際に案内され、且つ処理中に保持される。一貫したスリットが可能であるにも関わらず、２つの理由から、鉛直方向で相対して配置され、且つ相互間隔を置かれた複数のガイド兼保持エレメント６を設けることが有利である。個別のガイド兼保持エレメント６によって、基板５との接触領域が小さく保たれており、これにより短いガイドスリット２５の流れ、及び洗浄は一層良好である。本発明の別の有利な実施形態では、基板５は、有利には処理位置において、導入兼保持エレメント６だけでなく、２つのガイドエレメント、若しくは保持エレメントによって保持される。これにより、基板５のガイドエレメント６との接触領域を縮小することもやはり可能である。特に容器の側壁２が金属から成っている場合は、保護層２４のあらゆる損傷を防止するために、基板５がその上下運動に際して保護層２４に接触する恐れの無いことが保証されていなければならない。従って、基板５と側壁２、若しくは保護層２４との間の最少間隔２６は、１ｍｍを下回らないことが望ましい。以下に、第３図及び第４図に基づいて本発明の実施形態を説明する。第３図及び第４図では、ガイド兼保持エレメント６は保護層２４に形成される。第１の層３１では、複数のＰＦＡコード３２が相並んで保護層２４に溶接され、且つＰＦＡコード３２同士も互いに溶接される。適当に段付けされて、第２の層３３では別のコード３２が第１の層３１に溶接される。ガイド兼保持エレメント６の、ほぼ台形の形を達成するためには、第３ａ図及び第３ｂ図に示したように、溶接されたＰＦＡコード３２の両側面が斜めに面取りされて平滑化される。第３ｃ図及び第４ｃ図には、等間隔のガイドスリット２５の切除、又はフライス切削加工後のガイド兼保持エレメント６が示されている。上で述べたガイド兼保持エレメント６を形成するためには、択一的に垂直方向、又は水平方向でＰＦＡストリップを保護層２４に溶接することも可能である。第５図に示したように、ガイド兼保持エレメント６に設けられたガイドスリット２５は上下でＶ字形に拡張されているので、ガイドスリット２５に導入された基板５がセンタリングされて案内され、これにより、その後基板５は、該基板５の厚さに適合された比較的狭い領域において確実に案内され、且つ保持される。第６図には、第１図で既に示した基板ホルダ１０の横断面が拡大されて示されているのに対して、第７図には側面図が示されている。この基板ホルダ１０は、金属から成るウェブ６１を有しており、このウェブ６１には保護層が設けられている。上側に向いた面６２において、刃状の基板収容部材６３が保護層の設けられたウェブ６１に溶接されている。特に図７から判るように、基板支持部材の刃状縁部６４は複数のノッチ６５を有しており、これらのノッチ６５において、基板５が互いに等間隔で間隔を置かれて保持されている。ウェブ６１は、例えば極めて安定した剛性の特殊鋼等の任意の材料から製作されていてよいので、このウェブ６１を非常に狭幅に、且つ処理流体のための最適な流れ特性に適合させて形成することが可能である。これにより、特に基板ホルダ１０は非常に狭幅に形成され得、且つ下から上に向かって流れる処理流体に関して小さな抵抗しか成さない。基板ホルダ１０の両側面に対して平行に、各１つの安定ウェブ１１，１２がそれぞれ等間隔を置いて位置しており、これらの安定ウェブ１１，１２は、任意の材料から製作されていてよく、やはり保護層が設けられている。横方向結合部材（図示せず）を介して、これらの安定ウェブ１１，１２は基板ホルダ１０に結合されていて、該基板ホルダ１０の不撓性を増大させる。安定ウェブ１１，１２の上側領域は、それぞれプラスチック、有利には保護層と同じ材料から成る刃状部材６６，６７を有している。これらの刃状部材６６，６７は、上側の面６８，６９において保護層に溶接されている。刃状のシャープな縁部に基づき、基板ホルダ１０の場合と同様に小さな裂断縁部が生ぜしめられ、これにより、流体容器１内の流れ特性は、仮に妨害されたとしてもごく僅かしか妨害されない。前記のような縁部のコーティングは確実には可能でないか、若しくは持続しないので、刃状縁部用の、プラスチックから成る刃状部材６６，６７の溶接が必要とされる。本発明は、有利な実施例に基づき説明された。当業者には、本発明の思想から外れること無しに、多数の実施例及び変化実施例が知られている。本発明による特徴は、図示の実施例において、それぞれ容器側壁２，３の部材、及び基板支持部材６３の形の基板ホルダ１０との関連においてしか説明されていない。しかし本発明による原理は、処理流体にさらされた別の構成部材及びエレメントとの関連において、例えば前掲のドイツ連邦共和国特許第１９５４６９９０号明細書に記載のガイド兼保持エレメントにおいても適用可能である。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】１９９８年１０月７日（１９９８．１０．７）【補正内容】明細書基板を処理するための装置本発明は、処理流体を含有する容器と、少なくとも１つの基板ホルダとを備えた基板を処理するための装置であって、処理流体に接触する容器、及び／又は基板ホルダの構成部材が保護層を有している形式のものに関する。このような形式の装置は、国際公開第９５／０２４７３号パンフレット、若しくは米国特許第３８３４８４号明細書に基づき公知であり、この公知の装置ではプラスチックから成るガイドエレメントが、金属から成る容器内壁に固定されている。更に、基板、特に半導体ウェーハを処理するための別の装置が、刊行物ドイツ連邦共和国特許出願公開第４４１３０７７号明細書、及び同一出願人のドイツ連邦共和国特許出願公開第１９５４６９９０号明細書に基づき公知であり、更に、未公開のドイツ特許出願第１９６１６４０２．８号明細書、ドイツ特許出願第１９６１５９６９．５号明細書、ドイツ特許出願第１９６３７８７５．３号明細書、ドイツ特許出願第１９６４４２５３．２号明細書及びドイツ特許出願第１９６４４２５４．０号明細書に記載されている。この公知の装置の場合、例えば特殊鋼等の金属から成る容器、又は基板ホルダは、保護層によってコーティングされており、この保護層は、腐食作用を有する処理流体から容器壁と基板ホルダとを保護し、且つ処理流体が金属部材によって汚染されることを防止する。特開平６−２８３４８６号公報、又はドイツ連邦共和国特許出願公開第３９３００５６号明細書に基づき公知の、ウェーハの搬送及び保持のためのウェーハカセット、又はウェーハケージにおいては、複数のガイド兼保持エレメントが設けられており、これらのガイド兼保持エレメントは、ウェーハの収納及び取出し時に、該ウェーハにおける損傷を防止するために所定の形状、又は丸い面取り部を有している。刊行物特開平４−１３０７２４号公報、及び特開平６−２０４１９７号公報には、処理容器、若しくはウェーハホルダが石英から成るウェーハ洗浄装置が開示されている。ドイツ連邦共和国特許第３５２７５１５号明細書に基づき公知の、シリコーン片の噴霧のための装置、並びにこのためのチャンバにおいては、プラスチックから成るパンが成形されており、このパンは、極めてアクティブな化学薬品の損傷作用に対して化学作用をおこさない。本発明の課題は、特に基板用のガイド兼保持エレメントに関して容器内に最適に形成され、廉価に製作可能であり且つ長い寿命を有する、基板を処理するための装置を提供することである。この課題は、処理流体を含有する容器と、少なくとも１つの基板ホルダとを備えており、処理流体に接触する容器の構成部材が保護層を有しており、基板用のガイドエレメントが前記保護層に溶接されており、ガイドエレメントが、前記保護層に溶接され、且つ相互に溶接されたプラスチックコードから成っていることを特徴とする、基板を処理するための装置によって解決される。本発明による手段、即ちコードの形の基板用ガイドエレメント及び／又は保持エレメントを保護層に溶接することに基づき、このような形式の装置の製作は特に簡単且つ廉価である。純度の高い石英から製作された容器よりも著しく廉価な、金属から成る容器を選択することも可能である。これにより、縁部領域、又は先細りに延びる領域における保護層の付与が、確実には可能でなく、該領域において特に容易に損傷されるという問題も最早生じることはない。請求の範囲１．処理流体を含有する容器（１）と、少なくとも１つの基板ホルダ（１０）とを備えており、処理流体に接触する容器（１）の構成部材が保護層（２４）を有しており、基板（５）用のガイドエレメント（６，６３）が前記保護層（２４）に溶接されており、ガイドエレメント（６）が、前記保護層（２４）に溶接され、且つ相互に溶接されたプラスチックコード（３２）から成っていることを特徴とする、基板を処理するための装置。２．保護層（２４）がペルフルオロアルコキシポリマー（ＰＦＡ）から成っている、請求項１記載の装置。３．コーティングされた容器壁（２，３）の互いに向かい合う内面において、基板（５）用の、プラスチックから成るガイドエレメント（６）が保護層（２４）に溶接されている、請求項１又は２記載の装置。４．ガイドエレメント（６）がプラスチックストリップから成っている、請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。５．ガイドエレメント（６，６３）がＰＦＡから成っている、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。６．ガイドエレメント（６）が、基板（５）用のガイドスリット（２５）を有している、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。７．ガイドスリット（２５）が、基板（５）用のＶ字形の出入り口領域を有している、請求項１から６までのいずれか１項記載の装置。８．保護層（２４）によってコーティングされた容器壁（２，３）が金属から、有利には特殊鋼、又はアルミニウムから成っている、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。９．保護層（２４）によってコーティングされた容器壁（２，３）が石英から成っている、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。 10．処理流体を含有する容器（１）と、少なくとも１つの基板ホルダ（１０）とを備えており、処理流体に接触する基板ホルダ（１０）の構成部材が、保護層によってコーティングされたウェブ（６１）を有しており、該ウェブにプラスチックから成る刃状の基板支持エレメント（６３）が溶接されていることを特徴とする、基板を処理するための装置。 11．処理流体を含有する容器（１）と、少なくとも１つの基板ホルダ（１０）とを備えており、処理流体に接触する基板ホルダ（１０）の構成部材が、保護層によってコーティングされたウェブを有しており、該ウェブにプラスチックから成る刃状の基板支持エレメントがキャップとして被せ嵌められていることを特徴とする、基板を処理するための装置。 12．前記支持エレメントの刃状縁部（６４）が、基板用の均等に間隔を置かれた複数のノッチ（６５）を有している、請求項１０又は１１記載の装置。 13．基板ホルダ（１０）に対して平行に配置され、且つ該基板ホルダに結合された少なくとも１つの安定ウェブ（１１，１２）が設けられている、請求項１０から１２までのいずれか１項記載の装置。 14．基板ホルダ（１０）の両側に、安定ウェブ（１１，１２）が設けられている、請求項１３記載の装置。 15．安定ウェブ（１１，１２）が、それぞれ保護層によってコーティングされた金属から成っており、これらの安定ウェブに刃状エレメント（６６，６７）が溶接、又は被せ嵌められている、請求項１３又は１４記載の装置。

Claims

【特許請求の範囲】１．処理流体を含有する容器（１）と、少なくとも１つの基板ホルダ（１０）とを備えた基板（５）を処理するための装置であって、処理流体に接触する容器（１）、及び／又は基板ホルダ（１０）の構成部材が保護層（２４）を有しており、基板（５）用のガイドエレメント、及び／又は保持エレメント（６，６３）が前記保護層（２４）に溶接されている形式のものにおいて、ガイドエレメント（６）が、プラスチックコード（３２）から形成されており、これらのプラスチックコードが、前記保護層（２４）に溶接され、且つプラスチックコード同士で互いに溶接されていることを特徴とする、基板を処理するための装置。２．保護層（２４）がペルフルオロアルコキシポリマー（ＰＦＡ）から成っている、請求項１記載の装置。３．コーティングされた容器壁（２，３）の互いに向かい合う内面において、基板（５）用の、プラスチックから成るガイドエレメント（６）が保護層（２４）に溶接されている、請求項１又は２記載の装置。４．ガイドエレメント（６）がプラスチックストリップから成っている、請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。５．ガイドエレメント（６，６３）がＰＦＡから成っている、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。６．ガイドエレメント（６）が、基板（５）用のガイドスリット（２５）を有している、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。７．ガイドスリット（２５）が、基板（５）用のＶ字形の出入り口領域を有している、請求項１から６までのいずれか１項記載の装置。８．保護層（２４）によってコーティングされた容器壁（２，３）が金属から、有利には特殊鋼、又はアルミニウムから成っている、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。９．保護層（２４）によってコーティングされた容器壁（２，３）が石英から成っている、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。 10．基板ホルダ（１０）が、保護層によってコーティングされたウェブ（６１）を有しており、該ウェブに、プラスチックから成る刃状の基板支持エレメント（６３）が溶接されている、請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。 11．基板ホルダ（１０）が、保護層によってコーティングされたウェブを有しており、該ウェブに、プラスチックから成る刃状の基板支持エレメントがキャップとして被せ嵌められている、請求項１から１０までのいずれか１項記載の装置。 12．前記支持エレメントの刃状縁部（６４）が、基板用の均等に間隔を置かれた複数のノッチ（６５）を有している、請求項１０又は１１記載の装置。 13．基板ホルダ（１０）に対して平行に配置され、且つ該基板ホルダに結合された少なくとも１つの安定ウェブ（１１，１２）が設けられている、請求項１０から１２までのいずれか１項記載の装置。 14．基板ホルダ（１０）の両側に、安定ウェブ（１１，１２）が設けられている、請求項１３記載の装置。 15．安定ウェブ（１１，１２）が、それぞれ保護層によってコーティングされた金属から成っており、これらの安定ウェブに刃状エレメント（６６，６７）が溶接、又は被せ嵌められている、請求項１３又は１４記載の装置。