KR20000057197A - 기판 처리 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 처리 액체 및 적어도 하나의 기판 지지부[10]를 포함하는 용기[1]를 포함하는 기판[5] 처리 장치에 관한 것이다. 상기 처리 액체와 접촉하는 상기 용기[1] 및/또는 기판 지지부[10]의 부분들은 보호층[24]을 구비한다. 본 발명에 따른 장치는 단순한 구조를 가지며, 생산 비용이 절감되며, 그리고 상기 기판들[5]을 위한 유도 및/또는 지지 부분들[6,63]이 상기 보호층[24]으로 접합되어 긴 수명을 가진다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING DEVICE}

본 발명은 기판의 처리를 위한 장치에 관한 것이며 적어도 하나의 기판 지지부 및 처리 액체(processing fluid)을 포함하는 용기(receptacle)를 포함한다. 상기 처리 액체와 접촉하는 상기 용기 및/또는 기판 지지부(substrate support)는 보호층을 가지고 있으며, 상기 기판들을 위한 유도 및/또는 지지 엘리먼트들(guide and/or support element)은 상기 보호층상에 용융되어(fused) 있다.

상기 타입의 장치는 WO 95/02473 A1에 의해 공지되어 있다.

기판, 특히 반도체 웨이퍼 처리 장치용 장치는 본 출원인의 DE 44 13 077 A1 및 DE 195 46 990 A1에 공개되어 있으며, 아직 공개 되지 않은 독일 출원 DE 196 16 402.8, DE 196 15 969.5, DE 196 37 875.3, DE 196 44 253.2 및 DE 196 44 254.0 에 더욱 자세히 기술되어 있다. 예를 들면 스테인레스 스틸(stainless steel)같은 금속으로 제조된 용기들 또는 기판 지지부들은 부식성 처리 액체로부터 상기 기판 지지부 및 용기 벽을 보호할 뿐만 아니라, 상기 처리 액체가 금속성 부분에 의해 오염되는 것을 방지하는 보호층(protective layer)으로 피복되어 있다.

JP 6-28 34 86 A2 또는 DE 39 30 056 A1에는 웨이퍼들의 유입(introduction) 및 제거시 웨이퍼의 손상을 방지하기 위한 형상 또는 둥근 형태의 유도 및 지지 엘리먼트들을 구비한, 웨이퍼들을 운반하고 지지하기 위한 웨이퍼 카세트 또는 웨이퍼 바스켓(basket)이 기술되어 있다. 출원 번호 JP 4-130 724 A1 및 JP 6-204 197 A2 에는 석영으로 만들어진 처리 용기 또는 웨이퍼 지지부가 존재하는 웨이퍼 세척 장치(cleaning apparatus)가 나타나 있다.

본 발명의 목적은 특히 용기내의 기판용 유도 및 지지 엘리먼트에 관해 최적으로 구성되고 경제적으로 제조될수 있으며, 더우기 긴 수명 기간을 가지는 기판 처리용 장치를 제공하는 것이다.

상기 목적은 서로 용융되고 상기 보호층에 용융된 중합체 스트랜드(polymeric strand)로 유도 엘리먼트(guide element)가 형성됨으로써 실현된다.

스트랜드의 형태로 상기 기판용 보호층 유도 및/또는 지지 엘리먼트상에 용융하는 방법의 결과로, 상기 장치의 제조는 매우 단순하고 경제적으로 이루어진다. 또한 고순도 석영으로 제작된 용기보다 훨씬 경제적인 금속제 용기를 선택하는 것이 가능해 진다. 또한 보호층이 특히 쉽게 손상될수 있는 모서리 또는 날카로운 테이퍼형 보호층의 신뢰성없는 피복문제도 해결할수 있다.

예를 들면 1 mm의 두께를 가지는 상기 보호 필름용 보호층은 바람직하게는 퍼플루오로알콕시 중합체(perfluoroalkoxy polymer;PFA)로 제조된다.

기판용 플라스틱 유도 엘리먼트들은 바람직하게는 상기 피복된 용기 벽들의 좌우로 배치된 내부 표면상의 보호층에 용융된다. 이것은 적절한 유도 엘리먼트들이 갖추어진 석영 용기들 보다 훨씬 비용 절감적이다. 더우기, 비교적 거친 석영의 기판의 입자 생성 마찰(particle producing friction)이 방지된다. 또한 상기 용기용 바탕 금속(base metal)로서 스테인레스 스틸 또는 알루미늄과 같은 금속을 사용하는 것이 가능하다.

본 발명의 한 바람직한 실시예에 따라, 상기 유도 부재(guide member)들은 각각 서로 반대로 배치된 액체 용기의 내부 벽들상에 접착되거나 용융된 플라스틱 스트립(strip)을 포함한다.

상기 플라스틱 스트립들은 바람직하게 상기 유도 부재들의 높이에 따른 두께를 가진다.

본 발명의 다른 실시예에 따라, 상기 플라스틱 스트랜드들은 예를 들면 4 mm의 직경을 가진다. 상기 플라스틱 스트랜드들은 상기 보호층에 용융되고 적절한 유도 부재들을 형성하기 위해 서로에 대해 용융된다. 상기 유도 부재들의 형태는 상기 스트랜드들의 에지들을 둥글게 하거나 매끄럽게 함으로써 만들어 진다.

상기 기판들의 유도 슬롯(slot)들이 서로 적절히 간격을 둔 유도 부재들에 의해 형성되지 않는다면, 적절히 넓은 플라스틱 스트립들 또는 플라스틱 스트랜드들에서 형성된 플라스틱 스트립들로 기판들을 위한 유도 슬롯들을 형성하는 것이 바람직하다. 서로에 대해 등간격인 상기 유도 슬롯들간의 간격은 상기 액체 처리를 위해 제공된 기판 패킹(packing)들의 패킹 두께에 따라 선택된다.

상기 기판들용 유도 부재들, 바꾸어 말하면 용융된 플라스틱 스트립들 또는 스트랜드들은 바람직하게는 상기 보호층과 동일한 물질로 구성된다. 바람직하게는 PFA이다.

더욱 바람직하게는 상기 기판들을 위한 유입(introduction) 및 배출(withdrawal) 영역내의 V 자 형상의 유도 슬롯들을 형성하여 유입된 기판들이 실제 유도 및 지지 영역쪽으로 집중되고 엔트리(entry) 영역내에서 유도 부재들과 부딪히지 않게하는 것이다. 상기 V 자 형상의 기판의 유입 및 제거 영역은 더우기 세정 및 상기 처리 액체, 예를 들면 세정 약품의 흐름을 상기 방식으로 개선하는 장점을 가진다.

처리 액체와 접촉하는 용기의 벽들상에 보호층을 제공하고 상기 보호층상의 유도 및 지지 엘리먼트들을 용융시킨 결과, 금속, 바람직하게는 스테인레스 스틸 또는 알루미늄을 용기 벽 또는 전체 용기에 사용되는 바탕 금속으로 사용할수 있게 되었다. 통상의 용기들이 석영으로 제조되고 예를 들면 반도체 웨이퍼들에 사용되는 처리 액체로 인해 석영의 수명 기간이 제한되기 때문에, 상기 금속의 사용은 제조 단가를 낮출뿐만 아니라 더욱 긴 수명 기간을 가능하게 한다.

본 발명의 또다른 실시예에 따라, 보호층이 존재하고 상기 보호층에 기판들을 위한 유도 및 지지 엘리먼트들을 용융시킬수 있는 가능성에도 불구하고 석영으로 상기 용기가 제조된다. 이것은 어떤 이유에서 상기 보호층이 손상되더라도 신뢰성있고 평탄한 기판 처리가 반드시 보장되어야할 경우 특히 유리하다. 금속 또는 알루미늄 용기들의 경우 처리 액체는 오염될것이기 때문이다. 상기의 위험은 보호층이 손상이 되는 경우가 발생하더라도 석영 용기 사용시 발생하지 않는다. 그러나 상기 보호층의 존재로 인해 상기 석영 용기는 통상의 장치보다 더욱 긴 수명 기간을 가진다.

본 발명의 더욱 바람직한 실시예에 따라, 상기 기판 지지부는 본 발명에 따라 보호층으로 피복되고 상기 보호층의 피복후 칼날 모양의 플라스틱 기판 지지 또는 수용 엘리먼트가 그위에 용융된 금속 스트립이다. 보호층으로 피복된 사실에 불구하고 상기 칼날 모양의 플라스틱 수용 엘리먼트가 용융될수 있어 본 발명에 따른 금속 스트립이 사용가능하므로, 상기 기판 지지부는 폭이 매우 좁아질수 있어 최적의 흐름 조건(flow condition)들을 제공한다. 그러므로 아직 공개되지 않은 독일 특허 출원 196 44 254.0 에 기술된 바와 같이, 기판 지지부에 대한 흐름 조건들을 개선하기 위한 방법을 제공할 필요가 없어진다.

보호층으로 피복된 금속성 기판 지지부상에 상기 칼날 모양의 플라스틱 기판 수용 엘리먼트를 용융하는 대신에, 본 발명의 또다른 실시예에 따라 기판 지지부상에 기판 수용 엘리먼트를 캡(cap)으로서 위치시키거나 끼우는 것도 가능하다.

기판 지지부상에 기판들을 서로 등간격으로 위치시키기 위해 상기 칼날 모양의 기판 수용 장치들은 바람직하게 상기 기판들을 위한 일정한 간격의 노치(notch)를 구비한다.

상기 기판 지지부의 바람직한 실시예에 따라, 상기 기판 지지부에 평행하게 배치되고 기판 지지부에 연결된 적어도 하나의 안정(stabilization) 엘리먼트가 제공된다. 상기 안정 엘리먼트 또는 상기 기판 지지부의 양쪽에 배치된 안정 엘리먼트들이 상기 기판 지지부를 고정시키고 진동되지 않게 하기 때문에 기판들을 지지하는 실제 기판 지지부를 심지어 더욱 폭이 좁게 그리고 더욱 공기역학적으로 제조하는 것이 가능하다.

양호한 흐름 역학 관계를 달성하기 위하여, 상기 안정 엘리먼트들은 특히 상부쪽으로 가능한 폭이 좁아야 하며, 바꾸어 말하면 상기 흐름의 분리 영역에서 상기 흐름에 대한 가능한 최소의 분리 에지들을 제공하기 위해 가능한 뾰족해 난류(turbulence)를 최소한으로 유지해야 한다. 그러나 칼날 모양의 엘리먼트와 같은 에지들 또는 예리한 테이퍼 형상의 에지들을 보호층으로 피복하는 것은 불가능하지는 않지만 특히 상기 에지에서 보호층이 두껍지 않거나 부착되지 않을때 매우 어려운 일이다. 이런 이유로 본 발명의 바람직한 실시예에 따라, 보호층으로 피복된 상기 안정 에리먼트들은 상부 표면상에 칼날 모양의 형상을 가지지 않고 그보다는 상기 안정 엘리먼트들의 보호층상에 칼날 모양의 엘리먼트를 용융시키거나 위치시킨다.

본 발명은 실시예를 통해 더욱 자세히 기술될 것이다.

도 1 은 본 발명에 따른 장치의 단면도이다.

도 2 는 유도 부재들을 설명하기 위한 도 1 의 확대도이다.

도 3 a, 3b, 및 3c 는 플라스틱 스트랜드들로 제조된 것을 도시하기 위한 상기 유도 부재들의 확대된 단면도이다.

도 4a, 4b, 및 4c 는 도 3 a, 3b, 및 3c 에 도시된 단면의 측면도이다.

도 5 는 상기 유도 슬롯쪽에서 바라본 확대된 유도 부재이다.

도 6 은 상기 기판 지지 영역의 확대된 단면도이다.

도 7 은 도 6 의 단면에 도시된 기판 지지부의 측면도이다.

도 1 에 도시된 액체 콘테이너 및 용기는 처리될 기판들[5]의 둥근 형상에 맞추어진 콘테이너 또는 용기 바닥[4]뿐만 아니라 주위벽[2,3]을 구비한다.

기판들[5]을 위한 유도 부재들[6]이 상기 용기 벽[2,3]의 내부 표면상에 번갈아 배치되어 있다;상기 기판들은 유입 및 제거동안 상기 유도 부재들안에서 유도되고 상기 액체 처리동안 고정된다.

기판 지지부[10] 및 안정 엘리먼트들[11,12]을 위한 각각의 슬롯들[7,8,9]은 상기 용기 바닥[4]에 제공된다;상기 기판 지지부[10] 및 상기 안정 엘리먼트[11,12]는 상기 슬롯보다 더 아래에 위치될수 있다.

상승 및 하강 과정 동안 상기 기판 지지부[10]가 고정되고 진동하지 않기 위해 상기 안정 엘리먼트들[11,12]은 부가적인 기계적 지지를 제공하는 가로대(crosspiece)[13]에 의해 상기 기판 지지부[10]에 연결된다.

상기 흐름 조건들을 안정시키기 위해 액체 영역[17]내로 상기 처리 액체를 흐르게 하며 노즐 플레이트(nozzle plate)[16]내에서 액체 채널들[15]과 연결된 액체 입구 노즐들(inlet nozzle)[14]은 상기 액체 용기의 저부에 배치된다. 상기 처리 액체를 상기 용기 저부[4]에서 상기 용기의 내부로 배출시키는 통로인 흐름 슬롯들로 간격을 형성하는, 등간격이며 평행한 플레이트들[18]사이로 상기 처리 액체가 흐른다. 상기 용기 벽들[2,3]의 아래 부분, 즉 상기 플레이트[18] 영역에서 유도 및 지지 엘리먼트들[19]은 상기 플레이트를 위해, 다른 형상을 가질수 있지만 바람직하게는 상기 기판[5]을 위한 유도 부재들[6]과 같은 구성을 가지는 엘리먼트를 가진다. 상기 실시예에서, 각각의 플레이트들은 상기 흐름 영역[17]위에 배치된 지지 부분들[20,21]상에 배치된다.

초음파 또는 메가소닉의 파동에 상기 용기의 내부를 노출(subject)시키기 위해 상기 용기[1]의 적어도 하나의 주위벽[3]의 외부에 초음파 변환기(ultrasonic transducer)[22]가 배치된다.

상기 장치 및 기판[5]에 대한 처리 과정에 관련된 반복된 상세한 설명을 피하기 위해 본 출원에 참조로 병합된 DE 44 14 077, DE 195 46 990, 및 DE 196 44 253.2를 참조하기 바란다.

도 2 는 도 1 에 따른 발명의 실시예의 단면도의 확대도이다. 주위벽[2]은 예를 들면, 스테인레스 스틸, 알루미늄등과 같은 금속으로 만들어져 있다. 상기 처리 액체에 노출된 주위벽의 안쪽 표면상에 예를 들면 1mm 두께의 PFA 층 또는 PFA 필름인 보호층[24]이 배치된다. 상기 기판들[5]을 위한 유도 및 지지 부분들[6]이 상기 보호층[24]상에 결합된다. 상기 지지 및 유도 부재들[6]은 바람직하게는 플라스틱으로 제조되고 특히 상기 보호층[24]과 동일한 물질 즉 상기 경우의 PFA이다. 상기 유도 및 지지 부분들[6]은 상기 기판들[5]을 상기 처리동안 고정시켜주고 삽입 및 제거 동안 유도해 주는 유도 슬롯[25]들을 가진다.

연속적인 슬롯들이 또한 가능하지만, 서로에 대해 수직적이고 서로 간격을 가지고 배치된 유도 및 지지 엘리먼트[6]를 제공하는데는 2 가지 이유가 있다. 각각의 유도 및 지지 부분들[6]은 상기 기판[5]과 작은 접촉 면적을 가지고 상기 짧은 유도 슬롯들[25]의 흐름 및 세정을 결과적으로 개선한다.

본 발명의 또다른 실시예에 따라, 상기 기판들[5]은 2 개의 유도 및 지지 부분들 및 유입 및 지지 부분들[6]에 의해 바람직하게 처리 위치에 고정된다. 결과로서, 다시 한번 상기 유도 부재들[6]과 상기 기판[5]의 접촉 면적을 최소화할 수 있다.

특히 용기 벽[2]이 금속으로 제작된 경우, 상기 보호층[24]의 어떤 손상도 피하기 위해 세정 및 하강 동작동안 상기 기판들[5]이 상기 보호층[6]과 반드시 접촉하지 않아야 한다. 그러므로, 상기 기판들[5] 및 주위벽[2]사이의 간격, 즉 보호층[24]은 반드시 1mm이어야 한다.

본 발명에 따른 또다른 실시예는 보호층[24]에 형성된 상기 유도 및 지지 부분들[6]에 관한 도 3 및 도 4 에 도시된다. 제 1 층[31]에서 PFA 코드(cord)들 또는 스트랜드들[32]은 서로 용융되어 있으며 또한 상기 보호층[24]상에 용융되어 있다. 적절한 과정에 의해 제 2 층[33]에서 스트랜드[32]가 상기 제 1 층[31]상에 용융되어 있다. 사다리형태의 유도 및 지지 부분들[6]을 얻기위해, 상기 용융된 PFA 스트랜드들[32]의 가장자리는 도 3a 및 3b 에서 도시하는 바와 같이 경사지게 되고 부드럽게 된다.

도 3c 및 도 4c 는 등간격의 유도 슬롯들[5]이 절단되고 연마된 후의 유도 및 지지 부분들[6]을 도시한다.

전술한 유도 및 지지 부분들[6]과 달리, 상기 보호층[24]상에 수직적 또는 수평적으로 PFA 스트립들을 용융하는 것도 또한 가능하다.

도 5 에서 도시한 바와 같이, 슬롯내로 유입되는 기판들[5]이 집중되고 유도되어 기판들[5]의 두께에 맞추어진 더욱 좁은 영역으로 안전하고 신뢰성 있게 유도 되고 지지되기 위해, 유도 및 지지 부분내의 상기 유도 슬롯들[25]의 정상 및 바닥은 V 자 형태로 넓어지는 형태를 가진다.

도 7 은 측면을 도시하고, 도 6 은 도 1 에 이미 도시된 기판 지지부[10]의 확대된 절단면을 도시한다. 상기 기판 지지부[10]는 보호 피복된 금속 스트립[61]을 포함한다. 칼날 모양의 기판 수용 엘리먼트[63]는 보호 피복된 스트립[61]의 상부 표면[62]상에 접합된다. 도 7 에서 볼수 있듯이, 상기 기판 수용 엘리먼트의 칼날 모양의 에지[64]는 서로 등간격으로 상기 기판들[5]이 유지하는 노치들[65]을 가진다.

상기 스트립[61]은 예를 들면 매우 안정되고 견고한 스테인레스 스틸로 만들어진 다른 소망의 물질로 제조될수 있으므로, 상기 스트립들[61]을 매우 좁게 만들수 있으며 처리 액체에 대한 최적의 흐름 조건들에 맞추는 것이 가능하다. 특히, 그로 인해 상기 기판 지지부[10]는 바닥에서 정상부로 흐르는 처리 액체에 대해 매우 작은 저항을 가지는 매우 폭이 좁은 형태로 제작될수 있다.

각 안정 엘리먼트[11,12]는 상기 기판 지지부[10]의 양쪽으로 평행하게, 그리고 지지부에서 동일한 간격으로 배치된다. 상기 안정 엘리먼트들은 어떤 소망의 물질로도 제조될수 있으며 보호 피복이 유사하게 제공될수 있다. 미도시한 횡단 연결(transverse connection)을 사용해 상기 안정 엘리먼트[11,12]는 상기 기판 지지부[10]에 연결되고 고정성을 증가시킨다.

상기 안정 엘리먼트들[11,12]의 상부 영역은 각각 바람직하게는 상기 보호 피복과 동일한 물질로 제조된 플라스틱 칼날 모양의 엘리먼트[66,67]을 포함한다. 상기 엘리먼트들은 상기 보호 피복상의 상부 표면들[68,69]상에 용융된다. 기판 지지부[10]의 경우와 같이, 상기 칼날 모양의 예리한 에지는 작은 분리 에지를 나타내고 상기의 결과로 상기 액체 용기[1]내의 흐름 조건들은 아주 조금 방해를 받을 뿐이다. 상기 에지들을 피복하는 것이 신뢰성이 없거나 지속력이 없기 때문에 상기 칼날 에지를 위해 플라스틱 칼날 모양의 엘리먼트[66,67]를 용융하는 것이 필요하다.

본 발명은 실시예를 사용하여 기술되었다. 당업자라면 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 실시예 및 수정들이 가능하다는 사실을 알수 있을 것이다. 상기 기술한 실시예에서, 발명에 관한 부분들은 상기 콘테이너 벽[2,3]의 엘리먼트들 및 기판 수용 엘리먼트들[63]내의 기판 지지부들[10]에 관련하여서만 기술되었다. 그러나 DE 195 46 990에 기술되어 있는 바와 같이, 발명의 원리들은 상기 처리 액체에 노출된 다른 구성요소들 및 엘리먼트들, 예를 들면 상기 유도 및 지지 엘리먼트들에 관련해 적용될수 있다.

Claims (15)

1. 처리 액체 및 적어도 하나의 기판 지지부[10]를 포함하는 용기[1]를 포함하며, 상기 처리 액체와 접촉하는 상기 용기[1] 및/또는 상기 기판 지지부[10]의 구성요소들은 보호층[24]을 구비하며, 기판들[5]을 위한 유도 및/또는 지지 엘리먼트들[6,63]은 상기 보호층[24]상에 용융된 기판[5] 처리용 장치에 있어서, 상기 유도 부재들[6]은, 상기 보호층[24]에 대해 용융되고 서로에 대해 용융된 중합체 스트랜드(polymeric strand)[32]들로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 보호층[24]은 퍼플루오로알콕시 중합체들(PFA)로 제조되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 기판들[5]을 위한 플라스틱 유도 부재들[6]은 서로 마주보는 피복된 상기 용기의 벽들[2,3]의 내부 표면상의 상기 보호층[24]상에 용융되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
4. 상기 어느 한항에 있어서, 상기 유도 부재들[6]은 플라스틱 스트립들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
5. 상기 어느 한항에 있어서, 상기 유도 부재들[6,63]은 PFA로 제조되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
6. 상기 어느 한항에 있어서, 상기 유도 부재들[6]은 상기 기판들[5]을 위한 유도 슬롯들을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
7. 상기 어느 한항에 있어서, 상기 유도 슬롯들[6]은 상기 기판들[5]을 위한 V 자 형태의 유입 및 방출(discharge) 영역들을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
8. 상기 어느 한항에 있어서, 상기 보호층[24]로 피복된 상기 용기의 벽들[2,3]은 금속, 바람직하게는 스테인레스 스틸 또는 알루미늄으로 제조되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
9. 제 1 항 또는 제 7 항중 어느 한항에 있어서, 상기 보호층[24]으로 피복된 상기 용기의 벽들[2,3]은 석영으로 제조되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
10. 상기 어느 한항에 있어서, 상기 기판 지지부[10]는 보호층으로 피복된 스트립[61]을 포함하며, 상기 스트립[61]상에 칼날 모양의 플라스틱 기판 수용 엘리먼트[63]가 용융되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
11. 상기 어느 한항에 있어서, 상기 기판 지지부[10]는 보호층으로 피복된 스트립을 포함하며, 상기 스트립상 또는 상기 스트립 상부에 칼날 모양의 플라스틱 기판 수용 엘리먼트가 캡으로서 위치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서, 상기 수용 엘리먼트의 칼날 모양의 에지[64]는 상기 기판들을 위한 일정한 간격의 노치들[65]을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
13. 제 10 항에서 제 12 항중 어느 한항에 있어서, 상기 기판 지지부[10]와 평행하게 배치되고 상기 기판 지지부에 연결된 적어도 하나의 안정 엘리먼트[11,12]를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 장치.
14. 제 13 항에 있어서, 상기 안정 엘리먼트[11,12]는 상기 기판 지지부[10]의 양쪽에 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
15. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 상기 안정 엘리먼트들[11,12]은 보호 피복을 구비한 금속으로 제조되며, 상기 보호 피복상에 칼날 모양의 엘리먼트[66,67]가 용융되거나 위치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.