JP2000501371A - 物質の選択的不均一系触媒作用、吸着及び分離のための制御された表面極性を有する無定形微孔質混合酸化物触媒 - Google Patents

物質の選択的不均一系触媒作用、吸着及び分離のための制御された表面極性を有する無定形微孔質混合酸化物触媒

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Abstract

(57)【要約】 この発明は、乾燥した形態において、3nmより小さい範囲の直径を有する微小孔の狭い細孔分布(半値幅が孔直径の±10%未満)及び20〜1000m2/gの範囲の全表面積を有し、並びに0.1〜20重量%の非加水分解性有機基の部分を有することを特徴とする無定形微孔質混合酸化物、並びにそのような酸化物の製造方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 物質の選択的不均一系触媒作用、吸着及び分離のための 制御された表面極性を有する無定形微孔質混合酸化物触媒 本発明は、内部表面の極性を意図するように調節することができる新しい高多 孔質の触媒物質に関する。そのような物質は、化学的に結合した有機残基を0. 1〜20重量%含む混合酸化物からなる。これらの有機残基は、物質の疎水性を 意図するように制御する作用を有し、従って、不均一系で行う触媒反応の選択性 、滞留時間及び転化率を向上させる作用を有する。 今日解決されていない問題点として、不均一系触媒の内部表面の極性を制御す ることが容易でないということがある。この表面極性は、触媒と、反応体、生成 物及び溶媒又は他の付随する物質との相互作用に影響を及ぼし得る。好適な触媒 によれば、この相互作用は、反応体と生成物とが触媒の細孔系の中に迅速かつ効 果的に拡散し、一方、付随する物質及び副生物は触媒から本質的に排除されると いうようにバランスのとれたものとなる。ゼオライトは、通常、水をよく吸収す るので、乾燥剤として広く用いられている。従って、触媒として使用する前に、 ゼオライトは500℃までの温度にて十分に乾燥する必要がある。尤も、これに は例外がある。例えば、シリカライト構造を有するゼオライトは、内部表面積が 大きいにも拘わらず、ごくわずかの水しか収着しないことが知られており、これ によって特定の疎水性(hydrophobicity)を示す(E.M.Flanigen,I.M.Bennett ,R.W.Grose,J.P.Cohen,R.L.Polton,R.Kirchener,J.V.Smith,Nature272 (1978), 437)。この疎水性が、選択性触媒としてのTi含有シリカライト(TS−1−T S−2)の特定の性質の要因であると考えられている(T.Tatsumi,K.Asano,K.Y anagisawa,Studies in Surface Science and Catalysis 84,(1994),1861)。親 水性触媒、例えば微孔質の混合酸化物ガラス又はYゼオライトはH22を用いる 酸化には適当でないが、H22を用いる酸化に適している結晶性Tiシリカライ トは、酸化剤としてtert-ブチルヒドロペルオキシド(T BHP)を用いる場合には適さない。 ZSMゼオライトの水吸収能は、それらのAl含量に一次の関係で依存する(D .H.0lsen,W.0.Haag,R.H.Lago,J.Catal,61(1980)390)。酸化剤として過 酸化水素を用いる場合におけるTi含有シリカライト(TS−1、TS−2)の 選択的酸化触媒としての活性はこの疎水性に基づいている。対照的に、同じよう な組成の比較的親水性の無定形TiO2/SiO2物質は、酸化剤としてH22を 利用することができない(Sheldon,J.Mol.Catal.7 (1980),107)。これら の物質を用いる場合には、選択的酸化のための酸化剤としてt-ブチルヒドロペ ルオキシドを用いることができる;しかしながら、これらの触媒は急速に失活す る傾向がある(R.A.Sheldon,J.A.Van Doorn,J.Catal.31 (1973),427)。こ れまでは、シリカライトが温和な条件下において選択的酸化のための酸化剤とし てH22使用することができる唯一の不均一系触媒であった。しかしながら、T i含量が増すにつれてその疎水性は低下するので、触媒作用を有する活性部位の 割合が増えるにつれて反対の作用が起こることになる(Tatsumiら,Stud.Surf. Sci.Catal.84 (1994),1861)。 吸着工学において、ゼオライトを用いる場合にも、表面極性が特に重要である ことが明らかにされている。脱アルミニウム化によって疎水性ゼオライトを形成 することができ、これは吸着的な排気の浄化及び溶剤の回収に利用することがで きる(0ttenら,Chem.Ing.Tech.64 (1992),915)。しかしながら、他のゼオラ イトの水吸収能は、シリカライトの場合程は十分に抑制することはできない(Gue nzelら,Chem.Ing.Tech.61 (1989),66)。 結論として、脱アルミニウム化によって疎水性にすることができるゼオライト 構造物質はあまり多くはなく、従って、温和な条件での水の存在下における吸着 及び不均一系触媒として利用できる物質を選択するのはかなり制限されている。 更に、脱アルミニウム化は比較的厄介な追加のプロセスであって、ゼオライト中 において望ましくない無定形の部分をかなりの割合で増加させ、欠陥部位(defe ct site)を生成し、構造を損なわせることに至る場合が多い。更に、脱アルミ ニウム化の程度を意図するように調節するのは容易ではなく、所望するプロセス において達成される脱アルミニウム化の効果は経験的に確立する必要がある。表 面極性を変化させるための既知の方法は、続いて行う変性である。従って、触媒 の利用できる表面水酸基は、その後、既知のシリル化剤、例えば、(CH2)3Si Cl又は((CH3)3Si)2NH(ドイツ国特許DE23 11 822 C2)を 用いるシリル化によって又は他の反応剤によって変性することができる。この続 いて行う変性にもいくつかの問題点がある。細孔の中をシリル化することによっ て孔の幾何学的配置又は構造、従って形状選択性が変わることもあり;1nm以 下の微小孔の中の水酸基は反応剤の嵩高さのために全く若しくは不十分な程度で しか変性されず;従って、そのようにシリル化又はアルキル化された水酸基は酸 素橋(O bridge)を介してのみ結合して(CH3)3Si−O−結合又はR−O− 結合を形成し;従って加水分解されやすい状態にとどまる。従って、製造する際 に、元素に関する基本的な組成とは無関係に、表面極性を意図するように調節す ることができる新しい高多孔質物質に対する必要性が高まりつつある。 発明者は、非加水分解性R’基を含むR’−Si(OR)3の形態のアルキルオ キシシラン又はアリールオキシシランを、多孔質酸化物を製造するためのゾル− ゲル法の他の成分と共縮合させることによって、混合酸化物及び高多孔質酸化物 の内側及び外側表面の極性を調節することができるということを見出した。従っ て、制御された疎水性を有する触媒を1段階の方法で製造することができる。こ れらの物質の調製及び組成は、簡単には、以下のように表すことができる: x(RO)4Si+y(R’Si(OR1)3)+z(X)nM+H2O→ (R’−SiO1.5)x(Mon/2)2SiO2)y+4xROH+3yR1OH+n HX [式中、R及びR1は、好適なアルキル基又はアリール基であって、同じもので あっても異なっていてもよく、R’は物質の疎水性を変化させる非加水分解性の 有機基であり、Mは、Si、Ti、Al、Mo、Sn、Zn、V、Mn、Fe、 Co、Ni、As、Pb、Sb、Bi、Ru、Re、Cr、W、Nb、Hf、L a、Ce、Gd、Ga、In、Tl、Ag、Cu、Li、K、Na、Be、Mg 、Ca、Sr及びBaからなる群から選ばれる元素であって、通常は触媒活性を 担うものである。Xは、可溶性金属化合物の配位子、好ましくは、ハライド、ア ル コキシド、オキシアルコキシド、カルボキシレート、オキサレート、ニトレート 、スルフェート、スルホネート、フルフィド、アセチルアセトネート、グリコレ ート又はアミノアルコシキレート等の配位子である。] この例においてベースとなる物質はSiO2であって、これはAl23、TiO2 又はZrO2等によって置換することもでき、そのような場合には以下のような 疎水性ガラスが得られる: (R’−SiO1.5)x(MOn/2)x(Al23)y又は (R’−SiO1.5)x(MOn/2)x(ZrO2)y又は (R’−SiO1.5)x(MOn/2)x(TiO2)y 本明細書において説明する方法は、使用するアルコキシド及び塩の真の化学混 合物であって、本質的にドメインを有さず、高多孔質で、狭い孔寸法の分布を有 する物質を調製するために特に最適化された重縮合方法である。本発明の方法は 、温和な条件下で、テンプレート(鋳型)物質又は他の添加物質を使用すること なく行われる。この方法は、技術的に厄介な水熱条件、高圧及び超臨界的反応条 件を使用せずに行うことができ、混合酸化物のための他の製造方法とは基本的に 異なるものである。もう1つの処理段階として続いて行う触媒の変性が回避され 、3つの酸素の結合によりマトリックスに固定されるCH3Si-基が、高い熱安 定性及び長期安定性を有する固体マトリックスの成分である。本発明の物質は特 に、3nmより小さい孔寸法の狭い孔寸法分布を形成することを特徴としており 、これによって制御可能な表面極性を有する配合物中の触媒の酸化還元−選択(r edox-selective)特性及び形状選択性を特に精密に調整することが可能となる。 本発明によって、過酸化水素を用いるオレフィンの選択的エポキシ化反応を、 既知のゼオライトTS−1及びTS−2に比べて良好に又ははるかに良好に触媒 する高多孔質の無定形Ti含有二酸化ケイ素が製造される。従って、標準的な条 件において、メチル基を含むガラス(1%のTi、25%のMe−Si、74% のSi)を用いる場合には、H22によってシクロヘキセンから11%のシクロ ヘキセンオキシドが得られるが、TS−1を用いる場合にエポキシドはわずかに 2%以下しか得られない。発明者は、疎水性Tiガラス(3%のTi、45%の Me−Si、55%のSi)を用いると、同じ反応条件下において、メチル基を 含まないガラスを用いる場合に比べて、プロペンとTBHPから(97%以上の 選択率で)ほぼ2倍の収率にてプロピレンオキシドが得られることを見出した。 対照的に、TS−1を用いる場合には、TBHPを用いても転化は起こらない。 疎水性TiSiガラスを用いる場合には、メタノール中のプロピレンと過酸化水 素とからプロピレンオキシドが好ましい収率で得られるが、同等の条件下におい てメチル基を有さないTiSiガラスを用いる場合には、プロピレンオキシドを 検出することはできない。 n−へキサノール及び1−ナフトールとイソブテンとから、t−ブチルエーテ ルを生成させる競争的な反応における酸触媒の影響を調べた。副生物としてのイ ソブタンのダイマー及びオリゴマーの生成を抑制して、2種のアルコールの一方 に対する選択性を達成しようとしたものである。メチル基を含まずSnを含有す るSiガラス(3%のSn、97%のSi)の場合には、生成したエーテルを基 準として約25%のイソブタンダイマーが生成していたが、メチル基を含むSn −Siガラス(30%のMe−SiN3%のSn、67%のSi)を用いる場合 には生成物中にダイマーの生成は認められない。メチル基を含まず、Alを含む Siガラス(3%のAl、97%のSi)を用いる場合には、イソブテンダイマ ーの生成が主となり、収率は約67%のナフトール−t−ブチルエーテル及び3 7%のn−へキシル−t−ブチルエーテルである。メチル基を含むAl−Siガ ラス(10%のMe−Si、3%のAl、87%のSi)の場合には、エーテル の生成に比べて、わずかに30%のイソブテンダイマーが生成し、エーテルの収 率は向上して、約57%のn−へキシル−t−ブチルエーテル及び43%のナフ トール−t−ブチルエーテルとなる。このガラスのメチル基含量の増加に伴う、 ダイマー生成の抑制及びエーテル選択性の変化は、Zrを含有するガラスにおい ても続いている。 同等の条件下において、低い転化率で、以下において説明する反応を行った。 H22及びアンモニアによるシクロヘキサノンのアンモ酸化によって、メチル基 を含まないTi−Siガラスの場合(5%)に比べて、メチル基を含むTi−S iガラスの場合には6倍程度も高い収率(27%)にてオキシムが得られた。メ チル基を含むガラス(1%Ti,25%Me−Si,74%Si)の場合には、 トルエン及びH22からべンジルヒドロペルオキシドが高い選択率で生成したが 、TS−1の場合にはヒドロペルオキシドは生成せず、メチル基を含まないガラ スの場合には収率は1/10へ低下する。 標準化された状態での触媒活性に関する、無定形多孔質ガラス中の有機性基の 共有結合的組み込みの活性保持作用は、図1において、1−オクテンのTBHP によるエポキシ化から観察することができる。ガラス中のSi原子全体の45% が共有結合的に結合されるメチル基を有する場合、転化率は、メチル基を含まな い場合における40%の最大値から、メチル基を含むガラスにおいては100% へ向上する。メチル基を含まないガラスが早期に失活することは多くの反応で観 察されており、これは生成物分子によって細孔が塞がれることに起因すると多分 に考えられ、これらの失活した触媒は明らかに所望に応じて高温処理(焼成、bak ing)することによって十分に再生させることができると観察されている。 そのような無定形疎水性ガラスは、本明細書に記載するゾル−ゲル法によって 、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン及びイソプロポキシチタン から一段階の合成にて調製することができる。本発明において、最終的な触媒の 基本的な成分がドメイン中に存在するのではなく、均質に混合されることが特に 重要である。従って、真の化学的混合酸化物となる。最終生成物のすべての成分 が既に含まれているゾルを調製する場合、ゲル化の際に真の溶液(true solution )が存在し、相分離が起こらないことが重要である。従って、本明細書に記載す る物質はすべて、少なくとも1〜50モル%のR’−Si(OR)3をゾル−ゲル 混合物に添加する製造方法に基づいて得られる。好適な非加水分解性(non-hydro lyzable)のR’基は、基本的に、ケイ素原子と、加水分解されない共有結合性の 安定な結合を形成することができる化学基である。尤も、簡単な基、例えば、メ チル基、エチル基、イソプロピル基、−Cn2n+1及びフェニル基を使用するの が好ましい。R’として、例えば、−Cn2nCl、−Cn2nNH2、−CH2n COOH、−Cn2nOH、−Cn2nCF3、−CH2CH=CH2、−CH2CO CH3、−CH2 NR4 +又はO−、m−若しくはp−官能性化されたアリール基等の官能性化され た基を用いることによって、有機化学における種々の官能基を用いることができ る。これらの官能性化された基によって、特定の基質分子との特定の相互作用に よって反応体の吸着及び拡散を精密に調節することが可能となる。更に、均一で 、既知の狭い細孔寸法分布を達成するためには、ゲルの乾燥をゆっくりと制御し て行うことが特に重要である。図2に、メチル基を含むAl−Siガラスの(Ho rvath-Kawazoeによる)吸着等温線及び微小孔分布を示している。 このようにして得られる混合酸化物は、他の形状選択性又は高多孔質混合酸化 物触媒から、触媒がケイ素原子に共有結合する非加水分解性の有機残基と規定さ れる部分を含む点において異なる。これらの残基は触媒の触媒活性及び選択性の 大きな要因である。本明細書に記載する触媒は、上述のように狭い孔寸法分布及 び均一な元素分布(homogeneous element distribution)を有する物質であるこ と、及び本発明の物質は1モル%以上の非加水分解性の有機成分を含むことから 、既知の物質(Enichem,EP 0S 0 492 697 A1)とは異なる物質である。 本明細書に記載する物質は必ずしも微小孔を有していなくてもよい。この方法 によって、より大きな孔を有する疎水性触媒物質を調製することもできる。 このように調製されるガラスの表面極性の特性は、異なる方法によって達成す ることもできる。本発明の物質は、結晶性ゼオライトの純粋な微小孔の範囲にま でわたる高い多孔性に調製することもできるので、発明者は、ゼオライトの特徴 付けに開発された方法(Berke,Kiss,Kleinschmit,Weitkamp,Chem.Ing.Tec h.63 (1991),623)を本発明の特性化のために用いた。従って、水蒸気及びn −オクタンによって飽和された不活性ガスを、新たに乾燥した無定形の混合酸化 物(標準化された粒状物フラクション及び量)の固定床に30℃で通し、ガスク ロマトグラフィーにおける成分のブレークスルー時間を測定した。疎水性の定量 的尺度として、疎水性指数HI(hydrophobicity index)を用いることができ、こ の指数は物質の最終的な添加の割合から計算される。図3は、1%の酸化チタン を含む無定形微孔質ケイ素酸化物の疎水性指数が、非加水分解性メチル基の含量 に依存することを示している。発明者の実験室において極端な疎水性のTS−1 について測定したHIを対照標準として用いる。 本明細書において説明する物質の場合、酸化物並びに混合酸化物の内側及び外 側表面の表面極性は、物質の中への種々の分子の拡散がそれらの極性のみによっ て妨害されたり、促進されたりするように制御することができる。この方法は、 微孔性物質のみでなく、メソポーラス物質、例えば、Mobil 0ilのUS PS 5,1 34,242、P.T.Tanev,M.chibwe,T.J.Pinnavia,Nature 368 (1994),321)に記載さ れているようなアルコキシシランから製造されるような物質である場合、MCM 触媒等にも適用することができる。本発明の物質は、異性化反応、水素化反応、 常圧の酸素、過酸化水素又は有機過酸化物及び過酸を用いる酸化反応、アルキル 化及びアシル化反応、不均化反応、水素化及び脱水素化反応、水和及び脱水反応 、縮合反応、カップリング反応、置換反応、付加環化反応及び環状開環反応、レ ドックス反応、エーテル生成反応、エステル化及びエステル交換反応、原油のク ラッキング及びハイドロクラッキング(水素化分解)等の選択的触媒として使用 することができる。これらは気相と液相との分離及び選択的触媒作用に好適であ る。これらはイオン交換体として又は吸着体として使用することもできる。これ らは限外濾過膜及びガス分離膜の製造、並びに分子認識(molecular recognitio n)(DE−A−43 09 660)用の選択的キャビティを有する触媒の製 造にも好適である。これらの物質からなる膜は、例えば、アルコールと水の分離 、及び空気からの二酸化炭素の分離、坑内ガス又は都市ガスからのメタンの分離 、水及び二酸化炭素を用いる汚染空気の精製、一酸化炭素及び水素の分離、酸素 −窒素の分離、ガス混合物からの水素の選択的分離、有機溶剤の回収、空気、排 出空気、燃焼ガス、調理場空気等からの極性又は非極性成分の選択的分離、並び にエアコンディショニングされた設備からの汚染された空気の分離等にも適用す ることができる。 実施例1 無定形微孔質の二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガ ラス(1TiO:79.2SiO2:19.8MeSiO1.5) テトラエトキシシラン(TEOS)8ml、メチルトリエトキシシラン(MT ES)1.8ml、テトライソプロポキシチタン(TIPOT)0.133ml及 びエタノール7.9mlを、相互に連続的に溶解させ、攪拌しながら8N−HC l 1.98mlを添加する。硬化させた後、保護的(protective)ガス雰囲気 で、ゲルを0.2℃/分の加熱速度にて65℃へ加熱し、その温度に3時間保持 し、0.2℃/分の加熱速度にて250℃として、その温度にて更に3時間焼成 した。吸着/脱着等温線は、物質の微孔寸法が単一モードの分布を有することを 示している(SBET=545m2/g、孔寸法:0.72nm)。 実施例2 1TiO:50.95〜100SiO2:0〜49.5MeSiO1.5の組成の無 定形微孔質二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガラス 実施例1と同様にして、テトラエトキシシラン(TEOS)10ml(BET :585m2/g、孔寸法:0.73nm)、テトラエトキシシラン(TEOS) 9.5mlとメチルトリエトキシシラン(MTES)0.45ml(BET:48 9m2/g、孔寸法:0.74nm)、テトラエトキシシラン(TEOS)9ml とメチルトリエトキシシラン(MTES)0.9ml(BET:627m2/g、 孔寸法:0.73nm)、テトラエトキシシラン(TEOS)8.5mlとメチル トリエトキシシラン(MTES)1.35ml(BET:527m2/g、孔寸法 :0.73nm)、テトラエトキシシラン(TEOS)8.0mlとメチルトリエ トキシシラン(MTES)1.8ml(BET:545m2/g、孔寸法:0.7 2nm)、テトラエトキシシラン(TEOS)7.5mlとメチルトリエトキシ シラン(MTES)2.23ml(BET:532m2/g、孔寸法:0.73n m)、テトラエトキシシラン(TEOS)7.0mlとメチルトリエトキシシラ ン(MTES)2.76ml(BET:639m2/g、孔寸法:0.74nm) 、テトラエトキシシラン(TEOS)6.5mlとメチルトリエトキシシラン( MTES)3.15ml(BET:575m2/g、孔寸法:0.73nm)、テ トラエトキシシラン(TEOS)6.0mlとメチルトリエトキシシラン(MT E S)3.6ml(BET:625m2/g)孔寸法:0.73nm)、テトラエト キシシラン(TEOS)5.5mlとメチルトリエトキシシラン(MTES)4 .05ml(BET:574m2/g)孔寸法:0.72nm)、及びテトラエト キシシラン(TEOS)5mlとメチルトリエトキシシラン(MTES)4.5 ml(BET:580m2/g、孔寸法:0.73nm)からそれぞれ二酸化チ タン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガラスを調製したが、実施 例1と同様の方法を用いて、同量のテトライソプロポキシチタン(TIPOT) (0.133ml)、エタノール(7.9ml)及び8N−HCl(1.98m l)を使用した。 実施例3 無定形微孔質二酸化チタン/二酸化ケイ素/フェニルシリコンセスキオキシドガ ラス 実施例1と同様にして、6.5mlのTEOS、3.78mlのフェニルトリエ トキシシラン、0.133mlのTIPOT及び7.9mlのエタノールに、1. 98mlの8N−HClを加えることによって、1TiO2:64.35SiO2 :34.65(C65)SiO1.5の組成のゲルを得た。このゲルを実施例1におい て説明した焼成プロセスに付した。 実施例4 無定形微孔質二酸化チタン/二酸化ケイ素/エチルシリコンセスキオキシドガラ ス 実施例1と同様にして、9mlのTEOS、0.96mlのエチルトリエトキ シシラン、0.133mlのTIPOT及び7.9mlのエタノールに、1.98 mlの8N−HClを加えることによって、1TiO2:89SiO2:10(C6 5)SiO1.5の組成のゲルを得た。このゲルを実施例1において説明した焼成 プロセスに付した。 実施例5 無定形微孔質二酸化チタン/二酸化ケイ素/n−プロピルシリコンセスキオキシ ドガラス 実施例1と同様にして、9mlのTEOS、0.79mlのn−プロピルトリ メトキシシラン、0.133mlのTIPOT及び7.9mlのエタノールに、1 .98mlの8N−HClを加えることによって、1TiO2:89SiO2:1 0(C37)SiO1.5の組成のゲルを得た。このゲルを実施例1において説明 した焼成プロセスに付した。 実施例6 無定形微孔質二酸化チタン/二酸化ケイ素/イソブチルシリコンセスキオキシド ガラス 実施例1と同様にして、9mlのTEOS、1.12mlのイソブチルトリエ トキシシラン、0.133mlのTIPOT及び7.9mlのエタノールに、1 .98mlの8N−HClを加えることによって、1TiO2:89SiO2:1 0(C49)SiO1.5の組成のゲルを得た。このゲルを実施例1において説明し た焼成プロセスに付した。 実施例7 無定形微孔質二酸化チタン/二酸化ケイ素/n−へキシルシリコンセスキオキシ ドガラス 実施例1と同様にして、6.5mlのTEOS、3.60mlのn−ヘキシルト リメトキシシラン、0.133mlのTIPOT及び7.9mlのエタノールに、 1.98mlの8N−HClを加えることによって、1TiO2:64.35Si O2:34.65(n−C613)SiO1.5の組成のゲルを得た。このゲルを実施 例1において説明した焼成プロセスに付した。 実施例8 無定形微孔質酸化アルミニウム/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシド ガラス 実施例1と同様にして、1.5Al23:97SiO2:0MeSiO1.5(0. 176mlのトリス(sec−ブトキシ)アルミニウム、5mlのTEOS)、 1.5Al23:92.15SiO2:4.85MeSiO1.5(0.176mlの トリス(sec−ブトキシ)アルミニウム、4.75mlのTEOS、0.22m lのMTES)及び1.5Al23:87.3SiO2:9.7MeSiO1.5( 0.176mlのトリス(sec−ブトキシ)アルミニウム、4.5mlのTE OS、0.44mlのMTES)を、いずれの場合にも4.2mlのエタノール及 び1mlの8N−HClを用いることによって調製した。ゲル調製及び焼成の方 法についても実施例1の記載と同様とした。 実施例9 無定形微孔質二酸化ジルコニウム/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシ ドガラス 実施例1と同様にして、3ZrO2:97SiO2:0MeSiO1.5(0.31 1mlのテトラ-n−プロポキシジルコニウム(n−プロパノール中70%)、 5mlのTEOS)、3ZrO2:92.15SiO2:4.85MeSiO1.5(0 .311mlのテトラ-n−プロポキシジルコニウム(n−プロパノール中70% )、4.75mlのTEOS)、0.22mlのMTES)及び3ZrO2:87 .3SiO2:9.7MeSiO1.5(0.311mlのテトラ-n−プロポキシジ ルコニウム(n−プロパノール中70%)、4.5mlのTEOS)、0.44m lのMTES)を、いずれの場合にも4.2mlのエタノール及び1mlの8N −HClを用いて調製した。ゲル調製及び焼成の方法は実施例1の記載と同様と した。 実施例10 無定形微孔質酸化スズ/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガラス 実施例1と同様にして、3SnO2:97SiO2:0MeSiO1.5(0.43 5 mlのスズ(II)エチルヘキサノエート、10mlのTEOS)、3SnO2:8 7.3SiO2:9.7MeSiO1.5(0.435mlのスズ(II)エチルヘキサノエ ート、9mlのTEOS、 0.9mlのMTES)、3SnO2:77.6SiO2 :19.4MeSiO1.5(0.435mlのスズ(II)エチルヘキサノエート、8 mlのTEOS、 1.8mlのMTES)、及び3SnO2:67.9SiO2: 29.1MeSiO1.5(0.435mlのスズ(II)エチルヘキサノエート、7m lのTEOS、2.7mlのMTES)の組成の酸化スズ/二酸化ケイ素/メチ ルシリコンセスキオキシドを、いずれの場合にも4.2mlのエタノール及び1 mlの8N−HClを用いて調製した。ゲル調製及び焼成の方法は実施例1の記 載と同様とした。 実施例11 無定形微孔質酸化バナジウム/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガ ラス 実施例1と同様にして、2.5V25:95SiO2:0MeSiO1.5(0.6 6gのバナジルアセチルアセトネート、11mlのTEOS)、2.5V25: 85.5SiO2:9.5MeSiO1.5(0.66gのバナジルアセチルアセトネ ート、10mlのTEOS、1mlのMTES)、2.5V25:76SiO2: 19MeSiO1.5(0.66gのバナジルアセチルアセトネート、9mlのTE OS、2mlのMTES)、2.5V25:66.5SiO2:28.5MeSiO1.5 (0.66gのバナジルアセチルアセトネート、7.8mlのTEOS、3m lのMTES)の組成の酸化バナジウム/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキ オキシドを、いずれの場合にも9mlのエタノール及び2.25mlの8N−H Clを用いて調製した。ゲル調製及び焼成の方法は実施例1の記載と同様とした 。 実施例12 無定形微孔質酸化マンガン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガラ ス 実施例1と同様にして、3%Mn:97%Si:0%MeSi(1.344ミ リモルのMn(II)アセテート、44.8ミリモルのTEOS);3%Mn:87 %Si:10%MeSi(1.34ミリモルのMn(III)アセテート、40.3ミ リモルのTEOS、4.5ミリモルのMTES);3%Mn:77%Si:20 %MeSi(1.34ミリモルのMn(III)アセテート、35.9ミリモルのTE OS、9ミリモルのMTES);3%Mn:67%Si:30%MeSi(1. 34ミリモルのMn(III)アセテート、31.4ミリモルのTEOS、13.5ミ リモルのMTES);3%Mn:57%Si:40%MeSi(1.34ミリモ ルのMn(III)アセテート、26.9ミリモルのTEOS、17.9ミリモルのM TES);及び3%Mn:48.5%Si:48.5%MeSi(1.34ミリモ ルのMn(III)アセテート、22.4ミリモルのTEOS、22.4ミリモルのM TES)の組成の酸化マンガン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシド ガラスを、いずれの場合にも8.1mlのエタノール及び2mlの8N−HCl を用いて調製した。各成分は、50mlのPPビーカー中に、TEOS、MTE S、Mn(III)アセテート・2H2O及びエタノールの順で入れた。攪拌しながら 、塩酸を滴下して加えた。5分問攪拌した後、ゲル化が完了するまでビーカーに 緩やかに蓋をした。ゲル調製及び焼成の方法は実施例1の記載と同様とした。 実施例13 無定形微孔質酸化クロム/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガラス 実施例1と同様にして、3%Cr:97%Si:0%MeSi(1.344ミ リモルのCr(O-iPr)3、44.8ミリモルのTEOS)、BET:468m2 /g;3%Cr:87%Si:10%MeSi(1.34ミリモルのCr(O-iP r)3、40.3ミリモルのTEOS、4.5ミリモルのMTES)、BET:57 1m2/g;3%Cr:77%Si:20%MeSi(1.34ミリモルのCr(O -iPr)3、35.9ミリモルのTEOS、9ミリモルのMTES);3%Cr: 67%Si:30%MeSi(1.34ミリモルのCr(O-iPr)3、31.4ミ リモルのTEOS、13.5ミリモルのMTES);3%Cr:57%Si:4 0%MeSi(1.34ミリモルのCr(O-iPr)3、26.9ミリモルのTEO S、17.9ミリモルのMTES)及び3%Cr:48.5%Si:48.5%M eSi(1.34ミリモルのCr(O-iPr)3、22.4ミリモルのTEOS、2 2.4ミリモルのMTES)の組成の酸化クロム/二酸化ケイ素/メチルシリコ ンセスキオキシドガラスを、いずれの場合にも8.1mlのエタノール及び2m 1の8N−HClを用いて調製した。各成分は、50mlのPPビーカー中に、 TEOS、MTES、Cr(O−iPr)3,エタノールの順で入れた。攪拌しな がら、塩酸を滴下して加えた。5分間攪拌した後、ゲル化が完了するまでビーカ ーに緩やかに蓋をした。ゲル調製及び焼成の方法は実施例1の記載と同様とした 。 実施例14 無定形微孔質酸化鉄/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガラス 実施例1と同様にして、3%Fe、97%Si、0%MeSi(1.344ミ リモルのFe(O−iPr)3、44.8ミリモルのTEOS);3%Fe、87% Si、10%MeSi(1.34ミリモルのFe(O-iPr)3、40.3ミリモル のTEOS、4.5ミリモルのMTES);3%Fe、77%Si、20%Me Si(1.34ミリモルのFe(O-iPr)3、35.9ミリモルのTEOS、9ミ リモルのMTES);3%Fe、67%Si、30%MeSi(1.34ミリモ ルのFe(O−iPr)3、31.4ミリモルのTEOS、13.5ミリモルのMT ES);3%Fe、57%Si、40%MeSi(1.34ミリモルのFe(O- iPr)3、26.9ミリモルのTEOS、17.9ミリモルのMTES)及び3% Fe、48.5%Si、48.5%MeSi(1.34ミリモルのFe(O−iPr )3、22.4ミリモルのTEOS、22.4ミリモルのMTES)の組成の酸化鉄 /二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガラスを、いずれの場合にも8 .1mlのエタノール及び2mlの8N−HClを用いて調製した。各成分は、 50mlPのPビーカー中に、TEOS、MTES、Fe(O−iPr)3、エタ ノールの順で入れた。攪拌しながら、塩酸を滴下して加えた。5分間攪拌した後 、ゲル化が完了するまでビーカーに緩やかに蓋をした。ゲル調製及び焼成の方法 は実施 例1の記載と同様とした。 実施例15 無定形微孔質酸化アンチモン/二酸化ジルコニウム/二酸化チタン/メチルシリ コンセスキオキシドガラス Ar雰囲気において、10.00mlのTi(O−iPr)4、1.54mlのZ r(O−nBU)4、0.63gのSb(OBu)3、3.88ミリモル=0.7gのM eSi(OEt)3及び10.65mlのn−1−ブタノールを互いに連続的に溶解 させる。清澄な溶液を15分間攪拌する。10.65mlの無水n−ブタノール を加えた後、更に15分間攪拌を続けた。それから、1.09mlの12.5N− HClを滴下して加えて加水分解を行った。溶液の攪拌をAr雰囲気にて3時間 続けた後、溶液を緩やかに覆い、ゲル化が完了するまで空気中で放置した。 実施例16 無定形微孔質二酸化スズ/二酸化ジルコニウム/メチルシリコンセスキオキシド ガラス アルゴン雰囲気において、10.25mlのZr(O−n−C37)4(プロパノ ール中70%溶液)及び3.35ミリモル=0.6gのMeSi(OEt)3へ、6. 25mlのイソプロパノール(無水)、0.20mlのHNO3(14M)及び1 .87mlのアセチルアセトンからなる溶液を加えた。溶液を15分間攪拌した 。その後、0.646gのSn(2−エチルヘキサノエート)2を加えた。更に1 5分間攪拌した後、加水分解を行った。そのために、6.25mlのイソプロパ ノール(無水)、0.30mlのHNO3(14M)及び1.88mlのH2Oを滴 下して加えた。清澄な溶液をAr雰囲気にて5時間攪拌した後、溶液を緩やかに 覆い、ゲル化が完了するまで空気中で放置した。 実施例17 無定形微孔質酸化クロム/酸化アルミニウム/メチルシリコンセスキオキシドガ ラス Ar雰囲気にて、10.00gのAl(O−sBu)3、4.26ミリモル=0.7 6gのMeSi(OEt)3及び0.458mlのCr(O−iPr)3を混合した。 15分間撹拌した後、8.16mlのイソプロパノールを添加した。その後、4 .40mlのアセチルアセトンを滴下して添加することにより、錯化を行った。 この反応は大きな発熱を伴なった。溶液は黄色に変化した。酸(3.04mlの HNO3(14M))を添加し、15分間攪拌した後、8.16mlのイソプロパノ ール及び1.53mlの水の溶液を用いて加水分解を行った。褐色味を帯びた清 澄な溶液をAr雰囲気にて2時間攪拌した後、緩やかに覆い、ゲル化が完了する まで空気中で放置した。 実施例18 tert−ブチルヒドロペルオキシド(TBHP)による1−オクテンのエポキ シ化 15.0ミリモルの1−オクテン、1mlのTBHP溶液(イソオクタン中3 M)及び50mgの二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシ ドガラス(1TiO:54.45SiO2:44.55MeSiO1.5)を80℃ にて24時間攪拌し、生成物の組成をガスクロマトグラフィーによって測定した 。ほぼ完全な転化が起こり、エポキシドの選択率は96%であった。 実施例19 tert−ブチルヒドロペルオキシド(TBHP)による1−オクテンのエポキ シ化 15.0ミリモルの1−オクテン、1mlのTBHP溶液(イソオクタン中3 M)及び50mgの酸化バナジウム/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキ シドガラス(2.5V25:66.5SiO2:28.5MeSiO1.5)を80 ℃にて20時間攪拌し、生成物の組成をガスクロマトグラフィーによって測定し た。転化率は68%であり、74%のエポキシドの選択率が得られた。 実施例20 tert−ブチルヒドロペルオキシド(TBHP)によるトランス、トランス、 トランス−1,5,9−シクロドデカトリエン(全トランスCDT)のモノエポキ シ化 15.0ミリモルの全トランスCDT、1mlのTBHP溶液(イソオクタン 中3M)2mlのイソオクタン及び50mgの二酸化チタン/二酸化ケイ素/メ チルシリコンセスキオキシドガラス(1TiO2:48.5SiO2:48.5Me SiO1.5)を80℃にて24時間攪拌し、生成物の組成をガスクロマトグラフ ィーによって測定した。転化率は88%であり、モノエポキシドの選択率は89 .3%であった。 実施例21 tert−ブチルヒドロペルオキシド(TBHP)によるプロペンのエポキシ化 150mgの微孔質無定形Ti−Si酸化物触媒(4.8%Ti)を200m lのスチール・オートクレーブに入れ、10mlのTBHP溶液(イソオクタン 中3M)に懸濁させた。その後、オートクレーブをシールして、3.2gのプロ ペンにより加圧した。60℃の温度にて(電磁攪拌子により)3時間攪拌して反 応を行った後、反応装置を冷却し、遠心分離によって触媒を分離して、清澄な反 応溶液の組成をガスクロマトグラフィーによって測定した。以下の生成物の組成 が求められた:プロペン0.4%、プロピレンオキシド5.0%。 実施例22 疎水性Ti−Siガラスによるプロペンの酸化 75mgの触媒(二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシ ドガラス(1TiO2:49.5SiO2:49.5MeSiO1.5))を100 mlのスチール・オートクレーブに入れ、5mlのTBHP溶液(イソオクタン 中3M)に懸濁させた。その後、オートクレーブをシールして、1.6gのプロ ペン により加圧した。60℃の温度にて(電磁攪拌子により)3時間攪拌して反応を 行った後、反応装置を冷却し、遠心分離によって触媒を分離して、清澄な反応溶 液の組成をガスクロマトグラフィーによって測定した。以下の生成物の組成が求 められた:プロペン0.8%、プロピレンオキシド10.3%。収率は、疎水性T i−Siガラスによって得られた値の約2倍であった。 実施例23 過酸化水素水溶液によるエタノールのアセトアルデヒドへの選択的酸化 21ミリモルのエタノール、7ミリモルのH22(水中25%)及び50mg の二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガラス(1Ti O2:54.45SiO2:44.55MeSiO1.5)を45℃にて18時間攪拌 し、生成物の組成をガスクロマトグラフィーによって測定した。14.8%のエ タノール転化率及び91.8%のアセトアルデヒド選択率が達成された。 実施例24 過酸化水素水溶液によるシクロヘキセンのエポキシ化 2ミリモルのシクロヘキセン、4ミリモルのH22(水中25%)及び20m gの二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガラス(1T iO2:67.9SiO2:29.1MeSiO1.5)を50℃にて15時間攪拌し 、生成物の組成をガスクロマトグラフイーによって測定した。24.0%のシク ロヘキセン転化率及び57.8%のエポキシド選択率が認められた。 実施例25 過酸化水素水溶液による全トランス−シクロドデカトリエン(全トランスCDT )のエポキシ化 2ミリモルの全トランス−シクロドデカトリエン、4ミリモルのH22(水中 25%)及び20mgの二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオ キシドガラス(1TiO2:64.3SiO2:34.7MeSiO1.5)を50 ℃に て15時間攪拌し、生成物の組成をガスクロマトグラフィーによって測定した。 24.0%のシクロヘキセン転化率及び57.8%のエポキシド選択率が認められ た。 実施例26 過酸化水素水溶液及びアンモニア水溶液によるシクロヘキサノンのシクロヘキサ ノンオキシムへのアンモ酸化 5ミリモルのシクロヘキサノン、7.5ミリモルのアンモニア(水中25%) 及び50mgの二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシドガ ラス(1TiO2:54.45SiO2:44.55MeSiO1.5)を60℃に て攪拌し、5ミリモルのH22(水中25%)をその温度にて4時間で添加した 。60℃にて更に2時間経過した後、シクロヘキサノンの転化率は(ガスクロマ トグラフィーにより)31%となっていた。9.1%のシクロヘキサノンオキシ ム選択率が算出された。 実施例27 過酸化水素水溶液によるトルエンの選択的酸化 13ミリモルのトルエン、4.5ミリモルのH22(水中25%)、3.1ml のアセトニトリル及び25mgの二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチルシリコン セスキオキシドガラス(1TiO2:54.45SiO2:44.55MeSiO1. 5 )を80℃にて18時間攪拌し、生成物の組成をガスクロマトグラフィーによ って測定した。4.3%のトルエン転化率及び90.5%の生成物選択率(べンズ アルデヒド+べンジルヒドロペルオキシド)が得られた。 実施例28 過酸化水素水溶液によるエチルベンゼンの選択的酸化 13ミリモルのエチルベンゼン、4.5ミリモルのH22(水中25%)、3 .1mlのアセトニトリル及び25mgの二酸化チタン/二酸化ケイ素/メチル シ リコンセスキオキシドガラス(1TiO2:60SiO2:39MeSiO1.5) を80℃にて18時間攪拌し、生成物の組成をガスクロマトグラフィーによって 測定した。6.8%のエチルベンゼン転化率及びアセトフェノンについて57% 及び2−フェニルエタノールについて14.9%の選択率が達成された。 実施例29 過酸化水素水溶液によるべンゼンのフェノールへの選択的酸化 3.36ミリモルのべンゼン、6.6ミリモルのH22(水中25%)、5ml のアセトン及び35mgの酸化バナジウム/二酸化ケイ素/メチルシリコンセス キオキシドガラス(2.5V25:76SiO2:19MeSiO1,5)を60℃ にて4時間攪拌し、生成物の組成をガスクロマトグラフィーによって測定した。 2.6%のべンゼン転化率及び91%のフェノール選択率が達成された。 実施例30 tert−ブチルエーテルを生成させるエーテル化 200mlのオートクレーブ中で、300ミリモルのイソブテン、50ミリモ ルの1−へキサノール、50ミリモルの1−ナフトール及び300mgの3Sn O2:97SiO2:0MeSiO1.5の組成の酸化スズ/二酸化ケイ素/メチル シリコンセスキオキシドガラスを、40バールの圧力のN2及び140℃の温度 にて16時間攪拌した。生成した混合物をガスクロマトグラフィーによって分析 して、(1−へキサノール基準で)63.6%の1−へキシル−tert−ブチ ルエーテルの収率と比較して、(1−ナフトール基準で)39.5%の1−ナフ チル−tert−ブチルエーテルの収率が得られた。同様の方法で、触媒として 1.5Al23:97SiO2:0MeSiO1.5を使用した場合には、1−ナフ チル−tert−ブチルエーテルについて67.6%の収率が、1−へキシル− tert−ブチルエーテルについて37.4%の収率が得られた。 触媒として3ZrO2:97SiO2:0MeSiO1.5を使用した場合には、 1−ナフチル−tert−ブチルエーテルについて24.4%の収率が、1−へ キ シル−tert−ブチルエーテルについて46.1%の収率が得られた。 更に、イソブテンのダイマー及びトリマーのより大きなフラクションが生成し た。 実施例31 tert−ブチルエーテルを生成させるエーテル化 実施例20に記載したのと同様の方法で、3SnO2:67.9SiO2:29 .1MeSiO1.5の組成の酸化スズ/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオ キシドを用いると、1−ナフチル−tert−ブチルエーテル及び1−へキシル −tert−ブチルエーテルについてそれぞれ4.6%及び17.2%の収率が得 られた。同様にして、触媒に1.5Al23:87.3SiO2:9.7MeSiO1.5 を使用した場合には、1−ナフチル−tert−ブチルエーテルについて4 3.5%の収率が、1−へキシル−tert−ブチルエーテルについて56.6% の収率が得られた。 触媒として3ZrO2:87.3SiO2:9.7MeSiO1.5を使用した場合 には、1−ナフチル−tert−ブチルエーテルについて28.4%の収率が、 1−へキシル−tert−ブチルエーテルについて33.4%の収率が得られた 。 この反応は、イソブテンのオリゴマーの生成を伴なうことなく進行した。 実施例32 芳香族化合物のアルキル化 75mgの酸化アルミニウム/酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシド( 3Al23:10MeSiO1.5:87SiO2)を同量の珪砂により希釈し、ス トリームチューブ内で、酸素ストリーム中350℃にて焼成した。トルエン/エ タノール(1:3)の液体混合物を、1ml/hにてN2不活性ガスストリーム (流量4ml/分)中に連続的に計量供給し、一緒に300℃にて触媒床へ送っ た。生成物ガスストリームのエチルトルエンへの定量的な転化が認められた。 実施例33 過酸化水素によるプロピレンオキシドの生成 1.9mlの25%H22、1.6mlのプロペン(1)、75mgの二酸化チ タン/二酸化ケイ素/メチルシリコンセスキオキシド(1TiO2:45MeS iO1.5:54SiO2)及び3.1mlのメタノールを、シールしたオートクレ ーブ内で60℃にて3時間加熱した。生成物中には、プロペンオキシド以外に検 出されるものはなかった。同様の条件下においてメチル基を含まないAl−Si ガラスを用いて並行して実験したところ、POは検出されなかった。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1997年11月15日(1997.11.15) 【補正内容】 請求の範囲 1.直径が3nmより小さい範囲の微小孔を有する無定形微孔質混合酸化物で あって、乾燥した形態において、(半値幅が孔直径の±10%未満である)狭い 細孔分布を有し、20〜1000m2/gの範囲の全表面積を有し、0.1〜20 重量%の非加水分解性有機基の部分を有し、非水性媒体中においてテトラアルキ ルアンモニウム誘導体を使用することなく調製されることを特徴とする無定形微 孔質混合酸化物。 2.混合酸化物の少なくとも50%がチタン、ケイ素、アルミニウム又はジル コニウムの酸化物の1種又はその混合物からなることを特徴とする請求の範囲1 記載の無定形微孔質混合酸化物。 3.混合酸化物の少なくとも50%は、チタン、ケイ素、アルミニウム又はジ ルコニウムの酸化物の1種又はその混合物からなり、50重量%末満がMo、S n、Zn、V、Mn、Fe、Co、Ni、As、Pb、Bi、Ru、Re、Cr 、W、Nb、Hf、La、Ce、Gd、Ga、In、Tl、Ag、Cu、Li、 K、Na、Be、Mg、Ca、Sr及びBaからなる元素の群から選ばれる原子 の1種又はそれ以上のものの金属酸化物からなることを特徴とする請求の範囲1 記載の無定形微孔質混合酸化物。 4.Pt、Rh、Ir、Os、Ru、Re、Ag、Au、Cu,Ni、Pd、 Coの群から選ばれる少なくとも1種の元素を5重量%まで、金属又は非金属状 態にて高度に分散された形態で更に含有することを特徴とする請求の範囲1〜3 のいずれかに記載の無定形微孔質混合酸化物。 5.非加水分解性のR’基を有するR’−Si(OR)3 [式中、R’は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、−Cn2n+1、フェニ ル基、−Cn2nCl,−Cn2nNH2、−Cn2nCOOH、−Cn2nOH、 −Cn2nCF3、−CH2CH=CH2、−CH2COCH3、−CH2NR4 +又は O−、m−若しくはp−官能性化されたアリール基である。] の形態のアルキルオキシシラン又はアリールオキシシランを、圧力又は超臨界的 条件を適用することなく、溶媒を用いて又は用いずに、7未満のpHにて、Mo 、 Sn、Zn、V、Mn、Fe、Co、Ni、As、Pb、Bi、Ru、Re、C r、W、Nb、Hf、La、Ce、Gd、Ga、In、Tl、Ag、Cu、Li 、K、Na、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Pt、Rh、Ir、Os、Ru、 Au、Pd、Ti、Si、Al、Zrからなる群の元素の可溶性かつ加水分解性 の誘導体とともに共縮合させ、その後乾燥させることを特徴とする請求の範囲1 〜4のいずれかに記載の高多孔質混合酸化物を製造する方法。 6.加水分解性誘導体として、可溶性のアルコキシド、1,3−ジカルボニレ ート、カルボキシレート又はそれらの塩を使用することを特徴とする請求の範囲 5記載の方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.乾燥した形態において、3nmより小さい範囲の直径を有する微小孔の狭 い細孔分布(半値幅が孔直径の±10%未満)及び20〜1000m2/gの範 囲の全表面積を有し、並びに0.1〜20重量%の非加水分解性有機基の部分を 有することを特徴とする無定形微孔質混合酸化物。 2.混合酸化物マトリックスの少なくとも50%がチタン、ケイ素、アルミニ ウム又はジルコニウムの酸化物の1種又はその混合物からなることを特徴とする 請求の範囲1記載の無定形微孔質混合酸化物。 3.混合酸化物マトリックスの少なくとも50%はチタン、ケイ素、アルミニ ウム又はジルコニウムの酸化物の1種又はその混合物からなり、50重量%まで が、Mo、Sn、Zn、V、Mn、Fe、Co、Ni、As、Pb、Sb、Bi 、Ru、Re、Cr、W、Nb、Hf、La、Ce、Gd、Ga、In、Tl、 Ag、Cu、Li、K、Na、Be、Mg、Ca、Sr及びBaからなる元素の 群から選ばれる原子の1種又はそれ以上のものの金属酸化物からなることを特徴 とする請求の範囲1記載の無定形微孔質混合酸化物。 4.Pt、Rh、Ir、Os、Ru、Re、Ag、Au、Cu、Ni、Pd、 Coの群から選ばれる少なくとも1種の貴金属を5重量%まで、金属又は非金属 状態にて高度に分散された形態で更に含有することを特徴とする請求の範囲1〜 3のいずれかに記載の無定形微孔質混合酸化物。 5.非加水分解性のR’基を有するR’−Si(OR)3 [式中、R’は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、−Cn2n+1、フェニ ル基、−Cn2nCl、−Cn2nNH2、−Cn2nCOOH、−Cn2nOH− Cn2nCF3、−CH2CH=CH2、−CH2COCH3、−CH2NR4 +又はO −、m−若しくはp−官能性化されたアリール基である。] の形態のアルキルオキシシラン又はアリールオキシシランを、ゾル−ゲル法の既 知の成分とともに共縮合させて、圧力又は超臨界的条件を適用することなく多孔 質混合酸化物を調製することを特徴とする請求の範囲1〜4のいずれかに記載の 混合酸化物及び高多孔質酸化物の製造方法。
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