JP2000336063A - 新規化合物およびその医薬用途 - Google Patents
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Abstract
素原子が結合した原子又は水素結合受容基中の水素結合
受容原子を;N3は水素結合受容基中の水素結合受容原
子を;N2、N4及びN5は疎水性基を構成する任意の
炭素原子を示す」で表され、これらの原子間の距離で規
定されるファーマコフォーを構成する5つの原子のう
ち、N3に対応する原子及びN1、N2、N4又はN5
から選ばれる2つ以上の原子に対応する原子を有する化
合物であり、その最適化された立体構造においてN3に
対応する原子及びN1、N2、N4又はN5から選ばれ
る2つ以上の原子間の距離がファーマコフォーの原子間
の距離にある化合物又はその塩。 【効果】 転写因子AP−1の活性阻害作用を有する化
合物又はその塩、それらを含有するAP−1の過剰発現
が関与する疾患の予防・治療剤及びAP−1阻害剤で副
作用の少ない治療・予防剤として有用である。
Description
の活性阻害作用を有する化合物またはその塩、それらを
含有するAP−1の過剰発現が関与する疾患の予防・治
療剤、AP−1活性の阻害剤およびAP−1活性の阻害
方法に関する。
因子により調節を受けており、遺伝子情報の発現が制御
されている。すなわち、DNAからmRNAへの転写
は、その遺伝子上の数個から数十個の塩基配列を認識
し、結合する複数個のDNA結合タンパク質により制御
・調節されている。このようなDNA結合タンパク質の
一つとして知られているAP−1は、細胞の増殖の制御
に関わる重要な転写因子として同定された(バイオケミ
カ・バイオフィジカ・アクタ(Biochem.Biophys. Act
a.)、第1072巻、第129〜157頁、1991年)。その後の研
究により、AP−1は、多くの遺伝子の発現誘導および
生体現象の制御調節に広く関与することが明らかとなっ
てきた。
(5’−TGAGTCA−3’)に結合して、転写因子
としての機能を発揮する。このような配列を遺伝子上に
有するものとしては、コラゲナーゼ、ストロメリシン、
メタロチオネイン、インターロイキン−2などのタンパ
ク質;SV40、ポリオーマウイルスなどのウイルスが
知られている(セル(Cell)、第49巻、第729〜739頁、1
987年)。
関与する酵素や受容体などのタンパク質の機能を制御す
る治療薬の開発が行われてきた。しかし、細胞内や細胞
膜上に存在する機能分子の量的異常が原因である疾患に
おいては、その機能分子の活性を制することよりも、機
能分子の遺伝子の転写量を制御し、発現量を正常化する
ことが、真の意味での治療と考えられる。これら機能性
タンパク質の遺伝子発現およびそのタンパク質の産生
は、複数の転写因子により調節されている。そして、そ
の多くの遺伝子のプロモーター領域には、共通して転写
因子AP−1の結合配列が存在することから、AP−1
活性を制御することで種々疾患の有効な治療が期待され
る。
(Cell)、第62巻、第1189〜1204頁、1990年)とレチノ
イド誘導体(ネイチャー(Nature)、第372巻、第107〜
111頁、1994年)がAP−1の活性を抑制することが知ら
れている。これらの物質は、それぞれの受容体と複合体
を形成し、これがAP−1と会合することによりAP−
1の遺伝子への結合を抑制していることがその作用機構
であろうと考えられている。
イド剤は、グルココルチコイド受容体を介して遺伝子の
発現段階で調節作用を示すことが知られており、実際、
転写因子AP−1の活性を阻害し、サイトカインやその
他のタンパク質産生を抑制することが報告されている
(セル(Cell)、第62巻、第1189〜1204頁、1990年)。
その一方、ホルモン作用や副作用の点から使用が制限さ
れており、過剰に投与した場合や長期投与などでの副作
用が問題になっている。
る受容体、酵素などのタンパク質や核酸などの生体高分
子の立体構造から、合理的薬物設計により新規な薬物を
見出す手法が一般化している(新生化学実験講座第13
巻、第291〜337頁、東京化学同人、1993年)。この手法
を適用するためには、薬物の標的となる生体高分子の立
体構造が不可欠であるが、転写因子AP−1とその結合
配列の複合体の立体構造は、X線結晶解析により明らか
にされている(ネイチャー(Nature)、第373巻、257〜
261頁、1995年)。
性の阻害作用を発揮し、AP−1阻害作用に基づき、多
種多様な遺伝子の過剰発現を抑制し、かつ、副作用の少
ないAP−1の過剰発現が関与する疾患の予防・治療剤
の開発が望まれていた。
て、本発明者らは鋭意研究を行った結果、次の式2
結合した原子または水素結合受容基中の水素結合受容原
子を;N3は、水素結合受容基中の水素結合受容原子
を;N2、N4およびN5は、疎水性基を構成する任意
の炭素原子を示す。」で表され、かつ、N1およびN2
の距離が5オングストローム以上、12オングストローム
以下であり、N1およびN3の距離が9オングストロー
ム以上、15オングストローム以下であり、N1およびN
4の距離が3オングストローム以上、13オングストロー
ム以下であり、N1およびN5の距離が8オングストロ
ーム以上、16オングストローム以下であり、N2および
N3の距離が3オングストローム以上、10オングストロ
ーム以下であり、N2およびN4の距離が6オングスト
ローム以上、14オングストローム以下であり、N2およ
びN5の距離が9オングストローム以上、14オングスト
ローム以下であり、N3およびN4の距離が4オングス
トローム以上、11オングストローム以下であり、N3お
よびN5の距離が3オングストローム以上、10オングス
トローム以下であり、N4およびN5の距離が4オング
ストローム以上、9オングストローム以下であるファー
マコフォー(pharmacophore)を構成するN1、N2、
N3、N4およびN5の原子のうち、N 3に対応する原
子およびN1、N2、N4またはN5から選ばれる2つ
以上の原子に対応する原子を有する化合物であり、か
つ、その最適化された立体構造において、N3に対応す
る原子およびN1、N2、N4またはN5から選ばれる
2つ以上の原子間の距離がファーマコフォーの原子間の
距離にある化合物またはその塩が、転写因子AP−1の
阻害作用を有し、AP−1の過剰発現が関与する疾患の
予防・治療剤として有用であることを見出した。また、
上記したファーマコフォーに適合し、転写因子AP−1
の阻害作用を有し、AP−1の過剰発現が関与する疾患
の予防・治療剤として有用である具体的な化合物として
は、
酸残基を;AA4、AA 6およびAA7は、疎水性アミ
ノ酸残基を;AA5は、側鎖にカルボキシル基またはヒ
ドロキシル基を有するアミノ酸残基を;AA8は、任意
のアミノ酸残基を表す。」で表され、1番目と10番目の
システイン残基の間にジスルフィド結合を有する10残基
のペプチドまたはその塩、
ノ酸残基または結合手を;aa3は、極性アミノ酸残基
を;aa4、aa5およびaa7は、疎水性アミノ酸残
基を;aa6は、任意のアミノ酸残基;aa9は、側鎖
にカルボキシル基またはヒドロキシル基を有するアミノ
酸残基を表す。」で表され、aa0が結合手の場合、1
番目と10番目のシステイン残基の間にジスルフィド結合
を有し、aa0が任意のアミノ酸残基の場合、2番目と1
1番目のシステイン残基の間にジスルフィド結合を有す
る10または11残基のペプチドまたはその塩、
保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されていて
もよいアミノ基、メルカプト基または置換されていても
よいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリー
ル、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アシ
ル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;R3は、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基、カルバモイル基ま
たは置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シク
ロアルキル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、ア
リールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリー
ルオキシカルボニル、アルキルチオ、アルキルスルフィ
ニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルア
ミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニル
アミノもしくは複素環式基を;R4は、水素原子、シア
ノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基または置換されてい
てもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;X1は、−C(O)−、−
CH(OH)−、−CH2−、式
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、
アシルまたは複素環式−低級アルキル基を;R2 2およ
びR23は、同一または異なって水素原子、置換されて
いてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、ア
リール、アルアルキル、アシル、カルバモイル、アルキ
ルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホ
ニルまたは複素環式基を;R24およびR25は、同一
または異なって水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護さ
れていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよい
アミノ基、メルカプト基または置換されていてもよいア
ルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アル
アルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、アル
コキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルバ
モイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキ
ルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミノ、アルキ
ルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノもしく
は複素環式基を;一方が破線になった二重線は、単結合
または二重結合を意味する。」を;Wは、−Z−COR
26、−Z−COOR2、−O−CH2COOR2また
は−O−CH2CH2COOR2、「式中、Zは、−
(CH2)n−(nは、0、1、2または3を意味す
る。)、−CH2CH(CH3)−、−CH=CH−また
は−CH2CH=CH−を;R2は、水素原子またはカ
ルボキシ保護基を;R26は、−NHR27または−N
HSO2R28(R27およびR28は、各々、置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリールまたはアルアルキル基を意味する。)を意
味する。」を意味する。」で表されるベンゼン誘導体ま
たはその塩、
ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護
されていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよ
いアミノ基、メルカプト基または置換されていてもよい
アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ア
ルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、ア
ルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カル
バモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アル
キルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミノ、アル
キルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノもし
くは複素環式基を;R6は、水素原子またはカルボキシ
ル保護基を;X2は、−C(O)−を;mは、0、1ま
たは2を;A環は、式
ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護
されていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよ
いアミノ基、メルカプト基または置換されていてもよい
アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ア
ルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、ア
ルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カル
バモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アル
キルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミノ、アル
キルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノもし
くは複素環式基を;R8は、水素原子、保護されていて
もよいアミノ基または置換されていてもよいアルキル、
アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキ
ル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、アルコキシ
カルボニル、アリールオキシカルボニル、カルバモイ
ル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルス
ルホニル、アルキルアミノ、アシルアミノ、アルキルス
ルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノもしくは複
素環式基を表す。」で表される基または式
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよい
カルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル
基、保護されていてもよいアミノ基、メルカプト基また
は置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロ
アルキル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリ
ールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリール
オキシカルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、アル
キルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミ
ノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルカ
ノイルオキシ、アリールスルホニルアミノもしくは複素
環式基を表す。」で表される基を表す。」で表されるベ
ンゼン誘導体またはその塩、
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護され
ていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒ
ドロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、メルカ
プト基または置換されていてもよいアルキル、アルケニ
ル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、アルコ
キシ、アリールオキシ、アシル、アルコキシカルボニ
ル、アリールオキシカルボニル、カルバモイル、アルキ
ルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
アルキルアミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルア
ミノ、アリールスルホニルアミノもしくは複素環式基
を;X3は、−C(O)−を;B環は、式
いアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、
アルアルキル、アシル、アルコキシカルボニル、アリー
ルオキシカルボニル、カルバモイル、アルキルスルホニ
ルもしくは複素環式基を;R18は、水素原子またはカ
ルボキシル保護基を;pは、0、1または2を表す。」
で表される基を表す。」で表されるベンゼン誘導体また
はその塩、
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、メルカプト
基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、
シクロアルキル、アリール、アルアルキル、アルコキ
シ、アリールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、
アリールオキシカルボニル、カルバモイル、アルキルチ
オ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アル
キルアミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミ
ノ、アリールスルホニルアミノもしくは複素環式基を;
R3aおよびR4aは、同一または異なってハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカルボ
キシル基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護
されていてもよいアミノ基、メルカプト基または置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオ
キシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリールオキシ
カルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルス
ルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、ア
シルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスル
ホニルアミノもしくは複素環式基を;X1aは、−C
(O)−、−CH(OH)−、−CH2−、式
アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキ
ル、アシルまたは複素環式−低級アルキル基を;R
22aおよびR23aは、同一または異なって水素原
子、置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シク
ロアルキル、アリール、アルアルキル、アシル、カルバ
モイル、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
アリールスルホニルまたは複素環式基を;R24aおよ
びR25aは、同一または異なって水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカル
ボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保
護されていてもよいアミノ基、メルカプト基または置換
されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオ
キシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリールオキシ
カルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルス
ルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、ア
シルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスル
ホニルアミノもしくは複素環式基を;一方が破線になっ
た二重線は、単結合または二重結合を意味する。」を;
Waは、−Za−COR26a、−Za−COO
R2a、−O−CH2COOR2aまたは−O−CH2
CH2COOR2a「式中、Zaは、−(CH2)na−
(naは、0、1、2または3を意味する。)、−CH
2CH(CH3)−、−CH=CH−または−CH2CH
=CH−を;R2aは、水素原子またはカルボキシ保護
基を;R26aは、−NHR27aまたは−NHSO2
R28a(R27aおよびR28aは、各々、置換され
ていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、
アリールまたはアルアルキル基を意味する。)を意味す
る。」を意味する。」で表されるベンゼン誘導体または
その塩、
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基または置換されてい
てもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;R2bは、水素原子または
カルボキシル保護基を;R3bおよびR4bは、同一ま
たは異なってシアノ基、ニトロ基、保護されていてもよ
いカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル
基、保護されていてもよいアミノ基、メルカプト基また
は置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロ
アルキル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリ
ールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリール
オキシカルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、アル
キルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミ
ノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリー
ルスルホニルアミノもしくは複素環式基を;X1bは、
−C(O)−、−CH(OH)−または−CH2−を;
Zbは、−(CH2)nb−(nbは、0、1または2
を意味する)または−CH=CH−を意味する。」で表
されるベンゼン誘導体またはその塩、
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基または置換されてい
てもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;R2cは、水素原子または
カルボキシル保護基を;R3cおよびR4cは、同一ま
たは異なってハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護
されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよ
いヒドロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、メ
ルカプト基または置換されていてもよいアルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、
アリールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリ
ールオキシカルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、
アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキル
アミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ア
リールスルホニルアミノもしくは複素環式基を;X1c
は、−C(O)−、−CH(OH)−または−CH2−
を;Zcは、−(CH2)nc−(ncは、0、1また
は2を意味する)または−CH=CH−を意味する。」
で表されるベンゼン誘導体またはその塩、
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基または置換されてい
てもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;R2dは、水素原子または
カルボキシル保護基を;R3dは、水素原子または置換
されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリールもしくはアルアルキル基を;R4dは、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、置換されていてもよいアルキ
ル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアル
キル、アシル、アルコキシカルボニル、アリールオキシ
カルボニル、アルキルスルホニル、アルキルスルホニル
アミノもしくはアリールスルホニルアミノ基を;X1d
は、−C(O)−、−CH(OH)−または−CH2−
を;Zdは、−(CH2)nd−(ndは、0、1また
は2を意味する)または−CH=CH−を意味する。」
で表されるベンゼン誘導体またはその塩、
または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキル、アシル、アル
コキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキ
ルスルホニルアミノもしくはアリールスルホニルアミノ
基を;R1eは、置換されていてもよいアルキル、アル
ケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ルまたはアルキルスルホニル基を;R2eは、水素原子
またはカルボキシル保護基を;R3eおよびR4eは、
同一または異なって水素原子、ハロゲン原子、保護され
ていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよいア
ミノ基、メルカプト基または置換されていてもよいアル
キル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルア
ルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、
アルキルアミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルア
ミノ、アリールスルホニルアミノもしくは複素環式基
を;X1eは、−C(O)−、−CH(OH)−または
−CH2−を;Zeは、−(CH2)ne−(neは、
0、1または2を意味する)または−CH=CH−を意
味する。」で表されるベンゼン誘導体またはその塩、
いヒドロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、メ
ルカプト基または置換されていてもよいアルキル、アル
ケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、ア
ルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アルキルア
ミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリ
ールスルホニルアミノもしくは複素環式基を;R
2fは、水素原子またはカルボキシル保護基を;R3f
およびR4fは、同一または異なって水素原子または置
換されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアル
キル、アリールもしくはアルアルキル基を;X1fは、
−C(O)−、−CH(OH)−または−CH2−を;
Zfは、−(CH2)nf−(nfは、1または2を意
味する)または−CH=CH−を意味する。」で表され
るベンゼン誘導体またはその塩、
護されていてもよいヒドロキシル基または置換されてい
てもよいアルコキシ基を;X1gは、−C(O)−、−C
H(OH)−または−CH2−を;Zgは、−(CH2)n
g−(ngは、1または2を意味する。)を;R2gは、
水素原子またはカルボキシル保護基を意味する。」で表
されるベンゼン誘導体またはその塩並びにそれらを含有
する剤が、転写因子AP−1の阻害作用を有し、AP−
1の過剰発現が関与する疾患の予防・治療剤として有用
であることを見出し、本発明を完成するに至った。
DNA結合部位を含む部分構造とその結合配列(5’−
TGAGTCA−3’を含むオリゴヌクレオチド)の複
合体の立体構造(ネイチャー(Nature)第373巻、257〜
261頁、1995年)から、分子設計ソフト:シビル(SY
BYL:米国トライポス(TRIPOS)社)を使用し
て複合体中のAP−1の立体構造のみを取り出し、これ
を基にAP−1と結合し、AP−1結合配列に拮抗する
化合物について探索を行った。その結果、ペプチド
を有することを見出した。
a]とAP−1のDNA結合部位を含む部分構造との複
合体の立体構造を作成し、その立体構造を初期構造とし
た分子動力学計算プログラム:アンバー(AMBER:
英国オックスフォード・モレキュラー社(Oxford Molec
ular))を使用した分子動力学シミュレーション(タン
パク質工学の物理・化学的基礎、共立出版、第192頁、1
991年)を実施し、水中におけるAP−1と環状ペプチ
ド[2a]の複合体の複数の立体構造を得た。一方、ペ
プチド[2a]の核磁気共鳴(NMR)スペクトル測定
を実施し、その結果を構造解析ソフト:エックスプロア
(X−PLOR:米国MSI社)で処理し、複数の水中
におけるペプチド[2a]の立体構造を実験的に得た。
(新生化学実験講座I、タンパク質III、第139〜147
頁、1990年(東京化学同人))
子動力学シミュレーションから得られた複合体中の環状
ペプチド[2a]の立体構造を比較した結果、実験的に
得られた立体構造のうち11個と、分子動力学シミュレー
ションから得られた立体構造のうち14個がGln-Leu-Asp-
Leu-Alaの部分立体構造に高い共通性を有することを見
出し、式3
結合した原子または水素結合受容基中の水素結合受容原
子を;N3は、水素結合受容基中の水素結合受容原子
を;N2、N4およびN5は、疎水性基を構成する任意
の炭素原子を示す」で表されるN1、N2、N3、N4
およびN5の5原子が、AP−1と結合し、AP−1結
合配列に拮抗する作用発現に必要なファーマコフォー
(創薬化学、化学同人、第11〜13頁、1995年)を構成す
ることを特定した。さらに、これらの計25個の立体構造
におけるAP−1と結合し、AP−1結合配列に拮抗す
る作用発現に必要なファーマコフォーを構成するN1、
N2、N3、N4およびN5のそれぞれから選ばれる5
原子間の距離を測定した。すなわち、N1としては、ア
ミド基の窒素原子または酸素原子を、N2としては、イ
ソブチル基の4つの炭素原子を、N3としては、カルボ
キシル基の2つの酸素原子を、N4としては、イソブチ
ル基の4つの炭素原子を、N5としては、メチル基の炭
素原子をそれぞれ考慮し、可能な5原子の組み合わせ全
てについて距離を測定した結果、
結合した原子または水素結合受容基中の水素結合受容原
子を;N3は、水素結合受容基中の水素結合受容原子
を;N2、N4およびN5は、疎水性基を構成する任意
の炭素原子を示す。」で表され、かつ、N1およびN2
の距離が5オングストローム以上、12オングストローム
以下であり、N1およびN3の距離が9オングストロー
ム以上、15オングストローム以下であり、N1およびN
4の距離が3オングストローム以上、13オングストロー
ム以下であり、N1およびN5の距離が8オングストロ
ーム以上、16オングストローム以下であり、N2および
N3の距離が3オングストローム以上、10オングストロ
ーム以下であり、N2およびN4の距離が6オングスト
ローム以上、14オングストローム以下であり、N2およ
びN5の距離が9オングストローム以上、14オングスト
ローム以下であり、N3およびN4の距離が4オングス
トローム以上、11オングストローム以下であり、N3お
よびN5の距離が3オングストローム以上、10オングス
トローム以下であり、N4およびN5の距離が4オング
ストローム以上、9オングストローム以下であることが
AP−1と結合し、AP−1結合配列に拮抗する作用発
現に必要であることを見出し、ファーマコフォーモデル
を完成した。
する化合物を鋭意探索した結果、AP−1と結合し、A
P−1結合配列に拮抗する作用を有する非ペプチド性化
合物を見出すに至り、式5
結合した原子または水素結合受容基中の水素結合受容原
子を;N3は、水素結合受容基中の水素結合受容原子
を;N2、N4およびN5は、疎水性基を構成する任意
の炭素原子を示す。」で表され、かつ、N1およびN2
の距離が5オングストローム以上、12オングストローム
以下であり、N1およびN3の距離が9オングストロー
ム以上、15オングストローム以下であり、N1およびN
4の距離が3オングストローム以上、13オングストロー
ム以下であり、N1およびN5の距離が8オングストロ
ーム以上、16オングストローム以下であり、N2および
N3の距離が3オングストローム以上、10オングストロ
ーム以下であり、N2およびN4の距離が6オングスト
ローム以上、14オングストローム以下であり、N2およ
びN5の距離が9オングストローム以上、14オングスト
ローム以下であり、N3およびN4の距離が4オングス
トローム以上、11オングストローム以下であり、N3お
よびN5の距離が3オングストローム以上、10オングス
トローム以下であり、N4およびN5の距離が4オング
ストローム以上、9オングストローム以下であるファー
マコフォーを構成するN1、N2、N3、N4およびN
5の原子のうち、N3に対応する原子およびN1、
N2、N4またはN5から選ばれる2つ以上の原子に対
応する原子を有する化合物であり、かつ、その最適化さ
れた立体構造において、N3に対応する原子および
N1、N2、N4またはN5から選ばれる2つ以上の原
子に対応する原子間の距離がファーマコフォーの原子間
の距離に一致する化合物またはその塩が、転写因子AP
−1の活性を阻害することおよびAP−1の過剰発現が
関与する疾患の予防・治療剤として有用であることを見
出した。
活性を阻害する。すなわち、AP−1のDNA上のAP
−1認識配列への結合を拮抗的に阻害することにより、
AP−1が関与するDNAの転写を抑制する。これによ
りAP−1結合部位を有する遺伝子による当該遺伝子に
対応するタンパク質の発現を減ずることが可能である。
従って、本発明化合物は、コラゲナーゼ、ストロメリシ
ンおよびゼラチナーゼなどの組織破壊性酵素;インター
ロイキン−1、インターロイキン−2、インターロイキ
ン−3、インターロイキン−6、インターロイキン−
8、TNFα、顆粒球−マクロファージコロニー因子(G
M−CSF)および単球走化性因子(MCP−1)など
のサイトカイン類;インターロイキン−2受容体、免疫
グロブリン、主要組織適合抗原系(MHC)クラスI
I、血管細胞接着因子(VCAM−1)および線維芽細
胞成長因子(FGF)レセプターなどの細胞表面分子
群;単球増殖因子、インシュリン関連増殖因子(IG
F)および神経成長因子(NGF)などの増殖因子群;
メタロチオネイン、コラーゲン、オステオカルシン、ア
ミロイド前駆タンパクおよびアポリポタンパク−1など
のタンパク質;並びにSV40およびポリオーマウイル
スなどのウイルスの遺伝子発現を抑制することにより、
これらが関連する疾患を予防および治療することができ
る。
たとえば、慢性関節リウマチ、全身性エリテマトーデ
ス、強皮症、ベーチェット病、リウマチ熱、多発性筋
炎、結節性動脈周囲炎、シェーグレン症候群、活動性慢
性肝炎および糸球体腎炎をはじめとする各種自己免疫疾
患;変形性関節炎、痛風、アテローム硬化症、乾癬、ア
トピー性皮膚炎、肉芽腫を伴う肺疾患、各種脳炎などの
炎症状態が基本になっている各種難治性疾患、間質性肺
炎などの肉芽腫をともなう肺疾患;エンドトキシンショ
ック;敗血症;炎症性大腸炎;糖尿病;急性骨髄芽球性
白血病;脳脊髄炎;急性肝炎;慢性肝炎;薬物中毒性肝
障害;アルコール性肝炎;ウイルス性肝炎;黄疸;肝硬
変;肝不全;心房粘液腫;キャッスルマン症候群;多発
性骨髄腫;癌;癌の転移;エイズ;てんかん;虚血性心
疾患;血管内皮細胞増殖性疾患(動脈硬化症);アルツハ
イマー病並びに虚血・神経細胞死などが挙げられ、これ
らの治療および予防に効果を示すことが期待される。
明細書において、特にことわらない限り、ハロゲン原子
とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原
子を;アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、n-
プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキ
シル、ヘプチルおよびオクチルなどの直鎖状もしくは分
枝鎖状のC1−12アルキル基を;低級アルキル基と
は、たとえば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロ
ピル、n-ブチル、sec-ブチル、イソブチル、tert−ブチ
ル、ペンチルおよびイソペンチルなどの直鎖状もしくは
分枝鎖状のC1−6アルキル基を;ハロゲノ低級アルキ
ル基とは、たとえば、フルオロメチル、クロロメチル、
ブロモメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、
トリクロロメチル、クロロエチル、ジクロロエチル、ト
リクロロエチルおよびクロロプロピルなどの直鎖状もし
くは分枝鎖状のハロゲノ−C1−6アルキル基を;低級
アルコキシ低級アルキル基とは、たとえば、メトキシメ
チル、エトキシメチル、n-プロポキシメチル、メトキシ
エチルおよびエトキシエチルなどの直鎖状もしくは分枝
鎖状のC1−6アルコキシ−C1−6アルキル基を;ヒ
ドロキシ低級アルキル基とは、たとえば、ヒドロキシメ
チル、ヒドロキシエチルおよびヒドロキシプロピルなど
の直鎖状もしくは分枝鎖状のヒドロキシ−C1−6アル
キル基を;アミノ低級アルキル基とは、たとえば、アミ
ノメチル、アミノエチルおよびアミノプロピルなどのア
ミノ−C1−6アルキル基を;
リル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブ
テニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニルおよびオ
クテニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC2−12ア
ルケニル基を;低級アルケニル基とは、たとえば、ビニ
ル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、
イソブテニルおよびペンテニルなどの直鎖状および分枝
鎖状のC2−6アルケニル基を;シクロアルキル基と
は、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチルもしくはシクロヘキシルなどのC3−6シクロ
アルキル基を;アル低級アルキル基とは、たとえば、ベ
ンジル、ジフェニルメチル、トリチルおよびフェネチル
基などのアルC1−6アルキル基を;
リルおよびナフチルなどの基を;アルアルキル基とは、
たとえば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、フ
ェネチル、4−メチルベンジルおよびナフチルメチルな
どのアルC1−12アルキル基を;アリールオキシ基と
は、たとえば、フェノキシおよびナフトキシなどの基
を;アリールオキシカルボニル基とは、たとえば、フェ
ノキシカルボニルおよびナフトキシカルボニルなどの基
を;
エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキ
シ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペ
ンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、
ヘプチルオキシおよびオクチルオキシなどの直鎖状もし
くは分枝鎖状のC1−12アルコキシ基を;低級アルコ
キシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、n−プロ
ポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキ
シ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ
およびイソペンチルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖
状のC1−6アルコキシ基を;アルコキシカルボニル基
とは、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、n−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、n−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカル
ボニルおよびペンチルオキシカルボニルなどの直鎖状も
しくは分枝鎖状のC1−12アルコキシカルボニル基
を;低級アルコキシカルボニル基とは、たとえば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニルおよびプロポキシ
カルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1−6ア
ルキルオキシカルボニル基を;
とは、たとえば、メトキシカルボニルメチル、エトキシ
カルボニルメチル、n-プロポキシカルボニルメチル、メ
トキシカルボニルエチルおよびエトキシカルボニルエチ
ルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1−6アルコキシ
カルボニル−C1−6アルキル基を;低級アルコキシイ
ミノ基とは、たとえば、メトキシイミノおよびエトキシ
イミノなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1−6アルコ
キシイミノ基を;アルキルアミノ基とは、たとえば、メ
チルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルア
ミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ヘプチルアミ
ノおよびオクチルアミノなどの直鎖状もしくは分枝鎖状
のC1−12アルキルアミノ基を;低級アルキルアミノ
基とは、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロ
ピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよびメ
チルエチルアミノなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のモノ
またはジ−C1−6アルキルアミノ基を;低級アルキル
アミノ低級アルキル基とは、たとえば、メチルアミノメ
チル、メチルアミノエチル、エチルアミノメチル、メチ
ルアミノプロピル、プロピルアミノエチル、ジメチルア
ミノメチル、ジエチルアミノメチル、ジエチルアミノエ
チルおよびジメチルアミノプロピルなどのモノまたはジ
−C1−6アルキルアミノ−C1−6アルキル基を;低
級アルキリデン基とは、たとえば、メチレン、エチリデ
ン、プロピリデンおよびイソプロピリデンなどのC
1−6アルキリデン基を;
セチル、イソバレリルもしくはプロピオニルなどの直鎖
状または分枝鎖状のC2−12アルカノイル基、ベンジ
ルカルボニルなどのアルアルキルカルボニル基、ベンゾ
イルもしくはナフトイルなどのアロイル基およびニコチ
ノイル、テノイル、ピロリジノカルボニルもしくはフロ
イル基などの複素環カルボニル基などのアシル基を;ア
シルアミノ基とは、たとえば、ホルミルアミノ、アセチ
ルアミノ、プロピオニルアミノおよびブチリルアミノな
どのようなC1−6アシルアミノ基を;アルカノイルオ
キシ基とは、アセチルオキシおよびプロピオニルオキシ
などのC2−12アルカノイルオキシ基を;
アミノおよび不飽和の環状アミノ基のいずれでもよく、
また当該環内にさらに1つまたはそれ以上の窒素原子、
酸素原子、硫黄原子などの異種原子およびカルボニル炭
素を含んでいてもよく、さらに単環であっても2〜3環
性であってもよく、さらに具体的には、アジリジン−1
−イル、アゼチジン−1−イル、ピロリジン−1−イ
ル、ピロリン−1−イル、ピロール−1−イル、ジヒド
ロピリジン−1−イル、ピペリジノ、ジヒドロアゼピン
−1−イルおよびペルヒドロアゼピン−1−イルなどの
窒素原子1個を有する飽和または不飽和の単環式3〜7
員の環状アミノ基;イミダゾール−1−イル、イミダゾ
リジン−1−イル、イミダゾリン−1−イル、ピラゾリ
ジン−1−イル、ピペラジン−1−イル、1,4−ジヒ
ドロピラジン−1−イル、1,2−ジヒドロピリミジン
−1−イル、ペルヒドロピラジン−1−イルおよびホモ
ピペラジン−1−イルなどの窒素原子2個を有する飽和
または不飽和の単環式3〜7員の環状アミノ基;1,2,
4−トリアゾール−1−イル、1,2,3−トリアゾール
−1−イル、1,2−ジヒドロ−1,2,4−トリアジン
−1−イルおよびペルヒドロ−S−トリアジン−1−イ
ルなどの窒素原子3個以上を有する飽和または不飽和の
単環式3〜7員の環状アミノ基;オキサゾリジン−3−
イル、イソオキサゾリジン−2−イル、モルホリノ、チ
アゾリジン−3−イル、イソチアゾリジン−2−イル、
チオモルホリノ、ホモチオモルホリン−4−イルおよび
1,2,4−チアジアゾリン−2−イルなどの窒素原子以
外に酸素原子および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子1
〜4個を有する飽和または不飽和の単環式3〜7員の環
状アミノ基;イソインドリン−2−イル、インドリン−
1−イル、1H−インダゾール−1−イル、プリン−7
−イルおよびテトラヒドロキノリン−1−イルなどの飽
和または不飽和の2〜3環性の環状アミノ基;並びに5
−アザスピロ[2.4]ヘプタン−5−イル、2,8−ジ
アザビシクロ[4.3.0]ノナン−8−イル、3−アザ
ビシクロ[3.1.0]ヘキサン−3−イル、2−オキサ
−5,8−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン−8−イ
ル、2,8−ジアザスピロ[4.4]ノナン−2−イルお
よび7−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−7−イル
などのスピロ式または架橋式の飽和または不飽和の5〜
12員の環状アミノ基を;
オ、エチルチオ、n-プロピルチオ、イソプロピルチオ、
n-ブチルチオ、イソブチルチオ、sec-ブチルチオ、tert
-ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ヘキ
シルチオ、ヘプチルチオおよびオクチルチオなどの直鎖
状または分枝鎖状のC1−12アルキルチオ基を;低級
アルキルチオ基とは、たとえば、メチルチオ、エチルチ
オ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチル
チオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−ブチ
ルチオ、ペンチルチオおよびイソペンチルチオなどの直
鎖状もしくは分枝鎖状のC1−6アルキルチオ基を;ア
ルキルスルフィニル基とは、たとえば、メチルスルフィ
ニル、エチルスルフィニル、n-プロピルスルフィニル、
イソプロピルスルフィニル、n-ブチルスルフィニル、イ
ソブチルスルフィニル、sec-ブチルスルフィニル、tert
-ブチルスルフィニル、ペンチルスルフィニル、イソペ
ンチルスルフィニル、ヘキシルスルフィニル、ヘプチル
スルフィニルおよびオクチルスルフィニルなどの直鎖状
または分枝鎖状のC1−12アルキルスルフィニル基
を;アルキルスルホニル基とは、たとえば、メチルスル
ホニル、エチルスルホニル、n-プロピルスルホニル、イ
ソプロピルスルホニル、n-ブチルスルホニル、イソブチ
ルスルホニル、sec-ブチルスルホニル、tert-ブチルス
ルホニル、ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニ
ル、ヘキシルスルホニル、ヘプチルスルホニルおよびオ
クチルスルホニルなどの直鎖状または分枝鎖状のC
1−12アルキルスルホニル基を;アルキルスルホニル
アミノ基とは、たとえば、メチルスルホニルアミノ、エ
チルスルホニルアミノ、n−プロピルスルホニルアミ
ノ、イソプロピルスルホニルアミノ、n−ブチルスルホ
ニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、sec−ブチ
ルスルホニルアミノ、tert−ブチルスルホニルアミノ、
ペンチルスルホニルアミノ、イソペンチルスルホニルア
ミノ、ヘキシルスルホニルアミノ、ヘプチルスルホニル
アミノおよびオクチルスルホニルアミノなどの直鎖状ま
たは分枝鎖状のC1−12アルキルスルホニルアミノ基
を;アリールスルホニルアミノ基とは、たとえば、フェ
ニルスルホニルアミノおよびナフチルスルホニルアミノ
などのアリール−SO2NH−基を;
ニルメチル、ピペリジルメチル、ピペラジニルメチル、
ピラゾリルメチル、テトラヒドロピリジルメチル、モル
ホリニルメチル、チオモルホリニルメチル、テトラヒド
ロキノリニルメチル、テトラヒドロイソキノリニルメチ
ル、キヌクリジニルメチル、テトラゾリルメチル、チア
ジアゾリルメチル、ピラゾリジニルメチル、プリニルメ
チル、インダゾリルメチル、2−チエニルメチル、2−
フルフリルメチル、2−ピラニルメチル、1−イソベン
ゾフリルメチル、2−ピロリルメチル、1−イミダゾリ
ルメチル、1−ピラゾリルメチル、3−イソチアゾリル
メチル、3−イソキサゾリルメチル、2−ピリジルメチ
ル、2−ピラジニルメチル、2−ピリミジニルメチル、
2−ピリダジニルメチル、1−イソインドリルメチル、
2−インドリルメチル、1−イソキノリルメチル、2−
キノリルメチル、1−フタラジニルメチル、2−ナフチ
リジニルメチル、2−キノキサリニルメチル、2−キナ
ゾリニルメチル、3−シノリニルメチル、2−オキサゾ
リルメチル、2−チアゾリルメチル、2−ベンゾ[b]
フリルメチル、2−ベンゾ[b]チエニルメチル、2−
ベンズ[d]イミダゾリルメチル、2−ベンズ[d]オ
キサゾリルメチルなどの複素環式−CH2−基などを意
味する。
ル、ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、イミダ
ゾリル、ピラゾリル、ピリジル、テトラヒドロピリジ
ル、ピリミジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、
キノリル、キノリジニル、テトラヒドロキノリニル、テ
トラヒドロイソキノリニル、キヌクリジニル、チアゾリ
ル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピロリニル、イミ
ダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾ
リジニル、プリニルおよびインダゾリル基などの該環を
形成する異項原子として1つ以上の窒素原子を含み、さ
らに1つ以上の酸素原子または硫黄原子を含んでいても
よい5員もしくは6員環、縮合環または架橋環の複素環
式基を;複素環式基とは、上記した含窒素複素環式基並
びにたとえば、フリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピ
ラニル、イソベンゾフラニル、オキサゾリル、ベンゾフ
ラニル、インドリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキ
サゾリル、ベンゾチアゾリル、キノキサリル、ジヒドロ
キノキサリニル、2,3−ジヒドロベンゾチエニル、2,
3−ジヒドロベンゾピロリル、2,3−ジヒドロ−4H
−1−チアナフチル、2,3−ジヒドロベンゾフラニ
ル、ベンゾ[b]ジオキサニル、イミダゾ[2,3−
a]ピリジル、ベンゾ[b]ピペラジニル、クロメニ
ル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、チアジアゾリ
ル、オキサジアゾリル、ピリダジニル、イソインドリル
およびイソキノリル基などの該環を形成する異項原子と
して1つ以上の酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいて
もよい、窒素、酸素もしくは硫黄原子から選ばれる少な
くとも1つ以上の異項原子を含有する5員もしくは6員
環、縮合環または架橋環の複素環式基をそれぞれ意味す
る。
カルボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を
含み、たとえば、メチル、エチル、n-プロピル、iso-プ
ロピル、1,1−ジメチルプロピル、n-ブチルおよびter
t-ブチルなどのアルキル基;フェニルおよびナフチルな
どのアリール基;ベンジル、ジフェニルメチル、トリチ
ル、p-ニトロベンジル、p-メトキシベンジルおよびビス
(p-メトキシフェニル)メチルなどのアルアルキル基;
アセチルメチル、ベンゾイルメチル、p-ニトロベンゾイ
ルメチル、p-ブロモベンゾイルメチルおよびp-メタンス
ルホニルベンゾイルメチルなどのアシル−アルキル基;
2−テトラヒドロピラニルおよび2−テトラヒドロフラ
ニルなどの含酸素複素環式基;2,2,2−トリクロロエ
チルなどのハロゲノ−アルキル基;2−(トリメチルシ
リル)エチルなどのアルキルシリルアルキル基;アセト
キシメチル、プロピオニルオキシメチルおよびピバロイ
ルオキシメチルなどのアシルオキシアルキル基;フタル
イミドメチルおよびスクシンイミドメチルなどの含窒素
複素環式−アルキル基;シクロヘキシルなどのシクロア
ルキル基;メトキシメチル、メトキシエトキシメチルお
よび2−(トリメチルシリル)エトキシメチルなどのア
ルコキシ−アルキル基;ベンジルオキシメチルなどのア
ル−アルコキシ−アルキル基;メチルチオメチルおよび
2−メチルチオエチルなどのアルキルチオ−アルキル
基;フェニルチオメチルなどのアリールチオ−アルキル
基;1,1−ジメチル−2−プロペニル、3−メチル−
3−ブテニルおよびアリルなどのアルケニル基;並びに
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピ
ルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、tert-ブチル
ジメチルシリル、tert-ブチルジフェニルシリル、ジフ
ェニルメチルシリルおよびtert-ブチルメトキシフェニ
ルシリルなどの置換シリル基などが挙げられる。
保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、
トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、p-ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、o-ブロモベンジルオキシカルボニ
ル、(モノ−、ジ−、トリ−)クロロアセチル、トリフ
ルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミル、アセチ
ル、ベンゾイル、tert-アミルオキシカルボニル、tert-
ブトキシカルボニル、p-メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
4−(フェニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、2−
フルフリルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカル
ボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、フタロイル、スクシニル、アラ
ニル、ロイシル、1−アダマンチルオキシカルボニルお
よび8−キノリルオキシカルボニルなどのアシル基;ベ
ンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなどのアルア
ルキル基;2−ニトロフェニルチオおよび2,4−ジニ
トロフェニルチオなどのアリールチオ基;メタンスルホ
ニルおよびp-トルエンスルホニルなどのアルキル−もし
くはアリール−スルホニル基;N,N−ジメチルアミノ
メチレンなどのジアルキルアミノ−アルキリデン基;ベ
ンジリデン、2−ヒドロキシベンジリデン、2−ヒドロ
キシ−5−クロロベンジリデンおよび2−ヒドロキシ−
1−ナフチルメチレンなどのアルアルキリデン基;3−
ヒドロキシ−4−ピリジルメチレンなどの含窒素複素環
式アルキリデン基;シクロヘキシリデン、2−エトキシ
カルボニルシクロヘキシリデン、2−エトキシカルボニ
ルシクロペンチリデン、2−アセチルシクロヘキシリデ
ンおよび3,3−ジメチル−5−オキシシクロヘキシリ
デンなどのシクロアルキリデン基;ジフェニルホスホリ
ルおよびジベンジルホスホリルなどのジアリール−もし
くはジアルアルキルホスホリル基;5−メチル−2−オ
キソ−2H−1,3−ジオキソール−4−イル−メチル
などの含酸素複素環式アルキル基;並びにトリメチルシ
リルなどの置換シリル基などが挙げられる。
ヒドロキシル保護基として使用し得るすべての基を含
み、たとえば、ベンジルオキシカルボニル、4−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル、4−ブロモベンジルオキシ
カルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、
3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカ
ルボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニ
ル、ジフェニルメトキシカルボニル、2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニル、2,2,2−トリブロモエトキ
シカルボニル、2−(トリメチルシリル)エトキシカル
ボニル、2−(フェニルスルホニル)エトキシカルボニ
ル、2−(トリフェニルホスホニオ)エトキシカルボニ
ル、2−フルフリルオキシカルボニル、1−アダマンチ
ルオキシカルボニル、ビニルオキシカルボニル、アリル
オキシカルボニル、S−ベンジルチオカルボニル、4−
エトキシ−1−ナフチルオキシカルボニル、8−キノリ
ルオキシカルボニル、アセチル、ホルミル、クロロアセ
チル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフ
ルオロアセチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチ
ル、ピバロイルおよびベンゾイルなどのアシル基;メチ
ル、tert-ブチル、2,2,2−トリクロロエチルおよび
2−トリメチルシリルエチルなどのアルキル基;アリル
などのアルケニル基;ベンジル、p-メトキシベンジル、
3,4−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルおよび
トリチルなどのアルアルキル基;テトラヒドロフリル、
テトラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチオピラニル
などの含酸素および含硫黄複素環式基;メトキシメチ
ル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、2−メ
トキシエトキシメチル、2,2,2−トリクロロエトキシ
メチル、2−(トリメチルシリル)エトキシメチルおよ
び1−エトキシエチルなどのアルコキシ−アルキル基;
メタンスルホニルおよびp-トルエンスルホニルなどのア
ルキル−およびアリール−スルホニル基;並びにトリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリ
ル、ジエチルイソプロピルシリル、tert-ブチルジメチ
ルシリル、tert-ブチルジフェニルシリル、ジフェニル
メチルシリルおよびtert-ブチルメトキシフェニルシリ
ルなどの置換シリル基などが挙げられる。
ってペプチド結合を形成し、タンパク質やペプチドに組
み込まれた時の−NHCHRCO−部分(Rは、アミノ
酸側鎖を示す。)を意味する。ここで、アミノ酸とは、
特段に定義しない限りL−アミノ酸およびD−アミノ酸
を意味し、たとえば、グリシン、アラニン、バリン、ロ
イシン、イソロイシン、セリン、スレオニン、アスパラ
ギン、アスパラギン酸、グルタミン、グルタミン酸、リ
ジン、アルギニン、ヒスチジン、メチオニン、チロシ
ン、フェニルアラニン、トリプトファン、プロリン、シ
ステイン、ホモシステイン、β−アラニン、γ−アミノ
酪酸、オルニチンおよび3,4−ジヒドロキシフェニル
アラニンなどの同一分子内にカルボキシル基およびアミ
ノ基を有する化合物を意味する。また、アミノ酸および
アミノ酸残基は、IUPACおよびIUBの定める3文
字表記を使用する。
ン、グルタミン、アスパラギン酸、グルタミン酸、セリ
ン、スレオニン、チロシン、リジン、アルギニン、ヒス
チジン、シトルリン、ホモシトルリン、ホモセリン、ヒ
ドロキシプロリン、β−ヒドロキシバリンおよびオルニ
チンなどのアミノ酸が挙げられる。
ン、イソロイシン、バリン、アラニン、グリシン、メチ
オニン、プロリン、フェニルアラニン、トリプトファ
ン、ノルロイシン、ノルバリン、γ−アミノ酪酸および
β−シクロヘキシルアラニンなどのアミノ酸が挙げられ
る。
物、一般式[2]、[2b]、[3]、[4]、
[5]、[a]、[b]、[c]、[d]、[e]、
[f]および[g]の化合物またはその塩における化合
物の塩としては、通常知られているアミノ基などの塩基
性基またはヒドロキシルもしくはカルボキシル基などの
酸性基における塩を挙げることができる。塩基性基にお
ける塩としては、たとえば、塩酸、臭化水素酸および硫
酸などの鉱酸との塩;酒石酸、ギ酸、クエン酸、トリク
ロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸
との塩;並びにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸およ
びナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩を、ま
た、酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウム
およびカリウムなどのアルカリ金属との塩;カルシウム
およびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩;ア
ンモニウム塩;並びにトリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチル
アニリン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリ
ン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカ
イン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β−フェネチ
ルアミンおよびN,N'−ジベンジルエチレンジアミンな
どの含窒素有機塩基との塩などを挙げることができる。
さらに、上記、塩の中で式1のファーマコフォーに適合
する化合物、[2]、[2b]、[3]、[4]、
[5]、[a]、[b]、[c]、[d]、[e]、
[f]および[g]の化合物の好ましい塩としては、薬
理学的に許容される塩が挙げられる。
た原子とは、1つ以上の水素原子が結合している置換さ
れていてもよいアミノ、アンモニウム、アミド、チオア
ミド、ウレイド、イソウレイド、アミジノ、グアニジ
ノ、チオウレイド、ヒドラジノもしくはヒドラゾノ基の
窒素原子、水素原子が結合しているエテニル基の炭素原
子、水素原子が結合しているイミノ基の窒素原子、ヒド
ロキシル基の酸素原子または置換されていてもよい含窒
素複素環式基の水素原子が結合している窒素原子などが
挙げられる。
は、非共有電子対を有する原子であればよく、たとえ
ば、カルボニル基の酸素原子、チオカルボニル基の硫黄
原子、置換されていてもよいイミノ基の窒素原子、スル
ホン基の酸素原子、スルホニル基の酸素原子、スルフィ
ニル基の酸素原子、スルホニルオキシ基の酸素原子、カ
ルボキシル基の酸素原子、エーテルの酸素原子、チオエ
ーテルの硫黄原子、ヒドロキシル基の酸素原子、エステ
ルの酸素原子、置換されていてもよい含窒素複素環式基
の水素原子が結合していない窒素原子、スルホンアミド
基の窒素原子またはアシルスルホンアミド基の窒素原子
などが挙げられる。
アルキル基の炭素原子、アルケニル基の炭素原子、アリ
ール基の炭素原子およびアルコキシ基の炭素原子などが
挙げられ、好ましくは、分枝鎖状のアルキル基の炭素原
子、アルケニル基の炭素原子およびアルコキシ基の炭素
原子が挙げられる。
(SYBYL;米国トライポス(TRIPOS)社)な
どの計算化学プログラムにより、通常の構造最適化計算
(計算化学入門、講談社、第55頁、1994年)で求められ
るエネルギー極小構造を示す。
R3a、R3b、R4、R4a、R 4b、R5、R7、
R8、R9、R10、R15、R16、R24、R
24a、R25およびR25aにおけるアルキル、アル
ケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、ア
ルコキシ、アリールオキシ、アシル、アルコキシカルボ
ニル、アリールオキシカルボニル、カルバモイル、アル
キルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニ
ル、アルキルアミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニ
ルアミノ、アリールスルホニルアミノまたは複素環式
基;R1f、R3eおよびR4eにおけるアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、
アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アルキル
アミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ア
リールスルホニルアミノまたは複素環式基;;R0eに
おけるアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリー
ル、アルアルキル、アシル、アルコキシカルボニル、ア
リールオキシカルボニル、アルキルスルホニルアミノま
たはアリールスルホニルアミノ基;R1eにおけるアル
キル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルア
ルキル、アシル、アルコキシカルボニル、アリールオキ
シカルボニルまたはアルキルスルホニル基;R1gおよ
びR4gにおけるアルコキシ基;R3におけるアルキ
ル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアル
キル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、アルコキ
シカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルチ
オ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アル
キルアミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミ
ノ、アリールスルホニルアミノまたは複素環式基;R
3cおよびR4 cにおけるアルケニル、シクロアルキ
ル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオ
キシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリールオキシ
カルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルス
ルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、ア
シルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスル
ホニルアミノまたは複素環式基;R3d、R3fおよび
R4fにおけるアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリールまたはアルアルキル基;R4dにおけるア
ルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アル
アルキル、アシル、アルコキシカルボニル、アリールオ
キシカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルスルホ
ニルアミノまたはアリールスルホニルアミノ基;R17
におけるアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキル、アシル、アルコキシカルボニル、
アリールオキシカルボニル、カルバモイル、アルキルス
ルホニルまたは複素環式基;R21およびR21aにお
けるアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリー
ル、アルアルキル、アシルまたは複素環式−低級アルキ
ル基;R21a’におけるアルキル、アルアルキルまた
は複素環式−低級アルキル基を;R22、R22a、R
23およびR23aにおけるアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキル、アシル、カル
バモイル、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニ
ル、アリールスルホニルまたは複素環式基;R24 a’
およびR25a’おけるアルキル、アルコキシカルボニ
ル、アリールオキシカルボニルまたはカルバモイル基;
R27、R27a、R28およびR28aにおけるアル
キル、アルケニル、シクロアルキル、アリールまたはア
ルアルキル基;並びにR28’およびR28a’におけ
るアルキル基は、さらに、ハロゲン原子および以下の置
換基から選ばれる1つ以上の基で置換されていてもよ
い。 置換基:シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカ
ルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル基、
保護されていてもよいアミノ基、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル
基、アリール基、シクロアルキル基、低級アルケニル
基、アルアルキル基、低級アルキリデン基、メルカプト
基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、低
級アルコキシ低級アルキル基、保護されていてもよいヒ
ドロキシ低級アルキル基、保護されていてもよいアミノ
低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキ
ル基、保護されていてもよい環状アミノ基、保護されて
いてもよい低級アルキルアミノ基、低級アルコキシイミ
ノ基および保護されていてもよい低級アルキルアミノ低
級アルキル基。
る化合物のうち、ファーマコフォーを構成する各原子間
の距離が、N1およびN2の距離が5.09オングストロー
ム以上かつ11.67オングストローム以下であり、N1お
よびN3の距離が9.47オングストローム以上かつ14.30
オングストローム以下であり、N1およびN4の距離が
3.48オングストローム以上かつ12.60オングストローム
以下であり、N1およびN5の距離が8.77オングストロ
ーム以上かつ15.67オングストローム以下であり、N2
およびN3の距離が3.78オングストローム以上かつ9.78
オングストローム以下であり、N2およびN4の距離が
6.97オングストローム以上かつ13.26オングストローム
以下であり、N2およびN5の距離が9.37オングストロ
ーム以上かつ13.32オングストローム以下であり、N3
およびN4の距離が4.83オングストローム以上かつ10.5
1オングストローム以下であり、N3およびN5の距離
が3.31オングストローム以上かつ9.97オングストローム
以下であり、N4およびN 5の距離が4.32オングストロ
ーム以上かつ8.25オングストローム以下であるファーマ
コフォーに適合する化合物が好ましく、さらに好ましく
は、ファーマコフォーを構成するN1が、1つ以上の水
素原子が結合している置換されていてもよいアミノ、ア
ンモニウム、アミド、チオアミド、ウレイド、イソウレ
イド、アミジノ、グアニジノ、チオウレイド、ヒドラジ
ノもしくはヒドラゾノ基の窒素原子、水素原子が結合し
ているエテニル基の炭素原子、カルボニル基の酸素原
子、チオカルボニル基の硫黄原子、置換されていてもよ
いイミノ基の窒素原子、スルホニル基の酸素原子、スル
ホニルオキシ基の酸素原子、スルホン基の酸素原子、ス
ルフィニル基の酸素原子、カルボキシル基の酸素原子、
エーテルの酸素原子、チオエーテルの硫黄原子、メルカ
プト基の硫黄原子、ヒドロキシル基の酸素原子、エステ
ルの酸素原子または置換されていてもよい含窒素複素環
式基の窒素原子;N 3が、カルボニル基の酸素原子、チ
オカルボニル基の硫黄原子、イミノ基の窒素原子、スル
ホン基の酸素原子、スルホニル基の酸素原子、スルフィ
ニル基の酸素原子、スルホニルオキシ基の酸素原子、カ
ルボキシル基の酸素原子、エーテルの酸素原子、チオエ
ーテルの硫黄原子、ヒドロキシル基の酸素原子、エステ
ルの酸素原子、置換されていてもよい含窒素複素環式基
の水素原子が結合していない窒素原子、スルホンアミド
基の窒素原子またはアシルスルホンアミド基の窒素原
子;;N2、N4およびN5が、アルキル基の炭素原
子、アルケニル基の炭素原子、アリール基の炭素原子お
よびアルコキシ基の炭素原子を構成する任意の炭素原子
であるファーマコフォーに適合する化合物が好ましく、
よりさらに好ましくは、AP−1とその認識配列との結
合反応に対する作用を有する化合物が挙げられる。
A3が、L−アスパラギン残基またはL−グルタミン残
基;AA4、AA6およびAA7が、L−ロイシン残
基、L−イソロイシン残基、L−アラニン残基またはL
−バリン残基;AA5が、L−アスパラギン酸残基、L
−グルタミン酸残基、L−セリン残基またはL−スレオ
ニン残基である化合物が好ましい。
aa3が、L−アスパラギン残基またはL−グルタミン
残基;aa4、aa5およびaa7が、L−ロイシン残
基、L−イソロイシン残基、L−アラニン残基またはL
−バリン残基;aa9が、L−アスパラギン酸残基、L
−グルタミン酸残基、L−セリン残基またはL−スレオ
ニン残基である化合物が好ましい。
が、−Z’−COOR2’、−Z’−CONH−SO2
R28’、−CONH−CH2COOR2’または−C
ONH−CH2CH2COOR2’、「式中、Z’は、
−(CH2)n’−(n’は、0、1または2を意味す
る。)または−CH=CH−を;R28’は、置換され
ていてもよいアルキル基を;R2 ’は、水素原子または
カルボキシル保護基を意味する。」を;X1が、−C
(O)−、−CH(OH)−または−CH2−である化
合物が好ましく、R1が、保護されていてもよいヒドロ
キシル基または置換されていてもよいアルコキシ基;R
3が、保護されていてもよいヒドロキシル基、置換され
ていてもよいアルコキシ基;R4が、保護されていても
よいヒドロキシル基または置換されていてもよいアルコ
キシ基である化合物がさらに好ましく、R3が、アルコ
キシ基、ヒドロキシル基またはアルキルカルボニルオキ
シ基;X1が、−C(O)−である化合物がよりさらに
好ましく、R1が、アルコキシ基;R4が、アルコキシ
基である化合物がより一層さらに好ましい。
5が、アルコキシ基またはアシルアミノ基;A環が、式
ル基を;R12は、アルキル基を表す。」で表される基
または式
ル基を;R14は、アルコキシまたはアルカノイルオキ
シ基を表す。」で表される基である化合物が好ましい。
15およびR16が同一または異なってアルコキシ基;
B環が、式
ル保護基を;pは、0、1または2を表す。」である化
合物が好ましい。
1aが、保護されていてもよいヒドロキシル基または置
換されていてもよいアルコキシ基;R3aおよびR4a
が、同一または異なって保護されていてもよいヒドロキ
シル基または置換されていてもよいアルコキシ基;X
1aが、−C(O)−、−CH(OH)−、−CH
2−、式
ル、アルアルキルもしくは複素環式−低級アルキル基
を;R24a’およびR25a’は、同一または異なっ
て水素原子、保護されていてもよいカルボキシル基、置
換されていてもよいアルキル、アルコキシカルボニル、
アリールオキシカルボニルもしくはカルバモイル基を意
味する。」;Waが、−Za’−COR26a’、−Z
a’−COOR 2a’、−O−CH2COOR2a’、
−O−CH2CH2COOR2a’、−CONH−CH
2COOR2a’または−CONH−CH2CH2CO
OR2a ’「式中、Za’は、−(CH2)na’−(n
a’は、0、1、2または3を意味する。)、−CH2
CH(CH3)−、−CH=CH−または−CH2CH=
CH−を;R2a’は、水素原子またはカルボキシル保
護基を;R26a’は、−NHSO2R28a’(R
28a’は、置換されていてもよいアルキル基を意味す
る。)を意味する。」である化合物が好ましい。
1bが、置換されていてもよいアルコキシ基を;R3b
およびR4bが、同一または異なって保護されていても
よいヒドロキシル基、置換されていてもよいアルコキシ
基を;X1bが、−C(O)−;Zbが、−(CH2)
2−である化合物が好ましい。
1cが、置換されていてもよいアルコキシ基;R
2cは、水素原子またはカルボキシル保護基;R3cお
よびR4cが、同一または異なって置換されていてもよ
いアルコキシ基;X1cは、−C(O)−;Zcが、−
(CH2)2−である化合物が好ましい。
1dが、置換されていてもよいアルコキシ基;R
3dが、置換されていてもよいアルキル基;R4dが、
置換されていてもよいアシル基;X1dが、−C(O)
−;Zdが、−(CH2)2−である化合物が好まし
い。
0eが、水素原子またはハロゲン原子;R1eが、置換
されていてもよいアルキル基;R3eおよびR4eが、
置換されていてもよいアルコキシ基;X1eが、−C
(O)−;Zeが、結合手である化合物が好ましい。
1fが、置換されていてもよいアルコキシ基;R3fお
よびR4fは、置換されていてもよいアルキル基;X
1fが、−C(O)−;Zfが、−CH2−である化合
物が好ましい。
ば、次の化合物が挙げられる。なお、Acは、アセチル
基を意味する。 ・ Ac-Cys-Gly-Gln-Leu-Asp-Leu-Ala-Leu-Gly-Cys-NH
2(1番目と10番目のL−システイン残基の間にジスル
フィド結合を有する) ・ Ac-Cys-Gly-Gln-Leu-Ser-Leu-Ala-Leu-Gly-Cys-NH
2(1番目と10番目のL−システイン残基の間にジスル
フィド結合を有する) ・ Ac-Cys-Gly-Gln-Leu-Asp-Leu-Ala-Gly-Gly-Cys-NH
2(1番目と10番目のL−システイン残基の間にジスル
フィド結合を有する) ・ Ac-Cys-Gly-Gln-Leu-Asp-Leu-Ala-Asn-Gly-Cys-NH
2(1番目と10番目のL−システイン残基の間にジスル
フィド結合を有する) ・ Ac-Cys-Gly-Gln-Leu-Ser-Leu-Ala-Asp-Gly-Cys-NH
2(1番目と10番目のL−システイン残基の間にジスル
フィド結合を有する) ・ Ac-Cys-Gly-Asn-Leu-Asp-Leu-Ala-Asp-Gly-Cys-NH
2(1番目と10番目のL−システイン残基の間にジスル
フィド結合を有する) ・ Ac-Asn-Cys-Gly-Asn-Leu-Leu-Ala-Leu-Gly-Ser-Cys
-NH2(2番目と11番目のL−システイン残基の間にジス
ルフィド結合を有する) ・ Ac-Cys-Gly-Asn-Leu-Leu-Ala-Leu-Gly-Ser-Cys-NH
2(1番目と10番目のL−システイン残基の間にジスル
フィド結合を有する) ・ Ac-Asn-Cys-Gly-Asn-Ala-Leu-Ala-Leu-Gly-Ser-Cys
-NH2(2番目と11番目のL−システイン残基の間にジス
ルフィド結合を有する) ・ Ac-Cys-Gly-Asn-Leu-Leu-Ala-Leu-Gly-Asp-Cys-NH
2(1番目と10番目のL−システイン残基の間にジスル
フィド結合を有する) ・ Ac-Cys-Gly-Asn-Leu-Leu-Ser-Leu-Gly-Asp-Cys-NH
2(1番目と10番目のL−システイン残基の間にジスル
フィド結合を有する)
ン)−4−(4−メチルペンタノイル)−1−チア−4
−アザスピロ[4.5]−デカン−3−カルボン酸 ・2−[(2S)−4−(2,4−ジイソブトキシベン
ゾイル)−1−(3−メチルブタノイル)−3−オキソ
ヘキサヒドロ−2−ピラジニル]酢酸 ・2−(2−イソブトキシ−5−{[(2S,4R)−
4−(イソブチリルオキシ)−2−(イソプロポキシカ
ルボニル)テトラヒドロ−1H−1−ピロリル]カルボ
ニル}フェニル)酢酸 ・2−(2−イソブトキシ−5−{[(2S)−4−イ
ソペンチル−2−(イソプロポキシカルボニル)−3−
オキソヘキサヒドロ−1−ピラジニル]カルボニル}フ
ェニル)酢酸 ・2−(5−{[(2R)−2,4−ジイソペンチル−
3−オキソヘキサヒドロ−1−ピラジニル]カルボニ
ル}−2−イソブトキシフェニル)酢酸
れる。なお、表中の略号は、以下の意味を表す。 Me:CH3、Et:C2H5、nPr:CH2CH2CH3、iPr:CH(CH3)2、iBu:
CH2CH(CH3)2、iAm:CH2CH 2CH(CH3)2、Ph:フェニル、Py:
ピリジル
化合物、一般式[2]、[2b]、[3]、[4]、
[5]、[a]、[b]、[c]、[d]、[e]、
[f]および[g]の化合物またはその塩において、異
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異
性体など)が存在する場合、本発明は、それらの異性体
を包含し、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の
結晶を包含するものである。
明する。本発明化合物は、自体公知の方法を組合せるこ
とにより製造されるが、たとえば、つぎに示す製造法1
〜20にしたがって合成することができる。
Acは、アセチル基、Y1は、システインの保護基を;
Y3、Y8は、必要に応じて用いられるアミノ酸側鎖官
能基の保護基を意味する。また、アミノ酸残基はIUP
ACおよびIUBの定める3文字表記で表す。」 本発明のペプチドは、自体公知の方法を組合せることに
より液相法または固相法により製造されるが、たとえ
ば、つぎに示す製造法によって合成することができる
(ペプチド合成の基礎と実験、泉屋ら、第194〜283頁、
丸善出版)。
式[6]の樹脂を固相法に付することによって得ること
ができる。固相法によるペプチド鎖構築は、アミノ酸官
能基が適当な保護基で保護されたアミノ酸の縮合および
アミノ酸のα−アミノ保護基の脱保護を繰り返すことに
より行われる。アミノ酸の縮合は、合成しようとするア
ミノ酸の順序で、C末端のアミノ酸から順次一つずつ行
われる。固相法の手法を以下に説明する。これら一連の
反応は、窒素ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ま
た、手作業で行う方法または自動合成装置を利用する方
法のいずれの方法を用いてもよい。
脂は、樹脂をアミノ酸誘導体と縮合させることによって
得ることができる。具体的には、樹脂を反応器に入れ、
溶媒を加え、樹脂を膨潤させる。溶媒を濾去した後、ア
ミノ酸誘導体および縮合剤を添加し、再び溶媒を加え、
反応すればよい。この反応に用いられる一般式[6]の
樹脂としては、固相法で通常用いられる樹脂が挙げら
れ、例えば、ベンズヒドリルアミン樹脂、4−メチルベ
ンズヒドリルアミン樹脂およびリンクアミド樹脂などが
挙げられる。この反応に用いられる溶媒としては、N,
N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、クロロホ
ルムおよびN−メチルピロリドンなどが挙げられる。溶
媒の使用量は、特に限定されないが、樹脂を膨潤させる
場合は、樹脂1gに対し、5〜100ml、好ましくは、5〜20m
lであればよく、反応時に使用する場合は、樹脂1gに対
し、5〜100ml、好ましくは、5〜50mlであればよい。こ
の反応に用いられるアミノ酸誘導体は、α−アミノ基の
保護に、t−ブチルオキシカルボニル(Boc)基およ
び9−フルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)基
などを用い、側鎖官能基の保護基としては、たとえば、
アスパラギン酸およびグルタミン酸の側鎖カルボキシル
基の保護基としてt−ブチルエステル基、ベンジルエス
テル基およびシクロヘキシルエステル基などを用い、セ
リン、スレオニンおよびチロシンの側鎖水酸基の保護基
としてt−ブチル基、ベンジル基および2,6−ジブロ
モベンジル基などを用い、システインの側鎖チオール基
の保護基として、トリチル基、アセタミドメチル基およ
びt−ブチル基などを用いたアミノ酸誘導体が挙げら
れ、好ましくは、Fmoc-アミノ酸が挙げられる。この反
応に用いられる縮合剤としては、ジシクロヘキシルカル
ボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ベンゾト
リアゾール−1−イル−オキシ−トリス−ピロリジノ−
ホスホニウムヘキサフルオロフォスフェート(PyBO
P)およびブロモ−トリス−ピロリジノ−ホスホニウム
ヘキサフルオロフォスフェート(PyBROP)などが
挙げられ、その使用量は、樹脂中のアミノ基1当量に対
して1〜10当量であればよい。また、PyBOPおよび
PyBROPの使用時は、たとえば、ジイソプロピルエ
チルアミンおよびトリエチルアミンなどのアミンを縮合
剤に対して1〜5当量添加してもよい。さらに、これらの
縮合剤に、N−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよびN
−ヒドロキシ−7−アザベンゾトリアゾールなどの活性
エステル化剤を縮合剤に対して0.5〜2当量添加してもよ
い。この反応は、通常、10〜40℃、好ましくは、20〜30
℃で、5〜120分間実施すればよい。
N末端が保護されたペプチド結合樹脂のα−アミノ保護
基を脱保護剤の存在下に反応させ、除去することにより
得ることができる。具体的には、N末端が保護されたペ
プチド結合樹脂を酸または塩基の存在下、溶媒の存在下
または非存在下に反応すればよい。この反応において使
用される脱保護剤は、α−アミノ保護基の種類に応じて
適宜選択されるが、たとえば、α−アミノ保護基の脱保
護がBoc基の場合は、トリフルオロ酢酸、メタンスル
ホン酸などの酸を;α−アミノ保護基の脱保護がFmo
c基の場合は、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデク−7−エンなどの塩基を使用す
ればよい。この反応で使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、
酸を用いる場合は、ジクロロメタンおよびジクロロエタ
ンなどが、塩基を用いる場合は、N,N−ジメチルホル
ムアミドおよびN−メチルピロリドンなどが挙げられ
る。溶媒を使用する場合は、樹脂1gに対し、5〜20mlの
割合で使用すればよい。この反応は、通常、10〜40℃、
好ましくは、20〜30℃で5〜120分間実施すればよい。 (3)10残基のペプチド結合樹脂は、得られたペプチド
結合樹脂を再び(1)および(2)の操作を合計10回繰
り返すことにより得ることができる。 (4)一般式[7]のペプチドは、10残基のペプチド結
合樹脂をアセチル化することにより得ることができる。
具体的には、10残基のペプチド結合樹脂と無水酢酸をア
ミンの存在下または非存在下に反応させることにより得
ることができる。この反応で無水酢酸の使用量は、樹脂
中のアミノ基1当量に対し、1〜20当量であればよく、
好ましくは、5〜10当量であればよい。この反応で必要
に応じて用いられるアミンとしては、たとえば、ジイソ
プロピルエチルアミンおよびトリエチルアミンなどが挙
げられ、その使用量は、無水酢酸に対し、0.2〜2当量で
あればよい。この反応で用いられる溶媒としては、反応
に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されない
が、N,N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、
クロロホルムおよびN−メチルピロリドンなどが挙げら
れる。これらの溶媒は、1種または2種以上混合して使
用してもよい。また、溶媒の使用量は、特に限定されな
いが、樹脂1gに対して5〜20mlであればよい。この反応
は、10〜40℃、好ましくは、20〜30℃で10〜120分間実
施すればよい。
一般式[7]の保護ペプチド樹脂のアミノ酸側鎖保護基
および樹脂を除去することにより得ることができる。こ
の反応に用いられる酸としては、用いた樹脂およびアミ
ノ保護基の組み合わせにより適宜選択することができる
が、たとえば、トリフルオロメタンスルホン酸、無水フ
ッ化水素およびトリフルオロ酢酸などが挙げられる。た
とえば、樹脂がベンズヒドリルアミン樹脂および4−メ
チルベンズヒドリルアミン樹脂など、アミノ酸側鎖保護
基がベンジルエステル基、シクロヘキシルエステル基、
ベンジル基および2,6−ジブロモベンジル基などから
選ばれる基の場合は、トリフルオロメタンスルホン酸お
よび無水フッ化水素などの酸を使用すればよく、樹脂が
リンクアミド樹脂など、アミノ酸側鎖保護基がt−ブチ
ルエステル基、t−ブチル基およびトリチル基などから
選ばれる基の場合は、トリフルオロ酢酸などの酸を使用
すればよい。この反応で使用される溶媒としては、反応
に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されない
が、たとえば、ジクロロメタンが挙げられる。また、溶
媒の使用量は、特に限定されないが、樹脂1gに対し、5
〜100mlで使用すればよい。この反応において、アニソ
ール、チオアニソール、m−クレゾール、p−クレゾー
ル、エタンジチオールおよび水などを添加してもよく、
この添加量は、用いる溶媒量に対して0.1〜20%(体積
比)が好ましい。また、これらの化合物を組み合わせて
使用してもよい。この反応は、-10〜40℃、好ましく
は、0〜20℃、30〜300分間実施すればよい。
[8]のペプチドのシステイン側鎖間にジスルフィド結
合を形成することにより得ることができる。2つのシス
テイン残基による分子内ジスルフィド結合形成は、公知
の方法により行うことができる。具体的には、システイ
ンの側鎖チオール基が保護されていない場合は、希アン
モニア水溶液中での空気酸化法、5〜20%ジメチルスル
ホキシド/トリフルオロ酢酸溶液を用いる方法;システ
インの側鎖チオール基がトリアセタミドメチル基などで
保護されている場合は、ヨウ素酸化法、テトラフルオロ
ホウ酸銀で脱保護後に空気酸化を用いる方法;システイ
ンの側鎖チオール基がt−ブチルで保護されている場合
は、シリルクロライド−ジフェニルスルホキシド法が挙
げられる(医薬品の開発、ペプチド合成、広川書店、第
233〜258頁)。このようにして得られた一般式[2]の
環状ペプチドまたはその塩は、抽出、晶出、ゲル濾過、
液体クロマトグラフィーおよび/またはカラムクロマト
グラフィーなどの常法にしたがって単離精製することが
でき、たとえば、セファデックスG−10、G−25な
どのゲル濾過剤を用いるゲル濾過法、逆相系合成高分子
樹脂または化学修飾シリカゲル担体を用いたカラムクロ
マトグラフィーおよび/または高速液体クロマトグラフ
ィーなどにより行うことができる。 [製造法1a]一般式[2b]の環状ペプチドは、製造
法1と同様の方法により得ることができる。
3、R4、R5、R6(ただし、水素原子を除く。)、
R7、R8、R9、R10、R15、R16、R17、
R18(ただし、水素原子を除く。)、Z、n、mおよ
びpは、前記したと同様の意味を表す。」
酸の存在下に一般式[9]の化合物とホルミル化剤を反
応させることにより得ることができる。この反応に用い
られる酸としては、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化ア
ルミニウムおよびオキシ塩化リンなどが挙げられ、その
使用量は、一般式[9]の化合物に対して1〜10倍モ
ル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。また、ホル
ミル化剤としては、α,α−ジクロロメチルメチルエー
テル、N,N−ジメチルホルムアミドおよびオルトギ酸
エチルなどが挙げられ、その使用量は、一般式[9]の
化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モル
であればよい。この反応で使用される溶媒としては、塩
化メチレン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロ
ゲン化炭化水素類並びにn−ヘキサンおよびシクロヘキ
サンなどの脂肪族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒
を一種または二種以上混合して使用してもよい。この反
応は、通常、-78℃から溶媒の還流温度、好ましくは、0
〜30℃で、30分間〜24時間実施すればよい。
の存在下または非存在下に一般式[10]の化合物と酸
化剤を反応させることにより得ることができる。この反
応において所望に応じて用いられる酸としては、塩酸、
硫酸、酢酸、スルファミン酸などが挙げられ、その使用
量は、一般式[10]の化合物に対して1〜1000倍モ
ル、好ましくは、1〜100倍モルであればよい。また、所
望に応じて用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム
および水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ、ピリジン
などが挙げられ、その使用量は、一般式[10]の化合
物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モル
であればよい。また、この反応に用いられる酸化剤とし
ては、亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム、ク
ロム酸、過マンガン酸カリウム、過酸化水素、酸化ルテ
ニウム、酸化ニッケル、酸化銀、硝酸銀などが挙げられ
る。その使用量は、一般式[10]の化合物に対して1
〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。こ
の反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼ
さないものであれば特に限定されないが、たとえば、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテルおよびジオキサンな
どのエーテル類;塩化メチレン、クロロホルムおよび四
塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;アセトニトリル
などのニトリル類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサン
などの脂肪族炭化水素類;トルエンおよびベンゼンなど
の芳香族炭化水素類;ジメチルスルホキシド、ピリジン
並びに水などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二
種以上混合して使用してもよい。この反応は、通常、0
℃から溶媒の還流温度で、30分間〜24時間実施すればよ
い。
の存在下または非存在下に一般式[11]の化合物と酸
化剤を反応させることにより得ることができる。この反
応において、所望に応じて用いられる酸としては、硫
酸、酢酸などが挙げられ、その使用量は、一般式[1
1]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜
100倍モルであればよい。また、所望に応じて用いられ
る塩基としては、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウ
ムなどの水酸化アルカリ並びにピリジンなどが挙げら
れ、その使用量は、一般式[11]の化合物に対して1
〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであればよ
い。また、この反応に用いられる酸化剤としては、クロ
ム酸、過マンガン酸カリウムなどが挙げられる。その使
用量は、一般式[11]の化合物に対して1〜10倍モ
ル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。この反応で
使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないも
のであれば特に限定されないが、たとえば、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水
素類;n−ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化
水素類;ピリジン並びに水などが挙げられ、これらの溶
媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。この
反応は、通常、0℃から溶媒の還流温度で、30分間〜24
時間実施すればよい。
一般式[12]の化合物の酸塩化物または酸無水物と一
般式[13]の化合物をフリーデル・クラフツ(Friedel-
Crafts)反応に付すことにより得ることができる。この
反応で使用する一般式[12]の化合物の酸塩化物また
は酸無水物は、一般式[12]の化合物を塩化チオニ
ル、塩化オキサリル、五塩化リン、無水酢酸、クロロギ
酸エチルなどの活性化剤と反応させることにより得るこ
とができる。その使用量は、一般式[12]の化合物に
対して、1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであれ
ばよい。この反応に用いられる酸としては、四塩化ス
ズ、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素および塩化亜鉛
などが挙げられ、その使用量は、一般式[12]の化合
物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであ
ればよい。また、一般式[13]の化合物の使用量は、
一般式[12]の化合物に対して1〜10倍モル、好まし
くは、1〜2倍モルであればよい。この反応で使用される
溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルムおよび四塩
化炭素などのハロゲン化炭化水素類;n−ヘキサンおよ
びシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;ニトロベン
ゼン並びに二硫化炭素などが挙げられ、これらの溶媒を
一種または二種以上混合して使用してもよい。この反応
は、通常、-78℃から溶媒の還流温度で、好ましくは、0
〜30℃で、30分間〜24時間実施すればよい。
a]の化合物を酸または塩基での加水分解反応または塩
を用いた脱エステル化反応または金属触媒水素添加反応
を含む還元的脱エステル化反応などの脱保護反応に付す
ことにより得ることができる。この反応に用いられる酸
としては、ギ酸、塩酸、硫酸、臭化水素酸、トリフルオ
ロ酢酸、塩化アルミニウムおよびヨウ化トリメチルシラ
ンなどが挙げられ、その使用量は、一般式[3a]の化
合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モ
ルであればよい。塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化バリウムなどの水酸化アルカリ、
フッ化テトラブチルアンモニウムなどが挙げられ、その
使用量は、一般式[3a]の化合物に対して1〜1000倍
モル、好ましくは、1〜50倍モルであればよい。この反
応で用いられる塩としては、ヨウ化リチウム、塩化ナト
リウムなどが挙げられ、その使用量は、一般式[3a]
の化合物に対して、1〜100倍モル、好ましくは、1〜10
倍モルであればよい。また、たとえば、還元的脱エステ
ル化反応で用いられる触媒としては、パラジウム-炭
素、パラジウム-ブラック、水酸化パラジウムなどが挙
げられ、その使用量は、一般式[3a]の化合物に対し
て0.001〜1倍モル、好ましくは、0.01〜0.5倍モルであ
ればよい。還元剤としては、水素、ギ酸、シクロヘキセ
ン、亜鉛などが挙げられ、その使用量は、一般式[3
a]の化合物に対して1〜100倍モル、好ましくは、1〜1
0倍モルであればよい。この反応で使用される溶媒とし
ては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定
されないが、たとえば、メタノール、エタノールおよび
イソプロピルアルコールなどのアルコール類;テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンおよびアニソ
ールなどのエーテル類;塩化メチレン、クロロホルムお
よび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;アセトニ
トリルなどのニトリル類;n−ヘキサンおよびシクロヘ
キサンなどの脂肪族炭化水素類;酢酸エチルなどのエス
テル類;トルエン、ベンゼンおよびキシレンなどの芳香
族炭化水素類;ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、ニトロメタン、ピリジン並びに水など
が挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合し
て使用してもよい。この反応は、通常、-78〜100℃、好
ましくは、5〜80℃で、10分間〜24時間実施すればよ
い。
は塩の存在下または非存在下に一般式[3b]の化合物
と還元剤を反応させることにより得ることができる。こ
の反応で所望に応じて用いられる酸としては、塩酸、硫
酸、トリフルオロ酢酸、塩化アルミニウム、三フッ化ホ
ウ素などが挙げられ、その使用量は、一般式[3b]の
化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モル
であればよい。所望に応じて用いられる塩基としては、
水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化ア
ルカリ、ピリジンなどが挙げられ、その使用量は、一般
式[3b]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましく
は、1〜100倍モルであればよい。また、所望に応じて用
いられる塩としては、塩化リチウム、塩化マグネシウ
ム、塩化カルシウムなどが挙げられ、その使用量は、一
般式[3b]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましく
は、1〜5倍モルであればよい。還元剤としては、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ジイ
ソブチルアルミニウムおよび水素化リチウムアルミニウ
ムなどが挙げられ、その使用量は、一般式[3b]の化
合物に対して0.25〜10倍モル、好ましくは、1〜8倍モル
であればよい。この反応で使用される溶媒としては、反
応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されない
が、たとえば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素などのハロゲン化炭化水素類;テトラヒドロフラン、
エチルエーテルなどのエーテル類;メタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類;ト
ルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;
n−ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素
類;ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ピリジン並びに水などが挙げられ、これらの溶媒
を一種または二種以上混合して使用してもよい。この反
応は、通常、-78℃から溶媒の還流温度、好ましくは、-
78〜70℃で、30分間〜24時間実施すればよい。
は塩の存在下または非存在下に一般式[3b]または
[3c]の化合物を金属触媒水素添加反応を含む還元反
応に付すことにより得ることができる。この反応で所望
に応じて用いられる酸としては、塩酸、硫酸、トリフル
オロ酢酸、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素などが挙
げられ、その使用量は、一般式[3b]または[3c]
の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モ
ルであればよい。所望に応じて用いられる塩基として
は、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなどの水酸
化アルカリ、ピリジンなどが挙げられ、その使用量は、
一般式[3b]または[3c]の化合物に対して1〜100
0倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであればよい。ま
た、所望に応じて用いられる塩としては、塩化リチウ
ム、塩化マグネシウム、塩化カルシウムなどが挙げら
れ、その使用量は、一般式[3b]または[3c]の化
合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜10倍モルで
あればよい。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミ
ニウム、水素化リチウムアルミニウム、トリエチルシラ
ン、水素およびシクロヘキセンなどが挙げられ、その使
用量は、一般式[3b]または[3c]の化合物に対し
て1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであればよ
い。また、触媒としては、パラジウム−炭素、パラジウ
ム−ブラックおよび水酸化パラジウムなどが挙げられ、
その使用量は、一般式[3b]または[3c]の化合物
に対して0.001〜1倍モル、好ましくは、0.01〜0.5倍モ
ルであればよい。この反応で使用される溶媒としては、
反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されな
いが、たとえば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化
炭素などのハロゲン化炭化水素類;テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテルなどのエーテル類;メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール
類;トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水
素類;n−ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化
水素類;酢酸エチルなどのエステル類;N,N−ジメチ
ルホルムアミド;酢酸;ピリジン並びに水などが挙げら
れ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用し
てもよい。この反応は、通常、-78℃から溶媒の還流温
度、好ましくは、0〜30℃で、30分間〜24時間実施すれ
ばよい。
b]の化合物は、酸または塩基の存在下または非存在下
に、一般式[14]の化合物と一般式[15]または一
般式[16]の化合物を縮合剤を用いて反応させること
により得ることができる。または、一般式[14]の化
合物の酸塩化物または酸無水物と一般式[15]または
[16]の化合物との反応により得ることができる。こ
の反応で用いられる一般式[14]の化合物の酸塩化物
または酸無水物は、一般式[14]の化合物を塩化チオ
ニル、塩化オキサリル、五塩化リン、無水酢酸およびク
ロロギ酸エチルなどの活性化剤と反応させることにより
得ることができる。活性化剤の使用量は、一般式[1
4]の化合物に対して、1〜10倍モル、好ましくは、1〜
2倍モルであればよい。この反応で所望に応じて用いら
れる酸としては、トルエンスルホン酸およびN−ヒドロ
キシコハク酸イミドなどが挙げられ、その使用量は、一
般式[14]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましく
は、1〜5倍モルであればよい。また、所望に応じて用い
られる塩基としては、N,N−ジメチルアミノピリジ
ン、ピリジンおよびトリエチルアミンなどが挙げられ、
その使用量は、一般式[14]の化合物に対して1〜100
倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。この
反応で使用される縮合剤としては、ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド、ジフェニルリン酸アジドおよびN,N'−
カルボニルジイミダゾールなどが挙げられ、その使用量
は、一般式[14]の化合物に対して1〜10倍モル、好
ましくは、1〜2倍モルであればよい。この反応で使用さ
れる一般式[15]または[16]の使用量は、一般式
[14]の化合物に対して、1〜10倍モル、好ましく
は、1〜2倍モルであればよい。この反応で使用される溶
媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特
に限定されないが、たとえば、テトラヒドロフランおよ
びエチルエーテルなどのエーテル類;トルエン、ベンゼ
ンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレ
ン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭
化水素類;アセトニトリルなどのニトリル類;n−ヘキ
サンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;酢
酸エチルなどのエステル類;アセトンなどのケトン類;
ピリジン並びにN,N−ジメチルホルムアミドなどが挙
げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使
用してもよい。この反応は、通常、-78℃から溶媒の還
流温度、好ましくは、0〜30℃で、30分間〜24時間実施
すればよい。
は、一般式[4a]または[4b]の化合物を、酸また
は塩基での加水分解反応または塩を用いた脱エステル化
反応または金属触媒水素添加反応を含む還元的脱エステ
ル化反応などの脱保護反応に付すことにより得ることが
できる。この反応に用いられる酸としては、ギ酸、塩
酸、硫酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸、塩化アルミ
ニウムおよびヨウ化トリメチルシランなどが挙げられ、
その使用量は、一般式[4a]または[4b]の化合物
に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルで
あればよい。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムおよび水酸化バリウムなどの水酸化アルカリ並
びにフッ化テトラブチルアンモニウムなどが挙げられ、
その使用量は、一般式[4a]または[4b]の化合物
に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜30倍モルであ
ればよい。この反応で用いられる塩としては、ヨウ化リ
チウムおよび塩化ナトリウムなどが挙げられ、その使用
量は、一般式[4a]または[4b]の化合物に対し
て、1〜100倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであれば
よい。脱エステル化反応で用いられる触媒としては、パ
ラジウム−炭素、パラジウム−ブラックおよび水酸化パ
ラジウムなどが挙げられ、その使用量は、一般式[4
a]または[4b]の化合物に対して0.001〜1倍モル、
好ましくは、0.01〜0.5倍モルであればよい。この反応
で用いられる還元剤としては、水素、ギ酸、シクロヘキ
センおよび亜鉛などが挙げられ、その使用量は、一般式
[4a]または[4b]の化合物に対して1〜100倍モ
ル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。この反応
で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない
ものであれば特に限定されないが、たとえば、メタノー
ル、エタノールおよびイソプロピルアルコールなどのア
ルコール類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジ
オキサンおよびアニソールなどのエーテル類;塩化メチ
レン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化
炭化水素類;アセトニトリルなどのニトリル類;n−ヘ
キサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;
酢酸エチルなどのエステル類;トルエンおよびベンゼン
などの芳香族炭化水素類;ジメチルスルホキシド、N,
N−ジメチルホルムアミド、ニトロメタン、ピリジン並
びに水などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種
以上混合して使用してもよい。この反応は、通常、0℃
〜溶媒の還流温度、好ましくは、5〜60℃で、10分間〜2
4時間実施すればよい。
酸または塩基の存在下または非存在下に一般式[17]
の化合物と酸塩化物との反応により得ることができる。
または、一般式[17]の化合物とカルボン酸を縮合剤
を用いて反応させることにより得ることができる。この
反応で所望に応じて用いられる酸としては、トルエンス
ルホン酸およびN−ヒドロキシコハク酸などが挙げら
れ、その使用量は、一般式[17]の化合物に対して1
〜10倍モルであればよい。また、所望に応じて用いられ
る塩基としては、N,N−ジメチルアミノピリジン、ピ
リジンおよびトリエチルアミンなどが挙げられ、その使
用量は、一般式[17]の化合物に対して1〜10倍モル
であればよい。酸塩化物またはカルボン酸の使用量は、
一般式[17]の化合物に対して1〜10倍モル、好まし
くは、1〜2倍モルであればよい。この反応で使用される
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジ
フェニルリン酸アジドおよびN,N−カルボニルジイミ
ダゾールなどが挙げられ、その使用量は、一般式[1
7]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2
倍モルであればよい。この反応で使用される溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定さ
れないが、たとえば、テトラヒドロフランおよびエチル
エーテルなどのエーテル類;トルエン、ベンゼンおよび
キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロ
ロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素
類;アセトニトリルなどのニトリル類;n−ヘキサンお
よびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;酢酸エチ
ルなどのエステル類;アセトンなどのケトン類;ピリジ
ン並びにN,N−ジメチルホルムアミドなどが挙げら
れ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用し
てもよい。この反応は、通常、-78℃から溶媒の還流温
度、好ましくは、0〜30℃で、30分間〜24時間実施すれ
ばよい。
存在下または非存在下に一般式[17]の化合物をアル
キル化、アミド化、スルホンアミド化反応に付すことに
より得ることができる。この反応に用いられるアルキル
化剤としては、たとえば、ヨウ化メチル、ベンジルブロ
ミドなどが挙げられ、アミド化剤としては、たとえば無
水酢酸などの酸無水物およびアセチルクロライド、ベン
ゾイルクロライドなどのハロゲン化アシル、スルホンア
ミド化剤としては、メタンスルホニルクロライド、ベン
ゼンスルホニルクロライドなどのハロゲン化スルホニル
が挙げられる。これらの反応試剤の使用量は、一般式
[17]の化合物に対して、1〜20倍モル、好ましく
は、1〜4倍モルであればよい。この反応に所望に応じて
用いられる塩基としては、たとえば、ジメチルアミノピ
リジン、トリエチルアミンおよびピリジンなどの有機ア
ミン類;並びに炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなど
のアルカリ金属炭酸塩などが挙げられ、その使用量は、
一般式[17]の化合物に対して1〜20倍モル、好まし
くは、1〜4倍モルであればよい。この反応で用いられる
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば
特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンお
よびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコール
ジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエー
テル類;酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル
類;アセトニトリルなどのニトリル類;N,N−ジメチ
ルホルムアミドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩
化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類が挙げられ、こ
れらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよ
い。この反応は、通常、0〜200℃、好ましくは、10〜15
0℃で10分間〜24時間実施すればよい。また、塩基の存
在下に一般式[17]の化合物をトリホスゲンと反応さ
せた後、得られた活性中間体をアンモニア水で処理する
ことにより、カルバモイル化を行うことができる。トリ
ホスゲンの使用量は、一般式[17]の化合物に対し
て、0.3〜20倍モル、好ましくは、1〜4倍モルであれば
よい。また、この反応に用いられる塩基としては、たと
えば、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンおよ
びピリジンなどの有機アミン類などが挙げられ、その使
用量は、一般式[17]の化合物に対して1〜20倍モ
ル、好ましくは、1〜4倍モルであればよい。この反応で
用いられる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないも
のであれば特に限定されないが、たとえば、クロロホル
ムおよび塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類が挙
げられる。この反応は、通常、0〜70℃、好ましくは、0
〜30℃で30分間〜24時間実施すればよい。反応後、一般
式[17]の化合物に対して、25%アンモニア水1〜50v
/w、好ましくは、5〜15v/wで処理し、カルバモイル体を
得ることができる。この反応は、通常、0〜100℃、好ま
しくは、0〜30℃で10分間〜24時間実施すればよい。
の存在下または非存在下に、一般式[18]の化合物お
よび一般式[19]の化合物を縮合剤を用いて反応させ
ることにより得ることができる。また、一般式[19]
の化合物の酸塩化物または酸無水物と一般式[18]の
化合物を反応させることにより得ることができる。この
反応で用いられる一般式[19]の化合物の酸塩化物ま
たは酸無水物は、一般式[19]の化合物を塩化チオニ
ル、塩化オキサリル、五塩化リン、無水酢酸およびクロ
ロギ酸エチルなどの活性化剤と反応させることにより得
ることができ、その使用量は、一般式[19]の化合物
に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであれ
ばよい。この反応で所望に応じて用いられる酸として
は、トルエンスルホン酸およびN−ヒドロキシコハク酸
イミドなどが挙げられ、その使用量は、一般式[19]
の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜5倍モ
ルであればよい。また、所望に応じて用いられる塩基と
しては、N,N−ジメチルアミノピリジン、ピリジンお
よびトリエチルアミンなどが挙げられ、その使用量は、
一般式[19]の化合物に対して1〜100倍モル、好まし
くは、1〜10倍モルであればよい。この反応で使用され
る縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、
ジフェニルリン酸アジドおよびN,N'−カルボニルジイ
ミダゾールなどが挙げられ、その使用量は、一般式[1
9]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2
倍モルであればよい。この反応で使用される溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定さ
れないが、たとえば、テトラヒドロフランおよびエチル
エーテルなどのエーテル類;トルエン、ベンゼンおよび
キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロ
ロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素
類;アセトニトリルなどのニトリル類;n−ヘキサンお
よびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;酢酸エチ
ルなどのエステル類;アセトンなどのケトン類;ピリジ
ン並びにN,N−ジメチルホルムアミドなどが挙げら
れ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用し
てもよい。この反応は、通常、-78℃から溶媒の還流温
度、好ましくは、0〜30℃で、30分間〜24時間実施すれ
ばよい。
a]の化合物を、酸または塩基での加水分解反応、塩を
用いた脱エステル化反応または金属触媒水素添加反応を
含む還元的脱エステル化反応などの脱保護反応に付すこ
とにより得ることができる。この反応に用いられる酸と
しては、ギ酸、塩酸、硫酸、臭化水素酸、トリフルオロ
酢酸、塩化アルミニウムおよびヨウ化トリメチルシラン
などが挙げられ、その使用量は、一般式[5a]の化合
物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モル
であればよい。この反応に用いられる塩基としては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化バリウム
などの水酸化アルカリ並びにフッ化テトラブチルアンモ
ニウムなどが挙げられ、その使用量は、一般式[5a]
の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜30倍
モルであればよい。この反応に用いられる塩としては、
ヨウ化リチウムおよび塩化ナトリウムなどが挙げられ、
その使用量は、一般式[5a]の化合物に対して、1〜1
00倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。ま
た、還元的脱エステル化反応で用いられる触媒として
は、パラジウム−炭素、パラジウム−ブラックおよび水
酸化パラジウムなどが挙げられ、その使用量は、一般式
[5a]の化合物に対して0.001〜1倍モル、好ましく
は、0.01〜0.5倍モルであればよい。この反応で用いら
れる還元剤としては、水素、ギ酸、シクロヘキセンおよ
び亜鉛などが挙げられ、その使用量は、一般式[5a]
の化合物に対して1〜100倍モルであればよい。この反応
で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない
ものであれば特に限定されないが、たとえば、メタノー
ル、エタノールおよびイソプロピルアルコールなどのア
ルコール類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジ
オキサンおよびアニソールなどのエーテル類;塩化メチ
レン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化
炭化水素類;アセトニトリルなどのニトリル類;n−ヘ
キサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;
酢酸エチルなどのエステル類;トルエン、ベンゼンおよ
びキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジメチルスルホキ
シド、N,N−ジメチルホルムアミド、ニトロメタン、
ピリジン並びに水などが挙げられ、これらの溶媒を一種
または二種以上混合して使用してもよい。この反応は、
通常、0℃〜溶媒の還流温度、好ましくは、5〜60℃で、
10分間〜24時間実施すればよい。
3、R4およびZは、前記したと同様の意味を表す。」
a]の化合物を得る反応は、製造法2の一般式[12]
の化合物から、一般式[3a]の化合物を得る操作と同
様にして実施すればよい。
なって置換されていてもよいアルキル、シクロアルキル
またはアルアルキル基を表す。Xは、ハロゲン原子、ア
ルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオ
キシ基を;R1、R2(ただし、水素原子を除く。)お
よびZは、前記したと同様の意味を表す。」
に一般式[12]の化合物の酸塩化物または酸無水物と
一般式[13’]の化合物をフリーデル・クラフツ(Frie
del-Crafts)反応に付すことにより得ることができる。
この反応で使用する一般式[12]の化合物の酸塩化物
または酸無水物は、一般式[12]の化合物を塩化チオ
ニル、塩化オキサリル、五塩化リン、無水酢酸、クロロ
ギ酸エチルなどの活性化剤と反応させることにより得る
ことができる。その使用量は、一般式[12]の化合物
に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであれ
ばよい。この反応に用いられる酸としては、四塩化ス
ズ、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素および塩化亜鉛
などが挙げられ、その使用量は、一般式[12]の化合
物に対して0.5〜10倍モル、好ましくは、0.9〜6倍モル
であればよい。また、一般式[13’]の化合物の使用
量は、一般式[12]の化合物に対して0.1〜10倍モ
ル、好ましくは、0.3〜3倍モルであればよい。この反応
で使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホル
ムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;n−
ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素
類;ニトロベンゼン並びに二硫化炭素などが挙げられ、
これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用しても
よい。この反応は、通常、-78℃から溶媒の還流温度
で、好ましくは、-30〜30℃で、10分間〜24時間実施す
ればよい。なお、この反応において、使用する酸の量、
反応温度および/または反応溶媒の量などの反応条件を
調整することにより、直接、一般式[20b]の化合物を
得ることもできる。
たは塩の存在下、一般式[20a]の化合物を脱アルキ
ル化反応に付すことにより得ることができる。この反応
に用いられる酸としては、塩酸、硫酸および臭化水素酸
などの鉱酸;トリフルオロ酢酸、チオフェノールなどの
有機酸;並びにヨウ化トリメチルシラン、塩化アルミニ
ウム、三臭化ホウ素および塩化亜鉛などが挙げられる。
この反応に用いられる塩基としては、エチルメルカプタ
ンナトリウム塩、リチウムジイソプロピルアミドなど
が、挙げられる。また、この反応に用いられる塩として
は、シアン化ナトリウム、ヨウ化リチウム、ピリジン塩
酸塩などがあげられ、酸、塩基および塩の使用量は、各
々、一般式[20a]の化合物に対して1〜50倍モル、
好ましくは、2〜20倍モルであればよい。この反応で使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないもの
であれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、ト
ルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレング
リコールジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブな
どのエーテル類;酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエ
ステル類;アセトニトリルなどのニトリル類;メタノー
ル、エタノールおよびイソプロピルアルコールなどのア
ルコール類;N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,
N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;クロロホル
ムおよび塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;並
びにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが
挙げられ、鉱酸を用いる場合は、水を用いてもよい。ま
た、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用し
てもよい。この反応は、通常、-78℃から溶媒の還流温
度で、好ましくは、0〜110℃で、30分間〜24時間実施す
ればよい。
下に一般式[20b]の化合物を一般式[47]の化合
物とアルキル化反応に付すことにより得ることができ
る。この反応に用いられる一般式[47]の使用量は、
一般式[20b]の化合物に対して、1〜20倍モル、好
ましくは、1〜5倍モルであればよい。また、この反応に
用いられる塩基としては、たとえば、ジメチルアミノピ
リジン、トリエチルアミンおよびピリジンなどの有機ア
ミン類;水素化ナトリウムなどのアルカリ金属水素化
物;並びに炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのア
ルカリ金属炭酸塩などが挙げられ、その使用量は、一般
式[20b]の化合物に対して1〜20倍モル、好ましく
は、1〜5倍モルであればよい。この反応で用いられる溶
媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特
に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよ
びキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジ
エチルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテ
ル類;酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル類;
アセトニトリルなどのニトリル類; N,N−ジメチル
ホルムアミドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩化
メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;ならびにジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類が挙げられ、これ
らの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよ
い。この反応は、通常、0〜200℃、好ましくは、25〜15
0℃で10分間〜24時間実施すればよい。
0c]の化合物を酸または塩基での加水分解反応または
塩を用いた脱エステル化反応または金属触媒水素添加反
応を含む還元的脱エステル化反応などの脱保護反応に付
すことにより得ることができる。この反応に用いられる
酸としては、ギ酸、塩酸、硫酸、臭化水素酸、トリフル
オロ酢酸、塩化アルミニウムおよびヨウ化トリメチルシ
ランなどが挙げられ、その使用量は、一般式[20c]
の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100
倍モルであればよい。この反応に用いられる塩基として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化バ
リウムなどの水酸化アルカリ、フッ化テトラブチルアン
モニウムなどが挙げられ、その使用量は、一般式[20
c]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜
10倍モルであればよい。この反応で用いられる塩として
は、ヨウ化リチウムおよび塩化ナトリウムなどが挙げら
れ、その使用量は、一般式[20c]の化合物に対して
1〜10倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
また、たとえば、還元的脱エステル化反応で用いられる
触媒としては、パラジウム−炭素、パラジウム−ブラッ
クおよび水酸化パラジウムなどが挙げられ、その使用量
は、一般式[20c]の化合物に対して0.001〜1倍モ
ル、好ましくは、0.01〜0.5倍モルであればよい。還元
剤としては、水素、ギ酸、シクロヘキセンおよび亜鉛な
どが挙げられ、その使用量は、一般式[20c]の化合
物に対して1〜100倍モル、好ましくは、1〜10倍モルで
あればよい。この反応で使用される溶媒としては、反応
に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されない
が、たとえば、メタノール、エタノールおよびイソプロ
ピルアルコールなどのアルコール類;テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、ジオキサンおよびアニソールなど
のエーテル類;塩化メチレン、クロロホルムおよび四塩
化炭素などのハロゲン化炭化水素類;アセトニトリルな
どのニトリル類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサンな
どの脂肪族炭化水素類;酢酸エチルなどのエステル類;
トルエン、ベンゼンおよびキシレンなどの芳香族炭化水
素類;ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルム
アミド、ニトロメタン、ピリジン並びに水などが挙げら
れ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用し
てもよい。この反応は、通常、-78〜100℃、好ましく
は、5〜60℃で、10分間〜24時間実施すればよい。
[20e]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式
[20c]から一般式[20d]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。得られた一般式[20e]の化合物
は、たとえば、製造法9に記載の一般式[28b]から
一般式[28c]を得る操作と同様にして、ヒドロキシ
ル基をアシル化またはアルキル化することもできる。
28は前記したと同様の意味を表す。」
1a]の化合物を一般式[48]の化合物と反応に付す
ことにより得ることができる。この反応は、たとえば、
酸クロライドを経由する方法、酸無水物を経由する方
法、塩基、縮合剤および添加剤を用いる方法などが挙げ
られる。たとえば、塩基、縮合剤および添加剤を用いる
場合、この反応に用いられる一般式[48]としては、
メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミドなどが
挙げられ、その使用量は、一般式[21a]の化合物に
対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであれば
よい。この反応に用いられる塩基としては、たとえば、
ジメチルアミノピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0]ウンデク−7−エン、トリエチルアミン、ピリジン
およびN−メチルモルホリンなどの有機アミン類;炭酸
カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸
塩などが挙げられ、その使用量は、一般式[21a]の
化合物に対して0.5〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍モ
ルであればよい。縮合剤としては、たとえば、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミ
ド、N−エチル−N'−3−ジメチルアミノプロピルカ
ルボジイミド、1,1’−カルボニルジイミダゾールお
よびジフェニルホスホリルアジドなどが挙げられる。添
加剤としては、たとえば、1−ヒドロキシベンゾトリア
ゾ−ルおよびN−ヒドロキシスクシンイミドなどが挙げ
られ、それらの使用量は、一般式[21a]の化合物に
対して0.5〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであれ
ばよい。この反応で使用される溶媒としては、反応に悪
影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、た
とえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香
族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニ
ソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよび
ジメチルセロソルブなどのエーテル類;酢酸メチルおよ
び酢酸エチルなどのエステル類;アセトニトリルなどの
ニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,
N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;クロロホル
ムおよび塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;並
びにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが
挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して
使用してもよい。この反応は、通常、-20〜150℃、好ま
しくは、0〜120℃で30分間〜24時間実施すればよい。
1a]の化合物を一般式[22]の化合物とアミド化反
応に付すことにより得ることができる。この反応は、通
常のアミド化反応を使用すればよく、たとえば、酸クロ
ライドを経由する方法、酸無水物を経由する方法、塩
基、縮合剤および添加剤を用いる方法などが挙げられ
る。たとえば、塩基、縮合剤および添加剤を用いる場
合、この反応に用いられる一般式[22]の使用量は、
一般式[21a]の化合物に対して1〜10倍モル、好ま
しくは、1〜5倍モルであればよい。この反応に用いられ
る塩基としては、たとえば、ジメチルアミノピリジン、
トリエチルアミン、ピリジンおよびN−メチルモルホリ
ンなどの有機アミン類;炭酸カリウムおよび炭酸ナトリ
ウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げられ、その使
用量は、一般式[21a]の化合物に対して0.5〜10倍
モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。縮合剤と
しては、たとえば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、
ジイソプロピルカルボジイミド、N−エチル−N'−3
−ジメチルアミノプロピルカルボジイミドおよびジフェ
ニルホスホリルアジドなどが挙げられ、その使用量は、
一般式[21a]の化合物に対して1〜10倍モル、好ま
しくは、1〜2倍モルであればよい。添加剤としては、た
とえば、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ−ルおよびN−
ヒドロキシスクシンイミドなどが挙げられ、その使用量
は、一般式[21a]の化合物に対して0.5〜10倍モ
ル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。この反応で
使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないも
のであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、
トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレン
グリコールジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブ
などのエーテル類;酢酸メチルおよび酢酸エチルなどの
エステル類;アセトニトリルなどのニトリル類;N,N
−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセト
アミドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩化メチレ
ンなどのハロゲン化炭化水素類;並びにジメチルスルホ
キシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらの
溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。こ
の反応は、通常、-20〜150℃、好ましくは、0〜120℃で
30分間〜24時間実施すればよい。
に、保護する必要のある基、たとえば、カルボキシル基
などがある場合は、適宜、反応前に保護を行い、反応終
了後に脱保護を行い目的化合物を得ることができる。
たは−CH2CH2−を;R1、R2(ただし、水素原
子を除く。)、R3、R4およびXは、前記したと同様
の意味を表す。」
4]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式[12]
から一般式[20a]を得る操作と同様にして実施すれ
ばよい。
の存在下または非存在下に一般式[24]の化合物を脱
保護反応に付することにより得ることができる。 この
反応で所望に応じて用いられる酸としては、たとえば、
塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸およびp−トルエ
ンスルホン酸などが挙げられ、その使用量は、一般式
[24]の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1
0〜30倍モルであればよい。また、所望に応じて用いら
れる塩基としては、たとえば、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシドおよびカリウムtert−ブトキシド
などのアルカリ金属アルコキシド;水素化ナトリウムお
よび水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物;炭酸
カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸
塩;並びに水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなど
の水酸化アルカリなどが挙げられ、その使用量は、一般
式[24]の化合物に対して1〜50倍モル、好ましく
は、1〜30倍モルであればよい。この反応で使用される
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば
特に限定されないが、たとえば、メタノールおよびエタ
ノールなどのアルコール類;ベンゼン、トルエンおよび
キシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエ
チルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル
類;アセトニトリルなどのニトリル類;N,N−ジメチ
ルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドな
どのアミド類;クロロホルムおよび塩化メチレンなどの
ハロゲン化炭化水素類;酢酸;水;並びにジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これら
の溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、0〜150℃、好ましくは、25〜120℃
で30分間〜24時間実施すればよい。
a]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式[20
b]から一般式[20c]を得る操作と同様にして実施
すればよい。一般式[26a]の化合物から、一般式
[26b]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式
[20c]から一般式[20d]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。一般式[12c]の化合物から、一
般式[26a]の化合物を得る反応は、製造法7の一般
式[23]から一般式[24]を得る操作と同様にして
実施すればよい。
3およびR4は、前記したと同様の意味を表す。」
下に一般式[27a]の化合物にヨウ化メチル、臭化メ
チルなどを反応させることにより得ることができる。こ
の反応に用いられる塩基としては、たとえば、リチウム
ジイソプロピルアミドなどの有機リチウム;ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムtert
−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド;水素化
ナトリウムおよび水素化カリウムなどのアルカリ金属水
素化物;炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのアル
カリ金属炭酸塩;並びに水酸化ナトリウムおよび水酸化
カリウムなどの水酸化アルカリなどが挙げられる。塩基
の使用量は、一般式[27a]の化合物に対して1〜20
倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。ま
た、ヨウ化メチル、臭化メチルなどの使用量は、一般式
[27a]の化合物に対して1〜50倍モル、好ましく
は、1〜20倍モルであればよい。この反応で使用される
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば
特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンお
よびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコール
ジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエー
テル類;アセトニトリルなどのニトリル類;N,N−ジ
メチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩化メチレンな
どのハロゲン化炭化水素類;並びにジメチルスルホキシ
ドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒
を一種または二種以上混合して使用してもよい。この反
応は、通常、-78〜150℃、好ましくは、-60〜120℃で30
分間〜24時間実施すればよい。
[27c]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式
[20c]から一般式[20d]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。
びR34は、同一または異なって、水素原子またはアル
キル、シクロアルキル、アルアルキル、アリールもしく
は複素環式基を;R1、R2(ただし、水素原子を除
く。)、R3およびZは、前記したと同様の意味を表
す。」
9]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式[12]
から一般式[20a]を得る操作と同様にして実施すれ
ばよい。一般式[49]の化合物から、一般式[50
a]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式[20
c]から一般式[20d]を得る操作と同様にして実施
すればよい。
0a]の化合物をエステル化反応に付すことにより得る
ことができる。この反応は、通常のエステル化反応を使
用すればよく、たとえば、酸クロライドを経由する方
法、酸無水物を経由する方法、塩基およびアルキルハラ
イドを用いる方法ならびに縮合剤および添加剤を用いる
方法などが挙げられる。たとえば、塩基およびアルキル
ハライドを用いる場合、この反応に用いる塩基として
は、たとえばジメチルアミノピリジン、トリエチルアミ
ン、ピリジンおよびN-メチルモルホリンなどの有機ア
ミン類:炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのアル
カリ金属炭酸塩などが挙げられ、その使用量は、一般式
[50a]の化合物に対して0.5〜10倍モル、好ましく
は、1〜3倍モルであればよい。この反応で用いられるア
ルキルハライドとしては、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル
および臭化ベンジルなどが挙げられ、その使用量は、一
般式[50a]の化合物に対して0.5〜10倍モル、好ま
しくは、1〜3倍モルであればよい。この反応で用いられ
る溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれ
ば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエン
およびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、
テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエ
ーテル類;酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル
類;アセトニトリルなどのニトリル類;N,N−ジメチ
ルホルムアミドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩
化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;ならびにジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類が挙げられ、通
常0〜200℃、好ましくは、5〜100℃で10分間〜24時間実
施すればよい。たとえば、縮合剤および添加剤を用いる
場合、メタノール、エタノール、ベンジルアルコールな
どのアルコールを縮合剤および添加剤と縮合反応に付す
ことにより得ることができる。この反応で用いられる縮
合剤としては、たとえば、1,1’−カルボニルジイミ
ダゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプ
ロピルカルボジイミド、N−エチル−N’−3−ジメチ
ルアミノプロピルカルボジイミドおよびジフェニルホス
ホリルアジドなどが挙げられる。この反応で用いられる
添加剤としては、たとえば、1−ヒドロキシベンゾトリ
アゾールおよびN-ヒドロキシスクシンイミドなどが挙
げられる。この反応で用いられるアルコール、縮合剤お
よび添加剤の使用量は、各々一般式[50a]の化合物
に対して0.5〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであ
ればよい。この反応で用いられる溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、
たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳
香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ア
ニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよ
びジメチルセロソルブなどのエーテル類;酢酸メチルお
よび酢酸エチルなどのエステル類;アセトニトリルなど
のニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミドなどのア
ミド類;クロロホルムおよび塩化メチレンなどのハロゲ
ン化炭化水素類;ならびにジメチルスルホキシドなどの
スルホキシド類が挙げられる。この反応は、通常、0〜2
00℃、好ましくは、5〜100℃で10分間〜24時間実施すれ
ばよい。
0b]の化合物をアミド化反応に付すことにより得るこ
とができる。この反応は、通常のアミド化反応であり、
たとえば、酸クロライドを経由する方法、酸無水物を経
由する方法、塩基、縮合剤および添加剤を用いる方法な
どが挙げられる。たとえば、塩基、縮合剤および添加剤
を用いる場合、この反応に用いられるアミンとしては、
アンモニア、メチルアミン、ベンジルアミン、アニリ
ン、フェネチルアミン、イソプロピルアミンおよびアミ
ノチアゾールなどの一級アミン;ジメチルアミン、ジエ
チルアミンおよびジ−n−プロピルアミンなどの二級ア
ミンなどがあげられ、その使用量は、一般式[50b]
の化合物に対して0.5〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍
モルであればよい。この反応に用いる塩基としては、た
とえばジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ピ
リジンおよびN-メチルモルホリンなどの有機アミン
類:炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのアルカリ
金属炭酸塩などが挙げられ、その使用量は、一般式[5
0b]の化合物に対して0.5〜10倍モル、好ましくは、1
〜3倍モルであればよい。縮合剤としては、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミ
ド、N−エチル−N’−3−ジメチルアミノプロピルカ
ルボジイミドおよびジフェニルホスホリルアジドなどが
挙げられ、それらの使用量は、一般式[50b]の化合
物に対して0.5〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍モルで
あればよい。この反応で用いられる添加剤としては、た
とえば、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよびN-
ヒドロキシスクシンイミドなどが挙げられる。この反応
で用いられる縮合剤および添加剤の使用量は、各々、一
般式[50b]の化合物に対して0.5〜10倍モル、好ま
しくは、1〜3倍モルであればよい。この反応で用いられ
る溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれ
ば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエン
およびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、
テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエ
ーテル類;酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル
類;アセトニトリルなどのニトリル類;N,N−ジメチ
ルホルムアミドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩
化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;ならびにジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類が挙げられる。
この反応は、通常、-20〜150℃、好ましくは、0〜120℃
で30分間〜24時間実施すればよい。
[50d]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式
[20c]から一般式[20d]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。
23およびXは、前記したと同様の意味を表す。」
8a]の化合物を塩基存在下または非存在下、ヒドロキ
シルアミン塩酸塩と反応させることにより得ることがで
きる。この反応に用いられるヒドロキシルアミン塩酸塩
の使用量は、一般式[28a]の化合物に対して、1〜1
0倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。この
反応に所望に応じて用いられる塩基としては、たとえ
ば、水酸化ナトリウムなどの水酸化アルカリ;ジメチル
アミノピリジン、トリエチルアミン、ピリジンおよびN
−メチルモルホリンなどの有機アミン類;炭酸カリウム
および炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが
挙げられ、その使用量は、一般式[28a]の化合物に
対して0.5〜20倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであれ
ばよい。この反応で使用される溶媒としては、反応に悪
影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、た
とえば、メタノール、エタノールおよびイソプロピルア
ルコールなどのアルコール類;テトラヒドロフラン、エ
チルエーテル、ジオキサンおよびアニソールなどのエー
テル類;塩化メチレン、クロロホルムおよび四塩化炭素
などのハロゲン化炭化水素類;アセトニトリルなどのニ
トリル類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂
肪族炭化水素類;酢酸エチルなどのエステル類;トルエ
ン、ベンゼンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;
ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ニトロメタン、ピリジン並びに水などが挙げられ、
これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用しても
よい。この反応は、通常、-20〜150℃、好ましくは、0
〜120℃で30分間〜24時間実施すればよい。
下に一般式[28b]の化合物を一般式[47a]の化
合物とO−アルキル化またはアシル化反応に付すことに
より得ることができる。この反応に用いられる一般式
[47a]の使用量は、一般式[28b]の化合物に対
して、1〜20倍モル、好ましくは、1〜4倍モルであれば
よい。また、この反応に用いられる塩基としては、たと
えば、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンおよ
びピリジンなどの有機アミン類;水素化ナトリウムなど
のアルカリ金属水素化物;並びに炭酸カリウムおよび炭
酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げら
れ、その使用量は、一般式[28b]の化合物に対して
2〜20倍モル、好ましくは、1〜4倍モルであればよい。
この反応で用いられる溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、
ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水
素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、
ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびジメチル
セロソルブなどのエーテル類;酢酸メチルおよび酢酸エ
チルなどのエステル類;アセトニトリルなどのニトリル
類;メタノール、エタノールおよびイソプロピルアルコ
ールなどのアルコール類;N,N−ジメチルホルムアミ
ドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩化メチレンな
どのハロゲン化炭化水素類;ならびにジメチルスルホキ
シドなどのスルホキシド類が挙げられ、これらの溶媒を
一種または二種以上混合して使用してもよい。この反応
は、通常、0〜200℃、好ましくは、10〜150℃で10分間
〜24時間実施すればよい。
たは塩の存在下もしくは非存在下に一般式[28b]の
化合物を金属触媒水素添加反応を含む還元反応に付すこ
とにより得ることができる。この反応で所望に応じて用
いられる酸としては、塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ
酢酸、塩化ニッケルおよび塩化アルミニウムなどが挙げ
られ、その使用量は、一般式[28b]の化合物に対し
て1〜10倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよ
い。所望に応じて用いられる塩基としては、水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ、ア
ンモニア、ピリジンなどが挙げられ、その使用量は、一
般式[28b]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ま
しくは、1〜10倍モルであればよい。また、所望に応じ
て用いられる塩としては、塩化リチウム、塩化マグネシ
ウム、酢酸アンモニウムなどが挙げられ、その使用量
は、一般式[28b]の化合物に対して1〜10倍モル、
好ましくは、1〜5倍モルであればよい。還元剤として
は、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチウムアル
ミニウム、トリエチルシラン、水素、シクロヘキセン、
ジボラン、ナトリウムアマルガムおよびラネーニッケル
などが挙げられ、その使用量は、一般式[28b]の化
合物に対して1〜20倍モル、好ましくは、1〜10倍モルで
あればよい。また、触媒としては、パラジウム−炭素、
パラジウム−ブラックおよび水酸化パラジウムなどが挙
げられ、その使用量は、一般式[28b]の化合物に対
して0.001〜1倍モルであればよい。この反応で使用さ
れる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであ
れば特に限定されないが、たとえば、塩化メチレン、ク
ロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;
テトラヒドロフラン、エチルエーテルなどのエーテル
類;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
などのアルコール類;トルエン、ベンゼン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類;n−ヘキサン、シクロヘキサン
などの脂肪族炭化水素類;酢酸エチルなどのエステル
類;N,N−ジメチルホルムアミド;酢酸;ピリジン並
びに水などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種
以上混合して使用してもよい。この反応は、通常、-78
℃から溶媒の還流温度、好ましくは、0〜30℃で、30分
間〜24時間実施すればよい。
下に一般式[28e]の化合物をアルキル化、アミド
化、スルホンアミド化反応に付すことにより得ることが
できる。この反応に用いられるアルキル化剤としては、
たとえば、ヨウ化メチルおよびベンジルブロミドなどが
挙げられ、アミド化剤としては、たとえば無水酢酸など
の酸無水物並びにアセチルクロライドおよびベンゾイル
クロライドなどのハロゲン化アシル、スルホンアミド化
剤としては、メタンスルホニルクロライドおよびベンゼ
ンスルホニルクロライドなどのハロゲン化スルホニルが
挙げられる。これらの反応試剤の使用量は、一般式[2
8e]の化合物に対して、1〜20倍モル、好ましくは、1
〜4倍モルであればよい。また、この反応に用いられる
塩基としては、たとえば、ジメチルアミノピリジン、ト
リエチルアミンおよびピリジンなどの有機アミン類;並
びに炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのアルカリ
金属炭酸塩などが挙げられ、その使用量は、一般式[2
8e]の化合物に対して1〜20倍モル、好ましくは、1〜
4倍モルであればよい。この反応で用いられる溶媒とし
ては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定
されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシ
レンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチル
エーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル類;
酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル類;アセト
ニトリルなどのニトリル類;メタノール、エタノールお
よびイソプロピルアルコールなどのアルコール類;N,
N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類;クロロホル
ムおよび塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類が挙
げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使
用してもよい。この反応は、通常、0〜200℃、好ましく
は、10〜150℃で10分間〜24時間実施すればよい。ま
た、塩基の存在下に一般式[28e]の化合物をトリホ
スゲンと反応させた後、得られた活性中間体をアンモニ
ア水で処理することにより、カルバモイル化を行うこと
ができる。トリホスゲンの使用量は、一般式[28e]
の化合物に対して、0.3〜20倍モル、好ましくは、1〜4
倍モルであればよい。また、この反応に用いられる塩基
としては、たとえば、ジメチルアミノピリジン、トリエ
チルアミンおよびピリジンなどの有機アミン類などが挙
げられ、その使用量は、一般式[28e]の化合物に対
して1〜20倍モル、好ましくは、1〜4倍モルであればよ
い。この反応で用いられる溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえ
ば、クロロホルムおよび塩化メチレンなどのハロゲン化
炭化水素類が挙げられる。この反応は、通常、0〜70
℃、好ましくは、0〜30℃で30分間〜24時間実施すれば
よい。その後、一般式[28e]の化合物に対して、25
%アンモニア水1〜50v/w、好ましくは、5〜15v/wで処理
し、カルバモイル体を得ることができる。この反応は、
通常、0〜100℃、好ましくは、0〜30℃で10分間〜24時
間実施すればよい。
る必要のある基、たとえば、カルボキシル基などがある
場合は、反応前に適宜に保護を行った後に反応を行い、
反応終了後に脱保護を行い、目的化合物を得ることがで
きる。
25は、前記したと同様の意味を表す。」
b]の化合物をウィッティヒ(Wittig)反応試薬または
ホーナー・ワズワース・エモンズ(Honer-Wadsworth-Emmo
ns)反応試薬と反応させることにより得ることができ
る。具体的には、一般式[3b]の化合物をオルガニッ
ク・シンセシーズ・コレクティブ・ボリューム(organic s
yntheses collective volume)、第5巻、第751〜754頁
(1973年)記載の方法により合成されるウィッティヒ反
応試薬またはオルガニック・シンセシーズ・コレクティブ
・ボリューム、第5巻、第509〜513頁(1973年)記載の方
法により合成されるホーナー・ワズワース・エモンズ反応
試薬と反応させることにより得ることができる。この反
応に用いられるウィッティヒ反応試薬、ホーナー・ワズ
ワース・エモンズ反応試薬の使用量は、一般式[3b]
の化合物に対して1〜100倍モル、好ましくは、1〜10倍
モルであればよい。この反応に使用される溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定さ
れないが、例えば、ベンゼンおよびトルエンなどの芳香
族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフランおよび
ジエチルエーテルなどのエーテル類;酢酸エチルおよび
酢酸ブチルなどのエステル類;アセトニトリルなどのニ
トリル類;N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N
−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;クロロホルム
および塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;スル
ホランなどのスルホン類;並びにジメチルスルホキシド
などのスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を
一種または二種以上混合して使用してもよい。この反応
は、通常、-78℃〜溶媒の還流温度、好ましくは、0〜15
0℃で、30分間〜24時間実施すればよい。また、この反
応は、不活性気体(例えば、アルゴン、窒素)雰囲気下
で行うこともできる。
[3b]の化合物をグリニャール(Grignard)反応に付
すことにより得ることができる 具体的には、一般式[3b]の化合物をオルガニック・
シンセシーズ・コレクティブ・ボリューム、第1巻、第188
〜190頁(1956年)記載の方法により合成されるグリニ
ャール(Grignard)反応試薬と反応させることによっ
て、得ることがでる。この反応に用いられるグリニャー
ル反応試薬の使用量は、一般式[3b]の化合物に対し
て1〜100倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよ
い。この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさないものであれば特に限定されないが、例え
ば、ベンゼンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素類;
ジオキサン、テトラヒドロフランおよびジエチルエーテ
ルなどのエーテル類;並びにスルホランなどのスルホン
類などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上
混合して使用してもよい。この反応は、通常、-78℃〜
溶媒の還流温度、好ましくは、0〜150℃で、30分間〜24
時間実施すればよい。また、この反応は、不活性気体
(例えば、アルゴン、窒素)雰囲気下で行うこともでき
る。
f]の化合物を酸、塩基または脱水剤の存在下あるいは
非存在下に脱水させることによって、得ることができ
る。この反応に用いられる酸としては、塩酸、硫酸、リ
ン酸および臭化水素酸などの鉱酸;並びにパラトルエン
スルホン酸およびトリフルオロ酢酸などの有機酸などが
挙げられ、その使用量は、一般式[3f]の化合物に対
して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであれ
ばよい。この反応に用いられる塩基としては、水酸化ナ
トリウムなどの水酸化アルカリ;トリエチルアミンおよ
び1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン
などの有機アミン類などが挙げられ、その使用量は、一
般式[3f]の化合物に対して1〜1000倍モル、好まし
くは、1〜100倍モルであればよい。この反応に用いられ
る脱水剤としては、五酸化二リンおよびポリリン酸など
が挙げられ、その使用量は、一般式[3f]の化合物に
対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであ
ればよい。この反応に使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、
例えば、ベンゼンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素
類;ジオキサン、テトラヒドロフランおよびジエチルエ
ーテルなどのエーテル類;酢酸エチルおよび酢酸ブチル
などのエステル類;アセトニトリルなどのニトリル類;
N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩化
メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;スルホランなど
のスルホン類;並びにジメチルスルホキシドなどのスル
ホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を一種または
二種以上混合して使用してもよい。この反応は、通常、
-78℃〜溶媒の還流温度、好ましくは、0〜150℃で、30
分間〜24時間実施すればよい。また、この反応は、不活
性気体(例えば、アルゴン、窒素)雰囲気下で行うこと
もできる。
は塩の存在下あるいは非存在下に、一般式[3e]の化
合物または一般式[3f]の化合物を金属触媒水素添加
反応を含む還元反応に付すことにより得ることができ
る。この反応で用いられる酸としては、塩酸、硫酸、臭
化水素酸、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素およびト
リフルオロ酢酸などが挙げられ、その使用量は、一般式
[3e]の化合物または一般式[3f]の化合物に対し
て1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであれば
よい。この反応に用いられる塩基としては、水酸化ナト
リウムなどの水酸化アルカリ;トリエチルアミンおよび
ピリジンなどの有機アミン類などが挙げられ、その使用
量は、一般式[3e]の化合物または一般式[3f]の
化合物に対し、1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍
モルであればよい。この反応に用いられる塩としては、
塩化リチウムおよび塩化カルシウムなどが挙げられ、そ
の使用量は、一般式[3e]の化合物または一般式[3
f]の化合物に対して1〜100倍モル、好ましくは、1〜1
0倍モルであればよい。この反応に用いられる還元剤と
しては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウ
ム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチル
アルミニウム、トリエチルシラン、水素およびシクロヘ
キセンなどが挙げられ、その使用量は、一般式[3e]
の化合物または一般式[3f]の化合物に対して1〜10
倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。この反
応に用いられる触媒としては、パラジウム−炭素、パラ
ジウム−ブラックおよび水酸化パラジウムなどが挙げら
れ、その使用量は、一般式[3e]の化合物または一般
式[3f]の化合物に対して0.001〜1倍モル、好ましく
は、0.01〜0.5倍モルであればよい。この反応に使用さ
れる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであ
れば特に限定されないが、例えば、ベンゼンおよびトル
エンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒド
ロフランおよびジエチルエーテルなどのエーテル類;酢
酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類;メタノー
ルおよびエタノールなどのアルコール類;N,N−ジメ
チルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミド
などのアミド類;クロロホルムおよび塩化メチレンなど
のハロゲン化炭化水素類;スルホランなどのスルホン
類;ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水
素類;酢酸;ピリジン並びに水などが挙げられ、これら
の溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、-78℃〜溶媒の還流温度、好ましく
は、0〜30℃で、30分間〜24時間実施すればよい。
を得る反応において、R24およびR25が保護されて
いてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒド
ロキシル基あるいは保護されていてもよいアミノ基を含
む場合、適宜、保護および脱保護反応に付すことにより
目的物を得ることができる。
く。)、R3a、R4aおよびZaは、前記したと同様
の意味を表す。」
0a]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式[1
2]から一般式[20a]を得る操作と同様にして実施
すればよい。一般式[30a]の化合物から、一般式
[30b]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式
[20c]から一般式[20d]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。一般式[30b]の化合物から、一
般式[30c]の化合物を得る反応は、製造法2の一般
式[3b]から一般式[3c]を得る操作と同様にして
実施すればよい。一般式[30b]および[30c]の
化合物から、一般式[30d]の化合物を得る反応は、
製造法2の一般式[3b]および一般式[3c]から一
般式[3d]を得る操作と同様にして実施すればよい。
R28a、X1aおよびZaは、前記したと同様の意味
を表す。」
[31b]の化合物を得る反応は、製造法6の一般式
[21a]から一般式[21b]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。一般式[31a]の化合物から、一
般式[31c]の化合物を得る反応は、製造法6の一般
式[21a]から一般式[21c]を得る操作と同様に
して実施すればよい。
27aに保護する必要のある基、たとえば、カルボキシ
ル基などがある場合は、反応前に適宜、保護を行った後
に反応を行い、反応終了後に脱保護を行い目的化合物を
得ることができる。
または−CH2−CH2−を;R1a、R2a’(ただ
し、水素原子を除く。)、R3a、R4aおよびXは、
前記したと同様の意味を表す。」
3]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式[12]
から一般式[20a]を得る操作と同様にして実施すれ
ばよい。一般式[33]の化合物から、一般式[34]
の化合物を得る反応は、製造法7の一般式[24]から
一般式[25]を得る操作と同様にして実施すればよ
い。一般式[34]の化合物から、一般式[35a]の
化合物を得る反応は、製造法7の一般式[25]から一
般式[26a]を得る操作と同様にして実施すればよ
い。一般式[35a]の化合物から、一般式[35b]
の化合物を得る反応は、製造法7の一般式[26a]か
ら一般式[26b]を得る操作と同様にして実施すれば
よい。一般式[12b]の化合物から、一般式[35
a]の化合物を得る反応は、製造法12の一般式[3
2]から一般式[33]を得る操作と同様にして実施す
ればよい。
く。)、R3aおよびR4aは、前記したと同様の意味
を表す。」
[37b]の化合物を得る反応は、製造法8aの一般式
[27a]から一般式[27b]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。一般式[37b]の化合物から、一
般式[37c]の化合物を得る反応は、製造法8aの一
般式[27b]から一般式[27c]を得る操作と同様
にして実施すればよい。
23aおよびXは、前記したと同様の意味を表す。」
[38a]の化合物を得る反応は、製造法9の一般式
[28a]から一般式[28b]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。一般式[38a]の化合物から、一
般式[38b]の化合物を得る反応は、製造法9の一般
式[28b]から一般式[28c]を得る操作と同様に
して実施すればよい。一般式[38a]の化合物から、
一般式[38d]の化合物を得る反応は、製造法9の一
般式[28b]から一般式[28e]を得る操作と同様
にして実施すればよい。一般式[38d]の化合物か
ら、一般式[38e]の化合物を得る反応は、製造法9
の一般式[28e]から一般式[28f]を得る操作と
同様にして実施すればよい。
する必要のある基、たとえば、カルボキシル基などがあ
る場合は、反応前に適宜に保護を行った後に反応を行
い、反応終了後に脱保護を行い、目的化合物を得ること
ができる。
びR25aは、前記したと同様の意味を表す。」
[30e]の化合物を得る反応は、製造法9aの一般式
[3b]の化合物から、一般式[3e]の化合物を得る
操作と同様にして実施すればよい。一般式[30b]の
化合物から、一般式[30f]の化合物を得る反応は、
製造法9aの一般式[3b]の化合物から、一般式[3
f]の化合物を得る操作と同様にして実施すればよい。
一般式[30e]の化合物および一般式[30f]の化
合物から、一般式[30g]の化合物を得る反応は、製
造法9aの一般式[3e]の化合物および一般式[3
f]の化合物から一般式[3g]の化合物を得る操作と
同様にして実施すればよい。
0g]を得る反応において、R24 aおよびR25aが
保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていて
もよいヒドロキシル基あるいは保護されていてもよいア
ミノ基を含む場合、適宜、保護および脱保護反応に付す
ことにより目的物を得ることができる。
く。)、R3b、R4bおよびZbは、前記したと同様
の意味を表す。」
0a]の化合物を得る反応は、製造法10の一般式[2
9]から一般式[30a]を得る操作と同様にして実施
すればよい。一般式[40a]の化合物から、一般式
[40b]の化合物を得る反応は、製造法10の一般式
[30a]から一般式[30b]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。一般式[40b]の化合物から、一
般式[40c]の化合物を得る反応は、製造法10の一
般式[30b]から一般式[30c]を得る操作と同様
にして実施すればよい。一般式[40b]および一般式
[40c]の化合物から、一般式[40d]の化合物を
得る反応は、製造法10の一般式[30b]および一般
式[30c]の化合物から、一般式[30d]を得る操
作と同様にして実施すればよい。
く。)、R3c、R4cおよびZcは、前記したと同様
の意味を表す。」
2a]の化合物を得る反応は、製造法10の一般式[2
9]から一般式[30a]を得る操作と同様にして実施
すればよい。一般式[42a]の化合物から、一般式
[42b]の化合物を得る反応は、製造法10の一般式
[30a]から一般式[30b]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。一般式[42b]の化合物から、一
般式[42c]の化合物を得る反応は、製造法10の一
般式[30b]から一般式[30c]を得る操作と同様
にして実施すればよい。一般式[42b]および一般式
[42c]の化合物から、一般式[42d]の化合物を
得る反応は、製造法10の一般式[30b]および一般
式[30c]から一般式[30d]を得る操作と同様に
して実施すればよい。
く。)、R3d、R4d、ZdおよびXは、前記と同様
の意味を表す。」
素原子もしくはアシル基を;R36は、置換されていて
もよいアルキル、シクロアルキルまたはアルアルキル基
を;R4d’は、アシル基を;R2d(ただし、水素原
子を除く。)、R 3d、XおよびZdは、前記したと同
様の意味を表す。」
2a]の化合物の酸塩化物または酸無水物と一般式[1
3d]の化合物を塩基の存在下、反応させることにより
得ることができる。この反応で使用する一般式[12
a]の化合物の酸塩化物または酸無水物は、一般式[1
2a]の化合物を塩化チオニル、塩化オキサリル、五塩
化リン、無水酢酸、クロロギ酸エチルなどの活性化剤と
反応させることにより得ることができ、その使用量は、
一般式[12a]の化合物に対して、1〜10モル、好ま
しくは、1〜2倍モルであればよい。ここで使用する一般
式[13d]の化合物は、一般式[12a]の化合物に
対して、1〜20倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであれ
ばよい。この反応に用いられる塩基としては、たとえ
ば、n−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウムジ
イソプロピルアミドなどの有機リチウム;メチルマグネ
シウムブロミドなどの有機マグネシウムなどが挙げられ
る。塩基の使用量は、一般式[12a]の化合物に対し
て1〜20倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよ
い。この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえ
ば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭
化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびジメ
チルセロソルブなどのエーテル類;ヘキサン、シクロヘ
キサンなどの脂肪族炭化水素類などが挙げられ、これら
の溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、-78〜150℃、好ましくは、-78〜30
℃で30分間〜24時間実施すればよい。
[43b]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式
[12]から一般式[20a]を得る操作と同様にして
実施すればよい。一般式[12a]の化合物から、一般
式[43b]の化合物を得る反応は、製造法17の一般
式[12a]の化合物から一般式[43a]を得る操作
と同様にして実施すればよい。
下に一般式[43b]の化合物を一般式[47c]の化
合物とアルキル化反応に付すことにより得ることができ
る。この反応に用いられる[47c]の使用量は、一般
式[43b]の化合物に対して、1〜20倍モル、好まし
くは、1〜4倍モルであればよい。また、この反応に用い
られる塩基としては、たとえば、n−ブチルリチウム、
フェニルリチウムおよびリチウムジイソプロピルアミド
などの有機リチウム;ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシドおよびカリウムtert−ブトキシドなどのア
ルカリ金属アルコキシド;水素化ナトリウムおよび水素
化カリウムなどのアルカリ金属水素化物;炭酸カリウム
および炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩;並び
に水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化
アルカリなどが挙げられ、その使用量は、一般式[43
b]の化合物に対して2〜20倍モル、好ましくは、1〜4
倍モルであればよい。この反応で用いられる溶媒として
は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定さ
れないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレ
ンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエ
ーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル類;酢
酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル類;アセトニ
トリルなどのニトリル類;メタノール、エタノールおよ
びイソプロピルアルコールなどのアルコール類;N,N
−ジメチルホルムアミドなどのアミド類;クロロホルム
および塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;なら
びにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類が挙げ
られ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用
してもよい。この反応は、通常、-78〜200℃、好ましく
は、-50〜120℃で10分間〜24時間実施すればよい。
[43d]の化合物を得る反応は、製造法5の一般式
[20c]から一般式[20d]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。一般式[43d]の化合物から、一
般式[43e]の化合物を得る反応は、製造法2の一般
式[3b]から一般式[3c]を得る操作と同様にして
実施すればよい。一般式[43d]および一般式[43
e]の化合物から、一般式[43f]の化合物を得る反
応は、製造法2の一般式[3b]および一般式[3c]
の化合物から、一般式[3d]を得る操作と同様にして
実施すればよい。
[43g]の化合物を得る反応は、製造法17の一般式
[43a]から一般式[43b]を得る操作と同様にし
て実施すればよい。一般式[43g]の化合物から、一
般式[43h]の化合物を得る反応は、製造法17の一
般式[43b]から一般式[43c]を得る操作と同様
にして実施すればよい。一般式[43h]の化合物か
ら、一般式[43i]の化合物を得る反応は、製造法1
7の一般式[43c]から一般式[43d]を得る操作
と同様にして実施すればよい。一般式[43j]の化合
物は、一般式[43i]の化合物をO−アルキル化反応
に付すことにより得ることができる。一般式[43i]
の化合物から、一般式[43j]の化合物を得る反応
は、製造法9の一般式[28b]の化合物から一般式
[28c]を得る操作と同様にして実施すればよい。一
般式[43j]の化合物から、一般式[43k]の化合
物を得る反応は、製造法5の一般式[20c]から一般
式[20d]を得る操作と同様にして実施すればよい。
除く。)、R3e、R4 eおよびZeは、前記したと同
様の意味を表す。」
4a]の化合物を得る反応は、製造法10の一般式[2
9]の化合物から、一般式[30a]を得る操作と同様
にして実施すればよい。一般式[44a]の化合物か
ら、一般式[44b]の化合物を得る反応は、製造法1
0の一般式[30a]の化合物から、一般式[30b]
を得る操作と同様にして実施すればよい。一般式[44
b]の化合物から、一般式[44c]の化合物を得る反
応は、製造法10の一般式[30b]の化合物から、一
般式[30c]を得る操作と同様にして実施すればよ
い。一般式[44b]および一般式[44c]の化合物
から、一般式[44d]の化合物を得る反応は、製造法
10の一般式[30b]および一般式[30c]の化合
物から、一般式[30d]を得る操作と同様にして実施
すればよい。
く。)、R3f、R4fおよびZfは、前記したと同様
の意味を表す。」
6a]の化合物を得る反応は、製造法10の一般式[2
9]の化合物から、一般式[30a]を得る操作と同様
にして実施すればよい。一般式[46a]の化合物か
ら、一般式[46b]の化合物を得る反応は、製造法1
0の一般式[30a]の化合物から、一般式[30b]
を得る操作と同様にして実施すればよい。一般式[46
b]の化合物から、一般式[46c]の化合物を得る反
応は、製造法10の一般式[30b]の化合物から、一
般式[30c]を得る操作と同様にして実施すればよ
い。一般式[46b]および一般式[46c]の化合物
から、一般式[46d]の化合物を得る反応は、製造法
10の一般式[30b]および一般式[30c]の化合
物から、一般式[30d]を得る操作と同様にして実施
すればよい。
く。)、R4gおよびZgは、前記したと同様の意味を
表す。」
[51a]の化合物を得る反応は、製造法2の一般式
[12]から一般式[3a]を得る操作と同様にして実
施すればよい。一般式[51a]の化合物から、一般式
[51b]の化合物を得る反応は、製造法2の一般式
[3a]から一般式[3b]を得る操作と同様にして実
施すればよい。一般式[51b]の化合物から、一般式
[51c]の化合物を得る反応は、製造法2の一般式
[3b]から一般式[3c]を得る操作と同様にして実
施すればよい。一般式[51b]および一般式[51
c]の化合物から、一般式[51d]の化合物を得る反
応は、製造法2の一般式[3b]および一般式[3c]
の化合物から、一般式[3d]を得る操作と同様にし
て、実施すればよい。
て、塩の形態を取りうる化合物は、塩として使用するこ
ともでき、それらの塩としては、たとえば、式1のファ
ーマコフォーに適合する化合物、一般式[2]、[2
b]、[3]、[4]、[5]、[a]、[b]、
[c]、[d]、[e]、[f]および[g]の化合物
の塩で説明したと同様の塩が挙げられる。
て、異性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体および
互変異性体など)が存在する場合、これらの異性体も使
用することができ、また、溶媒和物、水和物および種々
の形状の結晶が存在する場合、これらの溶媒和物、水和
物および種々の形状の結晶も使用することができる。ま
た、上記した製造法で使用される化合物において、保護
しうる置換基、たとえば、アミノ基、ヒドロキシル基、
メルカプト基またはカルボキシル基などを有している化
合物は、予めこれらの基を通常の保護基で保護してお
き、反応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離す
ることもできる。
常製剤化に使用される賦形剤、担体および希釈剤などの
製剤補助剤を適宜混合してもよく、これらは常法にした
がって、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ剤、顆粒
剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏
剤または注射剤などの形態で経口または非経口で投与す
ることができる。また投与方法、投与量および投与回数
は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択する
ことができ、通常成人に対しては、経口または非経口
(たとえば、注射、点滴および直腸部位への投与など)
的投与により、1日、0.1〜100mg/kgを1回から数回に
分割して投与すればよい。
コフォーとの適合性について説明する。以下の表中の距
離の単位はオングストロームである。たとえば、実施例
3の(5)の
5は、黒丸で示される原子を示し、この原子は、式1中
のN1、N2、N3、N4およびN5に対応する原子を
意味する」の環状ペプチドは、図中のNa 1、Na 2、N
a 3、Na 4およびNa 5が以下の表38の性質を有し、
また、各々の原子間の距離が、表39で示される局所安
定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNb 2、Nb 3、Nb 4およびNb 5が以下
の表40の性質を有し、また、各々の原子間の距離が、
表41で示される局所安定構造が存在する。
致する。
される原子を示し、この原子は、式1中のN2、N3お
よびN4に対応する原子を意味する」の化合物は、図中
のNc 2、Nc 3およびNc 4が、以下の表42の性質を
有し、また、各々の原子間の距離が、表43で示される
局所安定構造が存在する。
致する。
5は、黒丸で示される原子を示し、この原子は、式1中
のN1、N2、N3、N4およびN5に対応する原子を
意味する」の環状ペプチドは、図中のNd 1、Nd 2、N
d 3、Nd 4およびNd 5が、以下の表44の性質を有
し、また、各々の原子間の距離が、表45で示される局
所安定構造が存在する。
致する。
5は、黒丸で示される原子を示し、この原子は、式1中
のN1、N2、N3、N4およびN5に対応する原子を
意味する」の環状ペプチドは、図中のNe 1、Ne 2、N
e 3、Ne 4およびNe 5が、以下の表46の性質を有
し、また、各々の原子間の距離が、表47で示される局
所安定構造が存在する。
致する。
5は、黒丸で示される原子を示し、この原子は、式1中
のN1、N2、N3、N4およびN5に対応する原子を
意味する。」の環状ペプチドは、図中のNf 1、Nf 2、
Nf 3、Nf 4およびNf 5が、以下の表48の性質を有
し、また、各々の原子間の距離が、表49で示される局
所安定構造が存在する。
致する。
5は、黒丸で示される原子を示し、この原子は、式1中
のN1、N2、N3、N4およびN5に対応する原子を
意味する」の環状ペプチドは、図中のNg 1、Ng 2、N
g 3、Ng 4およびNg 5が、以下の表50の性質を有
し、また、各々の原子間の距離が、表51で示される局
所安定構造が存在する。
致する。
5は、黒丸で示される原子を示し、この原子は、式1中
のN1、N2、N3、N4およびN5に対応する原子を
意味する」の環状ペプチドは、図中のNh 1、Nh 2、N
h 3、Nh 4およびNh 5が、以下の表52の性質を有
し、また、各々の原子間の距離が、表53で示される局
所安定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNi 2、Ni 3、Ni 4およびNi 5が、以
下の表54の性質を有し、また、各々の原子間の距離
が、表55で示される局所安定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNj 2、Nj 3、Nj 4およびNj 5が、以
下の表56の性質を有し、また、各々の原子間の距離
が、表57で示される局所安定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNk 2、Nk 3、Nk 4およびNk 5が、以
下の表58の性質を有し、また、各々の原子間の距離
が、表59で示される局所安定構造が存在する。
致する。
5は、黒丸で示される原子を示し、この原子は、式1中
のN1、N2、N3、N4およびN5に対応する原子を
意味する」の環状ペプチドは、図中のNl 1、Nl 2、N
l 3、Nl 4およびNl 5が、以下の表60の性質を有
し、また、各々の原子間の距離が、表61で示される局
所安定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNm 2、Nm 3、Nm 4およびNm 5が、以
下の表62の性質を有し、また、各々の原子間の距離
が、表63で示される局所安定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNn 2、Nn 3、Nn 4およびNn 5が、以
下の表64の性質を有し、また、各々の原子間の距離
が、表65で示される局所安定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNo 2、No 3、No 4およびNo 5が、以
下の表66の性質を有し、また、各々の原子間の距離
が、表67で示される局所安定構造が存在する。
致する。
される原子を示し、この原子は、式1中のN2、N3お
よびN5に対応する原子を意味する」の化合物は、図中
のNp 2、Np 3およびNp 5が、以下の表68の性質を
有し、また、各々の原子間の距離が、表69で示される
局所安定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNq 2、Nq 3、Nq 4およびNq 5が、以
下の表70の性質を有し、また、各々の原子間の距離
が、表71で示される局所安定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNr 2、Nr 3、Nr 4およびNr 5が、以
下の表72の性質を有し、また、各々の原子間の距離
が、表73で示される局所安定構造が存在する。
致する。
丸で示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、
N3、N4およびN5に対応する原子を意味する」の化
合物は、図中のNs 2、Ns 3、Ns 4およびNs 5が、以
下の表74の性質を有し、また、各々の原子間の距離
が、表75で示される局所安定構造が存在する。
致する。
る
示される原子を示し、この原子は、式1中のN2、N3
およびN5に対応する原子を意味する」の化合物は、図
中のNt 2、Nt 3およびNt 5が、以下の表76の性
質を有し、また、各々の原子間の距離が、表77で示さ
れる局所安定構造が存在する。
致する。
薬理作用を説明する。 [試験方法] 試験例1 AP−1とその認識配列の結合反応に対する
作用(ELISA) ヒーラ(Hela)細胞より調製した転写因子AP−1を含
む核抽出タンパク質をヘペス緩衝液(20mMヘペス−水酸
化カリウム(pH7.9)、0.5mMエチレンジアミン四酢酸、
50mM塩化カリウム、10%グリセロール)中、96ウェルEL
ISAプレートに固相化し(100ng/ウェル)、洗浄後、牛
血清由来アルブミンによりブロッキング処理を行った
後、核抽出タンパク質を用いたバインディングアッセイ
に使用した。また、DNAとの結合部位を含むJunペ
プチド並びにN末端にグリシン4残基を介してビオチン
を標識したFosペプチド[ネイチャー(Nature)、第
373巻、第257-261頁、1995年]を合成し、各々、トリス
緩衝液[20mMトリス−塩酸(pH7.5)、50mM塩化カリウ
ム、1mMエチレンジアミン四酢酸、10mM塩化マグネシウ
ム、1mMジチオスレイトール、0.5Mグアニジン塩酸、30
%グリセロール]に溶解後、等モル量混和し、AP−1複
合体(Fos/Junペプチド)として使用した。AP
−1複合体は、アビジン固相化を行った96ウェルELISA
プレートに添加し(10pmol/ウェル)、洗浄した後、牛
血清由来アルブミンによりブロッキング処理を行い、A
P−1複合体を用いたバインディングアッセイに使用し
た。これら2種類の固相化AP−1を基に、委託合成し
たAP−1結合配列(3’−TGAGTCA−5’)を
含むジゴキシゲニン標識した二本鎖オリゴヌクレオチド
(22mer)を結合反応溶液[ヘペス緩衝液または25mMト
リス−塩酸(pH7.9)、0.5mMエチレンジアミン四酢酸、
0.05%ノニデットP−40(Nonidet P-40)、10%グリ
セロール]中で、サンプル存在下および非存在下に室温
で30〜60分間反応させた。反応終了後、未結合の標識オ
リゴヌクレオチドを0.05%のTween-20を含むヘペス緩衝
液で洗浄除去した。ついで、ペルオキシダーゼ標識の抗
ジゴキシゲニン抗体を添加し、AP−1に結合した標識
オリゴヌクレオチドと反応させた。過剰の抗体を0.05%
のTween-20を含むヘペス緩衝液で洗浄除去後、オルトフ
ェニレンジアミンを基質として過酸化水素を含む100mM
クエン酸緩衝液(pH5.0)中で一定時間反応させ、硫酸
水溶液を各ウェルに添加した後、吸光度(492nm)を測
定した。サンプル非存在下で得られる吸光度を100%と
してサンプル存在下で得られる吸光度からサンプルの阻
害率を算出した。結果を表78および表79に示す。
例17の方法に準じ、ナトリウム塩とした後、測定を行
った。また、実施例番号68(8)は、2つの異性体の
内、極性の低いものについて測定を行った。
を用いた場合は、500μMで10%以上の阻害を示す化合物
が好ましく、核抽出タンパク質を用いた場合は、100μM
で10%以上の阻害を示す化合物が好ましい。
合物の効果を試験した。8週齢の雄性DBA/1Jマウス(日本
チャールス・リバー)を使用した。0.1mol/L酢酸に溶解し
た2mg/mLウシII型コラーゲン溶液(高研)に等量のフロ
インド完全アジュバント(ナカライテスク)を加え、エ
マルジョンを作製し、0.2mlを尾根部皮内に注射した。
初回接種時から22日めに同様の処置を行い、関節炎を誘
発した。化合物は、0.5%メチルセルロース水溶液に懸
濁し、100mg/kgを22日めから36日めまで1日1回経口投与
した。なお、コントロール群(陰性対照群)には、0.5
%メチルセルロース水溶液を同様に投与した。関節炎の
強さは、変化なしを0点、1、2指関節の腫脹もしくは手
根部・足根部関節のみの軽い腫脹を1点、それ以上の関
節に腫脹・発赤のみられるものを2点、前肢又は後肢全体
にわたって明らかな腫脹が認められるものを3点とし、
四肢の合計の満点を12点とする関節炎スコアとして評価
した。関節・骨破壊の程度は、37日めに四肢のX線写真
を撮影し、第2〜5指間関節、第1〜5中手指及び中足指関
節、踵骨については骨破壊像の有無により0または1点、
手根部及び足根部については破壊の程度により0〜3点で
評価し、四肢で最高50点の関節・骨破壊スコアとした。
初回接種時から37日めの結果は、コントロール群の関節
炎スコアが8、関節・骨破壊スコアが26に対して、化
合物投与群では、各々3、10であり、それぞれコント
ロール群に対し、63%、62%の抑制が見られた。
発明はこれら実施例に限定されない。アミノ酸残基は、
IUPACおよびIUBの定める3文字表記を使用す
る。また、特に定義しない場合は、L体を意味する。ま
た、以下の略号は、以下の意味を表す。 Fmoc:9-フルオレニルメトキシカルボニル PyBOP:ベンゾトリアゾール−1−イル−オキシ−トリス
−ピロリジノ−ホスフォニウムヘキサフルオロフォスフ
ェート HOBt:N-ヒドロキシベンゾトリアゾール・1水和物 DMF:N,N-ジメチルホルムアミド DIEA:N,N-ジイソプロピルエチルアミン DCM:ジクロロメタン TFA:トリフルオロ酢酸 DMSO:ジメチルスルホキシド Cys(Trt):S-トリチル-L-システイン Asp(tBu):L-アスパラギン酸β-tert-ブチルエステル Ac:アセチル Me:メチル Et:エチル nPr:n-プロピル iPr:イソプロピル iBu:イソブチル iAm:イソアミル Ph:フェニル Py:ピリジル (4-NO2)PhCH2:パラニトロベンジル CDCl3:重クロロホルム d6-DMSO:重ジメチルスルホキシド また、(Cys1-Cys10)は、1番目と10番目のCys残基
の間にジスルフィド結合を有有し、(Cys2-Cys11)
は、2番目と11番目のCys残基の間にジスルフィド結合を
有することを意味する。HPLC精製は、以下の条件で行っ
た。 カラム:YMC PROTEIN-RP(250×20mm I.D.) 溶出速度:8.0ml/min 検出波長:UV 230nm 溶出溶媒:CH3CN(10-30%) in 0.1%TFA-H2O (30分
間) シリカゲルカラムクロマトグラフィーの担体は、BW-127
ZH(富士シリシア化学製)を使用した。
樹脂を膨潤させた後、20%ピペリジン/DMF溶液15mlを加
え、20分間振とうし、Fmoc基を除去する。得られた樹脂
をDMFで6回洗浄後、Fmoc-Cys(Trt)-OH 1.46g、HOBt 0.3
8g、PyBOP 1.30gおよびDMF 12ml、DIEA 0.87mlを順次加
え、60分間振とうさせる。反応液を濾去した後、樹脂を
DMFで6回洗浄する。同様の操作で、C端側から順次アミ
ノ酸(Fmocアミノ酸誘導体は、順に、Fmoc-Gly-OH、Fmo
c-Asp(tBu)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Leu-OH、Fmoc-Asp
(tBu)-OH、Fmoc-Leu-OH、Fmoc-Gln-OH、Fmoc-Gly-OH、F
moc-Cys(Trt)-OHを順次使用する。)を縮合させる。ペ
プチド主鎖構築後、20%ピペリジン/DMF溶液でFmoc基を
脱保護し、DMF-DCM(1:1)混合溶液15ml中、無水酢酸0.9
4mlおよびDIEA 1.74mlを加え、30分間振とうさせる。反
応液を濾去後、DMFで4回、DCMで3回、樹脂を洗浄すれ
ば、Ac-Cys(Trt)-Gly-Gln-Leu-Asp(tBu)-Leu-Ala-Asp(t
Bu)-Gly-Cys(Trt)-Rink amide MBHA樹脂3.16gを得る。
アニソール−水(92.5:5:2.5)混合溶液40mlに加え、4
時間振とうさせる。不溶物を濾去し、濾液を減圧下に濃
縮する。残渣にジエチルエーテル100mlを加え、氷冷下
で30分間放置する。反応混合物を遠心分離した後、残渣
に10%酢酸水溶液100mlを加える。不溶物を濾去した
後、濾液を凍結乾燥すれば、直鎖ペプチドパウダーを得
る。得られた直鎖ペプチドパウダー全体の約1/4を分取
し、10%DMSO/TFA混合溶液40mlに溶解させ、室温で15時
間放置する。反応液を減圧下に濃縮し、ジエチルエーテ
ル50mlを加え、氷冷下で30分間放置する。反応混合物を
遠心分離後、残渣に10%酢酸水溶液15mlを加え、不溶物
を濾去する。得られた濾液をHPLCで精製し、凍結乾燥す
れば、Ac-Cys1-Gly-Gln-Leu-Asp-Leu-Ala-Asp-Gly-Cys
10-NH2(Cys1-Cys 10)6mgを得る。 ESI-MS: m/z 1033 for [M+H]+ (calcd 1032 for C
40H64N12O16S2)
10-NH2(Cys1-Cys1 0) ESI-MS: m/z 1031 for[M+H]+ (calcd 1030 for C
42H70N12O14S2) 3(2) Ac-Cys1-Gly-Gln-Leu-Ser-Leu-Ala-Leu-Gly-Cys
10-NH2(Cys1-Cys1 0) ESI-MS: m/z 1003 for[M+H]+ (calcd 1002 for C
41H70N12O13S2) 3(3) Ac-Cys1-Gly-Gln-Leu-Asp-Leu-Ala-Gly-Gly-Cys
10-NH2(Cys1-Cys1 0) ESI-MS: m/z 975 for[M+H]+ (calcd 974 for C38H
62N12O14S2) 3(4) Ac-Cys1-Gly-Gln-Leu-Asp-Leu-Ala-Asn-Gly-Cys
10-NH2(Cys1-Cys1 0) ESI-MS: m/z 1032 for[M+H]+ (calcd 1031 for C
40H65N13O15S2) 3(5) Ac-Cys1-Gly-Gln-Leu-Ser-Leu-Ala-Asp-Gly-Cys
10-NH2(Cys1-Cys1 0) ESI-MS: m/z 1005 for[M+H]+ (calcd 1004 for C
39H64N12O15S2) 3(6) Ac-Cys1-Gly-Asn-Leu-Asp-Leu-Ala-Asp-Gly-Cys
10-NH2(Cys1-Cys1 0) ESI-MS: m/z 1019 for[M+H]+ (calcd 1018 for C
39H62N12O16S2) 3(7) Ac-Asn-Cys2-Gly-Asn-Leu-Leu-Ala-Leu-Gly-Ser
-Cys11-NH2(Cys2-Cys11) ESI-MS: m/z 1103 for[M+H]+ (calcd 1102 for C
44H74N14O15S2) 3(8) Ac-Cys1-Gly-Asn-Leu-Leu-Ala-Leu-Gly-Ser-Cys
10-NH2(Cys1-Cys1 0) ESI-MS: m/z 989 for[M+H]+ (calcd 988 for C40H
68N12O13S2) 3(9) Ac-Asn-Cys2-Gly-Asn-Ala-Leu-Ala-Leu-Gly-Ser
-Cys11-NH2(Cys2-Cys11) ESI-MS: m/z 1061 for[M+H]+ (calcd 1060 for C
41H68N14O15S2) 3(10) Ac-Cys1-Gly-Asn-Leu-Leu-Ala-Leu-Gly-Asp-Cy
s10-NH2(Cys1-Cys 10) ESI-MS: m/z 1017 for[M+H]+ (calcd 1016 for C
41H68N12O14S2) 3(11) Ac-Cys1-Gly-Asn-Leu-Leu-Ser-Leu-Gly-Asp-Cy
s10-NH2(Cys1-Cys 10) ESI-MS: m/z 1033 for[M+H]+ (calcd 1032 for C
41H68N12O15S2)
4−アザスピロ[4.5]−デカン−3−カルボン酸0.
79g、トリエチルアミン1.20mlを塩化メチレン8mlに溶解
させる。この溶液にイソカプロン酸0.48ml、塩化オキサ
リル0.38mlおよび塩化メチレン5mlより調製した塩化イ
ソカプロイルを含む塩化メチレン溶液を5〜10℃で滴下
し、室温で2時間撹拌する。反応混合物にクロロホルム
および水を加え、2mol/L塩酸でpH2.0に調整し、有機層
を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に
溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー[溶離液;クロロホルム:メタノール
=9:1]で精製すれば、無色結晶の(3S)−8−(3
−メチルブチリデン)−4−(4−メチルペンタノイ
ル)−1−チア−4−アザスピロ[4.5]−デカン−
3−カルボン酸1.10gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.7-1.1(12H,m), 1.2-3.4(18H,m),
4.8-5.3(2H,m), 6.9-7.4(1H,bs)
チル)安息香酸0.62gを塩化メチレン6mlに溶解させ、室
温で塩化オキサリル0.25mlを加えた後、室温で1時間撹
拌する。5〜10℃で塩化アルミニウム0.62gおよび1,3
−ジイソブトキシベンゼン0.77gを順次加えた後、室温
で1時間撹拌する。反応混合物をクロロホルムおよび水
の混合物に加え、有機層を分取する。得られた有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;n
−ヘキサン:酢酸エチル=95:5]で精製すれば、無色
油状物の2−[5−(2,4−ジイソブトキシベンゾイ
ル)−2−イソブトキシフェニル]酢酸メチル0.63gを
得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.73(6H,d,J=6.6Hz), 1.02(6H,d,J=6.
6Hz), 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.5-2.4(3H,m), 3.5-4.0(1
1H,m), 6.4-6.7(2H,m), 6.81(1H,d,J=8.1Hz), 7.35(1H,
d,J=8.5Hz), 7.5-7.9(2H,m)
キシベンゾイル)−2−イソブトキシ安息香酸イソブチ
ルを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.69(6H,d,J=6.6Hz), 0.9-1.2(18H,
m), 1.2-2.4(4H,m), 3.63(2H,d,J=6.3Hz), 3.77(2H,d,J
=6.6Hz), 3.85(2H,d,J=7.6Hz), 4.06(2H,d,J=6.6Hz),
6.3-6.7(2H,m), 6.95(1H,d,J=8.8Hz), 7.40(1H,d,J=8.1
Hz), 7.94(1H,dd,J=8.7,2.4Hz), 8.17(1H,d,J=2.4Hz)
−イソブトキシフェニル]酢酸メチル0.57gをメタノー
ル6mlに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム0.72mlを加
えた後、室温で1時間、ついで50〜60℃で1時間撹拌す
る。反応混合物にクロロホルムおよび水を加え、2mol/L
塩酸でpH2.0に調整し、有機層を分取する。得られた有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、無色
結晶の2−[5−(2,4−ジイソブトキシベンゾイ
ル)−2−イソブトキシフェニル]酢酸0.45gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.7-1.1(18H,m), 1.5-2.3(3H,m), 3.
6-3.9(8H,m), 6.4-7.8(7H,m)
キシベンゾイル)−2−イソブトキシ安息香酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.65(6H,d,J=6.8Hz), 0.9-1.2(12H,
m), 1.2-2.4(3H,m), 3.62(2H,d,J=6.4Hz), 3.78(2H,d,J
=6.6Hz), 4.10(2H,d,J=6.4Hz), 6.4-6.6(2H,m), 7.0-8.
6(1H,bs), 7.09(1H,d,J=8.8Hz), 7.44(1H,d,J=8.5Hz),
8.11(1H,dd,J=8.8,2.2Hz), 8.47(1H,d,J=2.2Hz)
−イソブトキシフェニル]酢酸100mgをメタノール2mlに
溶解させ、5〜10℃で水素化ホウ素ナトリウム18mgを加
えた後、50〜60℃で1時間撹拌する。さらに、室温で水
素化ホウ素ナトリウム40mgおよび塩化リチウム40mgを加
えた後、50〜60℃で2時間撹拌する。反応混合物にクロ
ロホルムおよび水を加え、2mol/L塩酸でpH2.0に調整
し、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去すれば、無色油状物の2−{5
−[(2,4−ジイソブトキシフェニル)(ヒドロキ
シ)メチル]−2−イソブトキシフェニル}酢酸50mgを
得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.7-1.1(18H,m), 1.5-2.3(3H,m), 3.
4-3.9(10H,m), 5.93(1H,s), 5.7-7.5(6H,m)
ソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]
プロピオン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.70(6H,d,J=6.8Hz), 1.0-1.1(12H,
m), 1.23(3H,t,J=7.1Hz),1.5-2.3(3H,m), 2.4-2.7(2H,
m), 2.8-3.1(2H,m), 3.6-3.8(6H,m), 4.12(2H,q,J=6.8H
z), 6.4-6.6(2H,m), 6.78(1H,d,J=9.3Hz), 7.2-7.4(1H,
m), 7.5-7.7(2H,m)
ソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]
−2−プロペン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.68(6H,d,J=6.6Hz), 1.01(6H,d,J=
6.3Hz), 1.07(6H,d,J=6.1Hz), 1.33(3H,t,J=7.1Hz), 1.
6-2.4(3H,m), 3.6-3.9(6H,m), 4.25(2H,q,J=7.1Hz), 6.
3-8.1(8H,m)
ソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]
プロピオン酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.70(6H,d,J=6.8Hz), 1.0-1.1(12H,
m), 1.6-2.4(3H,m), 2.5-2.8(2H,m), 2.8-3.1(2H,m),
3.62(2H,d,J=6.4Hz), 3.77(2H,d,J=6.3Hz), 3.80(2H,d,
J=6.1Hz), 6.4-6.6(2H,m), 6.79(1H,d,J=9.0Hz), 7.2-
7.5(1H,m), 7.6-7.8(2H,m), 7.8-8.8(1H,bs)
ソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]
−2−プロペン酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.68(6H,d,J=6.6Hz), 1.06(6H,d,J=
6.6Hz), 1.08(6H,d,J=6.8Hz), 1.5-2.4(3H,m), 3.63(2
H,d,J=6.3Hz), 3.7-3.9(4H,m), 6.4-8.2(9H,m)
−イソブトキシフェニル]−2−プロペン酸150mgをテ
トラヒドロフラン2mlに溶解させ、5〜10℃で水素化リチ
ウムアルミニウム14mgを添加後、1時間撹拌する。反応
混合物をクロロホルムおよび水の混合物に加え、2mol/L
塩酸でpH3.0に調整し、有機層を分取する。得られた有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離
液;n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1]で精製すれば、
無色泡状物の3−[5−[(2,4−ジイソブトキシフ
ェニル)(ヒドロキシ)メチル]−2−イソブトキシフ
ェニル]−2−プロペン酸80mgを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.9-1.1(18H,m), 1.8-2.4(3H,m), 3.
6-4.0(7H,m), 5.94(1H,bs), 6.3-7.7(8H,m), 8.08(1H,
d,J=16.4Hz)
ジイソブトキシフェニル)(ヒドロキシ)メチル]−2
−イソブトキシフェニル}プロピオン酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.7-1.1(18H,m), 1.7-2.3(3H,m), 2.
5-3.1(4H,m), 3.4-3.9(7H,m), 5.93(1H,bs), 6.2-8.0(7
H,m)
−イソブトキシフェニル]酢酸200mgをエタノール2mlに
溶解させ、5%パラジウム−炭素40mgを添加後、水素気
流下、室温で1時間撹拌する。反応混合物をセライトろ
過後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=4:1]で精製すれば、無色油状物の2
−[5−(2,4−ジイソブトキシベンジル)−2−イ
ソブトキシフェニル]酢酸140mgを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.9-1.1(18H,m), 1.7-2.3(3H,m), 3.
4-3.9(10H,m), 6.2-6.5(2H,m), 6.6-7.3(5H,m)
−イソブトキシフェニル]プロピオン酸9.0gをエタノー
ル90mlに溶解させ、1mol/L水酸化ナトリウム水溶液18.2
mlを添加後、室温で10分間撹拌する。反応混合物を減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー[溶離液;アセトニトリル:水
=1:1]で精製すれば、無色泡状物の3−[5−(2,
4−ジイソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフ
ェニル]プロピオン酸ナトリウム7.6gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.5-1.1(18H,m), 1.5-2.5(5H,m), 2.
6-2.9(2H,m), 3.4-3.9(6H,m), 6.3-6.7(3H,m), 7.1-7.5
(2H,m), 7.63(1H,s)
ジイソブトキシフェニル)(ヒドロキシ)メチル]−2
−イソブトキシフェニル}プロピオン酸ナトリウムを得
る。
ペンチル)ピロリジン0.16gおよびトリエチルアミン0.7
8mlをテトラヒドロフラン4.8mlに溶解させ、3-(ベンジ
ルオキシカルボニルメチル)-4-イソブトキシ安息香酸
0.48g、塩化オキサリル0.09mlおよびテトラヒドロフラ
ン4.8mlより調製した塩化3-(ベンジルオキシカルボニ
ルメチル)-4-イソブトキシベンゾイルを含むテトラヒ
ドロフラン溶液を5〜10℃で滴下後、室温で15時間撹拌
する。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、6mol/L
塩酸でpH3.0に調整し、有機層を分取する。得られた有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離
液;n-ヘキサン:酢酸エチル=3:1]で精製すれば、黄
色油状物の2−(2−イソブトキシ−5−{[(2R,
4R)−4−イソブトキシ−2−(4−メチルペンチ
ル)ピロリジニル]カルボニル}フェニル)酢酸ベンジ
ルエステル0.18gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.85(6H,d,J=6.1Hz), 0.89(6H,d,J=7.
6Hz), 1.08(6H,d,J=7.2Hz), 1.1-2.4(11H,m), 2.9-3.2
(2H,m), 3.5-4.6(7H,m), 5.12(2H,bs), 6.82(1H,d,J=8.
3Hz), 7.2-7.5(8H,m)
5−{[(2R,4R)−4−イソブトキシ−2−(4−
メチルペンチル)ピロリジニル]カルボニル}フェニ
ル)酢酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.8-0.9(12H,m), 1.02(6H,d,J=6.6H
z), 1.1-2.4(11H,m), 2.9-3.2(2H,m), 3.4-4.0(7H,m),
4.1-4.5(1H,m), 6.81(1H,d,J=8.6Hz),7.2-7.6 (3H,m)
m), 3.69(5H,s), 3.82(4H,d,J=6.1Hz), 6.84-7.00(3H,
m), 7.70-7.83(4H,m) 21(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.74(3H,t,J=7.1Hz), 0.98-1.14(9H,
m), 1.42-2.25(5H,m), 3.63(2H,s), 3.66(3H,s), 3.75-
4.04(6H,m), 6.48-6.56(2H,m), 6.81(1H,d,J=8.6Hz),
7.35(1H,d,J=8.8Hz), 7.66-7.76(2H,m) 21(3) NMR(CDCl3)δ値: 0.76(6H,d,J=5.9Hz), 0.98(6H,d,J=6.
1Hz), 1.02(6H,d,J=6.6Hz), 1.17-2.32(7H,m), 3.63(2
H,s), 3.65(3H,s), 3.79(2H,d,J=6.1Hz), 3.88-4.08(2
H,m), 4.04(2H,t,J=6.6Hz), 6.47-6.56(2H,m), 6.80(1
H,d,J=8.8Hz), 7.36(1H,d,J=8.6Hz), 7.64-7.73(2H,m) 21(4) NMR(CDCl3)δ値: 0.72(6H,d,J=6.6Hz), 0.95(6H,d,J=
6.1Hz), 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.59-2.05(5H,m), 3.60-
3.81(6H,m), 3.65(3H,s), 3.98-4.12(2H,m), 6.47-6.57
(2H,m), 6.82(1H,d,J=9.0Hz), 7.36(1H,d,J=8.3Hz), 7.
65-7.75(2H,m) 21(5) NMR(CDCl3)δ値: 0.76(6H,d,J=5.9Hz), 0.96(6H,d,J=
5.9Hz), 0.99(6H,d,J=5.9Hz),1.18-1.73(9H,m), 3.61(2
H,s), 3.65(3H,s), 3.81-4.04(6H,m), 6.47-6.78(2H,
m), 6.83(1H,d,J=8.5Hz), 7.36(1H,d,J=8.5Hz), 7.64-
7.73(2H,m) 21(6) NMR(CDCl3)δ値: 0.74(6H,d,J=5.6Hz), 0.95-1.34(15
H,m), 1.61-1.73(3H,m),2.04-2.30(4H,m), 2.56-2.64(2
H,m), 2.86-3.05(2H,m), 3.76-4.24(8H,m), 6.47-6.56
(2H,m), 6.78(1H,d,J=9.5Hz), 7.36(1H,d,J=8.3Hz), 7.
58-7.65(2H,m) 21(7) NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.6Hz), 0.93-1.15(12
H,m),1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.57-2.35(5H,m), 2.48-2.6
7(2H,m), 2.80-3.02(2H,m), 3.61(2H,d,J=6.5Hz),3.77
(2H,d,J=6.4Hz), 3.99-4.23(4H,m), 6.46-6.57(2H,m),
6.81(1H,d,J=8.1Hz),7.34(1H,d,J=8.1Hz), 7.59-7.68(2
H,m) 21(8) NMR(CDCl3)δ値: 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.07(6H,d,J=
6.6Hz),1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.90-2.30(2H,m), 2.59-
2.71(2H,m), 2.91-3.12(2H,m), 3.80(2H,d,J=6.6Hz),
3.82(2H,d,J=6.1Hz), 4.13(2H,q,J=7.1Hz), 6.81-6.99
(3H,m), 7.63-7.82(4H,m) 21(9) NMR(CDCl3)δ値: 0.74(6H,d,J=6.1Hz), 0.96(6H,d,J=
6.9Hz), 0.98(6H,d,J=6.1Hz),1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.5
6-2.04(9H,m), 2.26-2.67(2H,m), 2.85-3.02(2H,m), 3.
86-4.23(8H,m), 6.44-6.56(2H,m),6.82(1H,d,J=8.1Hz),
7.38(1H,d,J=8.1Hz), 7.58-7.68(2H,m) 21(10) NMR(CDCl3)δ値: 0.72(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(12H,d,J=
6.6Hz), 1.23(3H,t,J=7.0Hz),1.90-2.31(7H,m), 2.68(2
H,t,J=7.3Hz), 3.62(2H,d,J=6.4Hz), 3.78(4H,d,J=6.6H
z), 4.11(2H,q,J=7.2Hz), 6.47-6.59(2H,m), 6.77(1H,
d,J=9.3Hz), 7.35(1H,d,J=7.8Hz), 7.58-7.64(2H,m) 21(11) NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.4Hz), 1.03(6H,d,J=
6.8Hz), 1.04(6H,d,J=6.6Hz), 1.25(3H,t,J=7.1Hz), 1.
68-2.23(3H,m), 3.50(2H,d,J=6.8Hz), 3.62(2H,d,J=6.4
Hz), 3.70(2H,d,J=6.7Hz), 3.79(2H,d,J=6.4Hz), 4.14
(2H,q,J=7.1Hz), 5.74(1H,d,J=16.1Hz), 6.47-6.56(2H,
m), 6.80(1H,d,J=8.3Hz), 6.83-7.18(1H,m),7.36(1H,d,
J=8.3Hz), 7.60-7.83(2H,m) 21(12) NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.6Hz), 0.96(6H,d,J=
7.1Hz), 1.05(6H,d,J=6.8Hz), 1.26(3H,t,J=7.1Hz), 1.
64-2.25(5H,m), 3.49(2H,d,J=6.6Hz), 3.62(2H,d,J=6.4
Hz), 3.77(2H,d,J=6.3Hz),3.98-4.27(4H,m), 5.75(1H,
d,J=15.3Hz), 6.47-6.56(2H,m), 6.82(1H,d,J=7.5Hz),
7.06(1H,d,J=15.3Hz), 7.39(1H,d,J=7.2Hz),7.60-7.72
(2H,m) 21(13) NMR(CDCl3)δ値: 0.68(6H,d,J=6.0Hz), 1.05(6H,d,J=
6.6Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.50-2.28(2H,m), 2.34
(3H,s), 2.44-2.94(4H,m), 3.61(2H,d,J=6.4Hz), 3.78
(2H,d,J=6.4Hz), 4.12(2H,q,J=7.1Hz), 6.32-6.57(2H,
m), 7.03-7.67(4H,m)
息香酸1.8gを塩化メチレン18mlに溶解させ、室温で塩化
オキサリル0.7ml,ついでN,N−ジメチルホルムアミ
ド20μlを加えた後、室温で1時間撹拌する。5〜10℃で
塩化アルミニウム1.6g、ついで3−(2−イソブトキシ
フェニル)プロパン酸エチル1.8gを添加後、室温で1時
間撹拌する。反応混合物をクロロホルムおよび水の混合
物に加え、有機層を分取する。得られた有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサ
ン:酢酸エチル=5:1]で精製すれば、無色油状物の4
−[3−(3−エトキシ−3−オキソプロピル)−4−
イソブトキシベンゾイル]−3−イソブトキシ安息香酸
イソブチル2.1gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.74(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(12H,d,J=
6.6Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.56-2.36(3H,m), 2.45-
2.66(2H,m), 2.87-3.06(2H,m), 3.74(2H,d,J=6.1Hz),
3.81(2H,d,J=5.9Hz), 4.11(2H,q,J=7.1Hz), 4.15(2H,d,
J=6.6Hz), 6.80(1H,d,J=9.3Hz), 7.36(1H,d,J=7.8Hz),
7.57-7.76(4H,m)
−イソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニ
ル]プロパン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.06(6H,d,J=
6.8Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.88-2.40(2H,m), 2.48-
2.70(2H,m), 2.89-3.11(2H,m), 3.78(2H,d,J=6.4Hz),
3.82(2H,d,J=6.1Hz), 4.12(2H,q,J=7.1Hz), 6.57-6.89
(3H,m), 7.50(1H,t,J=8.5Hz), 7.66-7.98(2H,m)
キシ)−2−イソブトキシベンゾイル]−2−イソブト
キシフェニル}プロパン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.71(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(6H,d,J=
6.8Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.59-2.35(2H,m), 2.32
(3H,s), 2.48-2.67(2H,m), 2.83-3.07(2H,m), 3.63(2H,
d,J=6.4Hz), 3.80(2H,d,J=6.1Hz), 4.12(2H,q,J=6.8H
z), 6.71-6.82(3H,m),7.35(1H,d,J=7.6Hz), 7.58-7.68
(2H,m)
m), 3.70(2H,s), 3.80(2H,d,J=6.6Hz), 3.82(2H,d,J=6.
3Hz), 6.89-6.99(3H,m), 7.69-7.82(5H,m) 25(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.71(3H,t,J=7.1Hz), 0.98-1.14(9H,
m), 1.32-2.18(5H,m), 3.65(2H,s), 3.75-4.04(6H,m),
6.48-6.57(2H,m), 6.82(1H,d,J=8.6Hz), 7.35(1H,d,J=
8.7Hz), 7.64-7.80(3H,m) 25(3) NMR(CDCl3)δ値: 0.73(6H,d,J=5.9Hz), 0.98(6H,d,J=5.
9Hz), 1.02(6H,d,J=6.6Hz), 1.21-2.25(7H,m), 3.65(2
H,s), 3.79(2H,d,J=6.1Hz), 3.86(2H,t,J=6.1Hz),4.04
(2H,t,J=6.3Hz), 6.47-6.58(2H,m), 6.82(1H,d,J=7.8H
z), 7.37(1H,d,J=8.3Hz), 7.64-7.73(3H,m) 25(4) NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.6Hz), 0.94(6H,d,J=
6.6Hz), 1.04(6H,d,J=6.6Hz), 1.60-2.25(5H,m), 3.57-
3.80(4H,m), 3.64(2H,s), 4.06(2H,t,J=6.1Hz), 6.46-
6.57(2H,m), 6.84(1H,d,J=8.3Hz), 7.36(1H,d,J=8.1H
z), 7.63-7.76(3H,m) 25(5) NMR(CDCl3)δ値: 0.73(6H,d,J=5.9Hz), 0.94(6H,d,J=
5.8Hz), 0.98(6H,d,J=5.8Hz), 1.26-1.43(3H,m), 1.64-
1.77(6H,m), 3.64(2H,s), 3.80-4.11(6H,m), 6.47-6.58
(2H,m), 6.82(1H,d,J=8.6Hz), 7.36(1H,d,J=8.3Hz), 7.
65-7.76(3H,m) 25(6) NMR(CDCl3)δ値: 0.73(6H,d,J=5.9Hz), 0.98(6H,d,J=
6.4Hz), 1.06(6H,d,J=6.8Hz), 1.60-2.30(7H,m), 2.53-
3.08(4H,m), 3.77-4.24(6H,m), 6.47-6.59(2H,m),6.79
(1H,d,J=9.3Hz), 7.37(1H,d,J=8.3Hz), 7.60-7.66(3H,
m) 25(7) NMR(CDCl3)δ値: 0.69(6H,d,J=6.6Hz), 0.93-1.08(12
H,m), 1.59-2.26(5H,m),2.58-2.70(2H,m), 2.85-3.03(2
H,m), 3.61(2H,d,J=6.4Hz), 3.77(2H,d,J=6.5Hz), 3.98
(2H,t,J=6.6Hz), 6.46-6.58(2H,m), 6.80(1H,d,J=9.1H
z), 7.35(1H,d,J=8.1Hz), 7.60-7.69(3H,m) 25(8) NMR(CDCl3)δ値: 1.04(6H,d,J=6.6Hz), 1.06(6H,d,J=
6.6Hz), 1.88-2.39(2H,m), 2.59-3.12(4H,m), 3.80(2H,
d,J=6.4Hz), 3.82(2H,d,J=6.1Hz), 6.82-7.00(3H,m),
7.65-7.81(4H,m), 9.60(1H,brs) 25(9) NMR(CDCl3)δ値: 1.04(6H,d,J=6.6Hz), 1.06(6H,d,J=
6.6Hz), 1.85-2.41(2H,m), 2.56-3.17(4H,m), 3.77(2H,
d,J=6.3Hz), 3.82(2H,d,J=6.3Hz), 6.57-6.90(3H,m),
7.49(1H,dd,J=8.6, 8.3Hz), 7.67-7.76(2H,m), 8.79(1
H,brs) 25(10) NMR(CDCl3)δ値: 0.66(6H,d,J=6.6Hz), 1.04(6H,d,J=
6.6Hz), 1.52-2.28(2H,m), 2.55-3.04(4H,m), 3.51(2H,
d,J=6.3Hz), 3.79(2H,d,J=6.1Hz), 6.41-6.47(2H,m),
6.80(1H,d,J=8.3Hz), 7.20-7.71(5H,m) 25(11) NMR(CDCl3)δ値: 0.74(6H,d,J=6.6Hz), 1.07(6H,d,J=
6.8Hz), 1.66-2.31(2H,m), 2.62-3.05(4H,m), 3.75(2H,
d,J=7.1Hz), 3.83(2H,d,J=6.8Hz), 6.87(1H,d,J=8.5H
z), 7.42(1H,d,J=8.1Hz), 7.60-7.84(4H,m), 11.12(2H,
brs) 25(12) NMR(CDCl3)δ値: 0.68(6H,d,J=6.8Hz), 1.05(6H,d,J=
6.8Hz), 1.28(6H,d,J=6.3Hz), 1.54-2.34(2H,m), 2.54-
3.03(4H,m), 3.70(2H,d,J=6.4Hz), 3.80(2H,d,J=6.4H
z), 4.04-4.50(1H,m), 6.45(1H,d,J=7.8Hz), 6.80(1H,
d,J=9.3Hz), 7.28-7.66(5H,m), 9.87(1H,brs) 25(13) NMR(CDCl3)δ値: 0.65(6H,d,J=6.4Hz), 1.01(6H,d,J=6.
6Hz), 1.55-2.20(2H,m),2.35-2.76(4H,m), 3.78(2H,d,J
=6.3Hz), 3.82(2H,d,J=6.3Hz), 6.55-6.62(2H,m), 6.83
(1H,d,J=8.1Hz), 7.17-7.45(3H,m), 10.60(1H,brs), 1
1.70(1H,brs) 25(14) NMR(CDCl3)δ値: 0.73(6H,d,J=6.9Hz), 0.98(12H,d,J=
6.1Hz), 1.26-1.47(3H,m), 1.66-1.95(6H,m), 2.59-2.7
0(2H,m), 2.86-3.04(2H,m), 3.79-4.11(6H,m), 6.47-6.
59(2H,m), 6.81(1H,d,J=9.2Hz), 7.36(1H,d,J=8.3Hz),
7.59-7.67(3H,m) 25(15) NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(12H,d,J=
6.6Hz), 1.68-2.18(5H,m), 2.41(2H,t,J=7.1Hz), 2.70
(2H,t,J=7.6Hz), 3.62(2H,d,J=6.4Hz), 3.77(4H,d,J=6.
4Hz), 6.47-6.58(2H,m), 6.78(1H,d,J=9.3Hz), 7.36(1
H,d,J=7.8Hz), 7.59-7.65(3H,m) 25(16) NMR(CDCl3)δ値: 0.71(6H,d,J=6.8Hz), 1.05(12H,d,J=
6.6Hz), 1.63-2.30(3H,m), 3.30(2H,d,J=7.7Hz), 3.63
(2H,d,J=7.3Hz), 3.75(2H,d,J=2.8Hz), 3.83(2H,d,J=2.
7Hz), 6.42-6.56(3H,m), 6.72-6.90(3H,m), 7.36(1H,d,
J=8.5Hz), 7.65(1H,dd,J=8.7, 2.4Hz), 7.89(1H,d,J=2.
0Hz) 25(17) NMR(CDCl3)δ値: 0.71(6H,d,J=6.6Hz), 0.98(6H,d,J=
6.4Hz), 1.05(6H,d,J=6.7Hz), 1.69-2.25(5H,m), 3.29
(2H,d,J=6.8Hz), 3.63(2H,d,J=6.3Hz), 3.78(2H,d,J=6.
3HZ), 4.07(2H,t,J=6.3Hz), 6.40-6.55(3H,m), 6.70-6.
89(2H,m), 7.38(1H,d,J=7.2Hz), 7.65(1H,dd,J=10.8,
2.2Hz), 7.89(1H,d,J=2.0Hz), 8.23(1H,brs)
シベンゾイル]−3−イソブトキシ安息香酸0.15gの塩
化メチレン2ml溶液に1,1’−カルボニルジイミダゾ
ール0.12gを添加し、室温で1時間撹拌後、メタノール1
5μlを滴下し、同温で1時間撹拌する。反応混合物に酢
酸エチルおよび水を加え、2mol/L塩酸でpH2に調整し、
有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減
圧下に溶媒を留去すれば、白色固形物の3−イソブトキ
シ−4−[4−イソブトキシ−3−(3−メトキシ−3
−オキソプロピル)ベンゾイル]安息香酸0.05gを得
る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.75(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(6H,d,J=
6.6Hz), 1.70-2.28(2H,m), 2.48-3.05(4H,m), 3.66(3H,
s), 3.76(2H,d,J=6.4Hz), 3.81(2H,d,J=6.4HZ), 6.82(1
H,d,J=9.3Hz), 7.31(1H,d,J=8.6Hz), 7.45-7.84(5H,m)
−メトキシ−3−オキソプロピル)ベンゾイル]安息香
酸0.25gの塩化メチレン2.5ml溶液に室温で塩化オキサリ
ル60μl、ついでN,N−ジメチルホルムアミド20μlを
加え、室温で1時間撹拌する。反応混合物を氷冷し、イ
ソプロピルアミン0.12mlを滴下し、室温で1時間撹拌す
る。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、2mol/L塩
酸でpH2に調整して有機層を分取する。得られた有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、白色固形
物の3−(2−イソブトキシ−5−{2−イソブトキシ
−4−[(イソプロピルアミノ)カルボニル]ベンゾイ
ル}フェニル)プロパン酸メチル0.12gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.69(6H,d,J=6.4Hz), 1.05(6H,d,J=
6.6Hz), 1.29(6H,d,J=6.6Hz), 1.64-2.35(2H,m), 2.50-
2.66(2H,m), 2.87-3.04(2H,m), 3.65(3H,s), 3.73-3.83
(4H,m), 4.07-4.50(1H,m), 6.54(1H,brs), 6.80(1H,d,J
=9.3Hz), 7.30-7.62(5H,m)
セトニトリル170ml溶液に5〜10℃で水200mlに溶解させ
たリン酸二水素ナトリウム29g、ついで30%過酸化水素
水15gを加え、水80mlに溶解させた亜塩素酸ナトリウム1
6gを滴下し、室温で1時間撹拌する。反応混合物に酢酸
エチルおよび水を加え、有機層を分取する。得られた有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物、炭酸カリウム22gおよびN,N−ジメチルホ
ルムアミド200mlの混合物にヨードメタン19gを氷冷下に
滴下後、室温で30分間撹拌する。反応混合物に酢酸エチ
ルおよび水を加え、有機層を分取し、得られた有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘ
キサン:酢酸エチル=10:1]で精製すれば、無色油状
物の2−(2−イソブトキシフェニル)酢酸メチル10.4
gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.02(6H,d,J=6.8Hz), 1.85-2.30(1H,
m), 3.64-3.76(4H,m), 3.67(3H,s), 6.79-7.02(1H,m),
6.83(1H,d,J=7.6Hz), 7.15-7.25(1H,m), 7.19(1H,d,J=
7.1Hz)
トキシベンジル)−2−イソブトキシフェニル]プロパ
ン酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.96-0.98(18H,m), 1.82-2.25(3H,
m), 2.50-2.65(2H,m), 2.71-3.00(2H,m), 3.65-3.72(6
H,m), 3.82(2H,s), 6.30-6.42(2H,m), 6.69(1H,d,J=9.0
Hz), 6.88-7.02(3H,m), 9.88(1H,brs)
4−イソブトキシベンジル)−2−イソブトキシフェニ
ル]プロパン酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.95-1.06(12H,m), 1.89-2.24(2H,
m), 2.53-2.71(2H,m), 2.83-3.04(2H,m), 3.69(2H,d,J=
6.6Hz), 3.69(2H,d,J=6.3Hz), 3.82(2H,s), 6.36-7.02
(7H,m), 6.71(1H,d,J=9.0Hz)
ンチルオキシベンジル)−2−イソペンチルオキシフェ
ニル]酢酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.91-0.97(18H,m), 1.62-1.92(9H,
m), 3.61(2H,s), 3.83-4.04(8H,m), 6.60-7.10(7H,m)
−イソブトキシフェニル]酢酸メチル1.50gの塩化メチ
レン15ml溶液に室温で塩化アルミニウム1.06gを加え、
室温で2時間撹拌する。反応混合物をクロロホルムおよ
び氷水の混合物に加え、有機層を分取する。得られた有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離
液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で精製すれば、黄色
固形物の2−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソブトキ
シベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]酢酸メチ
ル0.62gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.04(12H,d,J=6.6Hz), 1.90-2.33(2H,
m), 3.70-3.86(9H,m), 6.38-6.49(2H,m), 6.91(1H,d,J=
8.8Hz), 7.53-7.67(3H,m), 12.64(1H,s)
8Hz), 1.59-2.34(4H,m),3.70(5H,s), 3.82(2H,d,J=6.4H
z), 4.05(2H,t,J=6.3Hz), 6.37-6.51(2H,m), 6.91(1H,
d,J=8.3Hz), 7.52-7.65(3H,m), 12.66(1H,s) 33(2) NMR(CDCl3)δ値:0.96-1.12(9H,m), 1.56-2.04(3H,m),
3.70(3H,s), 3.79-4.06(6H,m), 6.35-6.51(2H,m), 6.90
(1H,d,J=9.0Hz), 7.52-7.67(3H,m), 12.65(1H,s) 33(3) NMR(CDCl3)δ値:0.97(12H,d,J=6.1Hz), 1.57-1.77(6H,
m), 3.67(2H,s), 3.70(3H,s), 4.05(2H,t,J=6.6Hz), 4.
08(2H,t,J=6.6Hz), 6.35-6.51(2H,m), 6.94(1H,d,J=8.5
Hz), 7.52-7.65(3H,m), 12.66(1H,s) 33(4) NMR(CDCl3)δ値: 1.03(6H,d,J=6.6Hz), 1.07(6H,d,J=
6.6Hz), 1.90-2.40(2H,m), 2.58-3.32(4H,m), 3.67(3H,
s), 3.78(2H,d,J=6.6Hz), 3.82(2H,d,J=6.1Hz), 6.35-
6.48(2H,m), 6.88(1H,d,J=9.0Hz), 7.51-7.59(3H,m), 1
2.69(1H,s) 33(5) NMR(CDCl3)δ値:0.94-1.02(12H,m), 1.23(3H,t,J=7.1H
z), 1.65-1.76(6H,m), 2.53-2.69(2H,m), 2.90-3.08(2
H,m), 4.01-4.28(6H,m), 6.34-6.51(2H,m), 6.90(1H,d,
J=9.3Hz), 7.50-7.59(3H,m), 12.70(1H,s) 33(6) NMR(CDCl3)δ値: 1.00(6H,d,J=5.9Hz), 1.04(6H,d,J=
6.6Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.72-2.34(4H,m), 2.51-
3.12(4H,m), 3.79(2H,d,J=6.6Hz), 4.02-4.25(4H,m),
6.38-6.51(2H,m), 6.91(1H,d,J=8.2Hz), 7.52-7.60(3H,
m), 12.69(1H,s) 33(7) NMR(CDCl3)δ値: 1.00-1.26(18H,m), 1.98-2.33(2H,
m), 2.63-3.17(3H,m), 3.79(2H,d,J=6.4Hz), 3.88(2H,
d,J=6.3Hz), 4.09(2H,q,J=7.1Hz), 6.34-6.48(2H,m),
6.89(1H,d,J=8.3Hz), 7.49-7.59(3H,m), 12.69(1H,s) 33(8) NMR(CDCl3)δ値: 0.95-1.12(12H,m), 1.22(3H,t,J=7.1
Hz), 1.83-2.32(2H,m),2.52-3.08(4H,m), 3.62(2H,d,J=
6.4Hz), 3.85(2H,d,J=6.4Hz), 4.13(2H,q,J=6.8Hz), 6.
85-7.27(4H,m), 7.59-7.66(2H,m), 11.46(1H,s)
イル)−2−イソブトキシフェニル]酢酸メチル0.28
g、炭酸カリウム0.32gおよびヨウ化イソペンチル0.23ml
のN,N−ジメチルホルムアミド3ml懸濁液を120℃で2
時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合
物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で
精製すれば、無色油状物の2−[5−(4−イソブトキ
シ−2−イソペンチルオキシベンゾイル)−2−イソブ
トキシフェニル]酢酸メチル0.17gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.75(6H,d,J=5.6Hz), 1.02(6H,d,J=6.
6Hz), 1.05(6H,d,J=6.8Hz), 1.26-1.55(3H,m), 1.90-2.
25(2H,m), 3.62-3.94(11H,m), 6.47-6.55(2H,m),6.80(1
H,d,J=8.3Hz), 7.36(1H,d,J=8.5Hz), 7.63-7.72(2H,m)
6.1Hz), 1.02(6H,d,J=6.8Hz), 1.51-2.31(5H,m), 3.59-
3.63(4H,m), 3.65(3H,s), 3.79(2H,d,J=6.4Hz), 4.04(2
H,t,J=6.4Hz), 6.47-6.58(2H,m), 6.82(1H,d,J=8.3Hz),
7.36(1H,d,J=8.1Hz), 7.66-7.77(2H,m) 35(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.73(3H,t,J=7.4Hz), 1.01(6H,d,J=
6.6Hz), 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.42-1.64(2H,m), 1.95-
2.25(2H,m), 3.62-3.90(8H,m), 3.65(3H,s), 6.47-6.58
(2H,m), 6.82(1H,d,J=8.3Hz), 7.34(1H,d,J=8.8Hz), 7.
65-7.77(2H,m) 35(3) NMR(CDCl3)δ値: 0.73(6H,d,J=6.8Hz), 0.98-1.14(9H,
m), 1.65-2.25(4H,m), 3.59-3.82(6H,m), 3.65(3H,s),
3.97(2H,t,J=6.6Hz), 6.47-6.58(2H,m), 6.80(1H,d,J=
8.3Hz), 7.35(1H,d,J=7.8Hz), 7.65-7.77(2H,m) 35(4) NMR(CDCl3)δ値: 0.72(6H,d,J=6.6Hz), 0.91(6H,d,J=
5.9Hz), 0.95(6H,d,J=5.9Hz), 1.57-1.93(7H,m), 3.59-
3.65(4H,m), 3.65(3H,s), 4.04(4H,t,J=6.3Hz), 6.46-
6.57(2H,m), 6.83(1H,d,J=8.0Hz), 7.36(1H,d,J=8.0H
z), 7.65-7.75(2H,m) 35(5) NMR(CDCl3)δ値: 1.06(12H,d,J=6.6Hz), 1.91-2.36(2
H,m), 2.51-2.69(2H,m),2.88-3.08(2H,m), 3.67(3H,s),
3.73(3H,s), 3.77-3.84(4H,m), 6.48-6.56(2H,m), 6.8
1(1H,d,J=9.0Hz), 7.31(1H,dd,J=8.5, 1.0Hz), 7.63-7.
71(2H,m) 35(6) NMR(CDCl3)δ値: 1.05(12H,d,J=6.6Hz), 1.22(3H,t,J=
7.1Hz), 1.72-2.30(6H,m), 2.50-2.67(2H,m), 2.87-3.0
7(2H,m), 3.67(3H,s), 3.74-4.20(9H,m), 6.48-6.60(2
H,m), 6.80(1H,d,J=9.3Hz), 7.36(1H,d,J=9.4Hz), 7.59
-7.65(2H,m) 35(7) NMR(CDCl3)δ値: 0.89-1.09(14H,m), 1.40-1.80(4H,
m), 2.00-2.26(4H,m), 2.51-2.69(2H,m), 2.88-3.06(2
H,m), 3.66(3H,s), 3.74-3.95(6H,m), 5.48(1H,brs),
5.90(1H,brs), 6.47-6.55(2H,m), 6.80(1H,d,J=9.3Hz),
7.32(1H,d,J=8.3Hz),7.60-7.66(2H,m) 35(8) NMR(CDCl3)δ値: 1.03(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(6H,d,J=
6.6Hz), 1.13(6H,d,J=5.9Hz),1.62-3.10(7H,m), 3.77(2
H,d,J=6.3Hz), 3.80(2H,d,J=6.4Hz), 6.66(1H,d,J=2.2H
z), 6.80(1H,d,J=8.6Hz), 6.82(1H,d,J=9.5Hz), 7.43(1
H,d,J=8.6Hz), 7.52-7.71(2H,m), 7.90(1H,brs)
シベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]酢酸メチ
ル0.13gのメタノール2ml溶液に5mol/L水酸化ナトリウム
0.2mlを加え、室温で1時間、ついで50〜60℃で1時間撹
拌する。反応混合物にクロロホルムおよび水を加え、6m
ol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得られた
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得ら
れた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶
離液;ヘキサン:酢酸エチル=2:1]で精製すれば、白
色固形物の2−[5−(4−イソブトキシ−2−イソペ
ンチルオキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニ
ル]酢酸0.07gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.73(6H,d,J=5.9Hz), 1.01(6H,d,J=6.
6Hz), 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.20-1.50(3H,m), 1.90-2.
33(2H,m), 3.64-3.93(8H,m), 6.47-6.57(2H,m),6.81(1
H,d,J=8.3Hz), 7.36(1H,d,J=8.8Hz), 7.64-7.75(2H,m),
9.18(1H,brs)
9Hz), 1.01(6H,d,J=6.6Hz), 1.65-2.32(5H,m), 3.58-3.
64(4H,m), 3.79(2H,d,J=6.3Hz), 4.04(2H,t,J=6.6Hz),
6.46-6.55(3H,m), 6.82(1H,d,J=8.3Hz), 7.36(1H,d,J=
8.1Hz), 7.65-7.77(2H,m) 37(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.71(3H,t,J=7.3Hz), 1.02(6H,d,J=
6.6Hz), 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.42-1.62(2H,m), 1.97-
2.25(2H,m), 3.65(2H,s), 3.73-3.89(6H,m), 6.47-6.58
(2H,m), 6.83(1H,d,J=8.3Hz), 7.35(1H,d,J=8.8Hz), 7.
63-7.79(3H,m) 37(3) NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.6Hz), 0.97-1.14(9H,
m), 1.63-2.25(4H,m), 3.58-3.82(6H,m), 3.97(2H,t,J=
6.6Hz), 6.46-6.58(2H,m), 6.82(1H,d,J=8.3Hz),7.35(1
H,d,J=8.5Hz), 7.63-7.77(3H,m) 37(4) NMR(CDCl3)δ値: 0.82(6H,d,J=6.8Hz), 0.93(6H,d,J=
5.9Hz), 0.98(6H,d,J=5.9) 1.54-1.94(7H,m), 3.57-3.6
4(4H,m), 4.04(2H,t,J=6.1Hz), 4.06(2H,t,J=6.1Hz) 6.
44-6.58(2H,m), 6.85(1H,d,J=8.3Hz), 7.37(1H,d,J=8.2
Hz), 7.66-7.78(3H,m) 37(5) NMR(CDCl3)δ値: 1.05(12H,d,J=6.6Hz), 1.84-2.34(2
H,m), 2.55-3.09(4H,m),3.72(3H,s), 3.74-3.84(4H,m),
6.46-6.58(2H,m), 6.81(1H,d,J=9.3Hz), 7.30(1H,d,J=
9.0Hz), 7.64-7.74(2H,m), 8.06(1H,brs) 37(6) NMR(DMSO-d6)δ値: 1.01(12H,d,J=6.6Hz), 1.55-2.20
(6H,m), 2.37-2.54(2H,m), 2.75-2.92(2H,m), 3.80-3.9
7(6H,m), 6.57-6.66(2H,m), 6.98(1H,d,J=9.0Hz),7.25
(1H,d,J=8.8Hz), 7.44-7.51(2H,m), 11.98(2H,brs) 37(7) NMR(CDCl3)δ値: 0.98-1.05(12H,m), 1.20-1.50(6H,
m), 1.80-2.20(4H,m), 2.40-2.60(2H,m), 2.75-2.90(2
H,m), 3.40(2H,brs), 3.81-3.88(6H,m), 6.57-6.64(2H,
m), 6.94-7.31(3H,m), 7.48-7.50(2H,m)
イル)−2−イソブトキシフェニル]プロパン酸メチル
30.9gのエタノール155ml溶液に5mol/L水酸化ナトリウム
44mlを加え、室温で1時間撹拌する。反応混合物に水、
ついでクロロホルムを加え、6mol/L塩酸でpH2に調整
し、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去すれば、黄白色固形物の3−
[5−(2−ヒドロキシ−4−イソブトキシベンゾイ
ル)−2−イソブトキシフェニル]プロパン酸29.5gを
得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.02(6H,d,J=6.6Hz), 1.07(6H,d,J=6.
6Hz), 1.89-2.39(2H,m),2.63-2.79(2H,m), 2.93-3.10(2
H,m), 3.77(2H,d,J=6.4Hz), 3.82(2H,d,J=6.1Hz), 6.39
-6.48(2H,m), 6.89(1H,d,J=9.0Hz), 7.48-7.62(3H,m),
9.76(1H,brs), 12.67(1H,s)
H,m), 2.64-2.94(4H,m),3.89-4.09(4H,m), 6.33-6.45(2
H,m), 6.80-6.90(1H,m), 7.46-7.54(4H,m), 12.50(1H,b
rs) 39(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.99(6H,d,J=5.6Hz), 1.02(6H,d,J=
6.6Hz), 1.56-2.26(4H,m), 2.51-3.13(4H,m), 3.78(2H,
d,J=6.6Hz), 4.08(2H,t,J=5.9Hz), 6.36-6.48(2H,m),
6.90(1H,d,J=9.0Hz), 7.49-7.58(3H,m), 9.25(1H,brs),
12.67(1H,s) 39(3) NMR(CDCl3)δ値: 0.98-1.23(15H,m), 1.88-2.27(2H,
m), 2.63-3.16(3H,m), 3.73-3.80(4H,m), 6.32-6.39(2
H,m), 6.88(1H,d,J=8.5Hz), 7.46-7.60(3H,m), 9.00(1
H,brs), 12.66(1H,brs) 39(4) NMR(CDCl3)δ値: 0.95-1.12(12H,m), 1.82-2.40(2H,
m), 2.61-3.27(4H,m), 3.63(2H,d,J=6.3Hz), 3.85(2H,
d,J=6.4Hz), 6.86-7.27(4H,m), 7.61-7.67(2H,m), 9.38
(1H,brs), 11.45(1H,brs) 39(5) NMR (CDCl3)δ値: 1.01(12H,d,J=6.8Hz), 1.90-2.30(2
H,m), 3.70-3.84(6H,m),6.33-6.46(2H,m), 6.90(1H,d,J
=8.3Hz), 7.49-7.64(3H,m), 10.22(1H,brs), 12.60(1H,
brs) 39(6) NMR(CDCl3)δ値: 0.94-1.07(12H,m), 1.62-2.27(4H,
m), 3.72(2H,s), 3.83(2H,d,J=6.4Hz), 4.05(2H,t,J=6.
2Hz), 6.33-6.51(2H,m), 6.92(1H,d,J=8.1Hz), 7.51-7.
66(4H,m), 12.64(1H,s)
1mlに溶解させ、室温で塩化オキサリル0.44ml、ついで
N,N−ジメチルホルムアミド20μlを加え、室温で2時
間撹拌する。-20℃で塩化アルミニウム1.67g、ついで3
−(2−イソブトキシフェニル)プロパン酸エチル1.15
gを添加後、5〜10℃で10分間撹拌する。反応混合物をク
ロロホルムおよび氷水の混合物に加え、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で
精製すれば、黄色油状物の3−[5−(3,5−ジイソ
ブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プ
ロパン酸エチル1.75gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.98-1.26(18H,m), 1.23(3H,t,J=7.1
Hz), 1.86-2.33(3H,m),2.51-2.74(2H,m), 2.93-3.14(2
H,m), 3.70-3.86(6H,m), 4.12(2H,q,J=7.1Hz), 6.63-6.
91(4H,m), 7.65-7.84(2H,m)
−イソブトキシフェニル]プロパン酸エチル1.74gをエ
タノール9mlに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム2mlを
加え、室温で1時間撹拌する。反応混合物にクロロホル
ムおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層
を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に
溶媒を留去すれば、白色固形物の3−[5−(3,5−
ジイソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニ
ル]プロパン酸1.53gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.98-1.11(18H,m), 1.86-2.38(3H,
m), 2.58-3.18(4H,m), 3.70-3.87(6H,m), 6.60-6.91(4
H,m), 7.68-7.88(2H,m), 8.58(1H,brs)
0mlに溶解させ、室温で塩化オキサリル2.0ml、ついで
N,N−ジメチルホルムアミド20μlを加え、同温で1時
間撹拌する。-30℃で塩化アルミニウム7.51g、ついで3
−(2−イソブトキシフェニル)プロパン酸エチル5.17
gを添加後、-10℃で10分間撹拌する。反応混合物をクロ
ロホルムおよび氷水の混合物に加え、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で
精製すれば、黄色油状物の3−[5−(2,5−ジイソ
ブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プ
ロパン酸エチル9.21gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.6Hz), 1.00(6H,d,J=
6.6Hz), 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.
62-2.35(3H,m), 2.46-2.66(2H,m), 2.87-3.06(2H,m),
3.59(2H,d,J=6.4Hz), 3.69(2H,d,J=6.4Hz), 3.80(2H,d,
J=6.4Hz), 4.12(2H,q,J=7.1Hz), 6.74-7.06(4H,m), 7.5
6-7.75(2H,m)
−イソブトキシフェニル]プロパン酸エチル5.2gをエタ
ノール26mlに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム6mlを
加え、室温で30分間撹拌する。反応混合物にクロロホル
ムおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層
を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に
溶媒を留去すれば、黄色固形物の3−[5−(2,5−
ジイソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニ
ル]プロパン酸4.9gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.69(6H,d,J=6.6Hz), 1.00(6H,d,J=
6.6Hz), 1.05(6H,d,J=6.4Hz), 1.60-2.29(3H,m), 2.50-
3.13(4H,m), 3.58(2H,d,J=6.4Hz), 3.69(2H,d,J=6.6H
z), 3.80(2H,d,J=6.4Hz), 6.76-6.91(4H,m), 7.61-7.69
(2H,m), 8.28(1H,brs)
チレン8mlに溶解させ、室温で塩化オキサリル0.3ml、つ
いでN,N−ジメチルホルムアミド20μlを加え、室温
で1時間撹拌する。5〜10℃で塩化アルミニウム1.10g、
ついで2−(2−イソペンチルオキシフェニル)酢酸イ
ソペンチル0.95gを添加後、5〜10℃で10分間撹拌する。
反応混合物をクロロホルムおよび氷水の混合物に加え、
有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減
圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチ
ル=10:1]で精製すれば、黄色油状物の2−[5−
(3,4−ジイソペンチルオキシベンゾイル)−2−イ
ソペンチルオキシフェニル]酢酸イソペンチル1.20gを
得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.86-1.00(24H,m), 1.46-1.95(12H,
m), 3.64(2H,s), 4.00-4.19(8H,m), 6.84-6.93(2H,m),
7.26-7.41(2H,m), 7.69-7.78(2H,m)
トキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プロ
パン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.01-1.14(18H,m), 1.23(3H,t,J=7.1
Hz),1.90-2.36(3H,m), 2.47-2.81(2H,m), 2.86-3.14(2
H,m), 3.77-3.86(6H,m), 4.12(2H,q,J=7.1Hz), 6.81-6.
91(2H,m), 7.26-7.38(2H,m), 7.64-7.71(2H,m)
ル)−2−イソペンチルオキシフェニル]酢酸イソペン
チル1.20gのエタノール12ml溶液に5mol/L水酸化ナトリ
ウム0.6mlを加え、50℃で1時間撹拌する。反応混合物に
クロロホルムおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整
し、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去すれば、白色固形物の2−[5
−(3,4−ジイソペンチルオキシベンゾイル)−2−
イソペンチルオキシフェニル]酢酸0.88gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.96(12H,d,J=5.6Hz), 0.98(6H,d,J=
5.9Hz), 1.59-1.78(9H,m), 3.70(2H,s), 4.00-4.16(6H,
m), 6.88(1H,d,J=8.3Hz), 6.92(1H,d,J=8.8Hz),7.26-7.
43(2H,m), 7.71-7.82(2H,m), 9.35(1H,brs)
トキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プロ
パン酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.06(18H,d,J=6.6Hz), 1.92-2.50(3
H,m), 2.65-3.24(4H,m),3.82(6H,d,J=6.6Hz), 6.82-6.9
2(2H,m), 7.26-7.40(2H,m), 7.65-7.73(2H,m), 8.54(1
H,brs)
00gを塩化メチレン10mlに溶解させ、室温で塩化オキサ
リル0.41ml、ついでN,N−ジメチルホルムアミド20μ
lを加え、同温で1時間撹拌する。5〜10℃で塩化アルミ
ニウム1.06g、ついで1,3−ジイソブトキシベンゼン
1.15gを添加し、同温で1時間撹拌する。反応混合物を塩
化メチレンおよび氷水の混合物に加え、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で
精製すれば、黄色油状物の酢酸5−(2,4−ジイソブ
トキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル1.24g
を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.73(6H,d,J=6.8Hz), 1.00(6H,d,J=
6.8Hz), 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.65-2.40(3H,m), 2.28
(3H,s), 3.63(2H,d,J=6.3Hz), 3.77(2H,d,J=6.4Hz), 3.
80(2H,d,J=6.4Hz), 6.46-6.57(2H,m), 6.91(1H,d,J=8.5
Hz), 7.35(1H,d,J=8.6Hz), 7.47(1H,d,J=2.2Hz), 7.67
(1H,dd,J=8.6,2.2Hz)
トキシベンゾイル)−2−イソペンチルオキシフェノキ
シ]酢酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.72(6H,d,J=6.6Hz), 0.97(6H,d,J=
6.4Hz), 1.05(6H,d,J=6.8Hz), 1.28(3H,t,J=7.1Hz), 1.
70-2.34(5H,m), 3.62(2H,d,J=6.4Hz), 3.77(2H,d,J=6.4
Hz), 4.10(2H,t,J=6.6Hz), 4.24(2H,q,J=7.1Hz), 4.66
(2H,s), 6.46-6.55(2H,m), 6.85(1H,d,J=9.0Hz), 7.29-
7.42(3H,m)
ンチルオキシベンゾイル)−2−イソペンチルオキシフ
ェノキシ]酢酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.77(6H,d,J=5.6Hz), 0.98(12H,d,J=
5.9Hz), 1.28(3H,t,J=7.1Hz), 1.64-2.04(9H,m), 3.88-
4.36(8H,m), 4.66(2H,s), 6.47-6.55(2H,m), 6.85(1H,
d,J=9.0Hz), 7.29-7.38(3H,m)
イソブトキシフェニル0.48gのエタノール10ml溶液に1mo
l/L水酸化ナトリウム3.2mlを加え、室温で1時間撹拌す
る。反応混合物に水およびクロロホルムを加え、6mol/L
塩酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得られた有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、淡黄色
固形物の(2,4−ジイソブトキシフェニル)(3−ヒ
ドロキシ−4−イソブトキシフェニル)メタノン0.40g
を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.72(6H,d,J=6.8Hz), 1.04(12H,d,J=
6.6Hz), 1.60-2.30(3H,m), 3.63(2H,d,J=6.4Hz), 3.76
(2H,d,J=6.6Hz), 3.86(2H,d,J=6.6Hz), 5.59(1H,s), 6.
46-6.56(2H,m), 6.81(1H,d,J=8.8Hz), 7.26-7.39(3H,m)
−4−イソブトキシフェニル)メタノン0.86gのN,N
−ジメチルホルムアミド9ml溶液に60%水素化ナトリウ
ム0.12gを添加し、80℃まで昇温させ、2−ブロモ酢酸
エチル0.52mlを添加し、80〜90℃で30分間撹拌する。反
応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチルおよび水の混合
物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整して有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で
精製すれば、淡黄色油状物の2−[5−(2,4−ジイ
ソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェノキ
シ]酢酸エチル1.00gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.72(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(12H,d,J=
6.6Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.50-2.33(3H,m), 3.62
(2H,d,J=6.1Hz), 3.76(2H,d,J=5.6Hz), 3.83(2H,d,J=6.
4Hz), 4.24(2H,q,J=7.1Hz), 4.66(2H,s), 6.46-6.58(2
H,m), 6.84(1H,d,J=9.0Hz), 7.27-7.43(3H,m)
−イソブトキシフェノキシ]酢酸エチル0.95gのエタノ
ール10ml溶液に1mol/L水酸化ナトリウム5.7mlを加え、
室温で1時間撹拌する。反応混合物に水およびクロロホ
ルムを加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取
する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去すれば、白色固形物の2−[5−(2,4−ジイソ
ブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェノキシ]
酢酸0.83gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.71(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(12H,d,J=
6.6Hz), 1.55-2.40(3H,m), 3.62(2H,d,J=6.1Hz), 3.78
(2H,d,J=6.6Hz), 3.85(2H,d,J=6.8Hz), 4.68(2H,s), 6.
45-6.58(2H,m), 6.88(1H,d,J=9.0Hz), 7.32-7.52(3H,
m), 8.50(1H,brs)
トキシベンゾイル)−2−イソペンチルオキシフェノキ
シ]酢酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.6Hz), 0.98(6H,d,J=
6.1Hz), 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.52-2.34(5H,m), 3.62
(2H,d,J=6.4Hz), 3.77(2H,d,J=6.6Hz), 4.12(2H,t,J=6.
6Hz), 4.67(2H,s), 6.45-6.59(3H,m), 6.89(1H,d,J=9.0
Hz), 7.33-7.53(3H,m)
ンチルオキシベンゾイル)−2−イソペンチルオキシフ
ェノキシ]酢酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.75(6H,d,J=6.1Hz), 0.98(12H,d,J=
6.1Hz), 1.18-1.52(3H,m), 1.60-2.04(6H,m), 3.87(2H,
t,J=6.1Hz), 4.04(2H,t,J=6.6Hz), 4.12(2H,t,J=6.8H
z), 4.66(2H,s), 5.65(1H,brs), 6.45-6.59(2H,m), 6.8
9(1H,d,J=9.0Hz), 7.33-7.49(3H,m)
ブトキシ安息香酸4.00gをテトラヒドロフラン40mlに溶
解させ、塩化オキサリル0.95mlおよびN,N−ジメチル
ホルムアミド20μlを添加後、室温で1時間攪拌する。反
応混合物にグリシンエチルエステル塩酸塩3.03g、つい
でトリエチルアミン4.2mlを添加し、加熱還流下、1時間
撹拌する。反応混合物を室温まで冷却し、クロロホルム
および水を加え、有機層を分取する。得られた有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘ
キサン:酢酸エチル=2:1]で精製すれば、無色油状物
の2−{[5−(2,4−ジイソブトキシベンゾイル)
−2−イソブトキシベンゾイル]アミノ}酢酸エチル4.
00gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.66(6H,d,J=6.6Hz), 1.04(6H,d,J=6.
1Hz), 1.10(6H,d,J=5.1Hz), 1.29(3H,t,J=7.1Hz), 1.92
-2.55(3H,m), 3.62(2H,d,J=6.1Hz), 3.76(2H,d,J=6.6H
z), 3.99(2H,d,J=6.4Hz), 4.12-4.36(4H,m), 6.46-6.56
(2H,m), 7.01(1H,d,J=8.8Hz), 6.97-7.15(1H,m), 7.92-
8.07(1H,m), 8.29-8.51(2H,m)
2−イソブトキシベンゾイル]アミノ}酢酸エチル0.64
gをエタノール7mlに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム
0.73mlを加え、室温で1時間撹拌する。反応混合物に水
および酢酸エチルを加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、
有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減
圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー[溶離液;クロロホルム:エタ
ノール=20:1]で精製すれば、白色固形物の2−{[5
−(2,4−ジイソブトキシベンゾイル)−2−イソブ
トキシベンゾイル]アミノ}酢酸0.25gを得る。 NMR(DMSO-d6)δ値: 0.61(6H,d,J=6.6Hz), 1.01(12H,d,J
=6.4Hz), 1.42-2.40(3H,m), 3.68(2H,d,J=6.1Hz), 3.84
(2H,d,J=6.4Hz), 4.00-4.06(4H,m), 6.59-6.66(2H,m),
7.22-7.35(2H,m), 7.80(1H,d,J=7.8Hz), 8.17(1H,d,J=
2.0Hz), 8.34-8.48(1H,m), 12.76(1H,brs)
−イソブトキシフェニル]プロパン酸1.00gをテトラヒ
ドロフラン10mlに溶解させ、室温で1,1’−カルボニ
ルジイミダゾール0.52gを加え、加熱還流下、1時間撹拌
する。室温に冷却後、メタンスルホンアミド0.22gおよ
び1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7
−セン0.4mlを添加し、室温で30分間撹拌する。反応混
合物をクロロホルムおよび水の混合物に加え、6mol/L塩
酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得られた有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;
ヘキサン:酢酸エチル=2:1]で精製すれば、白色泡状
物のN−{3−[5−(2,4−ジイソブトキシベンゾ
イル)−2−イソブトキシフェニル]プロパノイル}メ
タンスルホンアミド1.10gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.68(6H,d,J=6.6Hz), 1.03(12H,d,J=
6.6Hz), 1.54-2.35(3H,m), 2.46-3.20(4H,m), 3.23(3H,
s), 3.60(2H,d,J=6.4Hz), 3.73-3.80(4H,m), 6.45-6.55
(2H,m), 6.78(1H,d,J=8.5Hz), 7.31(1H,d,J=8.3Hz), 7.
53-7.64(2H,m), 8.94(1H,brs)
−イソブトキシフェニル]プロパン酸エチル10.6gのテ
トラヒドロフラン100ml溶液にn−ブチルリチウムのn
−ヘキサン溶液 (1.6mol/L)88mlおよびジイソプロピ
ルアミン17mlから調製したリチウムジイソプロピルアミ
ドのテトラヒドロフラン30ml溶液を-60℃で滴下し、同
温で1時間撹拌する。-60℃でこの反応混合物をヨウ化メ
チル26mlのテトラヒドロフラン30ml溶液に滴下後、1時
間かけて室温まで昇温させる。反応混合物を酢酸エチル
および水の混合物に加え、有機層を分取する。得られた
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得ら
れた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶
離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で精製すれば、無
色油状物の3−[5−(2,4−ジイソブトキシベンゾ
イル)−2−イソブトキシフェニル]−2−メチルプロ
パン酸エチル4.9gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.71(6H,d,J=6.8Hz), 1.02-1.30(18
H,m), 1.57-2.30(3H,m),2.46-3.15(3H,m), 3.62(2H,d,J
=6.4Hz), 3.78(4H,d,J=6.1Hz), 3.97-4.25(2H,m), 6.46
-6.60(3H,m), 7.34(1H,d,J=8.3Hz), 7.58-7.70(2H,m)
−イソブトキシフェニル]−2−メチルプロパン酸エチ
ル0.55gをエタノール3mlに溶解させ、5mol/L水酸化ナト
リウム1.5mlを加え、室温で2時間撹拌する。反応混合物
にクロロホルムおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調
整し、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽
和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=2:1]で精製すれば、白色固形物の3
−[5−(2,4−ジイソブトキシベンゾイル)−2−
イソブトキシフェニル]−2−メチルプロパン酸0.45g
を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.6Hz), 0.88-1.26(15
H,m), 1.61-2.33(3H,m),2.54-3.25(3H,m), 3.61(2H,d,J
=6.3Hz), 3.77(4H,d,J=6.4Hz), 6.46-6.58(2H,m), 6.79
(1H,d,J=9.0Hz), 7.24(1H,brs), 7.35(1H,d,J=8.1Hz),
7.60-7.71(2H,m)
−イソブトキシフェニル]プロパン酸エチル10.00gのエ
タノール20ml溶液にヒドロキシルアミン塩酸塩5.59gお
よびピリジン7mlを添加し、加熱還流下、4.5時間撹拌す
る。室温に冷却後、反応混合物にクロロホルムおよび水
を加え、有機層を分取する。得られた有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:
酢酸エチル=5:1]で精製すれば、淡褐色油状物の3−
{5−[(2,4−ジイソブトキシフェニル)(ヒドロ
キシイミノ)メチル]−2−イソブトキシフェニル}プ
ロパン酸エチル10.20gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.72-1.30(21H,m), 1.62-2.33(3H,
m), 2.42-3.00(4H,m), 3.46-3.79(6H,m), 4.10(2H,q,J=
7.3Hz), 6.39-6.82(3H,m), 7.04-7.31(3H,m), 7.99(1
H,brs)
ペンチルオキシフェニル)(ヒドロキシイミノ)メチ
ル]−2−イソペンチルオキシフェニル}酢酸イソペン
チルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.86-0.98(24H,m), 1.46-1.92(12H,
m), 3.56-3.61(2H,m), 3.93-4.17(8H,m), 6.75-6.95(3
H,m), 7.17-7.40(3H,m), 8.20(1H,brs)
ペンチルオキシフェニル)(ヒドロキシイミノ)メチ
ル]−2−イソペンチルオキシフェニル}酢酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.91-0.97(18H,m), 1.57-1.93(9H,
m), 3.68-3.71(2H,m), 3.88-4.13(6H,m), 5.20(1H,br
s), 6.73-7.60(7H,m)
−4−イソブトキシフェニル)(ヒドロキシイミノ)メ
チル]−2−イソブトキシフェニル}プロパン酸メチル
を得る。さらに、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で、異性体
を分離する。 低極性オキシム NMR(CDCl3)δ値: 1.00(6H,d,J=6.4Hz), 1.07(6H,d,J=
6.4Hz), 1.92-2.31(2H,m), 2.56-2.73(2H,m), 2.92-3.0
9(2H,m), 3.65(3H,s), 3.70(2H,d,J=6.6Hz), 3.80(2H,
d,J=6.1Hz), 6.30(1H,dd,J=8.8,2.4Hz), 6.51(1H,d,J=
2.4Hz), 6.75(1H,d,J=8.8Hz), 6.90(1H,d,J=8.8Hz), 7.
11-7.26(2H,m), 7.44(1H,s), 11.33(1H,s) 高極性オキシム NMR(CDCl3)δ値: 1.03(6H,d,J=6.8Hz), 1.05(6H,d,J=
6.6Hz), 1.94-2.26(2H,m), 2.44-2.62(2H,m), 2.80-2.9
6(2H,m), 3.64(3H,s), 3.76(4H,d,J=6.4Hz), 6.45(1H,d
d,J=8.8,2.4Hz), 6.59(1H,d,J=2.2Hz), 6.75(1H,d,J=9.
0Hz), 6.85(1H,d,J=9.0Hz), 7.18-7.26(2H,m), 7.49(2
H,brs)
ドロキシイミノ)メチル]−2−イソブトキシフェニ
ル}プロパン酸エチル2.0gのN,N−ジメチルホルムア
ミド5ml溶液に60%水素化ナトリウム0.19gを添加し、室
温で30分間攪拌後、2−ブロモアセトアミド1.07gを添
加し、室温で1時間さらに80℃で15分間攪拌する。反応
混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩
酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得られた有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;
ヘキサン:酢酸エチル=2:1]で精製すれば、無色油状
物の3−{5−[[(2−アミノ−2−オキソエトキ
シ)イミノ](2,4−ジイソブトキシフェニル)メチ
ル]−2−イソブトキシフェニル}プロパン酸エチル1.
09gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.79(6H,d,J=6.8Hz), 1.05(12H,d,J=
6.6Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.60-2.40(3H,m), 2.44-
2.67(2H,m), 2.80-3.05(2H,m), 3.47-3.80(6H,m), 4.11
(2H,q,J=7.3Hz), 4.61(2H,s), 5.45-5.61(1H,m), 6.42-
7.02(5H,m), 7.19-7.39(2H,m)
Hz), 1.42-1.93(12H,m),3.56-3.59(2H,m), 3.86-4.36(1
0H,m), 4.70(2H,s), 6.70-7.53(6H,m) 66(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.87-0.99(24H,m), 1.42-1.93(12H,
m), 3.57-3.62(2H,m), 3.97-4.18(8H,m), 4.63-4.64(2
H,m), 5.56(1H,brs), 6.15(1H,brs), 6.71-6.94(3H,m),
7.20-7.40(3H,m) 66(3) NMR(CDCl3)δ値: 0.99(6H,d,J=6.6Hz), 1.06(6H,d,J=
7.6Hz), 1.90-2.31(2H,m), 2.54-2.71(2H,m), 2.90-3.0
6(2H,m), 3.64(3H,s), 3.68(2H,d,J=7.3Hz), 3.79(2H,
d,J=6.3Hz), 5.10(2H,s), 6.26(1H,dd,J=8.8,2.4Hz),
6.47(1H,d,J=2.5Hz),6.70(1H,d,J=8.8Hz), 6.87(1H,d,J
=8.8Hz), 7.06-7.34(7H,m), 11.11(1H,s) 66(4) NMR(CDCl3)δ値: 0.99(6H,d,J=7.1Hz), 1.07(6H,d,J=
6.8Hz), 1.92-2.31(2H,m), 2.71(2H,t,J=6.8Hz), 2.98
(2H,t,J=6.8Hz), 3.64(3H,s),3.68(2H,d,J=8.4Hz),3.79
(2H,d,J=6.1Hz),5.14(2H,s), 6.28(1H,dd,J=4.7,2.4H
z), 6.47(1H,d,J=2.4Hz), 6.70(1H,d,J=8.8Hz), 6.88(1
H,d,J=8.5Hz), 7.04-7.36(3H,m), 7.62-7.72(1H,m), 8.
50-8.54(2H,m), 10.97(1H,s) 66(5) NMR(CDCl3)δ値: 1.00(6H,d,J=6.6Hz), 1.08(6H,d,J=
6.8Hz), 1.95-2.33(2H,m), 2.60-2.74(2H,m), 2.91-3.0
7(2H,m), 3.62(3H,s), 3.72(2H,d,J=6.6Hz), 3.81(2H,
d,J=6.4Hz), 4.58(2H,s), 5.64(1H,brs), 6.05(1H,br
s),6.31(1H,dd,J=8.7,2.4Hz), 6.52(1H,d,J=2.4Hz), 6.
72(1H,d,J=8.8Hz), 6.91(1H,d,J=8.8Hz), 7.08-7.15(2
H,m), 10.63(1H,s)
ミノ](2,4−ジイソブトキシフェニル)メチル]−
2−イソブトキシフェニル}プロパン酸エチル1.08gの
エタノール10ml溶液に5mol/L水酸化ナトリウム1.1mlを
加え、室温で3時間撹拌する。反応混合物にクロロホル
ムおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整して有機層
を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に
溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー[溶離液;クロロホルム:エタノール
=10:1]で精製すれば、白色泡状物の3−{5−
[[(2−アミノ−2−オキソエトキシ)イミノ]
(2,4−ジイソブトキシフェニル)メチル]−2−イ
ソブトキシフェニル}プロパン酸0.68gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.63-1.09(18H,m), 1.51-2.35(3H,
m), 2.47-3.09(4H,m), 3.47-3.79(6H,m), 4.59-4.65(2
H,m), 6.40-7.65(9H,m)
m), 3.63(2H,s), 3.93-4.20(8H,m), 6.78-7.48(7H,m) 68(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.90-0.96(18H,m), 1.57-1.92(9H,
m), 3.64(2H,s), 3.89-4.18(6H,m), 4.73(2H,s), 6.75-
7.41(6H,m), 8.77(2H,brs) 68(3) NMR(CDCl3)δ値: 0.92-0.99(18H,m), 1.61-1.72(9H,
m), 3.67(2H,s), 3.90-4.12(6H,m), 4.61-4.68(2H,m),
6.20(1H,brs), 6.59(1H,brs), 6.74-7.60(7H,m) 68(4) NMR(CDCl3)δ値: 0.96(6H,d,J=6.8Hz), 1.06(6H,d,J=
6.8Hz), 1.80-2.30(2H,m), 2.60-2.75(2H,m), 2.90-3.0
5(2H,m), 3.67(2H,d,J=6.4Hz), 3.78(2H,d,J=6.4Hz),
5.09(2H,s), 6.27(1H,dd,J=9.0,2.4Hz), 6.47(1H,d,J=
2.5Hz), 6.71(1H,d,J=8.8Hz), 6.87(1H,d,J=9.0Hz), 7.
07-7.33(8H,m), 11.0 0(1H,brs) 68(5) NMR(CDCl3)δ値: 0.98(6H,d,J=6.6Hz), 1.07(6H,d,J=
7.1Hz), 1.83-2.40(2H,m), 2.71(2H,t,J=6.6Hz), 3.03
(2H,t,J=6.6Hz), 3.68(2H,d,J=6.6Hz), 3.80(2H,d,J=6.
4Hz),5.16(2H,s), 6.26(1H,dd,J=8.8,2.4Hz), 6.46(1H,
d,J=2.4Hz), 6.71(1H,d,J=8.8Hz), 6.89(1H,d,J=9.3H
z), 7.07-7.40(4H,m), 7.60-7.73(1H,m), 8.40-8.48(3
H,m) 68(6) NMR(CDCl3)δ値: 0.99(6H,d,J=6.6Hz), 1.06(6H,d,J=
6.1Hz), 1.92-2.37(2H,m), 2.64-2.78(2H,m), 2.92-3.0
9(2H,m), 3.70(2H,d,J=6.6Hz), 3.78(2H,d,J=7.1Hz),
4.65(2H,s), 6.30(1H,dd,J=8.8,2.4Hz), 6.50(1H,d,J=
2.2Hz), 6.78(1H,d,J=8.8Hz), 6.87(1H,d,J=8.8Hz), 7.
10(1H,dd,J=8.8,2.0Hz), 7.38(1H,d,J=1.5Hz), 10.30(3
H,brs) 68(7) NMR(CDCl3)δ値: 1.00(6H,d,J=6.8Hz), 1.07(6H,d,J=
6.8Hz), 1.93-2.29(2H,m), 2.67-3.00(4H,m), 3.67-3.8
3(4H,m), 4.54(2H,s), 6.23-6.36(3H,m), 6.50(1H,d,J=
2.2Hz), 6.73(1H,d,J=8.8Hz),6.88(1H,d,J=9.0Hz), 6.9
9-7.25(3H,m), 10.60(1H,brs) 68(8) シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサ
ン:酢酸エチル=2:1]で、異性体を分離後、NMR
を測定した。 低極性オキシム NMR(DMSO-d6)δ値: 0.96(6H,d,J=6.8Hz), 1.03(6H,d,J
=6.6Hz), 1.78-2.21(2H,m), 2.49-2.85(4H,m), 3.69-3.
86(4H,m), 6.29-6.46(2H,m), 6.71(1H,d,J=8.6Hz), 6.9
4-7.08(4H,m), 11.70(2H,brs) 高極性オキシム NMR(DMSO-d6)δ値: 1.00(12H,d,J=6.6Hz), 1.80-2.17
(2H,m), 2.47-2.80(4H,m), 3.74(4H,d,J=3.9Hz), 6.41-
6.47(2H,m), 6.80-7.15(3H,m), 7.39-7.40(1H,m),9.20
(1H,brs), 11.50(2H,brs) 68(9) NMR(CDCl3)δ値: 0.73(6H,d,J=6.6Hz),1.00-1.07(12H,
m), 1.78-2.31(3H,m), 2.69-3.00(4H,m), 3.59-3.76(6
H,m), 6.40-6.80(3H,m), 7.05-7.28(2H,m), 7.49(1H,
s), 8.76(2H,brs)
ドロキシイミノ)メチル]−2−イソブトキシフェニ
ル}プロパン酸エチル6.00gのメタノール60ml溶液に5℃
で塩化ニッケル(II)6水和物5.56gを添加後、水素化
ホウ素ナトリウム4.42gを1時間かけて分割添加する。反
応混合物に水を加え、ついで6mol/L塩酸を滴下して室温
で10分間撹拌する。飽和重曹水でpH9に調整し、塩化メ
チレンを加え、有機層を分取する。得られた有機層を水
および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、褐色油状物の
3−{5−[アミノ(2,4−ジイソブトキシフェニ
ル)メチル]−2−イソブトキシフェニル}プロパン酸
エチル4.97gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.94-1.06(18H,m), 1.22(3H,t,J=7.1
Hz), 1.66-2.29(5H,m),2.44-2.69(2H,m), 2.79-3.05(2
H,m), 3.68(6H,d,J=6.4Hz), 4.09(2H, q,J=7.1Hz), 5.3
6(1H,s), 6.32-6.50(2H,m), 6.73(1H,d,J=9.0Hz), 7.02
-7.28(3H,m)
ル)メチル]−2−イソブトキシフェニル}プロパン酸
エチル1.10gの塩化メチレン11ml溶液にトリエチルアミ
ン0.4ml、ついでメタンスルホニルクロリド0.2mlを5〜1
0℃で滴下後、同温で3時間撹拌する。反応混合物に塩化
メチレンおよび水を加え、有機層を分取する。得られた
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、黄
褐色油状物3−(5−{2,4−ジイソブトキシフェニ
ル)[(メチルスルホニル)アミノ]メチル}−2−イ
ソブトキシフェニル)プロパン酸エチル1.26gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.78-1.30(21H,m), 1.72-2.31(3H,
m), 2.40-3.15(4H,m), 2.65(3H,s), 3.63-3.80(6H,m),
4.09(2H,q,J=7.1Hz), 5.40(1H,d,J=8.3Hz), 5.69(1H,d,
J=8.3Hz), 6.39-6.57(2H,m), 6.71(1H,d,J=8.3Hz), 7.0
2-7.31(3H,m)
ノ)(2,4−ジイソブトキシフェニル)メチル]−2
−イソブトキシフェニル}プロパン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.84-1.06(18H,m), 1.22(3H,t,J=7.1
Hz), 1.71-2.22(3H,m),2.03(3H,s), 2.22-2.71(2H,m),
2.78-3.08(2H,m), 3.61-3.74(6H,m), 4.09(2H,q,J=7.1H
z), 6.18-6.72(5H,m), 6.93-7.15(3H,m)
ニル)アミノ](2,4−ジイソブトキシフェニル)メ
チル]−2−イソブトキシフェニル}プロパン酸エチル
を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.85-1.06(18H,m), 1.21(3H,t,J=7.1
Hz), 1.83-2.29(3H,m),2.40-2.60(2H,m), 2.79-3.08(2
H,m), 3.61-3.72(6H,m), 4.08(2H,q,J=7.1Hz), 4.47(2
H,brs), 5.41(1H,d,J=6.8Hz), 5.93(1H,d ,J=6.8Hz),
6.37-6.45(2H,m), 6.60-6.73(1H,m), 7.00-7.15(3H,m)
チルスルホニル)アミノ]メチル}−2−イソブトキシ
フェニル)プロパン酸エチル1.26gのエタノール7ml溶液
に5mol/L水酸化ナトリウム1.3mlを加え、室温で1時間撹
拌する。反応混合物に水およびクロロホルムを加え、6m
ol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得られた
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得ら
れた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶
離液;ヘキサン:酢酸エチル=1:1]で精製すれば、淡
黄色油状物の3−(5−{2,4−ジイソブトキシフェ
ニル)[(メチルスルホニル)アミノ]メチル}−2−
イソブトキシフェニル)プロパン酸0.92gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.80-1.06(18H,m), 1.80-2.30(3H,
m), 2.44-3.07(4H,m), 2.66(3H,s), 3.58-3.81(6H,m),
5.73(2H,brs), 6.39-6.58(2H,m), 6.71(1H,d,J=9.3Hz),
7.02-7.25(3H,m), 8.78(1H,brs)
ノ)(2,4−ジイソブトキシフェニル)メチル]−2
−イソブトキシフェニル}プロパン酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.83-1.04(18H,m), 1.89-2.25(6H,
m), 2.55-3.00(4H,m), 3.57-3.80(6H,m), 6.20-7.19(8
H,m), 9.04(1H,brs)
ニル)アミノ](2,4−ジイソブトキシフェニル)メ
チル]−2−イソブトキシフェニル}プロパン酸を得
る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.87-1.04(18H,m), 1.84-2.28(3H,
m), 2.48-3.07(4H,m), 3.04-3.70(6H,m), 5.20(2H,br
s), 5.90-6.03(2H,m), 6.39-7.18(7H,m)
アミド5ml懸濁液に、室温でジエチルホスホノ酢酸エチ
ル4.2mlを10分間かけて滴下後、30分間撹拌し、さらに
3−[5−(2,4−ジイソブトキシベンゾイル)−2
−イソブトキシフェニル]プロパン酸1.00gを加え、110
℃で5時間撹拌する。反応混合物を室温まで冷却し、酢
酸エチルおよび水の混合物に加え、有機層を分取する。
得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=4:1]で精製す
れば、淡黄色油状物の3−{5−[1−(2,4−ジイ
ソブトキシフェニル)−3−エトキシ−3−オキソ−1
−プロペニル]−2−イソブトキシフェニル}プロパン
酸0.36gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.70-1.30(21H,m), 1.56-2.33(3H,
m), 2.47-3.05(4H,m), 3.52-3.76(6H,m), 3.91-4.21(2
H,m), 6.17-7.18(7H,m), 8.44(1H,brs)
イソペンチルオキシフェニル)−3−エトキシ−3−オ
キソ−1−プロペニル]−2−イソブトキシフェニル}
酢酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.92-0.98(18H,m), 1.13(3H,t,J=7.1
Hz), 1.56-1.94(9H,m),3.64(2H,s), 3.89-4.09(8H,m),
6.21(1H,s), 6.78-7.08(7H,m)
−3−エトキシ−3−オキソ−1−プロペニル]−2−
イソブトキシフェニル}プロパン酸0.79gをエタノール7
mlおよびテトラヒドロフラン3mlに溶解させ、5mol/L水
酸化ナトリウム8mlを加え、室温で2.5時間、ついで60℃
で1.5時間撹拌する。反応混合物にクロロホルムおよび
水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=2:1]で
精製すれば、淡黄色泡状物の3−[3−(2−カルボキ
シエチル)−4−イソブトキシフェニル]−3−(2,
4−ジイソブトキシフェニル)}−2−プロペン酸0.58
gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.70-1.06(18H,m), 1.60-2.33(3H,
m), 2.40-3.07(4H,m), 3.56(2H,d,J=6.1Hz), 3.72(4H,
d,J=6.1Hz), 6.16-7.12(7H,m), 9.36(2H,brs)
−3−エトキシ−3−オキソ−1−プロペニル]−2−
イソブトキシフェニル}プロパン酸0.60gをエタノール6
mlに溶解させ、5%パラジウム−炭素0.12gを添加後、水
素気流下、室温で1時間撹拌する。反応混合物をセライ
ト濾過後、減圧下に溶媒を留去し、粗生成物を得る。得
られた粗生成物をエタノール4mlに溶解させ、5mol/L水
酸化ナトリウム0.7mlを加え、室温で1時間撹拌する。反
応混合物にクロロホルムおよび水を加え、6mol/L塩酸で
pH2に調整し、有機層を分取する。得られた有機層を水
および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させて減圧下に溶媒を留去すれば、白色泡状物の
3−[3−(2−カルボキシエチル)−4−イソブトキ
シフェニル]−3−(2,4−ジイソブトキシフェニ
ル)}プロパン酸0.53gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.99(18H,d,J=6.6Hz), 1.80-2.30(3
H,m), 2.44-3.09(6H,m),3.66(6H,d,J=6.4Hz), 4.64-4.9
1(1H,m), 6.33-6.40(2H,m), 6.67(1H,d,J=9.0Hz), 6.91
-7.06(3H,m), 9.90(2H,brs)
インドール−5−カルボン酸0.12gを塩化メチレン3mlに
溶解させ、室温で塩化オキサリル50μl、ついでN,N
−ジメチルホルムアミド20μlを添加し、同温で1時間撹
拌する。5〜10℃で塩化アルミニウム0.12g、ついで1,
3−ジイソブトキシベンゼン0.13gを添加後、同温で30
分間撹拌する。反応混合物をクロロホルムおよび氷水の
混合物に加え、有機層を分取する。得られた有機層を水
および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキ
サン:酢酸エチル=1:1]で精製すれば、無色油状物の
5−(2,4−ジイソブトキシベンゾイル)−1−イソ
ブチル−1H−インドール−2−カルボン酸エチル0.18
gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.57(6H,d,J=6.6Hz), 0.84-1.10(12
H,m), 1.40(3H,t,J=7.1Hz), 1.85-2.44(3H,m), 3.57-3.
82(4H,m), 4.33-4.45(4H,m), 6.44-6.58(2H,m), 7.05-
8.07(5H,m)
イソブトキシベンゾイル)−1−イソブチル−1H−イ
ンドール−2−カルボン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.56(6H,d,J=6.6Hz), 0.65-1.58(16
H,m), 1.91-2.36(2H,m),3.62(2H,d,J=6.1Hz), 3.80(2H,
d,J=6.4Hz), 4.23-4.58(4H,m), 6.30-6.63(2H,m),7.31-
7.52(2H,m), 7.90(1H,dd,J=8.9, 2.2Hz), 8.10(1H,s)
ブチル−1H−インドール−2−カルボン酸エチル0.18
gをエタノール2mlに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム
0.3mlを添加し、室温で1時間撹拌する。反応混合物に水
およびクロロホルムを加え、6mol/L塩酸でpH2に調整
し、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢
酸エチル=1:1]で精製すれば、白色固形物の5−
(2,4−ジイソブトキシベンゾイル)−1−イソブチ
ル−1H−インドール−2−カルボン酸0.15gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.57(6H,d,J=6.8Hz), 0.90(6H,d,J=6.
6Hz), 1.06(6H,d,J=6.6Hz), 1.46-2.40(3H,m), 3.61(2
H,d,J=6.3Hz), 3.80(2H,d,J=6.4Hz), 4.43(2H,d,J=7.3H
z), 6.50-6.63(2H,m), 7.35-7.52(4H,m), 7.90(1H,dd,J
=7.8,1.5Hz), 8.10(1H,s)
イソブトキシベンゾイル)−1−イソブチル−1H−イ
ンドール−2−カルボン酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.56(6H,d,J=6.6Hz), 0.88(6H,d,J=
6.6Hz), 1.06(6H,d,J=6.6Hz), 1.40-1.80(1H,m), 1.86-
2.34(2H,m), 3.63(2H,d,J=6.1Hz), 3.80(2H,d,J=6.3H
z), 4.43(2H,d,J=7.1Hz), 4.93(1H, br s ), 6.51-6.61
(2H,m), 7.35-7.54(2H,m), 7.89-8.08(2H,m)
ブトキシ安息香酸8.0gのテトラヒドロフラン80ml溶液に
塩化オキサリル3.6ml、ついでN,N−ジメチルホルム
アミド60μlを滴下後、室温で1時間撹拌する。この反応
混合物にピロール8.5mlおよびメチルマグネシウムブロ
ミドのテトラヒドロフラン1mol/L溶液82mlから調製した
ピロール試薬を-70℃で滴下する。滴下後、1時間かけて
室温まで昇温し、室温で1時間撹拌する。反応混合物を
氷冷し、飽和塩化アンモニウム水を滴下後、室温で15分
間撹拌し、酢酸エチルを加え、有機層を分取する。得ら
れた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させて減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で精製すれ
ば、茶褐色固形物の3−[2−イソブトキシ−5−(1
H−ピロール−2−イルカルボニル)フェニル]プロパ
ン酸エチル5.0gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.07(6H,d,J=6.8Hz), 1.23(3H,t,J=
7.3Hz), 1.95-2.32(1H,m), 2.62-2.71(2H,m), 2.93-3.1
3(2H,m), 3.82(2H,d,J=6.4Hz), 4.13(2H,q,J=7.1Hz),
6.25-6.36(1H,m), 6.83-6.93(2H,m), 7.05-7.15(1H,m),
7.79-7.87(2H,m),9.80(1H,brs)
l溶液に室温で塩化アルミニウム1.16gを添加、ついで0
℃で3−[2−イソブトキシ−5−(1H−ピロール−
2−イルカルボニル)フェニル]プロパン酸エチル1.00
gの塩化メチレン10ml溶液を滴下後、0℃で30分間、つい
で室温で30分間撹拌する。反応混合物を塩化メチレンお
よび氷水の混合物に加え、有機層を分取する。得られた
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得ら
れた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶
離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で精製すれば、淡
褐色固形物の3−メチルブタン酸2−(3−エトキシ−
3−オキソプロピル)−4−{[4−(3−メチルブタ
ノイル)−1H−ピロール−2−イル]カルボニル}フ
ェニル0.94gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.99(6H,d,J=6.4Hz), 1.10(6H,d,J=
6.4Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 2.06-3.06(10H,m), 4.15
(2H,q,J=7.1Hz), 7.16-7.29(2H,m), 7.71-7.89(3H,m),
10.50(1H,brs)
ロピル)−4−{[4−(3−メチルブタノイル)−1
H−ピロール−2−イル]カルボニル}フェニル0.9gの
N,N−ジメチルホルムアミド18ml溶液に60%水素化ナ
トリウム0.12g、ついでヨウ化イソペンチル0.4mlを添加
後50−60℃で1時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチル
および水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、
有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減
圧下に溶媒を留去すれば、白色固形物の3−メチルブタ
ン酸2−(3−エトキシ−3−オキソプロピル)−4−
{[1−イソペンチル−4−(3−メチルブタノイル)
−1H−ピロール−2−イル]カルボニル}フェニル0.
7gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.97(12H,d,J=6.4Hz), 1.09(6H,d,J=
6.3Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.46-1.87(3H,m), 2.09-
3.06(10H,m), 4.13(2H,q,J=7.1Hz), 4.32-4.50(2H,m),
7.10-7.21(2H,m), 7.54-7.76(3H,m)
ロピル)−4−{[1−イソペンチル−4−(3−メチ
ルブタノイル)−1H−ピロール−2−イル]カルボニ
ル}フェニル0.68gのテトラヒドロフラン4ml溶液をエタ
ノール14mlおよび1mol/L水酸化ナトリウム13mlの混合物
に40〜50℃で滴下し、同温で1時間撹拌する。反応混合
物に水およびクロロホルムを加え、6mol/L塩酸でpH2に
調整し、有機層を分取する。得られた有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をN,
N−ジメチルホルムアミド14mlに溶解させ、炭酸カリウ
ム0.89gおよびヨウ化イソペンチル0.9mlを添加後、100
℃で15分間撹拌する。反応混合物を室温まで冷却し、酢
酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に
調整して有機層を分取する。得られた有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:
酢酸エチル=5:1]で精製すれば、無色油状物の3−
[5−{[1−イソペンチル−4−(3−メチルブタノ
イル)−1H−ピロール−2−イル]カルボニル}−2
−(イソペンチルオキシ)フェニル]プロパン酸イソペ
ンチル0.69gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.86-1.02(24H,m), 1.45-2.40(10H,
m), 2.56-2.70(4H,m) 2.90-3.08(2H,m), 4.06(2H,d,J=
6.4Hz), 4.13(2H,d,J=6.6Hz), 4.38(2H,t,J=7.2Hz), 6.
89(1H,d,J=9.3Hz), 7.07(1H,d,J=1.5Hz), 7.52(1H,d,J=
1.5Hz), 7.69-7.79(2H,m)
タノイル)−1H−ピロール−2−イル]カルボニル}
−2−(イソペンチルオキシ)フェニル]プロパン酸イ
ソペンチル0.67gのエタノール14ml溶液に1mol/L水酸化
ナトリウム3.6mlを添加後、50℃で1時間撹拌する。反応
混合物に水およびクロロホルムを加え、6mol/L塩酸でpH
2に調整し、有機層を分取する。得られた有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、白色固形物の3
−[5−{[1−イソペンチル−4−(3−メチルブタ
ノイル)−1H−ピロール−2−イル]カルボニル}−
2−(イソペンチルオキシ)フェニル]プロパン酸0.56
gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.97(18H,d,J=6.1Hz), 1.52-2.41(7
H,m), 2.58-2.73(4H,m),2.94-3.10(2H,m), 4.09(2H,t,J
=5.6Hz), 4.38(2H,t,J=6.3Hz), 6.04(1H,brs), 6.91(1
H,d,J=8.8Hz), 7.11(1H,d,J=1.7Hz), 7.47(1H,d,J=1.7H
z), 7.69-7.77(2H,m)
ロ−1H−ベンズイミダゾール−5−カルボン酸0.17g
の塩化メチレン9ml溶液に塩化オキサリル60μl、ついで
N,N−ジメチルホルムアミド20μlを加え、室温で2時
間撹拌する。塩化アルミニウム0.42g、ついで2−(2
−イソペンチルオキシフェニル)酢酸イソペンチル0.38
gを室温で添加後、同温で30分間撹拌する。反応混合物
を塩化メチレンおよび氷水の混合物に加え、有機層を分
取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒
を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]
で精製すれば、淡黄色油状物の2−[5−[(1,3−
ジイソペンチル−2−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H
−ベンズイミダゾール−5−イル)カルボニル]−2−
(イソペンチルオキシ)フェニル]酢酸イソペンチル0.
29gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.87-1.01(24H,m), 1.31-1.92(12H,
m), 3.65(2H,s), 3.84-4.20(8H,m), 6.89-7.05(2H,m),
7.52-7.81(4H,m)
2,3−ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−イ
ル)カルボニル]−2−(イソペンチルオキシ)フェニ
ル]酢酸イソペンチル0.28gをエタノール3mlおよびテト
ラヒドロフラン3mlに溶解させ、1mol/L水酸化ナトリウ
ム1.4mlを添加し、室温で3時間撹拌する。反応混合物に
水およびクロロホルムを加え、2mol/L塩酸でpH2に調整
し、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去すれば、白色泡状物の2−[5
−[(1,3−ジイソペンチル−2−オキソ−2,3−
ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)カル
ボニル]−2−(イソペンチルオキシ)フェニル]酢酸
0.21gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.96(18H,d,J=5.6Hz), 1.38-2.02(9
H,m), 3.71(2H,s), 3.85-4.16(6H,m), 6.88-7.81(7H,m)
−イソブトキシフェニル]プロパン酸50.0gおよび炭酸
カリウム22.0gのN,N−ジメチルホルムアミド150ml懸
濁液にヨードメタン9.9mlを室温で滴下後、同温で30分
間撹拌する。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物
に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で
精製すれば、淡褐色固形物の3−[5−(2,4−ジイ
ソブトキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]
プロパン酸メチル51.0gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.70(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(12H,d,J=
6.8Hz), 1.58-2.40(3H,m), 2.49-3.05(4H,m), 3.59-3.8
2(6H,m), 3.66(3H,s), 6.47-6.59(2H,m), 6.79(1H,d,J=
9.3Hz), 7.35(1H,d,J=8.1Hz), 7.60-7.68(2H,m)
ができる。3−(3−エトキシ−3−オキソプロピル)
−4−イソペンチルオキシ安息香酸0.90gを塩化メチレ
ン9mlに溶解させ、室温で塩化オキサリル0.31ml、つい
でN,N−ジメチルホルムアミド20μlを加え、室温で1
時間撹拌する。5〜10℃で塩化アルミニウム0.78g、つい
で1,3−ジイソブトキシベンゼン0.78gを添加し、同
温で30分間、さらに室温で30分間攪拌する。室温で塩化
アルミニウム0.39gを添加後、同温で30分間攪拌する。
反応混合物をクロロホルムおよび氷水の混合物に加え、
有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減
圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチ
ル=10:1]で精製すれば、淡黄色油状物の3−[5−
(2−ヒドロキシ−4−イソブトキシベンゾイル)−2
−イソペンチルオキシフェニル]プロパン酸エチル0.67
gを得る。
ブトキシ安息香酸1.00gを塩化メチレン10mlに溶解さ
せ、室温で塩化オキサリル0.36ml、ついでN,N−ジメ
チルホルムアミド20μlを加えた後、室温で1時間撹拌す
る。5〜10℃で塩化アルミニウム0.95g、ついで1,3−
ジイソペンチルオキシベンゼン1.02gを添加後、同温で3
0分間さらに室温で30分間攪拌する。室温で塩化アルミ
ニウム0.45gを添加後、同温で30分間攪拌する。反応混
合物を塩化メチレンおよび氷水の混合物に加え、有機層
を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に
溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=1
0:1]で精製すれば、淡黄色油状物の3−[5−(2−
ヒドロキシ−4−イソペンチルオキシベンゾイル)−2
−イソブトキシフェニル]プロパン酸エチル0.63gを得
る。得られた油状物の0.60gをエタノール12mlに溶解さ
せ、5mol/L水酸化ナトリウム1.3mlを添加し、室温で2時
間攪拌する。反応混合物にクロロホルムおよび水を加
え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得
られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれ
ば、淡黄色固形物の[5−(2−ヒドロキシ−4−イソ
ペンチルオキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニ
ル]プロパン酸0.48gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.96(6H,d,J=6.1Hz), 1.07(6H,d,J=
6.6Hz), 1.59-2.32(4H,m), 2.66-3.11(4H,m), 3.82(2H,
d,J=6.1Hz), 4.04(2H,t,J=6.1Hz), 6.33-6.62(2H,m),
6.89(1H,d,J=9.0Hz), 7.48-7.57(3H,m),8.70(1H,brs),
12.67(1H,s)
テトラヒドロフラン100mlに懸濁させ、-25〜-20℃でn
−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.6mol/L)52ml
を滴下する。-25〜-15℃で1時間撹拌し、室温まで1時間
かけて昇温させる。反応混合物にテトラヒドロフラン50
mlに溶解させた1,4−ジオキサスピロ[4.5]デカ
ン−8−オン10.0gを加え、室温で1時間撹拌する。反応
混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、有機層を
分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶
媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エチル=
95:5]で精製すれば、無色油状物の8−(3−メチル
ブチリデン)−1,4−ジオキサスピロ[4.5]デカ
ン10.5gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.87(6H,d,J=6.3Hz), 1.1-2.4(11H,
m), 3.96(2H,s), 3.97(2H,s), 5.16(1H,t,J=7.4Hz)
ロ[4.5]デカン10.0gをテトラヒドロフラン50mlに
溶解させ、6mol/L塩酸50mlを加えた後、室温で1時間撹
拌する。反応混合物にクロロホルムおよび水を加え、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エ
チル=98:2]で精製すれば、無色油状物の4−(3−
メチルブチリデン)−1−シクロヘキサノン6.6gを得
る。 NMR(CDCl3)δ値:0.91(6H,d,J=6.4Hz), 1.2-2.8(11H,
m), 5.37(1H,t,J=7.3Hz)
1.0g、D−システイン・塩酸塩・1水和物1.1gおよび酢
酸ナトリウム0.52gをエタノール3.5mlおよび水1.5mlの
混合溶媒に溶解させ、室温で2時間撹拌する。反応液に
水を加え、析出する結晶を濾取すれば、無色結晶の(3
S)−8−(3−メチルブチリデン)−1−チア−4−
アザスピロ[4.5]−デカン−3−カルボン酸0.81g
を得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.87(6H,d,J=6.1Hz), 1.2-2.8(11H,
m), 3.1-3.6(2H,m), 4.34(1H,t,J=7.8Hz), 5.19(1H,t,J
=7.1Hz), 6.9-7.5(2H,bs)
化イソブチル11.3mlをN,N−ジメチルホルムアミド100
mlに溶解させ、加熱還流下に1.5時間撹拌する。反応混
合物を酢酸エチルおよび水の混合溶媒に加え、6mol/L塩
酸でpH2.0に調整し、有機層を分取する。得られた有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離
液;n−ヘキサン:酢酸エチル=95:5]で精製すれ
ば、淡黄色油状物の2−イソブトキシ安息香酸メチル4.
2gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.06(6H,d,J=6.6Hz), 1.8-2.4(1H,
m), 3.79(2H,d,J=6.4Hz),3.98(3H,s), 6.8-7.1(2H,m),
7.3-7.6(1H,m), 7.7-7.9(1H,m)
lに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム6mlを加え、室温
で2時間撹拌する。反応混合物に酢酸エチルおよび水を
加え、2mol/L塩酸でpH2.0に調整し、有機層を分取す
る。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を
留去すれば、無色結晶の2−イソブトキシ安息香酸3.9g
を得る。
lを塩化メチレン40mlに溶解させ、加熱還流下で1時間撹
拌する。この反応混合物をN−メチルニトロソウレア5
3.0g、水酸化カリウム83.0g、水120mlおよびエチルエー
テル150mlより調製したジアゾメタンを含むエチルエー
テル溶液に5〜10℃で滴下し、室温で2時間撹拌する。反
応混合物にエチルエーテル、酢酸および水を加え、有機
層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で
順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下に
溶媒を留去する。得られた残留物をメタノール30mlに溶
解させ、25〜30℃で安息香酸銀2.3gおよびトリエチルア
ミン23mlの混合物にこの溶解液を加え、1.5時間撹拌す
る。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、濃塩酸で
pH2.0に調整し、有機層を分取する。得られた有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;n
−ヘキサン:酢酸エチル=9:1]で精製すれば、無色油
状物の2−(2−イソブトキシフェニル)酢酸メチル3.
8gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.02(6H,d,J=6.8Hz), 1.8-2.4(1H,
m), 3.5-3.9(7H,m), 6.7-7.1(2H,m), 7.1-7.4(2H,m)
塩化メチレン10mlに溶解させ、5〜10℃で四塩化チタン
0.99mlおよびα,α−ジクロロメチルメチルエーテル0.
45mlを順次滴下後、室温で30分間撹拌する。反応混合物
を塩化メチレンおよび水の混合溶媒に加え、有機層を分
取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒
を留去する。 得られた残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エチル=
95:5]で精製すれば、無色油状物の2−(5−ホルミ
ル−2−イソブトキシフェニル)酢酸メチル0.80gを得
る。 NMR(CDCl3)δ値:1.03(6H,d,J=6.8Hz), 1.8-2.4(1H,
m), 3.69(5H,s), 3.83(2H,d,J=6.4Hz), 6.95(1H,d,J=8.
3Hz), 7.6-7.9(2H,m), 9.86(1H,s)
メチル0.80gをアセトニトリル8mlに溶解させ、5〜10℃
で水25mlに溶解させたリン酸二水素ナトリウム二水和物
2.03g、30%過酸化水素水0.69mlおよび水15mlに溶解さ
せた亜塩素酸ナトリウム0.73gを順次加えた後、5〜10℃
で3.5時間撹拌する。反応混合物にクロロホルムおよび
水を加え、6mol/L塩酸でpH2.0に調整し、有機層を分取
する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶
媒を留去すれば、無色結晶の3−(メトキシカルボニル
メチル)−4−イソブトキシ安息香酸0.62gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.03(6H,d,J=6.6Hz), 1.8-2.4(1H,
m), 3.69(5H,s), 3.81(2H,d,J=6.4Hz), 6.89(1H,d,J=8.
3Hz), 7.8-8.2(2H,m), 8.8-9.6(1H,bs)
gをピリジン10mlおよび水10mlの混合溶媒に溶解させ、6
0〜70℃で過マンガン酸カリウム0.45gを加え、加熱還流
下に2時間撹拌する。反応混合物をセライト濾過後、酢
酸エチルを加え、6mol/L塩酸でpH2.0に調整し、有機層
を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去すれば、無色結晶の3−(イソブトキシ
カルボニル)−4−イソブトキシ安息香酸0.35gを得
る。 NMR(CDCl3)δ値:1.02(6H,d,J=6.4Hz), 1.07(6H,d,J=
6.4Hz), 1.9-2.4(2H,m),3.88(2H,d,J=6.4Hz), 4.12(2H,
d,J=6.8Hz), 7.00(1H,d,J=9.0Hz), 8.19(1H,dd,J=8.7,
2.2Hz), 8.54(1H,d,J=2.2Hz), 7.0-9.0(1H,bs)
N,N−ジメチルホルムアミド700mlに溶解させ、70℃で
3−クロロ−2−メチル−1−プロペン67.9mlを30分間
かけて滴下後、70℃で30分間撹拌する。反応混合物を酢
酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH3.0
に調整し、有機層を分取する。得られた有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をエ
タノール350mlに溶解させ、5%パラジウム−炭素7.0gを
添加後、水素気流下、35℃で4時間撹拌する。反応混合
物をセライトろ過後、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離
液;n−ヘキサン:トルエン=2:1]で精製すれば、淡
黄色油状物の2−イソブトキシベンズアルデヒド92.4g
を得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.07(6H,d,J=6.6Hz), 2.0-2.2(1H,
m), 3.85(2H,d,J=6.4Hz),6.9-7.1(2H,m), 7.4-7.7(1H,
m), 7.83(1H,dd,J=8.1,2.0Hz), 10.55(1H,s)
に懸濁させ、室温でジエチルホスホノ酢酸エチル5.0ml
を5分間かけて滴下後、40℃で30分間撹拌する。つい
で、テトラヒドロフラン20mlに溶解させた2−イソブト
キシベンズアルデヒド3.40gを室温で20分間かけて滴下
後、1時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチルおよび水
の混合物に加え、有機層を分取する。得られた有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;n
−ヘキサン:酢酸エチル=9:1]で精製すれば、淡黄色
油状物の3−(2−イソブトキシフェニル)−2−プロ
ペン酸エチル4.30gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.06(6H,d,J=6.6Hz), 1.32(3H,t,J=
7.1Hz), 1.8-2.4(1H,m),3.78(2H,d,J=6.4Hz), 4.25(2H,
q,J=7.1Hz), 6.53(1H,d,J=16.4Hz), 6.8-7.6(4H,m), 8.
10(1H,d,J=16.1Hz)
チル1.50gをエタノール15mlに溶解させ、5%パラジウム
−炭素0.30g添加後、水素気流下、室温で1時間撹拌す
る。反応混合物をセライトろ過後、減圧下に溶媒を留去
する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1]で
精製すれば、無色油状物の3−(2−イソブトキシフェ
ニル)プロピオン酸エチル0.76gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.04(6H,d,J=6.6Hz), 1.22(3H,t,J=
7.1Hz), 1.9-2.3(1H,m),2.5-2.7(2H,m), 2.9-3.1(2H,
m), 3.73(2H,d,J=6.4Hz), 4.12(2H,q,J=6.8Hz), 6.7-7.
3(4H,m)
イソブトキシフェニル)プロピオン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.07(6H,d,J=6.6Hz), 1.23(3H,t,J=
7.1Hz), 2.0-2.4(1H,m),2.5-2.8(2H,m), 2.9-3.1(2H,
m), 3.84(2H,d,J=6.4Hz), 4.13(2H,d,J=7.1Hz), 6.93(1
H,d,J=9.0Hz), 7.7-7.9(2H,m), 9.85(1H,s)
イソブトキシフェニル)−2−プロペン酸エチルを得
る。 NMR(CDCl3)δ値:1.09(6H,d,J=6.6Hz), 1.34(3H,t,J=
7.1Hz), 2.0-2.5(1H,m),3.90(2H,d,J=6.3Hz), 4.28(2H,
q,J=7.1Hz), 6.61(1H,d,J=16.1Hz), 7.02(1H,d,J=8.6H
z), 7.8-8.3(3H,m), 9.90(1H,s)
ニルエチル)−4−イソブトキシ安息香酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.07(6H,d,J=6.6Hz), 1.25(3H,t,J=
7.3Hz), 2.0-2.4(1H,m),2.5-2.8(2H,m), 2.9-3.1(2H,
m), 3.82(2H,d,J=6.1Hz), 4.14(2H,q,J=7.1Hz), 6.85(1
H,d,J=8.0Hz), 7.9-8.1(2H,m), 9.0-9.8(1H,bs)
ニルエテニル)−4−イソブトキシ安息香酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.09(6H,d,J=6.8Hz), 1.35(3H,t,J=
6.8Hz), 1.9-2.4(1H,m),3.89(2H,d,J=6.4Hz), 4.28(2H,
q,J=6.8Hz), 6.62(1H,d,J=16.1Hz), 6.95(1H,d,9.0Hz),
7.9-8.3(3H,m), 8.6-9.8(1H,bs)
ジカルボン酸1−ベンジル2−エチルエステル11.8g、
3,4-ジヒドロピラン11mlおよびパラトルエンスルホン酸
ピリジニウム2.0gを塩化メチレン59mlに溶解させ1時間
加熱還流する。反応混合物を飽和重曹水50mlに加え、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エ
チル=2:1]で精製すれば、無色油状物の(2S,4
R)−4−(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルオ
キシ)−1,2−ピロリジンジカルボン酸1−ベンジル
2−エチルエステル12.9gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.0-2.6(11H,m), 3.3-4.7(9H,m), 4.9
-5.3(2H,m), 7.1-7.5(5H,m)
2−イルオキシ)−1,2−ピロリジンジカルボン酸1
−ベンジル2−エチルエステル12.7gをエタノール127ml
に溶解させ、5-10℃で1mol/L 水酸化ナトリウム水溶液3
7.0mlを添加後、室温で1.5時間撹拌する。減圧下に反応
混合物の溶媒を留去し、得られた残留物をN,N-ジメチ
ルホルムアミド90mlに溶解させ、5-10℃でジフェニルリ
ン酸アジド10.9ml、トリエチルアミン14.1mlおよびN,
O-ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩3.94gを順次添加
後、室温で1時間撹拌する。反応混合物に酢酸エチルお
よび水の混合物を加え、6mol/L塩酸でpH6.5に調整後有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下
に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エチ
ル=4:1]で精製すれば、淡黄色油状物の(2S,4
R)−2−{[メトキシ(メチル)アミノ]カルボニ
ル}−4−(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルオ
キシ)−1−ピロリジンカルボン酸ベンジルエステル3.
75gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.2-2.6(8H,m), 3.0-4.0(10H,m), 4.3
-5.3(5H,m), 7.2-7.5(5H,m)
カルボニル}−4−(テトラヒドロ−2H−ピラン−2
−イルオキシ)−1−ピロリジンカルボン酸ベンジルエ
ステル3.3gをテトラヒドロフラン33mlに溶解させ、-70
℃で水素化リチウムアルミニウム0.64gを添加後-70℃で
1時間撹拌する。反応混合物に酢酸エチル33mlを30分間
かけて滴下、ついで20%含水テトラヒドロフラン66mlを
30分間かけて滴下後、室温で30分間撹拌する。セライト
ろ過後有機層を分取し、得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1]で精製すれば、淡黄色油状物の
(2S,4R)−2−ホルミル−4−(テトラヒドロ−
2H−ピラン−2−イルオキシ)−1−ピロリジンカル
ボン酸ベンジルエステル1.25gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:1.2-2.5(8H,m), 3.3-4.0(4H,m), 4.1-
4.8(3H,m), 5.17(2H,bs),7.1-7.5(5H,m), 9.4-9.7(1H,
m)
テトラヒドロフラン11mlに懸濁させ、-25〜-20℃でn-ブ
チルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.53mol/L)4.3mlを
10分間かけて滴下する。-25〜-15℃で1時間撹拌後、室
温まで1時間かけて昇温させる。反応混合物にテトラヒ
ドロフラン11mlに溶解させた(2S,4R)−2−ホル
ミル−4−(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルオ
キシ)−1−ピロリジンカルボン酸ベンジルエステル1.
10gを20分間かけて滴下し、室温で5時間撹拌する。反応
混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、有機層を
分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶
媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エチル=
4:1]で精製すれば、淡黄色油状物の(2S,4R)−
2−(4−メチル−1−ペンテニル)−4−(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イルオキシ)−1−ピロリジ
ンカルボン酸ベンジルエステル0.62gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.85(6H,d,J=6.1Hz), 1.3-2.5(11H,
m), 3.3-4.0(4H,m), 4.2-4.9(3H,m), 5.10(2H,bs), 5.2
-5.6(2H,m), 7.32(5H,bs)
−4−(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イルオキ
シ)−1−ピロリジンカルボン酸ベンジルエステル0.60
gをテトラヒドロフラン12mlに溶解させ、6mol/L塩酸12m
l添加後、室温で2時間撹拌する。反応混合物にクロロホ
ルムおよび水の混合物を加え、有機層を分取する。得ら
れた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1]で精製す
れば、淡黄色油状物の(2S,4R)−4−ヒドロキシ
−2−(4−メチル−1−ペンテニル)−1−ピロリジ
ンカルボン酸ベンジルエステル0.43gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.85(6H,d,J=5.9Hz), 1.2-2.4(5H,m),
3.4-3.9(2H,m), 4.3-4.6(1H,m), 4.6-5.0(2H,m), 5.10
(2H,bs), 5.2-5.7(2H,m), 7.2-7.5(5H,m)
ンモニウム0.04gを添加後120℃まで昇温させ、トルエン
0.8mlに溶解させた(2S,4R)−4−ヒドロキシ−
2−(4−メチル−1−ペンテニル)−1−ピロリジン
カルボン酸ベンジルエステル0.40gおよび3−クロロ−
2−メチル−1−プロペン0.65mlを 5分間かけて滴下
後,加熱還流下30分間撹拌する。反応混合物を室温まで
冷却し、トルエンおよび水の混合物を加え、有機層を分
取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒
を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エチル=1
0:1]で精製すれば、無色油状物の(2S,4R)−2
−(4−メチル−1−ペンテニル)−4−[(2−メチ
ルー2−プロペニル)オキシ]−1−ピロリジンカルボ
ン酸ベンジルエステル0.31gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.84(6H,d,J=5.9Hz), 1.2-2.5(8H,m),
3.3-4.1(5H,m), 4.6-5.6(7H,m), 7.32(5H,bs)
−4−[(2−メチルー2−プロペニル)オキシ]−1
−ピロリジンカルボン酸ベンジルエステル0.29gをエタ
ノール5.8mlに溶解させ、5%パラジウム-炭素0.06gを添
加後、水素気流下室温で1.5時間撹拌する。反応混合物
をセライトろ過後、減圧下に溶媒を留去すれば、黄色油
状物の(2R,4R)−4−イソブトキシ−2−(4−
メチルペンチル)ピロリジン0.18gを得る。 NMR(CDCl3)δ値:0.86(6H,d,J=6.1Hz), 0.89(6H,d,J=6.
6Hz), 1.0-2.2(11H,m),2.7-3.4(5H,m), 3.8-4.1(1H,m)
m), 4.04(2H,t,J=6.3Hz), 7.00(2H,t,J=7.3Hz), 7.43-
7.63(1H,m), 7.83(1H,dd,J=8.1,2.2Hz), 10.53(1H,d,J=
0.7Hz) 24(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.98(6H,d,J=5.9Hz), 1.64-2.03(3H,
m), 4.11(2H,t,J=6.4Hz), 6.92-7.08(2H,m), 7.43-7.63
(1H,m),7.83(1H,dd,J=7.7,2.0Hz), 10.52(1H,s) 24(3) NMR(CDCl3)δ値: 1.06(6H,d,J=6.6Hz), 2.07-2.36(1H,
m), 3.75(2H,d,J=6.4Hz), 3.85(3H,s), 5.09(2H,s), 6.
48-6.61(2H,m), 7.31-7.47(5H,m), 7.84(1H,d,J=9.3Hz) 24(4) NMR(CDCl3)δ値: 1.00(6H,d,J=6.8Hz), 1.03(6H,d,J=
6.6Hz), 2.00-2.19(2H,m), 2.28(3H,s), 3.75(2H,d,J=
6.4Hz), 4.08(2H,d,J=6.6Hz), 6.82(1H,d,J=8.5Hz), 7.
20(1H,dd,J=8.5,2.4Hz),7.57(1H,d,J=2.4Hz) 24(5) NMR(CDCl3)δ値: 1.02(6H,d,J=6.6Hz), 1.06(6H,d,J=
6.6Hz),1.88-2.41(2H,m),2.28(3H,s), 3.79(2H,d,J=6.4
Hz), 4.09(2H,d,J=6.6Hz), 7.17(1H,d,J=8.1Hz),7.47-
7.59(2H,m) 24(6) NMR(CDCl3)δ値: 3.91(3H,s), 5.07(2H,s), 6.44-6.58
(2H,m), 7.25-7.40(5H,m), 7.74(1H,d,J=9.5Hz), 10.96
(1H,s) 24(7) NMR(CDCl3)δ値: 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 2.53-2.71(2H,
m), 2.94-3.12(2H,m), 4.12(2H,q,J=7.1Hz), 5.20(2H,
s), 6.79-7.09(2H,m), 7.11-7.25(2H,m), 7.61(2H,d,J=
8.6Hz), 8.26(2H,d,J=8.6Hz) 24(8) NMR(CDCl3)δ値: 0.90(6H,d,J=6.6Hz), 1.05(6H,d,J=
6.6Hz), 1.67-2.26(2H,m), 2.51-3.04(4H,m), 3.73(2H,
d,J=6.4Hz), 3.85(2H,d,J=6.6Hz), 6.74-6.91(2H,m),
7.09-7.25(2H,m) 24(9) NMR(CDCl3)δ値: 0.89(6H,d,J=5.6Hz), 0.95(6H,d,J=
5.6Hz), 1.40-1.94(6H,m), 3.60(2H,s), 3.98(2H,t,J=
6.1Hz), 4.11(2H,t,J=5.9Hz), 6.80-6.95(2H,m), 7.14-
7.35(2H,m)
トキシ安息香酸イソブチルから2−フルオロ−4−イソ
ブトキシ安息香酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.03(6H,d,J=6.6Hz), 1.90-2.41(1H,
m), 3.77(2H,d,J=6.6Hz), 6.56-6.80(2H,m), 7.97(1H,d
d,J=9.0, 8.6Hz), 9.10(1H,brs)
酢酸メチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.02(3H,t,J=7.2Hz), 1.58-1.96(2H,
m), 3.63(2H,s), 3.68(3H,s), 3.92(2H,t,J=6.4Hz), 6.
88(2H,t,J=6.4Hz), 7.14-7.33(2H,m)
ェニル)酢酸メチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.95(6H,d,J=7.1Hz), 1.56-1.90(3H,
m), 3.63(2H,s), 3.68(3H,s), 3.99(2H,t,J=6.3Hz), 6.
84(2H,t,J=7.3Hz), 7.15-7.32(2H,m)
m), 3.68(2H,s), 3.70(3H,s), 4.03(2H,t,J=6.3Hz), 6.
96(1H,d,J=8.1Hz), 7.74-7.86(2H,m), 9.87(1H,s) 28(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.97(6H,d,J=6.1Hz), 1.65-1.84(3H,
m), 3.67(2H,s), 3.69(3H,s), 4.10(2H,t,J=6.2Hz), 6.
98(1H,d,J=8.0Hz), 7.74-7.86(2H,m), 9.87(1H,s) 28(3) NMR(CDCl3)δ値: 0.99(6H,d,J=6.1Hz), 1.23(3H,t,J=
7.1Hz), 1.59-2.04(3H,m), 2.51-2.70(2H,m), 2.89-3.0
6(2H,m), 4.01-4.25(4H,m), 6.94(1H,d,J=9.3Hz),7.69-
7.80(2H,m), 9.85(1H,s) 28(4) NMR(CDCl3)δ値: 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 2.58-2.76(2H,
m), 3.00-3.18(2H,m), 4.12(2H,q,J=7.1Hz), 5.32(2H,
s), 6.99(1H,d,J=9.0Hz),7.59-7.78(4H,m), 8.27(2H,d,
J=8.8Hz), 9.88(1H,s) 28(5) NMR(CDCl3)δ値: 1.07(6H,d,J=6.8Hz), 1.25(3H,t,J=
7.1Hz), 1.85-2.16(3H,m), 2.35(2H,t,J=6.8Hz), 2.73
(2H,t,J=6.8Hz), 3.83(2H,d,J=6.4Hz), 4.12(2H,q,J=7.
1Hz), 6.92(1H,d,J=9.0Hz), 7.67-7.77(2H,m), 9.86(1
H,s) 28(6) NMR(CDCl3)δ値: 1.05(6H,d,J=6.3Hz), 1.27(3H,t,J=
7.1Hz), 2.07-2.28(1H,m), 3.58(2H,d,J=6.6Hz), 3.84
(2H,d,J=6.4Hz),4.19(2H,q,J=7.1Hz), 5.80(1H,d,J=15.
6Hz), 6.91-7.19(2H,m), 7.68-7.82(2H,m), 9.86(1H,s) 28(7) NMR(CDCl3)δ値: 0.97(6H,d,J=5.9Hz), 1.27(3H,t,J=
7.2Hz), 1.65-1.96(3H,m), 3.55(2H,d,J=6.8Hz), 4.03-
4.29(4H,m), 5.79(1H,dt,J=15.6, 1.5Hz),6.92-7.30(2
H,m), 7.67-7.80(2H,m), 9.86(1H,d,J=1.0Hz)
m), 3.67(2H,s), 3.70(3H,s), 4.01(2H,t,J=6.4Hz), 7.
00(1H,d,J=8.4Hz), 7.93-8.10(2H,m), 8.60(1H,brs) 29(2) NMR(CDCl3)δ値: 0.96(6H,d,J=5.9Hz), 1.56-1.99(3H,
m), 3.66(2H,s), 3.69(3H,s), 4.17(2H,t,J=6.3Hz), 6.
90(1H,d,J=8.4Hz), 7.93-8.11(2H,m), 11.63(1H,brs) 29(3) NMR(CDCl3)δ値: 0.98(6H,d,J=6.0Hz), 1.25(3H,t,J=
7.1Hz), 1.60-2.05(3H,m), 2.51-2.69(2H,m), 2.89-3.0
5(2H,m),4.01-4.26(4H,m), 5.70(1H,brs), 6.88(1H,d,J
=8.3Hz), 7.92-8.03(2H,m) 29(4) NMR(CDCl3)δ値: 1.22(3H,t,J=7.1Hz), 2.56-2.71(2H,
m), 2.96-3.04(2H,m), 4.10(2H,q,J=7.1Hz), 5.32(2H,
s), 6.94(1H,d,J=9.0Hz), 7.64-7.92(5H,m), 8.27(2H,
d,J=8.1Hz) 29(5) NMR(CDCl3)δ値: 1.06(6H,d,J=6.6Hz), 1.25(3H,t,J=
7.1Hz), 1.95-2.10(3H,m), 2.34(2H,t,J=6.6Hz), 2.72
(2H,t,J=7.1Hz), 3.80(2H,d,J=6.4Hz), 4.12(2H,q,J=7.
1Hz), 6.85(1H,d,J=8.3Hz), 7.90-8.00(2H,m), 12.00(1
H,brs) 29(6) NMR(CDCl3)δ値: 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.27(3H,t,J=
7.1Hz), 2.00-2.25(1H,m), 3.56(2H,d,J=6.6Hz), 3.82
(2H,d,J=6.3Hz), 4.17(2H,q,J=7.1Hz), 5.79(1H,d,J=1
5.6Hz), 6.83-7.20(2H,m), 7.87-8.07(2H,m), 11.30(1
H,brs) 29(7) NMR(CDCl3)δ値: 0.97(6H,d,J=5.9Hz), 1.27(3H,t,J=
7.1Hz), 1.63-2.00(3H,m), 3.53(2H,d,J=6.6Hz), 3.88-
4.30(4H,m), 5.79(1H,d,J=15.6Hz), 6.85-7.18(2H,m),
7.86-8.07(2H,m), 9.45(1H,brs)
(イソブトキシカルボニル)安息香酸を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.04(6H,d,J=7.3Hz), 1.12(6H,d,J=
6.8Hz), 1.89-2.49(2H,m), 4.10(2H,d,J=6.4Hz), 4.15
(2H,d,J=6.3Hz), 7.71-7.81(3H,m), 8.26(1H,d,J=7.6H
z)
およびジイソプロピルアミン43gのテトラヒドロフラン2
00ml懸濁液にn−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6m
ol/L)253mlを-50℃で1時間かけて滴下後、室温で1時間
撹拌する。反応混合物に2−イソブトキシベンズアルデ
ヒド25gのテトラヒドロフラン100ml溶液を-50℃で1時間
かけて滴下し、同温で1時間撹拌する。反応混合物を酢
酸エチルおよび水の混合物に加え、有機層を分取する。
得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物、5%硫酸水溶液260mlおよびジオキ
サン100mlの混合物を2時間、加熱環流後、室温まで冷却
し、水500mlで希釈する。反応混合物に酢酸エチルを加
え、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢
酸エチル=95:5]で精製すれば、無色油状物の2−(2
−イソブトキシフェニル)エタナール17.5gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.02(6H,d,J=6.8Hz), 1.88-2.32(1H,
m), 3.65(2H,d,J=2.0Hz), 3.74(2H,d,J=6.3Hz), 6.83-
6.99(2H,m), 7.12-7.28(2H,m), 9.70(1H,t,J=2.0Hz)
フェニル)エタナールを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.95(6H,d,J=6.9Hz), 1.56-1.95(3H,
m), 3.63(2H,d,J=2.2Hz), 4.02(2H,t,J=6.6Hz), 6.83-
7.01(2H,m), 7.10-7.34(2H,m), 9.68(1H,t,J=2.2Hz)
フェニル)−2−プロペン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.98(6H,d,J=6.1Hz), 1.33(3H,t,J=
6.9Hz), 1.70-1.98(3H,m), 3.99-4.37(4H,m),6.52(1H,
d,J=16.4Hz), 6.93(2H,t,J=6.4Hz), 7.23-7.54(2H,m),
8.00(1H,t,J=8.5Hz)
ル)−2−ブテン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.03(6H,d,J=6.8Hz), 1.26(3H,t,J=
7.1Hz), 1.89-2.32(1H,m), 3.53(2H,dd,J=5.9, 1.0Hz),
3.73(2H,d,J=6.1Hz), 4.16(2H,q,J=7.1Hz), 5.78(1H,
dt,J=15.4, 1.3Hz), 6.79-6.94(2H,m), 7.09(1H,dd,J=
6.4, 2.0Hz), 7.21-7.29(2H,m)
フェニル)−2−ブテン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.95(6H,d,J=6.9Hz), 1.26(3H,t,J=
7.1Hz), 1.60-1.90(3H,m), 3.05(2H,dd,J=6.6, 1.2Hz),
3.98(2H,t,J=5.6Hz),4.17(2H,q,J=7.1Hz), 5.78(1H, d
t,J=15.6, 1.5Hz), 6.78-6.94(2H,m), 7.02-7.34(3H,m)
フェニル)プロパン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.97(6H,d,J=5.9Hz), 1.23(3H,t,J=
7.1Hz), 1.60-2.03(3H,m), 2.49-2.68(2H,m), 2.85-3.0
5(2H,m), 3.92-4.24(4H,m), 6.76-6.91(2H,m), 7.09-7.
24(2H,m)
ル)ブタン酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.24(3H,t,J=
7.1Hz), 1.83-2.18(3H,m), 2.33(2H,t,J=6.6Hz), 2.68
(2H,t,J=7.1Hz), 3.72(2H,d,J=6.1Hz), 4.11(2H,q,J=7.
1Hz), 6.84(2H,t,J=5.9Hz), 7.08-7.23(2H,m)
−ニトロベンジルオキシ]安息香酸16.7gをエタノール
170mlに溶解させ,5%パラジウム−炭素1.7g添加後、水
素気流下、室温で5時間撹拌する。反応混合物をセライ
ト濾過後、減圧下に溶媒を留去すれば、茶色固形物の3
−(3−エトキシ−3−オキソプロピル)−4−ヒドロ
キシ安息香酸7.5gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.16(3H,t,J=7.1Hz), 2.52-2.84(4H,
m), 4.05(2H,q,J=7.1Hz), 6.94(1H,d,J=9.1Hz), 7.65-
7.73(4H,m)
ロキシ安息香酸7.5g、炭酸カリウム17.5gおよび無水酢
酸7.4mlをN,N−ジメチルホルムアミド75mlに懸濁さ
せ、室温で2時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチルお
よび水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有
機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル
=5:1]で精製すれば、淡褐色固形物の4−(アセチル
オキシ)−3−(3−エトキシ−3−オキソプロピル)
安息香酸1.8gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.25(3H,t,J=7.1Hz), 2.37(3H,s),
2.51-2.70(2H,m), 2.86-3.01(2H,m), 4.15(2H,q,J=7.1H
z), 7.17(1H,d,J=9.3Hz), 7.95-8.05(3H,m)
チル5.00gを酢酸エチル15mlおよびエタノール15mlに溶
解させ、5%パラジウム−炭素1.0g添加後、水素気流
下、室温で3時間撹拌する。反応混合物をセライト濾過
し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物のエタノ
ール35ml溶液に5mol/L水酸化ナトリウム19mlを添加し、
50℃で1時間攪拌する。反応混合物をクロロホルムおよ
び水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機
層を分取する。得られた残留物のテトラヒドロフラン20
ml溶液にトリエチルアミン2.0ml、ついで塩化アセチル
0.8mlを添加後、室温で10分間攪拌する。反応混合物を
酢酸エチルおよび水の混合物に加えて6mol/L塩酸でpH2
に調整し、有機層を分取する。得られた有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、淡黄色油状物の4
−アセチルオキシ−2−イソブトキシ安息香酸1.37gを
得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.05(6H,d,J=6.6Hz), 1.92-2.40(1H,
m), 2.31(3H,s), 3.78(2H,d,J=6.4Hz), 6.68-6.83(3H,
m), 7.89(1H,d,J=9.0Hz)
gおよびヨウ化イソブチル11mlをN,N−ジメチルホル
ムアミド50mlに懸濁させ、110℃で7時間撹拌する。反応
混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩
酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得られた有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;
ヘキサン:酢酸エチル=10:1]で精製すれば、淡黄色油
状物の3,5−ジイソブトキシ安息香酸イソブチル2.6g
を得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.02(18H,d,J=6.6Hz), 1.85-2.30(3
H,m), 3.74(4H,d,J=6.6Hz), 4.09(2H,d,J=6.6Hz), 6.62
-6.67(1H,m), 7.16(2H,d,J=2.2Hz)
ノール13mlに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム2.3ml
を加え、50℃で3時間撹拌する。反応混合物にクロロホ
ルムおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機
層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で
順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下
に溶媒を留去すれば、白色固形物の3,5−ジイソブト
キシ安息香酸1.8gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.03(12H,d,J=6.6Hz), 1.87-2.33(2
H,m), 3.76(4H,d,J=6.4Hz), 6.65-7.24(4H,m)
および臭化イソブチル106mlをN,N−ジメチルホルム
アミド200mlに懸濁させ、110℃で6時間撹拌する。反応
混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩
酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得られた有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;
ヘキサン:酢酸エチル=10:1]で精製すれば、淡黄色
油状物の2,5−ジイソブトキシ安息香酸イソブチル18
gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.97-1.06(18H,m), 1.60-2.40(3H,
m), 3.69(2H,d,J=6.3Hz),3.73(2H,d,J=6.6Hz), 4.09(2
H,d,J=6.6Hz), 6.80-7.05(2H,m) 7.31(1H,d,J=2.7Hz)
タノール88mlに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム33ml
を加え、室温で30分間撹拌する。反応混合物にクロロホ
ルムおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機
層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で
順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下
に溶媒を留去すれば、白色固形物の2,5−ジイソブト
キシ安息香酸12.16gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.01(6H,d,J=6.4Hz), 1.08(6H,d,J=
6.4Hz), 1.80-2.48(2H,m), 3.73(2H,d,J=6.5Hz), 3.98
(2H,d,J=6.4Hz), 6.91-7.18(2H,m), 7.66(1H,d,J=3.0H
z), 10.74(1H,brs)
ウム15.5gおよびヨウ化イソペンチル14mlをN,N−ジ
メチルホルムアミド50mlに懸濁させ、60℃で2時間撹拌
する。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加
え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得
られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=10:1]で精製
すれば、淡黄色油状物の3,4−ジイソペンチルオキシ
ベンズアルデヒド9.4gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.98(12H,d,J=6.1Hz), 1.63-1.81(6
H,m), 4.01-4.18(4H,m),6.95(1H,d,J=8.8Hz), 7.36-7.4
6(2H,m), 9.83(1H,s)
酸イソブチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.88-1.09(18H,m), 1.93-2.31(3H,
m), 3.80(4H,d,J=6.3Hz),4.08(2H,d,J=6.6Hz), 6.85(1
H,d,J=8.3Hz), 7.54(1H,d,J=2.0Hz), 7.64(1H,dd,J=8.
3,2.0Hz)
アセトニトリル30ml溶液に、室温で水15mlに溶解させた
リン酸二水素ナトリウム二水和物4.5g、ついで30%過酸
化水素水1.8mlを添加後、5〜10℃で水30mlに溶解させた
亜塩素酸ナトリウム2.0gを滴下し、室温で3.5時間撹拌
する。反応混合物にクロロホルムおよび水を加え、6mo
l/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得られた有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、白色
固形物の3,4−ジイソペンチルオキシ安息香酸3.0gを
得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.98(12H,d,J=5.4Hz), 1.60-1.90(6
H,m), 4.02-4.09(4H,m),6.90(1H,d,J=8.8Hz), 7.60-7.8
0(3H,m)
ウム10.0gおよびヨウ化イソブチル8.3mlをN,N−ジメ
チルホルムアミド50mlに懸濁させ、80℃で2時間撹拌す
る。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、
6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取する。得られ
た有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得
られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で精製すれ
ば、淡黄色固形物の3−ヒドロキシ−4−イソブトキシ
ベンズアルデヒド3.3gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.06(6H,d,J=6.6Hz), 1.96-2.41(1H,
m), 3.91(2H,d,J=6.6Hz), 5.80(1H,s), 6.94(1H,d,J=8.
8Hz), 7.36-7.46(2H,m), 9.84(1H,s)
チルオキシベンズアルデヒドを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.99(6H,d,J=5.9Hz), 1.62-1.91(3H,
m), 4.17(2H,t,J=6.6Hz), 5.85(1H,s), 6.96(1H,d,J=8.
8Hz), 7.36-7.45(2H,m), 9.84(1H,s)
1g、60%水素化ナトリウム0.7gおよび無水酢酸3mlを
N,N−ジメチルホルムアミド31mlに懸濁させ、100℃
で2時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチルおよび水の
混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分
取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒
を留去すれば、黄色油状物の酢酸5−ホルミル−2−イ
ソブトキシフェニル4.2gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.02(6H,d,J=6.6Hz), 1.98-2.40(1H,
m), 2.32(3H,s), 3.84(2H,d,J=6.4Hz), 7.04(1H,d,J=8.
3Hz), 7.58(1H,d,J=2.0Hz), 7.74(1H,dd,J=8.3,2.0Hz),
9.86(1H,s)
ブトキシフェノキシ)酢酸エチルを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.96(6H,d,J=6.1Hz), 1.27(3H,t,J=
7.1Hz), 1.70-1.83(3H,m), 4.11(2H,t,J=6.8Hz), 4.24
(2H,q,J=7.1Hz), 4.69(2H,s), 6.97(1H,d,J=8.3Hz), 7.
33(1H,d,J=1.7Hz), 7.47(1H,dd,J=8.2, 1.7Hz), 9.79(1
H,s)
セトニトリル38ml溶液に、水20mlに溶解させたリン酸二
水素ナトリウム二水和物6.8g、ついで30%過酸化水素水
3.6mlを室温で添加後、水18mlに溶解させた亜塩素酸ナ
トリウム3.6gを5〜10℃で滴下し、室温で2時間撹拌す
る。反応混合物にクロロホルムおよび水を加え、有機層
を分取し、得られた有機層を5%チオ硫酸ナトリウム水
溶液および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させて減圧下に溶媒を留去すれば、淡黄
色固形物の3−(アセチルオキシ)−4−イソブトキシ
安息香酸4.0gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.02(6H,d,J=6.6Hz), 1.90-2.30(1H,
m), 2.32(3H,s), 3.82(2H,d,J=6.3Hz), 6.97(1H,d,J=8.
5Hz), 7.79(1H,d,J=2.2Hz), 7.99(1H,dd,J=8.7,2.2Hz),
11.85(1H,brs)
ソエトキシ)−4−イソペンチルオキシ安息香酸を得
る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.98(6H,d,J=5.9Hz), 1.31(3H,t,J=
7.3Hz), 1.64-1.85(3H,m), 4.13(2H,t,J=6.8Hz), 4.28
(2H,q,J=7.3Hz), 4.71(2H,s), 6.94(1H,d,J=8.6Hz), 7.
58(1H,d,J=2.0Hz), 7.80(1H,dd,J=8.4, 2.0Hz), 8.53(1
H,brs)
2.81g、炭酸カリウム17.0gおよびヨウ化イソブチル11.3
mlをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに懸濁させ、12
0℃で1時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチルおよび水
の混合物に加え、有機層を分取する。得られた有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ト
ルエン]で精製すれば、淡黄色油状物の1−イソブチル
−5−メチル−1H−インドール−2−カルボン酸エチ
ル1.75gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.87(6H,d,J=6.6Hz), 1.39(3H,t,J=
7.1Hz), 1.90-2.50(1H,m), 2.43(3H,s), 4.35(2H,q,J=
7.1Hz), 4.36(2H,d,J=7.6Hz), 7.06-7.42(4H,m),
カルボン酸エチル1.00g、N−ブロモスクシンイミド0.7
6gおよび2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.07g
をベンゼン10mlに懸濁させ、加熱還流下、2時間撹拌す
る。反応混合物を減圧下に濃縮することにより得られた
残留物をN,N−ジメチルホルムアミド10mlに溶解さ
せ、酢酸カリウム0.57gを加え、40℃で30分間撹拌す
る。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、
有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減
圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチ
ル=6:1]で精製すれば、黄色油状物の3−ブロモ−5
−ホルミル−1−イソブチル−1H−インドール−2−
カルボン酸エチル0.68gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.88(6H,d,J=6.6Hz), 1.48(3H,t,J=
7.1Hz), 1.89-2.44(1H,m), 4.37-4.51(4H,m), 7.47(1H,
d,J=8.8Hz), 7.92(1H,dd,J=8.9, 1.5Hz), 8.20(1H,d,J=
0.7Hz), 10.08(1H,s)
ンドール−2−カルボン酸エチル0.65gのアセトニトリ
ル7ml溶液に水22mlに溶解させたリン酸二水素ナトリウ
ム二水和物1.56g、ついで30%過酸化水素水0.64mlを室
温で添加後、水20mlに溶解させた亜塩素酸ナトリウム0.
68gを5〜10℃で滴下し、60℃で1時間撹拌する。反応混
合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取する。
得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去す
れば、黄色固形物の3−ブロモ−2−(エトキシカルボ
ニル)−1−イソブチル−1H−インドール−5−カル
ボン酸0.37gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.88(6H,d,J=6.6Hz), 1.48(3H,t,J=
7.1Hz), 1.87-2.33(1H,m), 4.35-4.58(4H,m), 5.62(1H,
brs), 7.43(1H,d,J=9.0Hz), 8.10(1H,dd,J=8.8,1.5Hz),
8.54(1H,d,J=1.0Hz)
チル−1H−インドール−5−カルボン酸0.30g、テト
ラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.1
0g、ギ酸0.24mlおよびトリエチルアミン1.36mlをN,N
−ジメチルホルムアミド6mlに懸濁させ、80℃で5時間撹
拌する。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加
え、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢
酸エチル=3:1]で精製すれば、黄色固形物の2−(エ
トキシカルボニル)−1−イソブチル−1H−インドー
ル−5−カルボン酸0.12gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.90(6H,d,J=6.6Hz), 1.43(3H,t,J=
7.1Hz), 2.00-2.47(1H,m), 4.27-4.51(4H,m), 7.39-7.4
8(3H,m), 8.06(1H,dd,J=8.9,1.5Hz), 8.54(1H,d,J=1.2H
z)
ニル)安息香酸1.00gのジオキサン10ml溶液にトリエチ
ルアミン0.6ml、ついでジフェニルリン酸アジド0.9mlを
添加し、加熱還流下、1.5時間撹拌する。反応混合物に
酢酸エチルおよび水の混合物を加え、6mol/L塩酸でpH6
に調整し、有機層を分取する。得られた有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させ、減圧下に溶媒を留去すれば、淡褐色固形物の4,
6−ジブロモ−2−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−
ベンズイミダゾール−5−カルボン酸メチル0.96gを得
る。 NMR(DMSO-d6)δ値: 3.94(3H,s), 7.13-7.18(1H,m), 1
1.00(2H,brs)
H−ベンズイミダゾール−5−カルボン酸メチル0.95
g、60%水素化ナトリウム0.24gおよび臭化イソペンチル
0.7mlをN,N−ジメチルホルムアミド10mlに懸濁さ
せ、50−60℃で3時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチ
ルおよび水の混合物に加え、2mol/L塩酸でpH2に調整
し、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去すれば、淡褐色固形物の4,6
−ジブロモ−1,3−ジイソペンチル−2−オキソ−
2,3−ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−カ
ルボン酸メチル0.71gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.98(12H,d,J=5.6Hz), 1.43-1.77(6
H,m), 3.77-3.93(2H,m),3.98(3H,s), 4.15-4.32(2H,m),
7.08(1H,s)
ソ−2,3−ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5
−カルボン酸メチル0.70g、テトラキス(トリフェニル
ホスフィン)パラジウム(0)0.16g、ギ酸0.44mlおよび
トリエチルアミン2.4mlをN,N−ジメチルホルムアミ
ド7mlに懸濁させ、100℃で3時間撹拌する。反応混合物
を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、2mol/L塩酸でpH
4に調整し、有機層を分取する。得られた有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させて減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサ
ン:酢酸エチル=5:1]で精製すれば、無色油状物の
1,3−ジイソペンチル−2−オキソ−2,3−ジヒド
ロ−1H−ベンズイミダゾール−5−カルボン酸メチル
0.37gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 0.98(12H,d,J=5.4Hz), 1.48-1.88(6
H,m), 3.84-3.93(4H,m),3.93(3H,s), 6.98(1H,d,J=8.3H
z), 7.67(1H,s), 7.84(1H,dd,J=8.2, 1.2Hz)
ロ−1H−ベンズイミダゾール−5−カルボン酸メチル
0.34gのメタノール7ml溶液に1mol/L水酸化ナトリウム1.
5mlを添加し、50℃で1時間撹拌する。反応混合物に水、
ついでクロロホルムを加え、6mol/L塩酸でpH2に調整
し、有機層を分取する。得られた有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去すれば、白色固形物の1,3−
ジイソペンチル−2−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H
−ベンズイミダゾール−5−カルボン酸0.29gを得る。 NMR(CDCl3)δ値: 1.00(12H,d,J=5.1Hz), 1.54-1.79(6
H,m), 3.87-4.03(4H,m),7.03(1H,d,J=8.1Hz), 7.73(1H,
s), 7.94(1H,d,J=8.3Hz), 8.20(1H,brs)
作用を有する化合物またはその塩、それらを含有するA
P−1の過剰発現が関与する疾患の予防・治療剤および
AP−1阻害剤に関するものであり副作用の少ない治療
・予防剤として有用である。
Claims (34)
- 【請求項1】式1 【式1】 「式中、N1は、水素結合供与基中の供与性水素原子が
結合した原子または水素結合受容基中の水素結合受容原
子を;N3は、水素結合受容基中の水素結合受容原子
を;N2、N4およびN5は、疎水性基を構成する任意
の炭素原子を示す。」で表され、かつ、N1およびN2
の距離が5オングストローム以上、12オングストローム
以下であり、N1およびN3の距離が9オングストロー
ム以上、15オングストローム以下であり、N1およびN
4の距離が3オングストローム以上、13オングストロー
ム以下であり、N1およびN5の距離が8オングストロ
ーム以上、16オングストローム以下であり、N2および
N3の距離が3オングストローム以上、10オングストロ
ーム以下であり、N2およびN4の距離が6オングスト
ローム以上、14オングストローム以下であり、N2およ
びN5の距離が9オングストローム以上、14オングスト
ローム以下であり、N3およびN4の距離が4オングス
トローム以上、11オングストローム以下であり、N3お
よびN5の距離が3オングストローム以上、10オングス
トローム以下であり、N4およびN5の距離が4オング
ストローム以上、9オングストローム以下であるファー
マコフォー(pharmacophore)を構成するN1、N2、
N3、N4およびN5の原子のうち、N 3に対応する原
子およびN1、N2、N4またはN5から選ばれる2つ
以上の原子に対応する原子を有する化合物であり、か
つ、その最適化された立体構造において、N3に対応す
る原子およびN1、N2、N4またはN5から選ばれる
2つ以上の原子間の距離がファーマコフォーの原子間の
距離にある化合物またはその塩。 - 【請求項2】 ファーマコフォーを構成する各原子にお
いて、N1およびN 2の距離が5.09オングストローム以
上かつ11.67オングストローム以下であり、N1および
N3の距離が9.47オングストローム以上かつ14.30オン
グストローム以下であり、N1およびN4の距離が3.48
オングストローム以上かつ12.60オングストローム以下
であり、N1およびN5の距離が8.77オングストローム
以上かつ15.67オングストローム以下であり、N2およ
びN3の距離が3.78オングストローム以上かつ9.78オン
グストローム以下であり、N2およびN4の距離が6.97
オングストローム以上かつ13.26オングストローム以下
であり、N2およびN5の距離が9.37オングストローム
以上かつ13.32オングストローム以下であり、N 3およ
びN4の距離が4.83オングストローム以上かつ10.51オ
ングストローム以下であり、N3およびN5の距離が3.
31オングストローム以上かつ9.97オングストローム以下
であり、N4およびN5の距離が4.32オングストローム
以上かつ8.25オングストローム以下である請求項1に記
載の化合物またはその塩。 - 【請求項3】 ファーマコフォーを構成するN1が、1
つ以上の水素原子が結合している置換されていてもよい
アミノ、アンモニウム、アミド、チオアミド、ウレイ
ド、イソウレイド、アミジノ、グアニジノ、チオウレイ
ド、ヒドラジノもしくはヒドラゾノ基の窒素原子、水素
原子が結合しているエテニル基の炭素原子、カルボニル
基の酸素原子、チオカルボニル基の硫黄原子、置換され
ていてもよいイミノ基の窒素原子、スルホニル基の酸素
原子、スルホニルオキシ基の酸素原子、スルホン基の酸
素原子、スルフィニル基の酸素原子、カルボキシル基の
酸素原子、エーテルの酸素原子、チオエーテルの硫黄原
子、メルカプト基の硫黄原子、ヒドロキシル基の酸素原
子、エステルの酸素原子または置換されていてもよい含
窒素複素環式基の窒素原子;N3が、カルボニル基の酸
素原子、チオカルボニル基の硫黄原子、置換されていて
もよいイミノ基の窒素原子、スルホン基の酸素原子、ス
ルホニル基の酸素原子、スルフィニル基の酸素原子、ス
ルホニルオキシ基の酸素原子、カルボキシル基の酸素原
子、エーテルの酸素原子、チオエーテルの硫黄原子、ヒ
ドロキシル基の酸素原子、エステルの酸素原子、置換さ
れていてもよい含窒素複素環式基の水素原子が結合して
いない窒素原子、スルホンアミド基の窒素原子またはア
シルスルホンアミド基の窒素原子;N2、N4およびN
5が、アルキル基の炭素原子、アルケニル基の炭素原
子、アリール基の炭素原子およびアルコキシ基の炭素原
子を構成する任意の炭素原子である請求項1または2に
記載の化合物またはその塩。 - 【請求項4】 ファーマコフォーを構成するN1、
N2、N3、N4およびN5の原子のうち、N3に対応
する原子およびN1、N2、N4またはN5から選ばれ
る2つ以上の原子に対応する原子を有する化合物であ
り、かつ、その最適化された立体構造において、N3に
対応する原子およびN1、N2、N4またはN5から選
ばれる2つ以上の原子に対応する原子間の距離がファー
マコフォーの原子間の距離にある化合物が、AP−1
(アクティベータープロテイン−1)とその認識配列の
結合を拮抗的に阻害する作用を有する請求項1〜3に記
載の化合物またはその塩。 - 【請求項5】 アミノ酸配列式 Ac-Cys1-Gly2-AA3-AA4-AA5-AA6-AA7-AA8-Gly9
-Cys10-NH2 「式中、Acは、アセチル基を;AA3は、極性アミノ
酸残基を;AA4、AA 6およびAA7は、疎水性アミ
ノ酸残基を;AA5は、側鎖にカルボキシル基またはヒ
ドロキシル基を有するアミノ酸残基を;AA8は、任意
のアミノ酸残基を表す。」で表され、1番目と10番目の
システイン残基の間にジスルフィド結合を有する10残基
のペプチドまたはその塩。 - 【請求項6】 AA3が、L−アスパラギン残基または
L−グルタミン残基;AA4、AA6およびAA7が、
L−ロイシン残基、L−イソロイシン残基、L−アラニ
ン残基またはL−バリン残基;AA5が、L−アスパラ
ギン酸残基、L−グルタミン酸残基、L−セリン残基ま
たはL−スレオニン残基である請求項5記載のペプチド
またはその塩。 - 【請求項7】 アミノ酸配列式 Ac-aa0-Cys1-Gly2-aa3-aa4-aa5-aa6-aa7-Gly8-
aa9-Cys10-NH2 「式中、Acは、アセチル基を;aa0は、任意のアミ
ノ酸残基または結合手を;aa3は、極性アミノ酸残基
を;aa4、aa5およびaa7は、疎水性アミノ酸残
基を;aa6は、任意のアミノ酸残基;aa9は、側鎖
にカルボキシル基またはヒドロキシル基を有するアミノ
酸残基を表す。」で表され、aa0が結合手の場合、1
番目と10番目のシステイン残基の間にジスルフィド結合
を有し、aa0が任意のアミノ酸残基の場合、2番目と1
1番目のシステイン残基の間にジスルフィド結合を有す
る10または11残基のペプチドまたはその塩。 - 【請求項8】 aa3が、L−アスパラギン残基または
L−グルタミン残基;aa4、aa5およびaa7が、
L−ロイシン残基、L−イソロイシン残基、L−アラニ
ン残基またはL−バリン残基;aa9が、L−アスパラ
ギン酸残基、L−グルタミン酸残基、L−セリン残基ま
たはL−スレオニン残基である請求項7記載のペプチド
またはその塩。 - 【請求項9】一般式 【化1】 「式中、R1は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されていて
もよいアミノ基、メルカプト基または置換されていても
よいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリー
ル、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アシ
ル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;R3は、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基、カルバモイル基ま
たは置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シク
ロアルキル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、ア
リールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリー
ルオキシカルボニル、アルキルチオ、アルキルスルフィ
ニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルア
ミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニル
アミノもしくは複素環式基を;R4は、水素原子、シア
ノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基または置換されてい
てもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;X1は、−C(O)−、−
CH(OH)−、−CH2−、式 【化2】 「式中、R21は、置換されていてもよいアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、
アシルまたは複素環式−低級アルキル基を;R2 2およ
びR23は、同一または異なって水素原子、置換されて
いてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、ア
リール、アルアルキル、アシル、カルバモイル、アルキ
ルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホ
ニルまたは複素環式基を;R24およびR25は、同一
または異なって水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護さ
れていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよい
アミノ基、メルカプト基または置換されていてもよいア
ルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アル
アルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、アル
コキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルバ
モイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキ
ルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミノ、アルキ
ルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノもしく
は複素環式基を;一方が破線になった二重線は、単結合
または二重結合を意味する。」を;Wは、−Z−COR
26、−Z−COOR2、−O−CH2COOR2また
は−O−CH2CH2COOR2「式中、Zは、−(C
H2)n−(nは、0、1、2または3を意味す
る。)、−CH2CH(CH3)−、−CH=CH−また
は−CH2CH=CH−を;R2は、水素原子またはカ
ルボキシル保護基を;R26は、−NHR27または−
NHSO2R28(R27およびR28は、各々、置換
されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリールまたはアルアルキル基を意味する。)を意
味する。」を意味する。」で表されるベンゼン誘導体ま
たはその塩。 - 【請求項10】Wが、−Z’−COOR2’、−Z’−
CONH−SO2R28’、−CONH−CH2COO
R2’または−CONH−CH2CH2COOR
2’「式中、Z’は、−(CH2)n’−(n’は、0、
1または2を意味する。)または−CH=CH−を;R
28’は、置換されていてもよいアルキル基を;R2 ’
は、水素原子またはカルボキシル保護基を意味す
る。」;X1が、−C(O)−、−CH(OH)−また
は−CH2−である請求項9記載のベンゼン誘導体また
はその塩。 - 【請求項11】 R1が、保護されていてもよいヒドロ
キシル基または置換されていてもよいアルコキシ基;R
3が、保護されていてもよいヒドロキシル基または置換
されていてもよいアルコキシ基;R4が、保護されてい
てもよいヒドロキシル基または置換されていてもよいア
ルコキシ基である請求項10記載のベンゼン誘導体また
はその塩。 - 【請求項12】一般式 【化3】 「式中、R5は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護
されていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよ
いアミノ基、メルカプト基または置換されていてもよい
アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ア
ルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、ア
ルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カル
バモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アル
キルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミノ、アル
キルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノもし
くは複素環式基を;R6は、水素原子またはカルボキシ
ル保護基を;X2は、−C(O)−を;mは、0、1ま
たは2を;A環は、式 【化4】 「式中、R7は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護
されていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよ
いアミノ基、メルカプト基または置換されていてもよい
アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ア
ルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、ア
ルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カル
バモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アル
キルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミノ、アル
キルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノもし
くは複素環式基を;R8は、水素原子、保護されていて
もよいアミノ基または置換されていてもよいアルキル、
アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキ
ル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、アルコキシ
カルボニル、アリールオキシカルボニル、カルバモイ
ル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルス
ルホニル、アルキルアミノ、アシルアミノ、アルキルス
ルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノもしくは複
素環式基を表す。」で表される基または式 【化5】 「式中、R9およびR10は、同一または異なってハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよい
カルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル
基、保護されていてもよいアミノ基、メルカプト基また
は置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロ
アルキル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリ
ールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリール
オキシカルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、アル
キルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミ
ノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリー
ルスルホニルアミノ、アルカノイルオキシもしくは複素
環式基を表す。」で表される基を表す。」で表されるベ
ンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項13】 R5が、アルコキシ基またはアシルア
ミノ基;X2が、−C(O)−;A環が、式 【化6】 「式中、R11は、アルキルまたはアルコキシカルボニ
ル基;R12は、アルキル基を表す。」で表される基ま
たは式 【化7】 「式中、R13は、アルキルまたはアルコキシカルボニ
ル基;R14は、アルコキシまたはアルカノイルオキシ
基を表す。」で表される基を表す。」である請求項12
記載のベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項14】一般式 【化8】 「式中、R15およびR16は、同一または異なって水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護され
ていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒ
ドロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、メルカ
プト基または置換されていてもよいアルキル、アルケニ
ル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、アルコ
キシ、アリールオキシ、アシル、アルコキシカルボニ
ル、アリールオキシカルボニル、カルバモイル、アルキ
ルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
アルキルアミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルア
ミノ、アリールスルホニルアミノもしくは複素環式基
を;X3は、−C(O)−を;B環は、式 【化9】 「式中、R17は、水素原子または置換されていてもよ
いアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、
アルアルキル、アシル、アルコキシカルボニル、アリー
ルオキシカルボニル、カルバモイル、アルキルスルホニ
ルもしくは複素環式基を;R18は、水素原子またはカ
ルボキシル保護基を;pは、0、1または2を表す。」
で表される基を表す。」で表されるベンゼン誘導体また
はその塩。 - 【請求項15】 R15およびR16が、同一または異
なってアルコキシ基;B環が、式 【化10】 「式中、R19は、アシル基を;R20は、カルボキシ
ル保護基;pは、0、1または2を表す。」である請求
項14に記載のベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項16】一般式 【化11】 「式中、R1aは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、メルカプト
基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、
シクロアルキル、アリール、アルアルキル、アルコキ
シ、アリールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、
アリールオキシカルボニル、カルバモイル、アルキルチ
オ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アル
キルアミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミ
ノ、アリールスルホニルアミノもしくは複素環式基を;
R3aおよびR4aは、同一または異なってハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカルボ
キシル基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護
されていてもよいアミノ基、メルカプト基または置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオ
キシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリールオキシ
カルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルス
ルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、ア
シルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスル
ホニルアミノもしくは複素環式基を;X1aは、−C
(O)−、−CH(OH)−、−CH2−、式 【化12】 「式中、R21aは、置換されていてもよいアルキル、
アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキ
ル、アシルまたは複素環式−低級アルキル基を;R
22aおよびR23aは、同一または異なって水素原
子、置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シク
ロアルキル、アリール、アルアルキル、アシル、カルバ
モイル、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
アリールスルホニルまたは複素環式基を;R24aおよ
びR25aは、同一または異なって水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカル
ボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保
護されていてもよいアミノ基、メルカプト基または置換
されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオ
キシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリールオキシ
カルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルス
ルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、ア
シルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスル
ホニルアミノもしくは複素環式基を;一方が破線になっ
た二重線は、単結合または二重結合を意味する。」を;
Waは、−Za−COR26a、−Za−COO
R2a、−O−CH2COOR2aまたは−O−CH2
CH2COOR2a「式中、Zaは、−(CH2)na−
(naは、0、1、2または3を意味する。)、−CH
2CH(CH3)−、−CH=CH−または−CH2CH
=CH−を;R2aは、水素原子またはカルボキシル保
護基を;R26aは、−NHR27aまたは−NHSO
2R28a(R27aおよびR28aは、各々、置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリールまたはアルアルキル基を意味する。)を意
味する。」を意味する。」で表されるベンゼン誘導体ま
たはその塩。 - 【請求項17】R1aが、保護されていてもよいヒドロ
キシル基または置換されていてもよいアルコキシ基;R
3aおよびR4aが、同一または異なって保護されてい
てもよいヒドロキシル基または置換されていてもよいア
ルコキシ基;X1aが、−C(O)−、−CH(OH)
−、−CH2−、式 【化13】 「式中、R21a’は、置換されていてもよいアルキ
ル、アルアルキルもしくは複素環式−低級アルキル基;
R24a’およびR25a’は、同一または異なって水
素原子、保護されていてもよいカルボキシル基、置換さ
れていてもよいアルキル、アルコキシカルボニル、アリ
ールオキシカルボニルもしくはカルバモイル基を意味す
る。」;Waが、−Za’−COR26a’、−Za’
−COOR2 a’、−O−CH2COOR2a’、−O
−CH2CH2COOR2a’、−CONH−CH2C
OOR2a’または−CONH−CH2CH2COOR
2a’「式中、Za’は、−(CH2)na’−(na’
は、0、1、2または3を意味する。)、−CH2CH
(CH3)−、−CH=CH−または−CH2CH=CH
−を;R2a’は、水素原子またはカルボキシル保護基
を;R26a’は、−NHSO2R28a’(R
28a’は、置換されていてもよいアルキル基を意味す
る。)を意味する。」である請求項16記載のベンゼン
誘導体またはその塩。 - 【請求項18】一般式 【化14】 「式中、R1bは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基または置換されてい
てもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;R2bは、水素原子または
カルボキシル保護基を;R3bおよびR4bは、同一ま
たは異なってシアノ基、ニトロ基、保護されていてもよ
いカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル
基、保護されていてもよいアミノ基、メルカプト基また
は置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロ
アルキル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、アリ
ールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリール
オキシカルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、アル
キルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミ
ノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリー
ルスルホニルアミノもしくは複素環式基を;X1bは、
−C(O)−、−CH(OH)−または−CH2−を;
Zbは、−(CH2)nb−(nbは、0、1または2
を意味する)または−CH=CH−を意味する。」で表
されるベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項19】R1bが、置換されていてもよいアルコ
キシ基;R3bおよびR4bが、同一または異なって保
護されていてもよいヒドロキシル基または置換されてい
てもよいアルコキシ基;X1bが、−C(O)−;Zb
が、−(CH2)2−である請求項18記載のベンゼン
誘導体またはその塩。 - 【請求項20】一般式 【化15】 「式中、R1cは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基または置換されてい
てもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;R2cは、水素原子または
カルボキシル保護基を;R3cおよびR4cは、同一ま
たは異なってハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護
されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよ
いヒドロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、メ
ルカプト基または置換されていてもよいアルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキル、アルコキシ、
アリールオキシ、アシル、アルコキシカルボニル、アリ
ールオキシカルボニル、カルバモイル、アルキルチオ、
アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキル
アミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、ア
リールスルホニルアミノもしくは複素環式基を;X1c
は、−C(O)−、−CH(OH)−または−CH2−
を;Zcは、−(CH2)nc−(ncは、0、1また
は2を意味する)または−CH=CH−を意味する。」
で表されるベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項21】R1cが、置換されていてもよいアルコ
キシ基;R2cは、水素原子またはカルボキシル保護
基;R3cおよびR4cが、同一または異なって置換さ
れていてもよいアルコキシ基;X1cは、−C(O)
−;Zcが、−(CH2)2−である請求項20記載の
ベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項22】一般式 【化16】 「式中、R1dは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいアミノ基、メルカプト基または置換されてい
てもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、カルバモイル、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、アシルアミ
ノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルア
ミノもしくは複素環式基を;R2dは、水素原子または
カルボキシル保護基を;R3dは、水素原子または置換
されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリールもしくはアルアルキル基を;R4dは、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、置換されていてもよいアルキ
ル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアル
キル、アシル、アルコキシカルボニル、アリールオキシ
カルボニル、アルキルスルホニル、アルキルスルホニル
アミノもしくはアリールスルホニルアミノ基を;X1d
は、−C(O)−、−CH(OH)−または−CH2−
を;Zdは、−(CH2)nd−(ndは、0、1また
は2を意味する)または−CH=CH−を意味する。」
で表されるベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項23】R1dが、置換されていてもよいアルコ
キシ基;R3dが、置換されていてもよいアルキル基;
R4dが、置換されていてもよいアシル基;X1dが、
−C(O)−;Zdが、−(CH2)2−である請求項
22記載のベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項24】一般式 【化17】 「式中、R0eは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基
または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキル、アシル、アル
コキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキ
ルスルホニルアミノもしくはアリールスルホニルアミノ
基を;R1eは、置換されていてもよいアルキル、アル
ケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、ア
シル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ルまたはアルキルスルホニル基を;R2eは、水素原子
またはカルボキシル保護基を;R3eおよびR4eは、
同一または異なって水素原子、ハロゲン原子、保護され
ていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよいア
ミノ基、メルカプト基または置換されていてもよいアル
キル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルア
ルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、
アルキルアミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルア
ミノ、アリールスルホニルアミノもしくは複素環式基
を;X1eは、−C(O)−、−CH(OH)−または
−CH2−を;Zeは、−(CH2)ne−(neは、
0、1または2を意味する)または−CH=CH−を意
味する。」で表されるベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項25】R0eが、水素原子またはハロゲン原
子;R1eが、置換されていてもよいアルキル基;R
3eおよびR4eが、置換されていてもよいアルコキシ
基;X1eが、−C(O)−;Zeが、結合手である請
求項24記載のベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項26】一般式 【化18】 「式中、R1fは、ハロゲン原子、保護されていてもよ
いヒドロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、メ
ルカプト基または置換されていてもよいアルキル、アル
ケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル、ア
ルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アルキルア
ミノ、アシルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリ
ールスルホニルアミノもしくは複素環式基を;R
2fは、水素原子またはカルボキシル保護基を;R3f
およびR4fは、同一または異なって水素原子または置
換されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアル
キル、アリールもしくはアルアルキル基を;X1fは、
−C(O)−、−CH(OH)−または−CH2−を;
Zfは、−(CH2)nf−(nfは、1または2を意
味する)または−CH=CH−を意味する。」で表され
るベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項27】R1fが、置換されていてもよいアルコ
キシ基;R3fおよびR4fは、置換されていてもよい
アルキル基;X1fが、−C(O)−;Zfが、−CH
2−である請求項26記載のベンゼン誘導体またはその
塩。 - 【請求項28】一般式 【化19】 「式中、R1gおよびR4gは、同一または異なって保
護されていてもよいヒドロキシル基または置換されてい
てもよいアルコキシ基を;X1gは、−C(O)−、−C
H(OH)−または−CH2−を;Zgは、−(CH2)n
g−(ngは、1または2を意味する。)を;R2gは、
水素原子またはカルボキシル保護基を意味する。」で表
されるベンゼン誘導体またはその塩。 - 【請求項29】 請求項5〜28に記載の化合物が、A
P−1とその認識配列の結合を拮抗的に阻害する作用を
有する化合物である請求項5〜28に記載の化合物また
はその塩。 - 【請求項30】請求項1のファーマコフォーに適合する
化合物が、請求項5〜28のいずれかの項に記載のペプ
チドまたはベンゼン誘導体である請求項1に記載の化合
物またはその塩。 - 【請求項31】 請求項1〜30のいずれかの項に記載
の化合物またはその塩を投与するAP−1の阻害方法。 - 【請求項32】 請求項1〜30のいずれかの項に記載
の化合物またはその塩を含有するAP−1の過剰発現が
関与する疾患の予防・治療剤。 - 【請求項33】 請求項1〜30のいずれかの項に記載
の化合物またはその塩を含有する自己免疫疾患の予防・
治療剤。 - 【請求項34】 請求項1〜30のいずれかの項に記載
の化合物またはその塩を含有するAP−1阻害剤。
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