JPH06283486A - ウエハ保持装置及びウエハ収納カセット - Google Patents
ウエハ保持装置及びウエハ収納カセットInfo
- Publication number
- JPH06283486A JPH06283486A JP7206993A JP7206993A JPH06283486A JP H06283486 A JPH06283486 A JP H06283486A JP 7206993 A JP7206993 A JP 7206993A JP 7206993 A JP7206993 A JP 7206993A JP H06283486 A JPH06283486 A JP H06283486A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- holding
- conductive member
- cassette
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Packaging For Recording Disks (AREA)
- Packaging Of Annular Or Rod-Shaped Articles, Wearing Apparel, Cassettes, Or The Like (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 パーティクルの発生を抑えかつ静電気の残留
を防止する。 【構成】 ウエハ保持装置19は、半導体用のウエハを
処理するウエハ乾燥部6に設けられ、ウエハを保持する
ものであって、ウエハ保持部25と導電部材31と支持
部材28を含む接地部材とを備えている。ウエハ保持部
25は、ウエハの外周端面が接触する保持面を有する絶
縁体製のものである。導電部材31は、ウエハ保持部2
5の保持面に、ウエハに接触可能に配置されている。接
地部材は、導電部材31を接地する。
を防止する。 【構成】 ウエハ保持装置19は、半導体用のウエハを
処理するウエハ乾燥部6に設けられ、ウエハを保持する
ものであって、ウエハ保持部25と導電部材31と支持
部材28を含む接地部材とを備えている。ウエハ保持部
25は、ウエハの外周端面が接触する保持面を有する絶
縁体製のものである。導電部材31は、ウエハ保持部2
5の保持面に、ウエハに接触可能に配置されている。接
地部材は、導電部材31を接地する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハ保持装置、特
に、半導体用のウエハを処理するウエハ処理装置に設け
られ、ウエハを保持するウエハ保持装置に関する。また
別の発明は、ウエハ収納カセット、特に、多数のウエハ
を一括して取り扱うためのウエハ収納カセットに関す
る。
に、半導体用のウエハを処理するウエハ処理装置に設け
られ、ウエハを保持するウエハ保持装置に関する。また
別の発明は、ウエハ収納カセット、特に、多数のウエハ
を一括して取り扱うためのウエハ収納カセットに関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体用のウエハに対し、洗浄処理等の
表面処理を行う場合には、ウエハを処理液槽内に浸漬し
て処理する浸漬型のウエハ処理装置が用いられる。この
ようなウエハ処理装置は、以下のように動作する。ま
ず、ウエハ移載装置が、複数のウエハを収納したカセッ
トからウエハ搬送ロボットにウエハを引き渡す。ウエハ
搬送ロボットはウエハを処理部へ搬送し、さらにこのウ
エハを処理部へ引き渡す。処理部では、ウエハに表面処
理が施される。処理が済むと、ウエハ搬送ロボットは処
理済みウエハを処理部から受け取り、処理済みウエハを
ウエハ乾燥部に送る。ウエハ乾燥部では、ウエハの水切
り及び乾燥処理がなされる。乾燥処理が済むと、ウエハ
搬送ロボットは乾燥済みウエハをウエハ乾燥部から受け
取り、乾燥済みウエハをウエハ移載装置まで搬送する。
そしてウエハ移載装置はウエハ搬送ロボットから乾燥済
みウエハを受け取り、このウエハをカセット内に装填す
る。
表面処理を行う場合には、ウエハを処理液槽内に浸漬し
て処理する浸漬型のウエハ処理装置が用いられる。この
ようなウエハ処理装置は、以下のように動作する。ま
ず、ウエハ移載装置が、複数のウエハを収納したカセッ
トからウエハ搬送ロボットにウエハを引き渡す。ウエハ
搬送ロボットはウエハを処理部へ搬送し、さらにこのウ
エハを処理部へ引き渡す。処理部では、ウエハに表面処
理が施される。処理が済むと、ウエハ搬送ロボットは処
理済みウエハを処理部から受け取り、処理済みウエハを
ウエハ乾燥部に送る。ウエハ乾燥部では、ウエハの水切
り及び乾燥処理がなされる。乾燥処理が済むと、ウエハ
搬送ロボットは乾燥済みウエハをウエハ乾燥部から受け
取り、乾燥済みウエハをウエハ移載装置まで搬送する。
そしてウエハ移載装置はウエハ搬送ロボットから乾燥済
みウエハを受け取り、このウエハをカセット内に装填す
る。
【0003】この種のウエハ処理装置では、ウエハ乾燥
部やウエハ移載装置に、ウエハ搬送ロボットとの間でウ
エハを受け渡すためのウエハ受渡し部が配置されてい
る。この受渡し部の上面には、それぞれウエハを保持す
るための複数の保持溝が等間隔に形成されている。ま
た、ウエハ搬送ロボットは、受渡し部に対してウエハを
受渡し得るように、開閉する1対の搬送アームを有して
おり、搬送アームでウエハの両側部を挟持している。
部やウエハ移載装置に、ウエハ搬送ロボットとの間でウ
エハを受け渡すためのウエハ受渡し部が配置されてい
る。この受渡し部の上面には、それぞれウエハを保持す
るための複数の保持溝が等間隔に形成されている。ま
た、ウエハ搬送ロボットは、受渡し部に対してウエハを
受渡し得るように、開閉する1対の搬送アームを有して
おり、搬送アームでウエハの両側部を挟持している。
【0004】この種のウエハ受渡し部やウエハ搬送アー
ム等のウエハ保持部材には、従来、耐食性等を考慮して
4フッ化エチレン樹脂等の耐食性の樹脂が用いられてい
る。
ム等のウエハ保持部材には、従来、耐食性等を考慮して
4フッ化エチレン樹脂等の耐食性の樹脂が用いられてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の構成では、
ウエハ搬送アームやウエハ受渡し部等のウエハ保持部材
が4フッ化エチレン樹脂等の絶縁材で構成されているの
で、特に洗浄工程や回転乾燥時において静電気が発生
し、これがウエハ表面に残留するおそれがある。ウエハ
表面に静電気が残留すると、半導体素子の多集積化、小
型化に伴い微細化した回路に静電気がダメージを与え、
素子の歩留りが低下するという問題が生じる。
ウエハ搬送アームやウエハ受渡し部等のウエハ保持部材
が4フッ化エチレン樹脂等の絶縁材で構成されているの
で、特に洗浄工程や回転乾燥時において静電気が発生
し、これがウエハ表面に残留するおそれがある。ウエハ
表面に静電気が残留すると、半導体素子の多集積化、小
型化に伴い微細化した回路に静電気がダメージを与え、
素子の歩留りが低下するという問題が生じる。
【0006】これを防止するために、ウエハ保持部材に
導電性のSiC等を用いることも考えられるが、この場
合には、ウエハの受渡しの際にSiCによりウエハが削
れてパーティクルが発生する。また、導電性の炭素繊維
等を含有した4フッ化エチレン樹脂を用いることも考え
られるが、炭素繊維を含有した4フッ化エチレン樹脂を
用いると、ウエハとの接触によって炭素繊維が剥離し、
剥離した炭素繊維がパーティクルになるという問題があ
る。
導電性のSiC等を用いることも考えられるが、この場
合には、ウエハの受渡しの際にSiCによりウエハが削
れてパーティクルが発生する。また、導電性の炭素繊維
等を含有した4フッ化エチレン樹脂を用いることも考え
られるが、炭素繊維を含有した4フッ化エチレン樹脂を
用いると、ウエハとの接触によって炭素繊維が剥離し、
剥離した炭素繊維がパーティクルになるという問題があ
る。
【0007】本発明の目的は、パーティクルの発生を抑
えかつウエハでの静電気の残留を防止し得るようにする
ことにある。
えかつウエハでの静電気の残留を防止し得るようにする
ことにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明に係るウエハ保持
装置は、半導体用のウエハを処理するウエハ処理装置に
設けられた、ウエハを保持する装置であって、ウエハ保
持部と導電部材と接地部材とを備えている。ウエハ保持
部はウエハの外周が接触する保持溝を有し、絶縁体製の
ものである。導電部材は保持溝の保持面に、ウエハの外
周端面に接触可能に配置されたものである。接地部材は
導電部材を接地するためのものである。
装置は、半導体用のウエハを処理するウエハ処理装置に
設けられた、ウエハを保持する装置であって、ウエハ保
持部と導電部材と接地部材とを備えている。ウエハ保持
部はウエハの外周が接触する保持溝を有し、絶縁体製の
ものである。導電部材は保持溝の保持面に、ウエハの外
周端面に接触可能に配置されたものである。接地部材は
導電部材を接地するためのものである。
【0009】本発明に係るウエハ収納カセットは、複数
のウエハを一括して取り扱うためのカセットであって、
ウエハ保持部と導電部材とを備えている。ウエハ保持部
は、複数のウエハのそれぞれの外周が接触する保持溝を
有し、絶縁体製のものである。導電部材は、保持溝の保
持面に、ウエハの外周端面及び外部の接地部材に接触可
能に配置されたものである。
のウエハを一括して取り扱うためのカセットであって、
ウエハ保持部と導電部材とを備えている。ウエハ保持部
は、複数のウエハのそれぞれの外周が接触する保持溝を
有し、絶縁体製のものである。導電部材は、保持溝の保
持面に、ウエハの外周端面及び外部の接地部材に接触可
能に配置されたものである。
【0010】
【作用】本発明に係るウエハ保持装置では、絶縁体製の
ウエハ保持部にウエハが保持されると、保持溝の保持面
に配置された導電部材がウエハの外周端面に接触し、ウ
エハに帯電した静電気が導電部材を介して接地部材に流
れる。このため、ウエハを保持する際に静電気が除去さ
れる。ここでは、ウエハの外周端面に接触した導電部材
によりウエハの静電気が除去されるので、ウエハと導電
部材との摺動が極力抑えられる。
ウエハ保持部にウエハが保持されると、保持溝の保持面
に配置された導電部材がウエハの外周端面に接触し、ウ
エハに帯電した静電気が導電部材を介して接地部材に流
れる。このため、ウエハを保持する際に静電気が除去さ
れる。ここでは、ウエハの外周端面に接触した導電部材
によりウエハの静電気が除去されるので、ウエハと導電
部材との摺動が極力抑えられる。
【0011】本発明に係るウエハ収納カセットでは、ウ
エハ保持部にウエハが並べて保持されると、保持溝の保
持面に配置された導電部材がウエハの外周端面に接触す
る。この導電部材は外部の接地部材に接触可能であるの
で、カセットがたとえば金属部材に載置されると、ウエ
ハに溜まった静電気は導電部材を介して除去される。こ
こでは、前記同様にウエハの外周端面が導電部材に接触
し、静電気が除去される。
エハ保持部にウエハが並べて保持されると、保持溝の保
持面に配置された導電部材がウエハの外周端面に接触す
る。この導電部材は外部の接地部材に接触可能であるの
で、カセットがたとえば金属部材に載置されると、ウエ
ハに溜まった静電気は導電部材を介して除去される。こ
こでは、前記同様にウエハの外周端面が導電部材に接触
し、静電気が除去される。
【0012】
【実施例】図1及び図2に示す本発明の一実施例を採用
した浸漬型ウエハ洗浄装置1は、ウエハ収納カセットC
の搬入搬出部2と、カセットCからのウエハWの取り出
しまたはカセットCへのウエハWの装填を行うウエハ移
載部3と、カセットCを洗浄するためのカセット洗浄器
3aと、搬入搬出部2とウエハ移載部3とカセット洗浄
器3aとの間でカセットCを移載するカセット移載ロボ
ット4と、複数のウエハを一括して洗浄する浸漬型ウエ
ハ洗浄処理部5と、ウエハWの液切り及び乾燥を行うた
めのウエハ乾燥部6と、ウエハ移載部3でカセットCか
ら取り出した複数のウエハWを一括保持してウエハ洗浄
処理部5及びウエハ乾燥部6に搬送するウエハ搬送ロボ
ット7とから構成されている。
した浸漬型ウエハ洗浄装置1は、ウエハ収納カセットC
の搬入搬出部2と、カセットCからのウエハWの取り出
しまたはカセットCへのウエハWの装填を行うウエハ移
載部3と、カセットCを洗浄するためのカセット洗浄器
3aと、搬入搬出部2とウエハ移載部3とカセット洗浄
器3aとの間でカセットCを移載するカセット移載ロボ
ット4と、複数のウエハを一括して洗浄する浸漬型ウエ
ハ洗浄処理部5と、ウエハWの液切り及び乾燥を行うた
めのウエハ乾燥部6と、ウエハ移載部3でカセットCか
ら取り出した複数のウエハWを一括保持してウエハ洗浄
処理部5及びウエハ乾燥部6に搬送するウエハ搬送ロボ
ット7とから構成されている。
【0013】ウエハ移載部3は、2つのカセットCを載
置する回転可能な2つのテーブル8を有している。テー
ブル8は、カセットCを必要に応じて90°回転させ
る。テーブル8の中心には、矩形の開口が形成されてお
り、この開口の下方には、カセットCからウエハWを一
括して取り出すとともに、カセットCにウエハWを一括
して装填するための昇降可能なウエハ受け部8aが配置
されている。
置する回転可能な2つのテーブル8を有している。テー
ブル8は、カセットCを必要に応じて90°回転させ
る。テーブル8の中心には、矩形の開口が形成されてお
り、この開口の下方には、カセットCからウエハWを一
括して取り出すとともに、カセットCにウエハWを一括
して装填するための昇降可能なウエハ受け部8aが配置
されている。
【0014】カセット移載ロボット4は、昇降及び回転
自在でありかつ図1の矢印A方向に移動可能に構成され
ている。カセット移載ロボット4は、搬入搬出部2に搬
入されてきたカセットCをテーブル8上に移載し、ウエ
ハ洗浄中においてカセット洗浄器3aとテーブル8との
間でカセットCを出し入れし、また、洗浄済みのウエハ
Wを収容したカセットCをテーブル8から搬入搬出部2
へ移載する。
自在でありかつ図1の矢印A方向に移動可能に構成され
ている。カセット移載ロボット4は、搬入搬出部2に搬
入されてきたカセットCをテーブル8上に移載し、ウエ
ハ洗浄中においてカセット洗浄器3aとテーブル8との
間でカセットCを出し入れし、また、洗浄済みのウエハ
Wを収容したカセットCをテーブル8から搬入搬出部2
へ移載する。
【0015】ウエハ乾燥部6は、図3及び図4に示すよ
うに、薄肉円筒状のチャンバ15と、チャンバ15内に
回転可能に設けられたロータ16と、ロータ16を回転
させるための駆動機構17と、ロータ16に着脱自在に
取り付けられるウエハ保持装置19と、ロータ16下方
に配置されウエハ保持装置19を昇降させるための保持
具昇降機構20と、第1クランプ装置21と、第2クラ
ンプ装置22とを有している。
うに、薄肉円筒状のチャンバ15と、チャンバ15内に
回転可能に設けられたロータ16と、ロータ16を回転
させるための駆動機構17と、ロータ16に着脱自在に
取り付けられるウエハ保持装置19と、ロータ16下方
に配置されウエハ保持装置19を昇降させるための保持
具昇降機構20と、第1クランプ装置21と、第2クラ
ンプ装置22とを有している。
【0016】チャンバ15の上部にはウエハ出入口15
aが形成されており、この出入口15aは開閉自在な蓋
18によって覆われている。ロータ16は、図4に示す
ように、両端の回転軸がチャンバ15に回転自在に支持
されている。そして、対向する1対の回転フランジ16
aと、1対の回転フランジ16aを互いに連結する複数
の連結ロッド16bとを有している。1対の回転フラン
ジ16aの互いに対向する面には、ウエハ保持装置19
が係止する係止部16cが設けられている。駆動機構1
7は、ロータ16を回転させるためのモータ17aと、
モータ17a及びロータ16の回転軸に取り付けられた
プーリ17bと、プーリ17b間にかけわたされたベル
ト17cとを有している。また、第1クランプ装置21
はウエハ保持装置19に保持された複数のウエハWをロ
ータ16に固定するためのものであり、第2クランプ装
置22は係止部16cに係止したウエハ保持装置19を
ロータ16に固定するためのものである。
aが形成されており、この出入口15aは開閉自在な蓋
18によって覆われている。ロータ16は、図4に示す
ように、両端の回転軸がチャンバ15に回転自在に支持
されている。そして、対向する1対の回転フランジ16
aと、1対の回転フランジ16aを互いに連結する複数
の連結ロッド16bとを有している。1対の回転フラン
ジ16aの互いに対向する面には、ウエハ保持装置19
が係止する係止部16cが設けられている。駆動機構1
7は、ロータ16を回転させるためのモータ17aと、
モータ17a及びロータ16の回転軸に取り付けられた
プーリ17bと、プーリ17b間にかけわたされたベル
ト17cとを有している。また、第1クランプ装置21
はウエハ保持装置19に保持された複数のウエハWをロ
ータ16に固定するためのものであり、第2クランプ装
置22は係止部16cに係止したウエハ保持装置19を
ロータ16に固定するためのものである。
【0017】ウエハ保持装置19は、1対の回転フラン
ジ16a間に配置された底板23と、底板23の両端部
に立設された前後1対の側板24と、1対の側板24間
に配置された3つのウエハ保持部25,26,27とを
有している。なお、底板23の両端には、係止部16c
に係止する孔が形成されている。3つのウエハ保持部2
5〜27は、それぞれウエハの底部を保持するものであ
り、図5に示すように保持部25はウエハWの中央底部
を保持し、左右の保持部26,27はウエハWの斜め下
部を保持する。各保持部25〜27は、両端が1対の側
板24に取り付けられたステンレス製の支持部材28,
32,33と、支持部材28,32,33を覆うように
形成された4フッ化エチレン樹脂製の保持部本体30,
34,35とを有している。そして、各保持部本体3
0,34,35には、図6に示すように櫛歯状に複数の
保持溝29が形成されている。各保持溝29は、図7に
拡大して示すように、ウエハWの外周端面が接触する保
持面29aと、ウエハWの主面を支持する支持面29b
とから構成されている。
ジ16a間に配置された底板23と、底板23の両端部
に立設された前後1対の側板24と、1対の側板24間
に配置された3つのウエハ保持部25,26,27とを
有している。なお、底板23の両端には、係止部16c
に係止する孔が形成されている。3つのウエハ保持部2
5〜27は、それぞれウエハの底部を保持するものであ
り、図5に示すように保持部25はウエハWの中央底部
を保持し、左右の保持部26,27はウエハWの斜め下
部を保持する。各保持部25〜27は、両端が1対の側
板24に取り付けられたステンレス製の支持部材28,
32,33と、支持部材28,32,33を覆うように
形成された4フッ化エチレン樹脂製の保持部本体30,
34,35とを有している。そして、各保持部本体3
0,34,35には、図6に示すように櫛歯状に複数の
保持溝29が形成されている。各保持溝29は、図7に
拡大して示すように、ウエハWの外周端面が接触する保
持面29aと、ウエハWの主面を支持する支持面29b
とから構成されている。
【0018】中央の保持部25において、保持溝29の
保持面29aの一部を構成するように、導電部材31が
保持部本体30内に一体成形されている。導電部材31
の下部は支持部材28に接触しており、支持部材28は
接地部材として機能している。導電部材31は、炭素繊
維を含有した4フッ化エチレン樹脂で形成されている。
保持面29aの一部を構成するように、導電部材31が
保持部本体30内に一体成形されている。導電部材31
の下部は支持部材28に接触しており、支持部材28は
接地部材として機能している。導電部材31は、炭素繊
維を含有した4フッ化エチレン樹脂で形成されている。
【0019】このようなウエハ保持装置19では、保持
されたウエハWは、導電部材31、支持部材28、側板
24等を介して接地される。ウエハ搬送ロボット7は、
図1に示すように、移動部10内を矢印B方向に移動可
能であり、ウエハ移載部3のウエハ受け部8aから受け
取った複数のウエハWを挟持するウエハ挟持アーム9を
有している。このロボット7は、ウエハ挟持アーム9で
挟持した複数のウエハWを移動部10に沿ってウエハ洗
浄部5及びウエハ乾燥部6へ順次搬送する。
されたウエハWは、導電部材31、支持部材28、側板
24等を介して接地される。ウエハ搬送ロボット7は、
図1に示すように、移動部10内を矢印B方向に移動可
能であり、ウエハ移載部3のウエハ受け部8aから受け
取った複数のウエハWを挟持するウエハ挟持アーム9を
有している。このロボット7は、ウエハ挟持アーム9で
挟持した複数のウエハWを移動部10に沿ってウエハ洗
浄部5及びウエハ乾燥部6へ順次搬送する。
【0020】ウエハ挟持アーム9は左右1対設けられて
おり、図8及び図9に示すようにそれぞれ4フッ化エチ
レン樹脂をコーティングしたステンレス製の1対の側板
40と、1対の側板40に挟まれた4フッ化エチレン樹
脂製の保持部41と、アーム9を回転させるための回転
軸42と、1対の側板40を連結するステンレス製の補
強部材43とを有している。保持部41には、ウエハW
の外周部を保持するための複数の保持溝44が等間隔で
形成されている。保持溝44は、図10に示すように、
ウエハWの外周端面が接触する保持面44aと、ウエハ
Wの主面を支持する支持面44bとを有している。
おり、図8及び図9に示すようにそれぞれ4フッ化エチ
レン樹脂をコーティングしたステンレス製の1対の側板
40と、1対の側板40に挟まれた4フッ化エチレン樹
脂製の保持部41と、アーム9を回転させるための回転
軸42と、1対の側板40を連結するステンレス製の補
強部材43とを有している。保持部41には、ウエハW
の外周部を保持するための複数の保持溝44が等間隔で
形成されている。保持溝44は、図10に示すように、
ウエハWの外周端面が接触する保持面44aと、ウエハ
Wの主面を支持する支持面44bとを有している。
【0021】またアーム9の保持部41は、図9及び図
10に示す保持溝44の保持面44aの一部を構成する
ように、かつ補強部材43に接触するように、導電部材
45が一体形成されている。導電部材45は炭素繊維を
含有した4フッ化エチレン樹脂製である。このような構
成では、ウエハWが保持されたときに、ウエハWと補強
部材43とは電気的に接続され、側板40、回転軸42
等を介して接地される。
10に示す保持溝44の保持面44aの一部を構成する
ように、かつ補強部材43に接触するように、導電部材
45が一体形成されている。導電部材45は炭素繊維を
含有した4フッ化エチレン樹脂製である。このような構
成では、ウエハWが保持されたときに、ウエハWと補強
部材43とは電気的に接続され、側板40、回転軸42
等を介して接地される。
【0022】また、カセットCは、図11に示すように
断面が略U字状に形成されている。そして、その上部に
はウエハWが通過し得る上開口46が形成され、下部に
はウエハWの径より小さくかつウエハ受け部8aが通過
し得る下開口47が形成されている。そして、対向する
側壁48には、ウエハWを保持するための複数の保持溝
50が等間隔で形成されている。
断面が略U字状に形成されている。そして、その上部に
はウエハWが通過し得る上開口46が形成され、下部に
はウエハWの径より小さくかつウエハ受け部8aが通過
し得る下開口47が形成されている。そして、対向する
側壁48には、ウエハWを保持するための複数の保持溝
50が等間隔で形成されている。
【0023】保持溝50は、図12に示すようにウエハ
Wの外周端面と接触する保持面50aと、ウエハWの主
面を支持する支持面50bとを有している。そして、カ
セットCの下端部には、その上部が保持溝50の保持面
50aの一部を形成するように、導電部材51が一体成
形されている。導電部材51の下部は、接地部材となる
テーブル8等の外部の部材に接触可能となっている。導
電部材51は、炭素繊維を含有した4フッ化エチレン樹
脂で形成されており、これにより、保持されたウエハW
の端面と外部の部材とが電気的に接続される。
Wの外周端面と接触する保持面50aと、ウエハWの主
面を支持する支持面50bとを有している。そして、カ
セットCの下端部には、その上部が保持溝50の保持面
50aの一部を形成するように、導電部材51が一体成
形されている。導電部材51の下部は、接地部材となる
テーブル8等の外部の部材に接触可能となっている。導
電部材51は、炭素繊維を含有した4フッ化エチレン樹
脂で形成されており、これにより、保持されたウエハW
の端面と外部の部材とが電気的に接続される。
【0024】ウエハ処理部5は、オーバーフロー型の洗
浄処理部5aと、オーバーフローさせないで酸洗浄を行
う酸洗浄処理部5bとの2つの別系統の処理部から構成
されている。各処理部5a,5bは洗浄槽12a,12
bと、洗浄槽12a,12bに昇降自在に設けられたウ
エハ保持具11とを備えている。各洗浄処理部5a,5
bは、ウエハ搬送ロボット7から受け取った複数のウエ
ハWを、ウエハ保持具11で保持して洗浄槽12a,1
2b内に浸漬する。洗浄の終了したウエハWは、ウエハ
保持具11からウエハ搬送ロボット7に受け渡される。
浄処理部5aと、オーバーフローさせないで酸洗浄を行
う酸洗浄処理部5bとの2つの別系統の処理部から構成
されている。各処理部5a,5bは洗浄槽12a,12
bと、洗浄槽12a,12bに昇降自在に設けられたウ
エハ保持具11とを備えている。各洗浄処理部5a,5
bは、ウエハ搬送ロボット7から受け取った複数のウエ
ハWを、ウエハ保持具11で保持して洗浄槽12a,1
2b内に浸漬する。洗浄の終了したウエハWは、ウエハ
保持具11からウエハ搬送ロボット7に受け渡される。
【0025】次に、上述の実施例の動作について説明す
る。ウエハWが収容されたカセットCが搬入搬出部2に
載置されると、カセット移載ロボット4がそれを受け取
り、ウエハ移載部3に載置する。カセットCがウエハ移
載部3に移載されると、ウエハ受け部8aが、カセット
CからウエハWを取り出し、ウエハ搬送ロボット7にウ
エハWを受け渡す。ウエハ搬送ロボット7は、洗浄処理
部5aの基板洗浄槽12aまたは処理部5bの酸洗浄槽
12bにウエハWを搬送する。洗浄処理が終了すると、
浸漬されていたウエハWがウエハ搬送ロボット7により
ウエハ乾燥部6に運ばれる。
る。ウエハWが収容されたカセットCが搬入搬出部2に
載置されると、カセット移載ロボット4がそれを受け取
り、ウエハ移載部3に載置する。カセットCがウエハ移
載部3に移載されると、ウエハ受け部8aが、カセット
CからウエハWを取り出し、ウエハ搬送ロボット7にウ
エハWを受け渡す。ウエハ搬送ロボット7は、洗浄処理
部5aの基板洗浄槽12aまたは処理部5bの酸洗浄槽
12bにウエハWを搬送する。洗浄処理が終了すると、
浸漬されていたウエハWがウエハ搬送ロボット7により
ウエハ乾燥部6に運ばれる。
【0026】ウエハ乾燥部6では、まず保持具昇降機構
20が上昇する。これにより、ロータ16に係止してい
たウエハ保持装置19が上昇して、ウエハ挟持アーム9
で挟持されたウエハWを保持部25〜27上に受け取
る。この状態でウエハ挟持アーム9が開き、続いて保持
具昇降機構20が下降する。下降途中で、ウエハ保持装
置19はロータ16の係止部16cに係止する。そし
て、ウエハW及びウエハ保持装置19が第1クランプ装
置21及び第2クランプ装置22によりクランプされ
る。この状態でロータ16が回転し、液切り及び乾燥処
理がなされる。乾燥処理が終了すると、再度保持具昇降
機構20が上昇してウエハ保持装置19を上昇させる。
そしてウエハ挟持アーム9にウエハWを預ける。
20が上昇する。これにより、ロータ16に係止してい
たウエハ保持装置19が上昇して、ウエハ挟持アーム9
で挟持されたウエハWを保持部25〜27上に受け取
る。この状態でウエハ挟持アーム9が開き、続いて保持
具昇降機構20が下降する。下降途中で、ウエハ保持装
置19はロータ16の係止部16cに係止する。そし
て、ウエハW及びウエハ保持装置19が第1クランプ装
置21及び第2クランプ装置22によりクランプされ
る。この状態でロータ16が回転し、液切り及び乾燥処
理がなされる。乾燥処理が終了すると、再度保持具昇降
機構20が上昇してウエハ保持装置19を上昇させる。
そしてウエハ挟持アーム9にウエハWを預ける。
【0027】ウエハ挟持アーム9に挟持されたウエハW
は、ウエハ搬送ロボット7によりさらにウエハ移載部3
に運ばれ、ウエハ移載部3でカセットC内に装填され
る。なお、ここで用いられるカセットCは、カセット洗
浄器3aで予め洗浄されている。そしてカセット搬送ロ
ボット4で搬入搬出部2に載置される。このような処理
工程において、特に洗浄工程では、純水からウエハWを
引き上げる際に、純水との接触によってウエハW表面に
静電気が発生する。また、回転乾燥処理工程においても
空気との接触によってウエハW表面に静電気が発生す
る。この静電気は、ウエハW上に作成された回路にダメ
ージを与える場合がある。
は、ウエハ搬送ロボット7によりさらにウエハ移載部3
に運ばれ、ウエハ移載部3でカセットC内に装填され
る。なお、ここで用いられるカセットCは、カセット洗
浄器3aで予め洗浄されている。そしてカセット搬送ロ
ボット4で搬入搬出部2に載置される。このような処理
工程において、特に洗浄工程では、純水からウエハWを
引き上げる際に、純水との接触によってウエハW表面に
静電気が発生する。また、回転乾燥処理工程においても
空気との接触によってウエハW表面に静電気が発生す
る。この静電気は、ウエハW上に作成された回路にダメ
ージを与える場合がある。
【0028】しかし本実施例では、ウエハ挟持アーム
9、ウエハ乾燥部6のウエハ保持装置19、あるいはカ
セットCによってウエハWが保持された際にウエハW表
面に帯電している静電気を除去することができる。すな
わち、ウエハ挟持アーム9にウエハWが保持されると、
ウエハWの外周端面は保持溝44の保持面44aに接触
する。この保持面44aには導電部材45先端が露出し
ており、さらに導電部材45は、補強部材43、側板4
0及び回転軸42を介して電気的にアースに接続されて
いる。このため、ウエハWに帯電した静電気は前記経路
を介して接地される。また、ウエハ保持装置19にウエ
ハWが保持された場合は、ウエハWの外周端面が保持溝
29の保持面29aに接触する。この保持面29aには
導電部材31の先端が露出しており、この導電部材31
は、支持部材28、側板24、底板23及びロータ16
の回転フランジ16aあるいはウエハ昇降機構20を介
して電気的にアースに接続されている。このため、ウエ
ハWに帯電した静電気は接地される。さらに、カセット
Cでは、ウエハWの外周端面が保持溝50の保持面50
aに接触し、ウエハWに帯電した静電気は導電部材51
及びテーブル8等を介して接地される。
9、ウエハ乾燥部6のウエハ保持装置19、あるいはカ
セットCによってウエハWが保持された際にウエハW表
面に帯電している静電気を除去することができる。すな
わち、ウエハ挟持アーム9にウエハWが保持されると、
ウエハWの外周端面は保持溝44の保持面44aに接触
する。この保持面44aには導電部材45先端が露出し
ており、さらに導電部材45は、補強部材43、側板4
0及び回転軸42を介して電気的にアースに接続されて
いる。このため、ウエハWに帯電した静電気は前記経路
を介して接地される。また、ウエハ保持装置19にウエ
ハWが保持された場合は、ウエハWの外周端面が保持溝
29の保持面29aに接触する。この保持面29aには
導電部材31の先端が露出しており、この導電部材31
は、支持部材28、側板24、底板23及びロータ16
の回転フランジ16aあるいはウエハ昇降機構20を介
して電気的にアースに接続されている。このため、ウエ
ハWに帯電した静電気は接地される。さらに、カセット
Cでは、ウエハWの外周端面が保持溝50の保持面50
aに接触し、ウエハWに帯電した静電気は導電部材51
及びテーブル8等を介して接地される。
【0029】このように本実施例では、処理中にウエハ
Wに帯電した静電気を、ウエハを保持する各部で除去す
るので、静電気によるウエハWへのダメージを少なくす
ることができる。また、各導電部材は炭素繊維を含有し
て形成されているが、それぞれ保持溝の底部にのみ配置
され、ウエハWと頻繁に摺動する保持溝の支持面には設
けられていない。したがって、ウエハWとの摺動によっ
て炭素繊維のパーティクルが発生することを抑えること
ができる。
Wに帯電した静電気を、ウエハを保持する各部で除去す
るので、静電気によるウエハWへのダメージを少なくす
ることができる。また、各導電部材は炭素繊維を含有し
て形成されているが、それぞれ保持溝の底部にのみ配置
され、ウエハWと頻繁に摺動する保持溝の支持面には設
けられていない。したがって、ウエハWとの摺動によっ
て炭素繊維のパーティクルが発生することを抑えること
ができる。
【0030】〔他の実施例〕 (a) 導電部材として炭素繊維を含有した4フッ化エ
チレン樹脂を用いたが、SiC等の他の導電性部材を用
いてもよい。 (b) 本実施例では、ウエハ挟持アーム9、ウエハ保
持装置19、カセットCに導電部材を設けたが、他のウ
エハ保持部に導電部材を設けてもよい。
チレン樹脂を用いたが、SiC等の他の導電性部材を用
いてもよい。 (b) 本実施例では、ウエハ挟持アーム9、ウエハ保
持装置19、カセットCに導電部材を設けたが、他のウ
エハ保持部に導電部材を設けてもよい。
【0031】
【発明の効果】本発明に係るウエハ保持装置及びウエハ
収納カセットでは、ウエハ保持部に設けられた保持溝
の、特にウエハ外周端面と接触する保持面に導電部材を
配置したので、パーティクルの発生を抑えてウエハに帯
電した静電気を除去することができる。
収納カセットでは、ウエハ保持部に設けられた保持溝
の、特にウエハ外周端面と接触する保持面に導電部材を
配置したので、パーティクルの発生を抑えてウエハに帯
電した静電気を除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を採用したウエハ洗浄装置の
斜視図。
斜視図。
【図2】その縦断面概略図。
【図3】ウエハ乾燥部の横断面図。
【図4】ウエハ乾燥部の縦断面図。
【図5】図3の拡大部分図。
【図6】図5のVI−VI断面図。
【図7】図6の拡大部分図。
【図8】ウエハ挟持アームの斜視図。
【図9】ウエハ挟持アームの横断面拡大図。
【図10】図9のX−X断面図。
【図11】ウエハ収納カセットの横断面図。
【図12】図11の拡大部分図。
1 ウエハ洗浄装置 9 ウエハ挟持アーム 19 ウエハ保持装置 28 支持部材 29,44,50 保持溝 29a,44a,50a 保持面 31,45,51 導電部材 43 補強部材 C カセット W ウエハ
Claims (2)
- 【請求項1】半導体用のウエハを処理するウエハ処理装
置に設けられた、前記ウエハを保持するウエハ保持装置
であって、 前記ウエハの外周が接触する保持溝を有する絶縁体製の
ウエハ保持部と、 前記保持溝の保持面に、前記ウエハの外周端面に接触可
能に配置された導電部材と、 前記導電部材を接地するための接地部材と、 を備えたウエハ保持装置。 - 【請求項2】複数のウエハを一括して取り扱うためのウ
エハ収納カセットであって、 前記複数のウエハのそれぞれの外周が接触する保持溝を
有する絶縁体製のウエハ保持部と、 前記保持溝の保持面に、前記ウエハの外周端面及び外部
の接地部材に接触可能に配置された導電部材と、 を備えたウエハ収納カセット。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7206993A JPH06283486A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | ウエハ保持装置及びウエハ収納カセット |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7206993A JPH06283486A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | ウエハ保持装置及びウエハ収納カセット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06283486A true JPH06283486A (ja) | 1994-10-07 |
Family
ID=13478751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7206993A Pending JPH06283486A (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | ウエハ保持装置及びウエハ収納カセット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06283486A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6189552B1 (en) | 1996-11-22 | 2001-02-20 | Steag Microtech Gmbh | Substrate processing device |
USRE38221E1 (en) | 1995-10-13 | 2003-08-19 | Entegris, Inc. | 300 mm microenvironment pod with door on side |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP7206993A patent/JPH06283486A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE38221E1 (en) | 1995-10-13 | 2003-08-19 | Entegris, Inc. | 300 mm microenvironment pod with door on side |
USRE41231E1 (en) | 1995-10-13 | 2010-04-20 | Entegris, Inc. | 300 mm microenvironment pod with door on side |
US6189552B1 (en) | 1996-11-22 | 2001-02-20 | Steag Microtech Gmbh | Substrate processing device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6187152B1 (en) | Multiple station processing chamber and method for depositing and/or removing material on a substrate | |
US6077412A (en) | Rotating anode for a wafer processing chamber | |
EP0420958B1 (en) | Gas etching of wafers to remove oxide layers | |
JP3563605B2 (ja) | 処理装置 | |
US6969456B2 (en) | Method of using vertically configured chamber used for multiple processes | |
US6660104B2 (en) | Dual cassette centrifugal processor | |
EP0690479A1 (en) | Method and apparatus for processing substrates, and apparatus for transferring the substrates | |
JPH11274282A (ja) | 基板収納容器、基板収納容器清浄化装置、基板収納容器清浄化方法および基板処理装置 | |
JPH06283486A (ja) | ウエハ保持装置及びウエハ収納カセット | |
US6716329B2 (en) | Processing apparatus and processing system | |
JP4286336B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
US20020139400A1 (en) | Vertical process reactor | |
KR20200021681A (ko) | 기판 처리 장치 | |
US6183611B1 (en) | Method and apparatus for the disposal of processing fluid used to deposit and/or remove material on a substrate | |
JP4149620B2 (ja) | 基板銅めっき処理方法 | |
JP2004303836A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2004304138A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3197304B2 (ja) | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | |
JPH11111659A (ja) | 基板帯電防止方法、基板帯電防止装置および基板洗浄装置 | |
KR20170110008A (ko) | 기판 세정 장치 | |
JPH08316183A (ja) | 洗浄方法及びその装置 | |
JP3017132B2 (ja) | 処理装置及び処理方法 | |
JP2000228388A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP3271438B2 (ja) | 表面処理用部材、表面処理装置、表面処理方法、並びに、半導体装置の製造方法 | |
JPH07263399A (ja) | 洗浄装置 |