JP2000332485A - 透明電磁波シ−ルドフィルム - Google Patents
透明電磁波シ−ルドフィルムInfo
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- JP2000332485A JP2000332485A JP11138476A JP13847699A JP2000332485A JP 2000332485 A JP2000332485 A JP 2000332485A JP 11138476 A JP11138476 A JP 11138476A JP 13847699 A JP13847699 A JP 13847699A JP 2000332485 A JP2000332485 A JP 2000332485A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】特に窓部に用いられる透明性、視認性、電磁波
シ−ルド性および耐久性に優れ、従来の窓部に簡便に電
磁波シ−ルド性を持たせることが可能な透明電磁波シー
ルドフィルムの提供を目的とする。 【解決手段】透明な有機高分子フィルムの少なくとも片
面上に、金属酸化物層、金属層の順に交互に薄膜を設
け、最上層が金属酸化物層であるフィルムの周囲および
端面が導電層で覆われている透明電磁波シ−ルドフィル
ムを提供する。
シ−ルド性および耐久性に優れ、従来の窓部に簡便に電
磁波シ−ルド性を持たせることが可能な透明電磁波シー
ルドフィルムの提供を目的とする。 【解決手段】透明な有機高分子フィルムの少なくとも片
面上に、金属酸化物層、金属層の順に交互に薄膜を設
け、最上層が金属酸化物層であるフィルムの周囲および
端面が導電層で覆われている透明電磁波シ−ルドフィル
ムを提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オフィスビル、病
院、音楽ホ−ルなど、内部で使用する電磁波の外部への
漏洩、もしくは内部で使用する電子機器に対する外部か
らの有害電磁波の影響を防止する必要がある建築物で、
その窓ガラスや間仕切りなどに貼付して用いられる透明
電磁波シ−ルドフィルムに関するものである。
院、音楽ホ−ルなど、内部で使用する電磁波の外部への
漏洩、もしくは内部で使用する電子機器に対する外部か
らの有害電磁波の影響を防止する必要がある建築物で、
その窓ガラスや間仕切りなどに貼付して用いられる透明
電磁波シ−ルドフィルムに関するものである。
【０００２】建築物における電磁波シ−ルドは、ＯＡ化
の普及や事業所内ＰＨＳ、無線ＬＡＮの利用などに伴う
情報セキュリティ、医療機器の携帯電話などからの電磁
ノイズによる誤動作防止、音楽ホ−ルなど静粛が求めら
れる場所での携帯電話やＰＨＳの作動防止、といった点
から、その必要性が増大している。
の普及や事業所内ＰＨＳ、無線ＬＡＮの利用などに伴う
情報セキュリティ、医療機器の携帯電話などからの電磁
ノイズによる誤動作防止、音楽ホ−ルなど静粛が求めら
れる場所での携帯電話やＰＨＳの作動防止、といった点
から、その必要性が増大している。
【０００３】従来、このような電磁波シ−ルドは、金属
板、金属メッシュ、金属箔などの導電性材料で部屋全体
を隙間無く囲う手法で行われてきた。窓部分について
は、金属メッシュを挟み込んだ合わせガラスやインジウ
ム錫酸化物（ＩＴＯ）などの導電性酸化物をコ−ティン
グしたガラスが用いられてきた。
板、金属メッシュ、金属箔などの導電性材料で部屋全体
を隙間無く囲う手法で行われてきた。窓部分について
は、金属メッシュを挟み込んだ合わせガラスやインジウ
ム錫酸化物（ＩＴＯ）などの導電性酸化物をコ−ティン
グしたガラスが用いられてきた。
【０００４】しかし、前記したように導電性材料を隙間
無く接続する必要があるため、既存の部屋を電磁波シ−
ルドル−ムに改造しようとすれば、一端窓ガラスを取り
外し、上記のような導電性処理を施した窓ガラスを電気
的導通を取って組み込む必要があり、工事が大掛かりに
なるという問題があった。
無く接続する必要があるため、既存の部屋を電磁波シ−
ルドル−ムに改造しようとすれば、一端窓ガラスを取り
外し、上記のような導電性処理を施した窓ガラスを電気
的導通を取って組み込む必要があり、工事が大掛かりに
なるという問題があった。
【０００５】さらに、金属メッシュを挟み込んだガラス
ではガラスを通しての視認性に問題があり、導電性酸化
物をコ−ティングしたガラスでは、必要な性能を得るた
めの膜厚が厚く、可視光の透過率（透明性）が低くな
る、という欠点もあった。
ではガラスを通しての視認性に問題があり、導電性酸化
物をコ−ティングしたガラスでは、必要な性能を得るた
めの膜厚が厚く、可視光の透過率（透明性）が低くな
る、という欠点もあった。
【０００６】視認性、透明性、電磁波シ−ルド性を満足
するものとして、金属の中で最も可視光吸収率と抵抗率
が低い銀や銀を主成分とする合金の薄膜、特に透明性を
上げる目的で酸化チタンや酸化ビスマスなどの金属酸化
物膜で挟み込んだ薄膜をコ−ティングしたものがある。
するものとして、金属の中で最も可視光吸収率と抵抗率
が低い銀や銀を主成分とする合金の薄膜、特に透明性を
上げる目的で酸化チタンや酸化ビスマスなどの金属酸化
物膜で挟み込んだ薄膜をコ−ティングしたものがある。
【０００７】しかし、これらを用いても前記導電性材料
の接続に係わる問題は解決されず、さらに銀や銀合金の
経時劣化、金属酸化物膜で担持したタイプのものでは端
部断面からの劣化という問題もあった。
の接続に係わる問題は解決されず、さらに銀や銀合金の
経時劣化、金属酸化物膜で担持したタイプのものでは端
部断面からの劣化という問題もあった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来の電磁波シ−ルド材料が有する問題点を解決する
ためのもので、特に窓部に用いられる透明性、視認性、
電磁波シ−ルド性および耐久性に優れ、既存の窓部に簡
便に電磁波シ−ルド性を持たせることが可能な材料（フ
ィルム）の提供を目的としたものである。
な従来の電磁波シ−ルド材料が有する問題点を解決する
ためのもので、特に窓部に用いられる透明性、視認性、
電磁波シ−ルド性および耐久性に優れ、既存の窓部に簡
便に電磁波シ−ルド性を持たせることが可能な材料（フ
ィルム）の提供を目的としたものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は前記の目的を達
成するためのものであって、請求項１記載の発明は、透
明な有機高分子フィルムの少なくとも片面上に、金属酸
化物層、金属層の順に交互に設け、最上層が金属酸化物
層である透明電磁波シ−ルドフィルムの周囲および端面
が導電層で覆われていることを特徴とする透明電磁波シ
−ルドフィルムを提供するものである。
成するためのものであって、請求項１記載の発明は、透
明な有機高分子フィルムの少なくとも片面上に、金属酸
化物層、金属層の順に交互に設け、最上層が金属酸化物
層である透明電磁波シ−ルドフィルムの周囲および端面
が導電層で覆われていることを特徴とする透明電磁波シ
−ルドフィルムを提供するものである。
【００１０】電磁波シ−ルド層として働く金属層と反射
防止層として働く金属酸化物層とを積層することで、金
属層の厚みを増しても透明性が保てる為、優れた透明性
と電磁波シ−ルド性が両立出来る。
防止層として働く金属酸化物層とを積層することで、金
属層の厚みを増しても透明性が保てる為、優れた透明性
と電磁波シ−ルド性が両立出来る。
【００１１】また、積層フィルムの周囲および端部を導
電層で覆うことで、サッシ枠などとの接地が容易に行
え、既存の窓材上に粘着剤や接着剤を介して貼付して用
いることが可能である。さらに、金属層端面が導電層で
覆われているため、端部断面からの劣化が抑えられ、耐
久性にも優れたものを得ることが出来る。
電層で覆うことで、サッシ枠などとの接地が容易に行
え、既存の窓材上に粘着剤や接着剤を介して貼付して用
いることが可能である。さらに、金属層端面が導電層で
覆われているため、端部断面からの劣化が抑えられ、耐
久性にも優れたものを得ることが出来る。
【００１２】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明を前提とし、その金属層が銀または銀を主成分とする
合金からなることを特徴とする透明電磁波シ−ルドフィ
ルムを提供するものである。
明を前提とし、その金属層が銀または銀を主成分とする
合金からなることを特徴とする透明電磁波シ−ルドフィ
ルムを提供するものである。
【００１３】金属の中で最も可視光吸収率と抵抗率が低
い銀もしくはその銀を主成分とする合金を金属層として
用いることで、透明性と電磁波シ−ルド性をさらに優れ
たものとすることが出来る。
い銀もしくはその銀を主成分とする合金を金属層として
用いることで、透明性と電磁波シ−ルド性をさらに優れ
たものとすることが出来る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を用いて詳細
に説明する。
に説明する。
【００１５】図１及び図２は、本発明の透明電磁波シ−
ルドフィルムの一実施例の断面図を示したものであり、
図３はその平面図を示したものである。
ルドフィルムの一実施例の断面図を示したものであり、
図３はその平面図を示したものである。
【００１６】本発明の透明電磁波シ−ルドフィルム１
０、２０は、透明な有機高分子フィルムからなる基材１
１上に、金属酸化物層１２、１４、１６、金属層１３、
１５を交互に積層し、その周囲および端面を導電層１７
で覆った構成からなるものである。
０、２０は、透明な有機高分子フィルムからなる基材１
１上に、金属酸化物層１２、１４、１６、金属層１３、
１５を交互に積層し、その周囲および端面を導電層１７
で覆った構成からなるものである。
【００１７】ここで、交互に積層する金属酸化物層と金
属層との層数には特に制限はないが、透明性、電磁波シ
−ルド性、および生産性の点から見て、図１の様な３層
（金属酸化物層：２、金属層：１）もしくは図２の様な
５層（金属酸化物層：３、金属層：２）が好ましい層数
である。
属層との層数には特に制限はないが、透明性、電磁波シ
−ルド性、および生産性の点から見て、図１の様な３層
（金属酸化物層：２、金属層：１）もしくは図２の様な
５層（金属酸化物層：３、金属層：２）が好ましい層数
である。
【００１８】上記のような層構成において、各金属酸化
物層として全て同一の金属酸化物を用いても良いし、そ
の内の幾つかあるいは全てが異なるものであっても良
い。
物層として全て同一の金属酸化物を用いても良いし、そ
の内の幾つかあるいは全てが異なるものであっても良
い。
【００１９】このような金属酸化物として、酸化チタ
ン、酸化ビスマス、酸化錫、酸化インジウム、酸化ジル
コニウム、酸化セリウム、酸化ネオジウム、酸化アンチ
モンなど比較的高い屈折率を持つ金属酸化物から選ばれ
た１種、あるいは２種以上の化合物が透明性の点から好
ましい。
ン、酸化ビスマス、酸化錫、酸化インジウム、酸化ジル
コニウム、酸化セリウム、酸化ネオジウム、酸化アンチ
モンなど比較的高い屈折率を持つ金属酸化物から選ばれ
た１種、あるいは２種以上の化合物が透明性の点から好
ましい。
【００２０】但し、これらの酸化物に透明性を阻害され
ない程度の他の成分が含まれるものであっても差し支え
ない。
ない程度の他の成分が含まれるものであっても差し支え
ない。
【００２１】このような金属酸化物を透明な有機高分子
フィルム上や前記金属層上に設ける手段としては、真空
蒸着法やスパッタリング法、イオンプレ−ティング法な
どの物理的蒸着法が好ましく用いられる。
フィルム上や前記金属層上に設ける手段としては、真空
蒸着法やスパッタリング法、イオンプレ−ティング法な
どの物理的蒸着法が好ましく用いられる。
【００２２】金属層については、その面抵抗値（電磁波
については特性インピ−ダンス）Ｚと電磁波の反射率Ｓ
との間に、式１で表される関係があるため、Ｚは小さい
程良く、実用的なレベル（１０ＭＨｚから１ＧＨｚの周
波数帯で約２０ｄＢ以上）のシ−ルド性を得るために
は、１０Ω／□以下であることが好ましい。
については特性インピ−ダンス）Ｚと電磁波の反射率Ｓ
との間に、式１で表される関係があるため、Ｚは小さい
程良く、実用的なレベル（１０ＭＨｚから１ＧＨｚの周
波数帯で約２０ｄＢ以上）のシ−ルド性を得るために
は、１０Ω／□以下であることが好ましい。
【００２３】
【式１】
【００２４】そこで、透明性と電磁波シ−ルド性とを両
立させるためには、薄い膜厚でも低い面抵抗値が得られ
る様な抵抗率の低い材料、即ち、金、銀、銅、アルミニ
ウムなどが好ましく、中でも可視光吸収率と抵抗率が低
い銀もしくはその銀を主成分とする合金が好適である。
立させるためには、薄い膜厚でも低い面抵抗値が得られ
る様な抵抗率の低い材料、即ち、金、銀、銅、アルミニ
ウムなどが好ましく、中でも可視光吸収率と抵抗率が低
い銀もしくはその銀を主成分とする合金が好適である。
【００２５】上記の様な金属酸化物層、金属層の厚さは
使用する材料によって若干異なるが、透明な有機高分子
フィルム上に設ける金属酸化物層と最上の金属酸化物層
については３００〜６００Å、その他の金属酸化物層に
ついては５００〜１２００Å、金属層については８０〜
１５０Åである必要がある。
使用する材料によって若干異なるが、透明な有機高分子
フィルム上に設ける金属酸化物層と最上の金属酸化物層
については３００〜６００Å、その他の金属酸化物層に
ついては５００〜１２００Å、金属層については８０〜
１５０Åである必要がある。
【００２６】それぞれの厚さがこれらの範囲を逸脱する
と干渉条件からずれ、透明性が低下してしまう。
と干渉条件からずれ、透明性が低下してしまう。
【００２７】特に金属層については、８０Å以下である
と膜にならず島状構造となる恐れがあり、１５０Å以上
であると良好な透明性の確保が困難になる。
と膜にならず島状構造となる恐れがあり、１５０Å以上
であると良好な透明性の確保が困難になる。
【００２８】また、透明性を阻害しない範囲であれば、
透明高分子フィルムの金属酸化物層を設けていない面、
および／または最上層の金属酸化物層上に、さらに保護
層や接着層などを設けることは差し支えない。
透明高分子フィルムの金属酸化物層を設けていない面、
および／または最上層の金属酸化物層上に、さらに保護
層や接着層などを設けることは差し支えない。
【００２９】本発明の透明な電磁波シ−ルドフィルム
は、上記のような積層フィルムの周囲および端部を図１
の断面図と図３の平面図で表される場合や、断面を図１
のものに代えて図２の断面図で表される場合の様に導電
層で覆ったことを特徴とするものである。
は、上記のような積層フィルムの周囲および端部を図１
の断面図と図３の平面図で表される場合や、断面を図１
のものに代えて図２の断面図で表される場合の様に導電
層で覆ったことを特徴とするものである。
【００３０】なお、この導電層としては、銀ペ−ストや
炭素粒子を含有する導電性塗料などを塗布、乾燥させた
もの、あるいはアルミ箔、銅箔などの金属箔テ−プなど
が用いられる。
炭素粒子を含有する導電性塗料などを塗布、乾燥させた
もの、あるいはアルミ箔、銅箔などの金属箔テ−プなど
が用いられる。
【００３１】重要なことは上記金属層と導電層との導通
が取れていることである。
が取れていることである。
【００３２】図４は通常のアルミサッシのガラス板保持
部の、図５はその図４のガラス板上に本発明の電磁波シ
−ルドフィルムを貼付した場合の例を示した断面図であ
り、図中の３１はアルミサッシ枠、３２および３３はシ
−リング材、３４はガラス板である。
部の、図５はその図４のガラス板上に本発明の電磁波シ
−ルドフィルムを貼付した場合の例を示した断面図であ
り、図中の３１はアルミサッシ枠、３２および３３はシ
−リング材、３４はガラス板である。
【００３３】本発明の透明な電磁波シ−ルドフィルム
は、その周囲および端部が導電層で覆われているため、
既存のアルミサッシを用いた窓ガラスなどに貼付する方
法においても、電気的な接続を容易に行うことが出来
る。
は、その周囲および端部が導電層で覆われているため、
既存のアルミサッシを用いた窓ガラスなどに貼付する方
法においても、電気的な接続を容易に行うことが出来
る。
【００３４】このような貼付において、透明な電磁波シ
−ルドフィルムのどちらの面がガラス板と接するように
貼付しても良いし、また、ガラス板の両面に貼付しても
良い。
−ルドフィルムのどちらの面がガラス板と接するように
貼付しても良いし、また、ガラス板の両面に貼付しても
良い。
【００３５】
【実施例】（実施例）ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム（厚さ：５０μｍ、大きさ：１２０ｍｍ角、東レ製
Ｔ−６０）の片面上に、順次インジウム錫酸化物（ＩＴ
Ｏ、厚さ：４００Å）、銀（厚さ：１５０Å）、インジ
ウム錫酸化物（ＩＴＯ、厚さ：４００Å）の薄膜をスパ
ッタリング法によって形成して積層フィルムを得た。
ルム（厚さ：５０μｍ、大きさ：１２０ｍｍ角、東レ製
Ｔ−６０）の片面上に、順次インジウム錫酸化物（ＩＴ
Ｏ、厚さ：４００Å）、銀（厚さ：１５０Å）、インジ
ウム錫酸化物（ＩＴＯ、厚さ：４００Å）の薄膜をスパ
ッタリング法によって形成して積層フィルムを得た。
【００３６】続いてこの積層フィルムの端部周囲（幅５
ｍｍ）両面と周囲断面とに銀ペ−ストを塗布し、乾燥さ
せることで本発明の透明な電磁波シ−ルドフィルムを
得、以下のような評価を行った。
ｍｍ）両面と周囲断面とに銀ペ−ストを塗布し、乾燥さ
せることで本発明の透明な電磁波シ−ルドフィルムを
得、以下のような評価を行った。
【００３７】〔電磁波シ−ルド性〕１００ｍｍ角の開口
部を有する１５０ｍｍ角のアルミ板に、上記積層フィル
ムのスパッタリング層側がアルミ板に接するようにセロ
テ−プで固定した。
部を有する１５０ｍｍ角のアルミ板に、上記積層フィル
ムのスパッタリング層側がアルミ板に接するようにセロ
テ−プで固定した。
【００３８】次いで、このアルミ板を積層フィルムのス
パッタリング層側から電磁波が入射するように、電磁波
シ−ルド性評価装置（アドバンテスト製ＴＲ１７３０１
Ａ）に固定し、１０ＭＨｚから３ＧＨｚの間のシ−ルド
性を測定した。
パッタリング層側から電磁波が入射するように、電磁波
シ−ルド性評価装置（アドバンテスト製ＴＲ１７３０１
Ａ）に固定し、１０ＭＨｚから３ＧＨｚの間のシ−ルド
性を測定した。
【００３９】その結果、全測定領域にわたって２５ｄＢ
以上のシ−ルド性を持つことが分かった。
以上のシ−ルド性を持つことが分かった。
【００４０】〔可視光透過率（透明性）、熱線遮断性〕
ＪＩＳ Ａ５７５９（窓ガラス用フィルム）に基づき、
可視光透過率（透明性）と熱線遮断性をそれぞれ式２、
式３のように定義し、３５０ｎｍから２１００ｎｍまで
の光線透過率の測定値（測定装置：島津製作所製Ｕ−４
０００）を用いて算出した。
ＪＩＳ Ａ５７５９（窓ガラス用フィルム）に基づき、
可視光透過率（透明性）と熱線遮断性をそれぞれ式２、
式３のように定義し、３５０ｎｍから２１００ｎｍまで
の光線透過率の測定値（測定装置：島津製作所製Ｕ−４
０００）を用いて算出した。
【００４１】
【式２】
【００４２】
【式３】
【００４３】その結果、透明性８５％、熱線遮断性６０
％の性能を持つことが分かった。
％の性能を持つことが分かった。
【００４４】〔化学的耐久性〕温度４０℃、相対湿度９
０％ＲＨの環境下に１７０時間保持し、目視評価すると
ともに電磁波シ−ルド性、透明性、熱線遮断性を上記の
方法で測定し、その変化を調べた。
０％ＲＨの環境下に１７０時間保持し、目視評価すると
ともに電磁波シ−ルド性、透明性、熱線遮断性を上記の
方法で測定し、その変化を調べた。
【００４５】その結果、目視では積層フィルムの外観に
は何ら変化は見られず、各測定値においてもその変化率
は全て１％以内であった。
は何ら変化は見られず、各測定値においてもその変化率
は全て１％以内であった。
【００４６】（比較例）上記の実施例と全く同様に、ポ
リエチレンテレフタレ−トフィルム（厚さ：５０μｍ、
大きさ：１２０ｍｍ角、東レ製Ｔ−６０）の片面上に、
順次インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、厚さ：４００Å）、
銀（厚さ：１５０Å）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、
厚さ：４００Å）の薄膜をスパッタリング法によって形
成して積層フィルムを得た。
リエチレンテレフタレ−トフィルム（厚さ：５０μｍ、
大きさ：１２０ｍｍ角、東レ製Ｔ−６０）の片面上に、
順次インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、厚さ：４００Å）、
銀（厚さ：１５０Å）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、
厚さ：４００Å）の薄膜をスパッタリング法によって形
成して積層フィルムを得た。
【００４７】実施例と異なる所は、その後の銀ペ−スト
の塗布・乾燥を行わず、そのまま実施例と同様の各性能
の測定に用いた。
の塗布・乾燥を行わず、そのまま実施例と同様の各性能
の測定に用いた。
【００４８】その結果、電磁波シ−ルド性は約１ＧＨｚ
以上の高周波領域において２０ｄＢ以下となり、実施例
よりは明かに劣っていた。
以上の高周波領域において２０ｄＢ以下となり、実施例
よりは明かに劣っていた。
【００４９】これは積層フィルム中の銀層とアルミ板と
の接続が不十分で電気的に隙間が存在するため、特に電
磁波波長の短い高周波域において見掛けのインピ−ダン
スが上がり、式１で表される反射率が低下したものと思
われる。
の接続が不十分で電気的に隙間が存在するため、特に電
磁波波長の短い高周波域において見掛けのインピ−ダン
スが上がり、式１で表される反射率が低下したものと思
われる。
【００５０】また、透明性と熱線遮断性においては実施
例と明確な差は無かったものの、化学的耐久性に関して
は、目視でも積層フィルム端部に銀の凝集によると思わ
れる変色が見られ、各測定値においても５％から１０％
の変化が確認された。
例と明確な差は無かったものの、化学的耐久性に関して
は、目視でも積層フィルム端部に銀の凝集によると思わ
れる変色が見られ、各測定値においても５％から１０％
の変化が確認された。
【００５１】
【発明の効果】以上に実施例、比較例を用いて説明した
ように、本発明によって、視認性、透明性、電磁波シ−
ルド性、化学的耐久性に優れた電磁波シ−ルドフィルム
が提供できる。また周囲と端部が導電層で覆われている
ため、他の導体との電気的な接続が容易である。
ように、本発明によって、視認性、透明性、電磁波シ−
ルド性、化学的耐久性に優れた電磁波シ−ルドフィルム
が提供できる。また周囲と端部が導電層で覆われている
ため、他の導体との電気的な接続が容易である。
【００５２】例えば既存のアルミサッシを用いた窓など
に簡単に貼付して使用することが可能である。
に簡単に貼付して使用することが可能である。
【００５３】さらに、電磁波シ−ルド層として銀などの
金属層を用いているため、日射透過率が低く、副次的な
効果として、良好な熱線遮断性も合わせ持つものであ
る。
金属層を用いているため、日射透過率が低く、副次的な
効果として、良好な熱線遮断性も合わせ持つものであ
る。
【図１】本発明に係わる透明な電磁波シ−ルドフィルム
の実施の形態を示す断面図である。
の実施の形態を示す断面図である。
【図２】本発明に係わる透明な電磁波シ−ルドフィルム
の図１の例とは違う実施の形態を示す断面図である。
の図１の例とは違う実施の形態を示す断面図である。
【図３】本発明に係わる透明な電磁波シ−ルドフィルム
の実施の形態を示す平面図である。
の実施の形態を示す平面図である。
【図４】アルミサッシのガラス保持部の一例を示す断面
図である。
図である。
【図５】アルミサッシのガラス上に、本発明に係わる透
明な電磁波シ−ルドフィルムを貼付して用いる際の一例
を示す断面図である。
明な電磁波シ−ルドフィルムを貼付して用いる際の一例
を示す断面図である。
１０、２０…電磁波シ−ルドフィルム １１…透明な有機高分子フィルム １２、１４、１６…金属酸化物層 １３、１５…金属層 １７…導電層 ３１…アルミサッシ枠 ３２、３３…シ−リング材 ３４…ガラス板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 晶彦 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 Ｆターム(参考） 5E321 AA04 AA14 AA23 BB23 BB25 CC16 GG05 GH01
Claims (2)
- 【請求項１】透明な有機高分子フィルムの少なくとも片
面上に、金属酸化物層、金属層の順に交互に設け、最上
層が金属酸化物層である透明電磁波シ−ルドフィルムの
周囲および端面が導電層で覆われていることを特徴とす
る透明電磁波シ−ルドフィルム。 - 【請求項２】前記金属層が、銀または銀を主成分とする
合金からなることを特徴とする請求項１記載の透明電磁
波シ−ルドフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11138476A JP2000332485A (ja) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | 透明電磁波シ−ルドフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11138476A JP2000332485A (ja) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | 透明電磁波シ−ルドフィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000332485A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002336514A (ja) * | 2001-05-21 | 2002-11-26 | Toppan Label Co Ltd | 遊技機 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6027623A (ja) * | 1983-07-22 | 1985-02-12 | Toyota Motor Corp | 電磁遮蔽ウインドガラス |
| JPS60156656U (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-18 | 協和ガス化学工業株式会社 | 電磁シ−ルド性の透光板 |
| JPS62112886A (ja) * | 1985-11-12 | 1987-05-23 | 清水建設株式会社 | ガラス窓の電磁シ−ルド方法 |
| JPH06164186A (ja) * | 1992-11-19 | 1994-06-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 電磁波遮蔽体 |
-
1999
- 1999-05-19 JP JP11138476A patent/JP2000332485A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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