JP2000503632A - （１１β，１６β）―２１―（アセチルオキシ）―１１―ヒドロキシ―２’―メチル―５’Ｈ―プレグナ―１，４―ジエノ［１７，１６―Ｄ］オキサゾール―３，２０―ジオンの製造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （１１β，１６β）−１１，２１−ジヒドロキシ−２’−メチル−５’Ｈ−プレグナ−１，４−ジエノ［１７，１６−ｄ］オキサゾール−３，２０−ジオンを適した有機溶媒中で塩基性触媒及び水の存在下において無水酢酸と反応させることを含む化合物（１１β，１６β）−２１−（アセチルオキシ）−１１−ヒドロキシ−２’−メチル−５’Ｈ−プレグナ−１，４−ジエノ［１７，１６−ｄ］オキサゾール−３，２０−ジオン（デフラザコルト）の製造法。

Description

【発明の詳細な説明】 （１１β，１６β）−２１−（アセチルオキシ）−１１−ヒドロキシ−２’−メ チル−５’Ｈ−プレグナ−１，４−ジエノ［１７，１６−Ｄ］オキサゾール−３ ，２０−ジオンの製造 本発明は既知であり且つＩＮＮ（国際一般名）がデフラザコルト（ｄｅｆｌａ ｚａｃｏｒｔ）であり、以下そう称する化合物（１１β，１６β）−２１−（ア セチルオキシ）−１１−ヒドロキシ−２’−メチル−５’Ｈ−プレグナ−１，４ −ジエノ［１７，１６−ｄ］オキサゾール−３，２０−ジオンの製造のための新 規な方法に関する。デフラザコルトは次式Ｉにより示される。 デフラザコルトは数年前からカルシウム−倹約（ｃａｌｃｉｕｍ−ｓｐａｒｉ ｎｇ）コルチコイド剤として治療において用いられている。 この化合物はより一般的なプレグネノ−オキサゾリン類の群に属し、それに関 しては抗炎症性、グルココルチコイド及びホルモン−様薬理学的活性が報告され ている。上記の群の化合物の例はデフラザコルトを含 み、ＵＳ ３４１３２８６に開示されており、そこでデフラザコルトは１１β− ２１−ジヒドロキシ−２’−メチル−５’βＨ−プレグナ−１，４−ジエノ［１ ７，１６−ｄ］オキサゾール−３，２０−ジオン ２１−アセテートと呼ばれて いる。 ＵＳ ３４１３２８６に開示されている方法に従うと、デフラザコルトは５− プレグナン−３β−オール−１１，２０−ジオン−２’−メチルオキサゾリンか ら、Ｂｒ₂−ジオキサンを用いて２，４−ジブロム化し、ＬｉＢｒ−ＬｉＣＯ₃の 存在下において生成物を加熱して１，４−ジエンを得、これを２１−ヨード及び 次いで所望の２１−アセチルオキシ化合物に転換することにより得られる。デフ ラザコルトの加水分解により、式１１の１１β−２１−ジヒドロキシ−２’−メ チル−５’βＨ−プレグナ−１，４−ジエノ［１７，１６−ｄ−］オキサゾリン −３，２０−ジオンが得られる： 式ＩＩの化合物はＥＰ−Ｂ−３２２６３０に開示されている発酵法に従って得 るのが好ましく；該特許において、式ＩＩの化合物は１１β−２１−ジヒドロキ シ−２’−メチル−５’βＨ−プレグナ−１，４−ジエノ［１７，１６−ｄ−］ オキサゾリン−３，２０−ジオンと呼ばれて いる。 本発明は式ＩＩの化合物のアセチル化によりデフラザコルトを得るための新規 な有利な１段階法を提供する。 さらに詳細には、本発明の方法は、式ＩＩの化合物を塩基性触媒及び水の存在 下に、適した有機溶媒中で無水酢酸と反応させることを含む。 式ＩＩの出発材料は、当該技術分野において既知の方法に従って、例えば、上 記で引用したＥＰ−Ｂ−３２２６３０に開示されている発酵法に従って得られ、 該特許は引用することによりその記載事項が本明細書の内容となる。該特許は、 ２’−メチル−４−プレグネン−２１−オール−［１７ａ，１６ａ−ｄ−］オキ サゾリニル−３，２０−ジオンをクルブラリア（Ｃｕｒｖｕｌａｒｉａ）株及び アルスロバクテル（Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ）株の逐次的に（ｓｅｑｕｅｎｔ ｉａｌｌｙ）生育している混合培養物と接触させる式ＩＩの化合物を得るための 発酵法を開示している。さらに特定的に好ましい実施態様に従うと、上記の化合 物を適した発酵培地中のＣ．ルナタ（Ｃ．ｌｕｎａｔａ） ＮＲＲＬ２３８０の 生育中の培養物に接種から１２〜２４時間後に加え、接種から４８〜７２時間後 に１８〜３６時間のＡ．シンプレクス（Ａ．ｓｉｍｐｌｅｘ） ＡＴＣＣ ６９ ４６の生育中の培養物を混合物に加え、さらに４０〜５５時間培養する；発酵は 水中条件下で行い、温度を２７℃〜３２℃及びｐＨを６〜８に保ち；式ＩＩの発 酵生成物を当該技術分野において既知の方法に従って回収する。 本発明の方法に適した有機溶媒は、反応の経過に負の影響を与えずに少なくと も部分的に出発材料を可溶化することができるものである。適した有機溶媒の例 はハロゲン化（Ｃ₁−Ｃ₄）−炭化水素、（Ｃ₁−Ｃ₄） カルボン酸の（Ｃ₁−Ｃ₄）アルキルエステル類、ジメチルホルムアミド、アセト ニトリル、アセトンなどである。好ましい溶媒は（Ｃ₁−Ｃ₄）カルボン酸の（Ｃ₁ −Ｃ₄）アルキルエステル類、例えばギ酸メチル、エチル、プロピル、イソ−プ ロピル、ブチル、２−メチルプロピル又はｔ−ブチル；酢酸メチル、エチル、プ ロピル、イソ−プロピル、ブチル、２−メチルプロピル又はｔ−ブチル；プロピ オン酸メチル、エチル、プロピル、イソ−プロピル、ブチル、２−メチルプロピ ル又はｔ−ブチル；酪酸メチル、エチル、プロピル、イソ−プロピル、ブチル、 ２−メチルプロピル又はｔ−ブチル；イソ酪酸メチル、エチル、プロピル、イソ −プロピル、ブチル、２−メチルプロピル又はｔ−ブチルである。特に好ましい のは酢酸エチルである。 反応温度は他の反応パラメーターに依存して約−１５℃〜３０℃で変えること ができる；それは−５℃〜１０℃に設定するのが好ましく、特に好ましいのは約 ５℃である。 無水酢酸は式ＩＩの化合物との化学量論的比に対してモル過剰で反応させるの が好ましく；式ＩＩの化合物対無水酢酸のモル比は約１．０／１．２〜約１．０ ／２が好ましく、特に好ましくのは約１．０／１．４のモル比である。 本方法で有用な塩基性触媒は第３有機脂肪族又は脂環式アミン類、例えばトリ メチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルピロリジン又は複素環式塩基、例 えばピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジ エチルアミノ）ピリジン、コリジン、ピコリンなどである。４−（Ｎ，Ｎ−ジメ チルアミノ）−ピリジンを用いるのが好ましい。触媒量は用いられる特定の触媒 に依存し；一般にそれは式 ＩＩの化合物のモル量の約０．０５〜約０．３０倍であろう。そのモル量は式Ｉ Ｉの化合物のモル量の約０．０５〜０．１０倍が好ましく；特にデフラザコルト アルコール対無水酢酸のモル比が約１．０／１．４であり、４−（Ｎ，Ｎ−ジメ チルアミノ）−ピリジンが選ばれた触媒である場合、そのモル量は式ＩＩの化合 物のモル量の約０．０６倍である。 一般に式ＩＩの化合物のモル量の３〜２０倍の量の水が反応混合物中に存在し 、５〜１５倍が好ましい。上記の好ましい条件下で、すなわち約１．０／１．４ ／０．０６の式ＩＩの化合物／無水酢酸／触媒のモル比の場合、式ＩＩの化合物 に対する水のモル過剰は約１０倍のモル過剰であろう。 反応時間は上記の反応パラメーター及び条件に依存して変化するであろう。一 般的指示として、反応は４〜１５時間内に完了する。いずれの場合も反応の経過 は当該技術分野において既知の標準的方法に従って、例えばＨＰＬＣ又はＴＬＣ によって、通常最終的生成物であるデフラザコルトの生成を追跡することにより 容易に追跡することができる。かくしてこれらのアッセイの結果に基づき、熟練 者は所望の生成物の回収を開始するためにいつ反応を止めるべきかを評価するこ とができる。 反応生成物は当該技術分野において既知の標準的方法に従って回収され；例え ば反応混合物を適した緩衝溶液（例えばリン酸塩、炭酸塩など、ｐＨ６〜８）を 用いて洗浄し、次いで最終的生成物を適した溶媒から結晶化させる。好ましい実 施態様に従うと、（Ｃ₁−Ｃ₄）カルボン酸の（Ｃ₁−Ｃ₄）アルキルエステル、特 に酢酸エチルが反応溶媒として用いられる場合、結晶化のための異なる溶媒を加 える必要なく同じ反応溶媒から直接最終的生成物を結晶化させることができる。 本発明をより良く例示するために以下の実施例を示す。 実施例１ Ｃ．ルナタ及びＡ．シンプレクスの逐次生育 Ｉ）斜面培地 サブロー(Sabouraud)培地（Ｃ．ルナタ用） 抗生物質寒天Ｎｏ．１（Ａ．シンプレクス用） ＩＩ）栄養及び予備−培養培地 ａ）Ｃ．ルナタ用 大豆粉 １３ｇ／ｌ ＫＨ₂ＰＯ₄ ５ｇ／ｌ デキストロース １０ｇ／ｌ ペプトン ５ｇ／ｌ オートクレーブにかける前にｐＨを６．５〜７．５に調節する。 ｂ）Ａ．シンプレクス用 デキストロース １．０ｇ／ｌ 大豆粉 ５．０ｇ／ｌ ペプトン ５．０ｇ／ｌ Ｂａｓａｍｉｎ Ｂｕｓｃｈ ３．０ｇ／ｌ ＫＨ₂ＰＯ₄ ５．０ｇ／ｌ ＮａＣｌ ５．０ｇ／ｌ シリコーン ０．１ｍｌ／ｌ オートクレーブにかける前にｐＨを６．５〜７．５に調節する。 ＩＩＩ）発酵培地 上記のＣ．ルナタ用の予備−培養培地と同じ組成を有する発酵培地。 ＩＶ）発酵法 斜面を用いて５００ｍｌフラスコに別々に接種し、それを約２８℃において約 １２〜２４時間（Ｃ．ルナタ）又は１８〜３６時間（Ａ．シンプレクス）、１０ ０ｍｌの上記の栄養培地の存在下で培養する。これらの接種材料を下記の方法に おいて用いる： 上記で得られるＣ．ルナタの培養物のアリコート（約１〜５％）を上記の発酵 培地を含有する８リットルの発酵槽に移し、２９〜３２℃で約２４時間培養する 。 次いで４ｇの２’−メチル−４−プレグネン−２１−オールー［１７ａ，１６ ａ−ｄ］−オキサゾリニル−３，２０−ジオンを加え、接種から約３６〜７２時 間まで発酵を続ける。 その後Ａ．シンプレクスの１８〜３６時間培養物をそこに加え、発酵をさらに ４０〜５５時間続ける。 当該技術分野において既知の通りにＴＬＣ又は好ましくはＨＰＬＣによって出 発材料の消失及び／又は最終的生成物の出現を追跡することにより反応経過を監 視する。さらなる標準として中間体の出現消失を追跡することもできる。ＨＰＬ Ｃ転換収率：７０〜７５％。回収 Ａ．シンプレクスの添加から４０〜５５時間後、変換は一般に完了すると考え ることができ、発酵を仕上げて所望の式Ｉの化合物を単離することができる。 発酵混合物を濾過により分離し、菌糸体をクロロホルムで繰り返し洗浄し、濾 液をクロロホルムで抽出する（３ｘ１ｌ）。合わされたクロロ ホルム洗浄液及び抽出物を減圧下で部分的に濃縮し、木炭を用いて脱色する。次 いでそれを濃縮して油性残留物とする。石油エーテルを加えると沈澱が生成し、 それをエーテルで洗浄し８３回）、濾過により集めて３ｇの式ＩＩの化合物を得 る。 実施例２ デフラザコルトの製造 ４．５ｇ（０．２５モル）の水を含有する３００ｍｌの酢酸エチル中の（１１ β，１６β）−１１，２１−ジヒドロキシ−２’−メチル−５’Ｈ−プレグナ− １，４−ジエノ［１７，１６−ｄ］オキサゾール−３，２０−ジオン（１０ｇ、 ０．０２５モル）の撹拌溶液に、３．３２ｍｌ（０．０３５モル）の無水酢酸及 び０．２ｇ（０．００１６モル）の４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジンを ５℃の温度で加える。シリカゲル上のＴＬＣによりクロロホルム／メタノール ９／１の混合物を溶離剤として用いて反応を追跡する。６時間後、反応は完了し たと考えられる。 実施例３ デフラザコルトの回収 実施例１の反応が完了する時点で、反応混合物を室温に達せしめ、８５ｍｌの リン酸塩緩衝水溶液（ｐＨ７．５）を１時間内にそこに加える。水層を捨て、有 機層を８０ｍｌの水で洗浄し、濾過し、約３０ｍｌに濃縮する。結晶懸濁液を５ ℃に２時間保ち；濾過及び乾燥の後、１０ｇの結晶生成物が得られる。母液を約 ５ｍｌの容積でさらに濃縮し、５℃で冷却することによりさらに０．４ｇの生成 物が得られ、合計１０．４ｇ及び９４％の全体的収率となる（純度＞９８％）。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９７年１１月２１日（１９９７．１１．２１） 【補正内容】 請求の範囲 １．式ＩＩ の（１１β，１６β）−１１，２１−ジヒドロキシ−２’−メチル−５’Ｈ−プ レグナ−１，４−ジエノ［１７，１６−ｄ］オキサゾール−３，２０−ジオンを 、ハロゲン化（Ｃ₁−Ｃ₄）炭化水素、（Ｃ₁−Ｃ₄）カルボン酸の（Ｃ₁−Ｃ₄）ア ルキルエステル、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル及びアセトンから選ば れる有機溶媒中で、塩基性触媒及び水の存在下において無水酢酸と反応させるこ とを含む式Ｉ の化合物（１１β，１６β）−２１−（アセチルオキシ）−１１−ヒドロキシ− ２’−メチル−５’Ｈ−プレグナ−１，４−ジエノ［１７，１ ６−ｄ］オキサゾール−３，２０−ジオン（デフラザコルト(deflazacort)）の 製造法。 ２．有機溶媒が（Ｃ₁−Ｃ₄）カルボン酸の（Ｃ₁−Ｃ₄）アルキルエステルであ る請求の範囲第１項に記載の方法。 ３．有機溶媒が酢酸エチルである請求の範囲第１項に記載の方法。 ４．塩基性触媒がトリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルーピロリ ジン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ− ジエチルアミノ）ピリジン、コリジン、ピコリンから選ばれる請求の範囲第１項 に記載の方法。 ５．反応温度が−１５℃〜３０℃である請求の範囲第１項に記載の方法。 ６．式ＩＩの化合物対無水酢酸のモル比が１．０／１．２〜１．０／２である 請求の範囲第１項に記載の方法。 ７．式ＩＩの化合物対無水酢酸のモル比が約１．０／１．４である請求の範囲 第１項に記載の方法。 ８．塩基性触媒の量が式ＩＩの化合物のモル量の０．０５〜０．３０倍である 請求の範囲第１項に記載の方法。 ９．塩基性触媒の量が式ＩＩの化合物のモル量の０．０５〜０．１０倍である 請求の範囲第１項に記載の方法。 １０．水の量が式ＩＩの化合物のモル量の３〜２０倍である請求の範囲第１項 に記載の方法。 １１．水の量が式ＩＩの化合物のモル量の５〜１５倍である請求の範囲第１項 に記載の方法。 １２．反応の完了後に反応混合物を約６〜８のｐＨにおいて緩衝水溶 液を用いて洗浄し、有機相を分離し、濾過し、同じ反応溶媒から最終的生成物を 結晶化させることによりデフラザコルトを回収する請求の範囲第３又は４項に記 載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ， ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＧ，Ｍ Ｋ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＳＧ，ＳＩ ，ＳＫ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．式ＩＩ の（１１β，１６β）−１１，２１−ジヒドロキシ−２’−メチル−５’Ｈ−プ レグナ−１，４−ジエノ［１７，１６−ｄ］オキサゾール−３，２０−ジオンを 適した有機溶媒中で塩基性触媒及び水の存在下において無水酢酸と反応させるこ とを含む式Ｉ の化合物（１１β，１６β）−２１−（アセチルオキシ）−１１−ヒドロキシ− ２’−メチル−５’Ｈ−プレグナ−１，４−ジエノ［１７，１６−ｄ］オキサゾ ール−３，２０−ジオン（デフラザコルト(deflazacort)）の製造法。 ２．有機溶媒がハロゲン化（Ｃ₁−Ｃ₄）炭化水素、（Ｃ₁−Ｃ₄）カルボン酸の （Ｃ₁−Ｃ₄）アルキルエステル、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル及びア セトンから選ばれる請求の範囲第１項に記載の方法。 ３．有機溶媒が（Ｃ₁−Ｃ₄）カルボン酸の（Ｃ₁−Ｃ₄）アルキルエステルであ る請求の範囲第２項に記載の方法。 ４．有機溶媒が酢酸エチルである請求の範囲第３項に記載の方法。 ５．塩基性触媒がトリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチル−ピロリ ジン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ− ジエチルアミノ）ピリジン、コリジン、ピコリンから選ばれる請求の範囲第１項 に記載の方法。 ６．反応温度が−１５℃〜３０℃である請求の範囲第１項に記載の方法。 ７．式ＩＩの化合物対無水酢酸のモル比が１．０／１．２〜１．０／２である 請求の範囲第１項に記載の方法。 ８．式ＩＩの化合物対無水酢酸のモル比が約１．０／１．４である請求の範囲 第１項に記載の方法。 ９．塩基性触媒の量が式ＩＩの化合物のモル量の０．０５〜０．３０倍である 請求の範囲第１項に記載の方法。 １０．塩基性触媒の量が式ＩＩの化合物のモル量の０．０５〜０．１０倍であ る請求の範囲第１項に記載の方法。 １１．水の量が式ＩＩの化合物のモル量の３〜２０倍である請求の範囲第１項 に記載の方法。 １２．水の量が式ＩＩの化合物のモル量の５〜１５倍である請求の範囲第１項 に記載の方法。 １３．反応の完了後に反応混合物を約６〜８のｐＨにおいて緩衝水溶液を用い て洗浄し、有機相を分離し、濾過し、同じ反応溶媒から最終的生成物を結晶化さ せることによりデフラザコルトを回収する請求の範囲第３又は４項に記載の方法 。