JP2000344740A - プロリノール誘導体の製造方法 - Google Patents

プロリノール誘導体の製造方法

Info

Publication number
JP2000344740A
JP2000344740A JP11155694A JP15569499A JP2000344740A JP 2000344740 A JP2000344740 A JP 2000344740A JP 11155694 A JP11155694 A JP 11155694A JP 15569499 A JP15569499 A JP 15569499A JP 2000344740 A JP2000344740 A JP 2000344740A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solvent
prolinol derivative
substituted
protecting group
aromatic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11155694A
Other languages
English (en)
Inventor
Norio Yonetani
徳郎 米谷
Kenji Saito
憲治 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumika Fine Chemicals Co Ltd
Original Assignee
Sumika Fine Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumika Fine Chemicals Co Ltd filed Critical Sumika Fine Chemicals Co Ltd
Priority to JP11155694A priority Critical patent/JP2000344740A/ja
Publication of JP2000344740A publication Critical patent/JP2000344740A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Pyrrole Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安価で、工程の少ない、環境負荷を低減し
た、N−置換プロリノール誘導体からのプロリノール誘
導体の製造方法。 【解決手段】 アルコール系溶媒と芳香族系溶媒との混
合溶媒中、アルカリの存在下、N−置換プロリノール誘
導体のアミノ保護基の除去により、また該アミノ保護基
の除去後、反応液に水を加えて加熱する工程を含むこと
により、プロリノール誘導体を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、N−置換プロリノ
ール誘導体におけるアミノ保護基を除去することによる
プロリノール誘導体の製造方法に関する。詳細には、ア
ルコール系溶媒と芳香族系溶媒との混合溶媒中、アルカ
リの存在下、N−置換プロリノール誘導体におけるアミ
ノ保護基を除去することによる、プロリノール誘導体の
製造方法に関する。また、上記アミノ保護基の除去後、
反応液に水を加えて加熱する工程を含むプロリノール誘
導体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光学活性なプロリノール誘導体、例えば
(S)−α,α−ジフェニル−2−プロリノールは、プ
ロキラルなケトン類およびアルデヒド類を光学活性なア
ルコールへと還元することのできる不斉還元触媒とし
て、また、CBS不斉還元触媒である、下式
【0003】
【化3】
【0004】(式中、Phはフェニル基を示し、Rは水
素またはメチルを示す)で表される、光学活性オキサザ
ボロリジン類の前駆体(Tetrahedron, 49, 5127-5132,
(1993))として知られている。
【0005】(S)−プロリンからのプロリノール誘導
体の製造方法としては、例えば下記式で示す一連の反応
(Journal of Organic Chemistry, 56, 751 (1991))が
挙げられ、
【0006】
【化4】
【0007】この方法においては、毒性の高いホスゲン
を使用しており、また中間体である酸無水物は安定性に
欠け、0℃においてでさえ二酸化炭素を放出してすみや
かに重合するという問題点がある。また、その他の例と
して、下記式で示す一連の反応(Tetrahedron, 49, 512
7-5132 (1993))が挙げられ、
【0008】
【化5】
【0009】この方法においては、アミノ保護基の除去
にパラジウムカーボンを使用しており、コストアップに
繋がる。この問題点を改良した方法として、下記式で示
す一連の反応(Tetrahedron, 49, 5127-5132 (1993))
が挙げられ、
【0010】
【化6】
【0011】この方法においては、高価なパラジウムカ
ーボンを使用することなく、メタノール中、水酸化カリ
ウムの存在下でアミノ保護基の除去を行っている。しか
しながら、脱保護後の処理における、アルコールの留
去、環境汚染の原因となる塩素を含有するクロロホルム
の抽出溶媒としての使用など、さらに改良すべき点が残
されている。以上から、これらの問題点を改良した、N
−置換プロリノール誘導体からのプロリノール誘導体の
製造方法が望まれていた。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は安価で、工程の少ない、環境負荷を低減した、N−置
換プロリノール誘導体からのプロリノール誘導体の製造
方法を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意研究を行った結果、アルコール系溶
媒と芳香族系溶媒との混合溶媒中、アルカリの存在下、
N−置換プロリノール誘導体におけるアミノ保護基を除
去することにより、アルコール系溶媒を留去する工程を
行うことなくプロリノール誘導体が得られることを見出
し、さらにアミノ保護基の除去後、反応液に水を加えて
加熱する工程を含むことにより、抽出溶媒としてクロロ
ホルムを使用することなくプロリノール誘導体が得られ
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0014】即ち、本発明は、(1)アルコール系溶媒
と芳香族系溶媒との混合溶媒中、アルカリの存在下、式
(I)
【0015】
【化7】
【0016】(式中、R1、R1’は同一または異なって
いてもよく、それぞれ置換基を有していてもよい芳香族
炭化水素残基を示し、R2はアミノ保護基を示す)で表
される、N−置換プロリノール誘導体におけるアミノ保
護基を除去することを特徴とする、式(II)
【0017】
【化8】
【0018】(式中、R1およびR1’は前記と同義であ
る)で表される、プロリノール誘導体の製造方法、
(2)アミノ保護基がアルコキシカルボニルまたはベン
ジルオキシカルボニルである、上記(1)の製造方法、
(3)芳香族系溶媒がトルエンまたはキシレンである、
上記(1)または(2)の製造方法、(4)アルコール
系溶媒をN−置換プロリノール誘導体に対して3〜80
0倍モル使用することを特徴とする、上記(1)〜
(3)のいずれかに製造方法、(5)芳香族系溶媒をN
−置換プロリノール誘導体に対して0.1〜20倍重量
使用することを特徴とする、上記(1)〜(4)のいず
れかの製造方法、および(6)N−置換プロリノール誘
導体におけるアミノ保護基を除去した後、反応液に水を
加えて加熱する工程を含む、上記(1)の製造方法に関
する。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
1およびR1’における「置換基を有していてもよい芳
香族炭化水素残基」としては、下記置換基で1または2
以上、好ましくは1置換されていてもよい芳香族炭化水
素残基である。該「芳香族炭化水素残基」としては、好
ましくはフェニルおよびナフチルが挙げられ、より好ま
しくはフェニルが挙げられる。
【0020】該「置換基」としては、例えば炭素数1〜
4個の直鎖状または分岐鎖状のアルキル(例えば、メチ
ル,エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec−ブチル、tert−ブチルなど)、炭素
数1または2個のアルコキシ(例えば、メトキシ,エト
キシ)などが挙げられ、好ましくはメチルが挙げられ
る。置換位置は特に限定はなく、オルト位、メタ位、パ
ラ位のいずれでもよい。
【0021】R1およびR1’における「置換基を有して
いてもよい芳香族炭化水素残基」としては、例えばフェ
ニル、ナフチル、トリル、エチルフェニル、プロピルフ
ェニル、イソプロピルフェニル、ブチルフェニル、イソ
ブチルフェニル、sec−ブチルフェニル、tert−
ブチルフェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニ
ル、メチルナフチルなどが挙げられ、好ましくはフェニ
ルおよびナフチル、より好ましくはフェニルが挙げられ
る。
【0022】R2におけるアミノ保護基としては、アミ
ノ基の保護に通常使用される置換基であれば特に限定は
なく、例えばアルコキシカルボニル、ベンジルオキシカ
ルボニルなどが挙げられる。該アルコキシカルボニルと
しては、炭素数が2〜19個、好ましくは2〜8個であ
る直鎖状または分岐鎖状のアルコキシカルボニルが挙げ
られ、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソ
ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、ヘキシル
オキシカルボニル、へプチルオキシカルボニルなどが挙
げられる。アミノ保護基の好ましい具体例としては、経
済的観点から、エトキシカルボニルおよびベンジルオキ
シカルボニルが挙げられる。
【0023】本発明におけるN−置換プロリノール誘導
体としては、好ましくはα,α−ジフェニル−2−(N
−エトキシカルボニルピロリジン)メタノール、および
α,α−ジナフチル−2−(N−ベンジルオキシカルボ
ニルピロリジン)メタノールが挙げられ、より好ましく
はα,α−ジフェニル−2−(N−エトキシカルボニル
ピロリジン)メタノールが挙げられる。
【0024】本発明において、式(I)および式(II)
におけるα炭素の絶対配置は、S体、R体のどちらでも
よく、またこれらの混合物であってもよい。
【0025】アミノ保護基の除去 プロリノール誘導体は、アルコール系溶媒と芳香族系溶
媒との混合溶媒中、アルカリの存在下、上記N−置換プ
ロリノール誘導体のアミノ保護基を除去することにより
得ることができる。本発明の方法では、反応溶媒として
芳香族系溶媒を加えており、これにより従来大量に使用
していたアルコール系溶媒の使用量を低減することがで
き、反応終了後にアルコール系溶媒を留去する工程を省
くことができる。プロリノール誘導体の具体的な製造方
法としては、反応系への添加順序は特に限定はなく、例
えば反応に必要な量の、N−置換プロリノール誘導体、
アルコール系溶媒、芳香族系溶媒、およびアルカリを一
括して反応容器に添加し、所定の温度に加熱する方法が
挙げられる。
【0026】本発明において使用する「アルコール系溶
媒」としては、炭素数1〜8のアルコール系溶媒が挙げ
られ、例えばメタノール、エタノール、プロピルアルコ
ール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノ
ール、ヘキサノール、へプタノール、オクタノールなど
が挙げられ、好ましくはメタノールおよびエタノールが
挙げられ、これらは併用してもよい。
【0027】本発明において使用するアルコール系溶媒
の使用量は、N−置換プロリノール誘導体に対して3〜
800倍モルであり、好ましくは4.5〜50倍モルで
ある。アルコール系溶媒の使用量が、N−置換プロリノ
ール誘導体に対して3倍モル未満であると、反応が遅く
なり、また未反応物が残り易くなり、800倍モルを超
えるとコストアップになる。
【0028】本発明において使用する「芳香族系溶媒」
としては、アルカリ金属と反応しないものであれば特に
限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メ
シチレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン
などが挙げられ、好ましくはトルエンおよびキシレンが
挙げられ、これらは併用してもよい。
【0029】本発明において使用する芳香族系溶媒の使
用量は、N−置換プロリノール誘導体に対して0.1〜
20倍重量であり、好ましくは1〜5倍重量である。芳
香族系溶媒の使用量がN−置換プロリノール誘導体対し
て0.1倍重量未満であると反応が遅くなり、20倍重
量を超えるとコストアップになる。
【0030】本発明において使用するアルカリとして
は、アミノ保護基の除去に通常使用しているものであれ
ば特に限定はなく、例えば水酸化カリウム、水酸化ナト
リウムなどのアルカリ金属の水酸化物が挙げられ、好ま
しくは水酸化カリウムであり、これらは併用してもよ
い。
【0031】本発明において使用するアルカリの使用量
は、N−置換プロリノール誘導体に対して3〜20倍モ
ルであり、好ましくは5〜10倍モルである。
【0032】本発明における反応温度は、40〜100
℃、好ましくは60〜70℃であり、反応時間は30分
〜10時間、好ましくは1〜6時間である。
【0033】本発明におけるN−置換プロリノール誘導
体のアミノ保護基の除去に使用する、アルコール系溶
媒、芳香族系溶媒およびアルカリの好ましい組み合わせ
としては、メタノール、トルエンおよび水酸化カリウム
の組み合わせが挙げられる。
【0034】後処理 N−置換プロリノール誘導体におけるアミノ保護基を除
去した後、通常の処理方法によりプロリノール誘導体を
分離することができる。アミノ保護基を除去した後の好
ましい処理方法としては、反応後の液に水を加えて加熱
する工程を含む方法が挙げられ、これにより従来抽出溶
媒として使用していたクロロホルムの代わりに、本発明
の反応溶媒である芳香族系溶媒を抽出溶媒として使用す
ることができ、環境汚染の原因となる塩素を含有するク
ロロホルムの使用を回避することにより環境負荷を低減
することができる。さらに、反応後芳香族系溶媒を留去
することなく抽出溶媒として使用することにより、処理
工程が煩雑にならず、容易に目的物を分離することがで
きる。後処理としては、具体的には反応後の液に抽出用
である水を必要量加えて再度加熱した後、分液、洗浄、
乾燥、濃縮など通常の工程を経ることにより、目的生成
物を分離する方法が挙げられる。
【0035】後処理における芳香族系溶媒としては、ア
ミノ保護基の除去に使用した溶媒と同様のものが挙げら
れ、アミノ保護基の除去後、溶媒を留去することなくそ
のまま後処理の溶媒として使用することができる。芳香
族系溶媒の使用量は、分液温度などの反応条件に依存
し、例えば芳香族系溶媒がトルエンであり、分液温度が
60℃である場合、アルコール系溶媒に対して同重量以
上のトルエンを使用することができ、5倍重量以下のト
ルエンを使用することが経済的に好ましい。分液温度が
10〜30℃であっても分液でき、さらに抽出効率が高
いという点から、トルエンの使用量はアルコール系溶媒
に対して1.9倍重量以上が好ましい。
【0036】後処理における水としては、特に限定はな
く、水道水、蒸留水、精製水などが挙げられ、水道水が
好ましい。水の使用量は、反応液を分液することができ
る量であれば特に限定はなく、温度などの反応条件に依
存する。例えば、温度が約75℃である時の後処理にお
ける水の使用量は、アルコール系溶媒に対して1〜12
倍重量、好ましくは2〜8倍重量である。
【0037】後処理において、水を加えた後の加熱温度
は50〜100℃であり、好ましくは反応系が還流する
ような温度であり、加熱時間は10分〜10時間、好ま
しくは30分〜5時間である。
【0038】プロリノール誘導体の精製方法は、通常の
精製方法であれば特に限定はなく、例えば再結晶、カラ
ムクロマトグラフィーなどが挙げられる。
【0039】本発明により得られるプロリノール誘導体
は、プロキラルなケトン類およびアルデヒド類を光学活
性なアルコールへと還元することのできる不斉還元触
媒、CBS不斉還元触媒である光学活性オキサザボロリ
ジン類の前駆体などとして使用することができる。
【0040】本発明の原料化合物であるN−置換プロリ
ノール誘導体は公知化合物であり、例えば、Tetrahedro
n, 49, 5127-5132 (1993)で開示されている下式の一連
の工程に準ずる方法により得ることができる。
【0041】
【化9】
【0042】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
【0043】実施例1(R)−α,α−ジフェニル−2−ピロリジンメタノー
ルの合成 温度計、攪拌機、およびコンデンサーを取りつけた200m
lの4つ口フラスコに、(R)−α,α−ジフェニル−
2−(N−エトキシカルボニルピロリジン)メタノール
(20.0g, 61.5mmol)、水酸化カリウム(17.2g, 307mmo
l)、メタノール(15.8g, 492mmol)およびトルエン(30.0
g)を仕込んだ。反応液を60〜65℃に昇温して、1時間保
温攪拌した後、水(60g)を加えた後、更に1時間還流下
(74℃)で攪拌した。反応液を分液後、水層をトルエン
(30g)で再抽出し、合わせた有機層を8%食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、濃縮し、濃
縮残渣14.6g(収率:94%)を得た。得られた濃縮残渣を
60%イソプロピルアルコール水溶液(100g)で再結晶
し、白色結晶性粉末として(R)−α,α−ジフェニル
−2−ピロリジンメタノール12.9g(収率:83%)を得
た。
【0044】実施例2(R)−α,α−ジナフチル−2−ピロリジンメタノー
ルの合成 温度計、攪拌機、およびコンデンサーを取りつけた100m
lの4つ口フラスコに、(R)−α,α−ジナフチル−
2−(N−ベンジルオキシカルボニルピロリジン)メタ
ノール(8.50g, 17.4mmol)、水酸化カリウム(4.88g,
87.0mmol)、メタノール(2.79g, 87.0mmol)およびトル
エン(8.5g)を仕込んだ。反応液を60〜65℃に昇温して、
2時間保温攪拌した後、水(17.0g)を加えた後、更に1
時間還流下(75℃)で攪拌した。反応液を分液後、水層
をトルエン(8.5g)で再抽出し、合わせた有機層を8%食
塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、
濃縮し、濃縮残渣として(R)−α,α−ジナフチル−
2−ピロリジンメタノール5.6g(収率:90.9%)を得た。
【0045】
【発明の効果】本発明により、安価で、工程の少ない、
環境負荷を低減した、N−置換プロリノール誘導体から
のプロリノール誘導体の製造方法を提供することができ
る。これにより、プロキラルなケトン類およびアルデヒ
ド類を光学活性なアルコールへと還元することのできる
不斉還元触媒、CBS不斉還元触媒である光学活性オキ
サザボロリジン類の前駆体などを提供することができ
る。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルコール系溶媒と芳香族系溶媒との混
    合溶媒中、アルカリの存在下、式(I) 【化1】 (式中、R1、R1’は同一または異なっていてもよく、
    それぞれ置換基を有していてもよい芳香族炭化水素残基
    を示し、R2はアミノ保護基を示す)で表される、N−
    置換プロリノール誘導体におけるアミノ保護基を除去す
    ることを特徴とする、式(II) 【化2】 (式中、R1およびR1’は前記と同義である)で表され
    る、プロリノール誘導体の製造方法。
  2. 【請求項2】 アミノ保護基がアルコキシカルボニルま
    たはベンジルオキシカルボニルである、請求項1記載の
    製造方法。
  3. 【請求項3】 芳香族系溶媒がトルエンまたはキシレン
    である、請求項1または2記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 アルコール系溶媒をN−置換プロリノー
    ル誘導体に対して3〜800倍モル使用することを特徴
    とする、請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
  5. 【請求項5】 芳香族系溶媒をN−置換プロリノール誘
    導体に対して0.1〜20倍重量使用することを特徴と
    する、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
  6. 【請求項6】 N−置換プロリノール誘導体におけるア
    ミノ保護基を除去した後、反応液に水を加えて加熱する
    工程を含む、請求項1記載の製造方法。
JP11155694A 1999-06-02 1999-06-02 プロリノール誘導体の製造方法 Pending JP2000344740A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11155694A JP2000344740A (ja) 1999-06-02 1999-06-02 プロリノール誘導体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11155694A JP2000344740A (ja) 1999-06-02 1999-06-02 プロリノール誘導体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000344740A true JP2000344740A (ja) 2000-12-12

Family

ID=15611504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11155694A Pending JP2000344740A (ja) 1999-06-02 1999-06-02 プロリノール誘導体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000344740A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101522605B (zh) 分离4-甲酰基苯甲酸甲酯和对苯二甲酸二甲酯的方法
JP2000344740A (ja) プロリノール誘導体の製造方法
US5756724A (en) High-yielding ullmann reaction for the preparation of bipyrroles
JP2007332050A (ja) 光学活性N−tert−ブチルカルバモイル−L−tert−ロイシンの製造方法
JPH10245352A (ja) ビスクレゾール類の精製方法
JP3291987B2 (ja) O,s−ジメチル−n−アセチルホスホルアミドチオエートの精製法
JP4397990B2 (ja) 3−アルキルフラバノノール誘導体の精製法
JP4127017B2 (ja) ベンジルカルバゼート化合物の製造法
JP3182011B2 (ja) 分岐脂肪酸アミドの製造方法
JP2981323B2 (ja) 2−ビスアリールアミノ−9,9−ジアルキルフルオレンの単離方法
JPH04210660A (ja) ジベンゾイルメタンの製造法
JP3962467B2 (ja) 1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸アリールエステル類の製造方法
EP1963309B1 (en) Method for producing metal salts of losartan
WO2023100110A1 (en) Process for preparing brivaracetam
JP2001252569A (ja) 高分子固定化キラルジルコニウム触媒
JPS6317869A (ja) 2−低級アルキル−4−アミノ−5−ホルミルピリミジンの製造法
JP3804346B2 (ja) パラジウムホスフィン錯体の精製方法
JP3564179B2 (ja) 1,2−インダンジオールの製造方法
JP2000247934A (ja) 高光学純度アミノ酸ベンジルエステルの製造法
JPH09157268A (ja) 7−ヒドロキシイソフラボンの製造方法及びその精製方法
JP2002284731A (ja) p−キノン類の精製方法
JP2000319239A (ja) 高純度アスパラギン酸ジベンジルエステル・スルホン酸塩の製造法および高純度アスパラギン酸ジベンジルエステル・スルホン酸塩
JPS5993060A (ja) シトシン類の製法
JPH04128264A (ja) N‐置換マレイミドの精製方法
JPH08208587A (ja) N,o−ジアルキルヒドロキサム酸及びo−アルキルヒドロキサム酸の精製方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20040809