JP2000347420A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2000347420A5 JP2000347420A5 JP1999157470A JP15747099A JP2000347420A5 JP 2000347420 A5 JP2000347420 A5 JP 2000347420A5 JP 1999157470 A JP1999157470 A JP 1999157470A JP 15747099 A JP15747099 A JP 15747099A JP 2000347420 A5 JP2000347420 A5 JP 2000347420A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- negative resist
- holes
- hole
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11157470A JP2000347420A (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | レジストパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11157470A JP2000347420A (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | レジストパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000347420A JP2000347420A (ja) | 2000-12-15 |
| JP2000347420A5 true JP2000347420A5 (enExample) | 2004-09-02 |
Family
ID=15650388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11157470A Pending JP2000347420A (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | レジストパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000347420A (enExample) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101172313B1 (ko) | 2006-02-23 | 2012-08-14 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 소자의 제조방법 |
| KR102545448B1 (ko) * | 2015-02-21 | 2023-06-19 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 오정렬 에러 보호를 포함하는 패터닝 방법 |
| US9633847B2 (en) * | 2015-04-10 | 2017-04-25 | Tokyo Electron Limited | Using sub-resolution openings to aid in image reversal, directed self-assembly, and selective deposition |
-
1999
- 1999-06-04 JP JP11157470A patent/JP2000347420A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002122976A5 (enExample) | ||
| KR100682638B1 (ko) | 나이트라이드 스페이서를 이용하여 고밀도의 메모리 셀들및 작은 간격들을 형성하는 방법 | |
| US20090170310A1 (en) | Method of forming a metal line of a semiconductor device | |
| US6630404B1 (en) | Reducing feature dimension using self-assembled monolayer | |
| JP2000347420A5 (enExample) | ||
| KR20070059877A (ko) | 유기 전자 소자의 유기 물질층 패터닝 방법과 상기 방법을이용하여 제작된 유기 박막 트랜지스터 및 유기 전계 발광디바이스 | |
| CN107195538B (zh) | 形成图案的方法 | |
| JP2003140314A5 (enExample) | ||
| KR20010005154A (ko) | 레지스트 플로우 공정을 이용한 미세패턴 형성방법 | |
| JP2004006930A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| KR950004977B1 (ko) | 반도체 소자의 감광막 미세 패턴 형성방법 | |
| KR100268898B1 (ko) | 반도체소자의콘택홀형성방법 | |
| KR20050066895A (ko) | 미세 콘택홀 형성 방법 | |
| KR100682214B1 (ko) | 미세 패턴 형성 방법 | |
| KR100390912B1 (ko) | 반도체 소자의 콘택홀 형성방법 | |
| KR19980084300A (ko) | 반사억제막을 이용한 소자분리막 형성방법 | |
| JP2001230189A (ja) | レジストパターン、および配線形成方法 | |
| KR970009826B1 (ko) | 하프톤(Half-Tone)형 위상반전마스크 형성방법 | |
| KR100261167B1 (ko) | 반도체 소자의 게이트 제조방법 | |
| KR100227634B1 (ko) | 반도체 소자의 제조방법 | |
| KR20010004081A (ko) | 반도체 장치의 포토레지스트 패턴 형성방법 | |
| JPH03263834A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| KR100252888B1 (ko) | 반도체소자의 제조방법 | |
| KR100701674B1 (ko) | 반도체 소자의 제조방법 | |
| KR100412139B1 (ko) | 반도체소자의 마스크패턴 형성방법 |