JP2001024382A - 電磁波シールド材 - Google Patents
電磁波シールド材Info
- Publication number
- JP2001024382A JP2001024382A JP11197413A JP19741399A JP2001024382A JP 2001024382 A JP2001024382 A JP 2001024382A JP 11197413 A JP11197413 A JP 11197413A JP 19741399 A JP19741399 A JP 19741399A JP 2001024382 A JP2001024382 A JP 2001024382A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electromagnetic wave
- wave shielding
- layer
- metal
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】金属層の腐食を抑え、電磁波シールド材がその
品質、性能を長期間にわたって保持し続けることを目的
とする。 【解決手段】基材の少なくとも片面上に金属酸化物、金
属層の順に交互に設け、最上層が金属酸化物層である電
磁波シールド材において、該金属層が銀または銀を主成
分とする合金であり、該金属酸化物が酸化インジウムと
酸化セリウムを主成分とする物質であり、酸化セリウム
の含有量が、重量比で５％以上であることを特徴とする
透明電磁波シールド材を提供する。
品質、性能を長期間にわたって保持し続けることを目的
とする。 【解決手段】基材の少なくとも片面上に金属酸化物、金
属層の順に交互に設け、最上層が金属酸化物層である電
磁波シールド材において、該金属層が銀または銀を主成
分とする合金であり、該金属酸化物が酸化インジウムと
酸化セリウムを主成分とする物質であり、酸化セリウム
の含有量が、重量比で５％以上であることを特徴とする
透明電磁波シールド材を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オフィスビル、病
院、音楽ホールなど、内部で使用する電磁波の外部への
漏洩、または外部からの電磁波の浸入を防ぐ必要のある
建築物において、その窓ガラスや間仕切りに貼付して使
用される透明電磁波シールド材に関するものである。
院、音楽ホールなど、内部で使用する電磁波の外部への
漏洩、または外部からの電磁波の浸入を防ぐ必要のある
建築物において、その窓ガラスや間仕切りに貼付して使
用される透明電磁波シールド材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】建築物における電磁波障害は、ＯＡ化の
普及や事業所内ＰＨＳ、無線ＬＡＮの利用に伴う情報セ
キュリティ、音楽ホール等静粛性が求められる場所での
携帯電話、ＰＨＳ等の作動防止、外部からの電磁波の浸
入による医療機器の誤動作防止などの目的で使用され、
近年その必要性が増大している。
普及や事業所内ＰＨＳ、無線ＬＡＮの利用に伴う情報セ
キュリティ、音楽ホール等静粛性が求められる場所での
携帯電話、ＰＨＳ等の作動防止、外部からの電磁波の浸
入による医療機器の誤動作防止などの目的で使用され、
近年その必要性が増大している。
【０００３】従来、このような電磁波シールド性を得る
ための手法としては、金属板、金属メッシュ、金属箔な
どの導電性材料で部屋全体を隙間なく覆う方法がとられ
ていた。窓部分については、ある程度以上の透明性を必
要とすることから、金属メッシュを挟み込んだ合わせガ
ラスやインジウム錫酸化物などの導電性酸化物をコーテ
ィングしたガラスなどが用いられてきた。
ための手法としては、金属板、金属メッシュ、金属箔な
どの導電性材料で部屋全体を隙間なく覆う方法がとられ
ていた。窓部分については、ある程度以上の透明性を必
要とすることから、金属メッシュを挟み込んだ合わせガ
ラスやインジウム錫酸化物などの導電性酸化物をコーテ
ィングしたガラスなどが用いられてきた。
【０００４】しかし、金属メッシュを挟み込んだガラス
は視認性の問題があり、導電性酸化物をコーティングし
たガラスの場合は、必要な電磁波シールド性を得るため
の膜厚が大きく、その結果透明性が低くなるという欠点
があった。さらに、すでに建造物に据え付けてあるガラ
スに対してこれらの処理を行うのは事実上不可能であっ
た。
は視認性の問題があり、導電性酸化物をコーティングし
たガラスの場合は、必要な電磁波シールド性を得るため
の膜厚が大きく、その結果透明性が低くなるという欠点
があった。さらに、すでに建造物に据え付けてあるガラ
スに対してこれらの処理を行うのは事実上不可能であっ
た。
【０００５】また、インジウム錫酸化物のような透明導
電酸化物をプラスチックなどの基材上にコーティングし
た電磁波シールド材等をガラスに貼付するという方法も
あるが、透明導電酸化物で十分なシールド性を得るため
には膜厚が大きくなって、その結果透明性が不十分にな
り、経済性の面からも問題がでてくる。
電酸化物をプラスチックなどの基材上にコーティングし
た電磁波シールド材等をガラスに貼付するという方法も
あるが、透明導電酸化物で十分なシールド性を得るため
には膜厚が大きくなって、その結果透明性が不十分にな
り、経済性の面からも問題がでてくる。
【０００６】さらに、透明性と電磁波シールド、施工性
を両立する方法として、金属酸化物層と金属層とを交互
に配置した構造の膜を、プラスチック等のフィルム上に
コーティングする方法がある。これは金属層によってシ
ールド性を得て、さらに屈折率の異なる薄膜を積層する
ことによる光の干渉効果によって透明性を高めるもので
ある。
を両立する方法として、金属酸化物層と金属層とを交互
に配置した構造の膜を、プラスチック等のフィルム上に
コーティングする方法がある。これは金属層によってシ
ールド性を得て、さらに屈折率の異なる薄膜を積層する
ことによる光の干渉効果によって透明性を高めるもので
ある。
【０００７】従来、このような電磁波シールド材の多層
コーティング層のうちの金属酸化物としては通常、酸化
インジウム、酸化錫、酸化ビスマス、酸化チタン、など
のうちの一種あるいは数種が混合されて用いられてき
た。そして、金属層としては銀、または銀を主成分とす
る合金が用いられてきた。
コーティング層のうちの金属酸化物としては通常、酸化
インジウム、酸化錫、酸化ビスマス、酸化チタン、など
のうちの一種あるいは数種が混合されて用いられてき
た。そして、金属層としては銀、または銀を主成分とす
る合金が用いられてきた。
【０００８】しかし、従来の材料でこのような電磁波シ
ールド材を作った場合には、金属層の腐食による物性の
劣化が見られた。
ールド材を作った場合には、金属層の腐食による物性の
劣化が見られた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のプラス
チック等の基材上に多層コーティングを施した電磁波シ
ールド材に関するものである。
チック等の基材上に多層コーティングを施した電磁波シ
ールド材に関するものである。
【００１０】このような電磁波シールド材を窓ガラスに
貼付して電磁波シールド性を実現しようとする場合にお
いて問題となるのは、コーティング層とくに銀などの金
属層の腐食である。窓ガラスに材を貼付する場合、使用
期間は間断なく数年におよぶのが普通であり、薄膜層、
とくに金属層の腐食は大きな問題である。
貼付して電磁波シールド性を実現しようとする場合にお
いて問題となるのは、コーティング層とくに銀などの金
属層の腐食である。窓ガラスに材を貼付する場合、使用
期間は間断なく数年におよぶのが普通であり、薄膜層、
とくに金属層の腐食は大きな問題である。
【００１１】銀あるいは銀を主成分とする金属薄膜の腐
食は通常黒色の点状となって現れ、美観を損ね透明性、
視認性を阻害する。さらに面抵抗値が増加することによ
る電磁波シールド性の低下も引き起こす。
食は通常黒色の点状となって現れ、美観を損ね透明性、
視認性を阻害する。さらに面抵抗値が増加することによ
る電磁波シールド性の低下も引き起こす。
【００１２】本発明はこのような金属層の腐食を抑え、
電磁波シールド材がその品質、性能を長期間にわたって
保持し続けることを目的としたものである。
電磁波シールド材がその品質、性能を長期間にわたって
保持し続けることを目的としたものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は前記の問題を解
決するためのものであって、基材の少なくとも片面上に
金属酸化物、金属層の順に交互に設け、最上層が金属酸
化物層である電磁波シールド材において、該金属層が銀
または銀を主成分とする合金であり、該金属酸化物が酸
化インジウムと酸化セリウムを主成分とする物質であ
り、酸化セリウムの含有量が重量比で５％以上であるこ
とを特徴とする電磁波シールド材を提供するものであ
る。
決するためのものであって、基材の少なくとも片面上に
金属酸化物、金属層の順に交互に設け、最上層が金属酸
化物層である電磁波シールド材において、該金属層が銀
または銀を主成分とする合金であり、該金属酸化物が酸
化インジウムと酸化セリウムを主成分とする物質であ
り、酸化セリウムの含有量が重量比で５％以上であるこ
とを特徴とする電磁波シールド材を提供するものであ
る。
【００１４】また、基材が透明材であることを特徴とす
る請求項１記載の電磁波シールド材を提供するものであ
る。
る請求項１記載の電磁波シールド材を提供するものであ
る。
【００１５】透明材である方が効果が大きいが、半透明
材等の透明度が低い場合も本発明では適用できる。従っ
て、ここで言う透明も完全透明である必要はなく、専門
家以外の人間に透明といって通じる程度の透明の事であ
る。
材等の透明度が低い場合も本発明では適用できる。従っ
て、ここで言う透明も完全透明である必要はなく、専門
家以外の人間に透明といって通じる程度の透明の事であ
る。
【００１６】さらに、基材がフィルムであることを特徴
とする請求項１又は２記載の電磁波シールド材を提供す
るものである。
とする請求項１又は２記載の電磁波シールド材を提供す
るものである。
【００１７】当然フィルム状の方が製造、取扱、使用上
で好ましいが、板状等の基材であっても本発明は効果を
生じる。
で好ましいが、板状等の基材であっても本発明は効果を
生じる。
【００１８】本発明における金属と金属酸化物を用いた
場合には、他の金属酸化物とくに酸化インジウムと酸化
錫を主成分にしたもの（一般にＩＴＯと呼ばれる）を用
いた場合と比較して、金属層の腐食を抑えることができ
る。
場合には、他の金属酸化物とくに酸化インジウムと酸化
錫を主成分にしたもの（一般にＩＴＯと呼ばれる）を用
いた場合と比較して、金属層の腐食を抑えることができ
る。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を用いて詳細
に説明する。
に説明する。
【００２０】図１は本発明の電磁波シールド材の実施例
の断面図である。本発明の透明導電性フィルム１０、２
０は透明な有機高分子フィルムからなる基材１１上に、
金属酸化物層１２、１４、１６と金属層１３、１５を交
互に積層したものである。金属酸化物層および金属層の
層数にはとくに制限はないが、透明性、電磁波シールド
性、経済性、加工性などの面からみて、図１に示したよ
うな、３層または５層のものが好ましい。
の断面図である。本発明の透明導電性フィルム１０、２
０は透明な有機高分子フィルムからなる基材１１上に、
金属酸化物層１２、１４、１６と金属層１３、１５を交
互に積層したものである。金属酸化物層および金属層の
層数にはとくに制限はないが、透明性、電磁波シールド
性、経済性、加工性などの面からみて、図１に示したよ
うな、３層または５層のものが好ましい。
【００２１】上記のような層構成において、金属酸化物
層および金属層はそれぞれ、とくに同一の組成である必
要はない。以下に示す条件を満たしたものの中から自由
に選択できる。ただし、生産性、経済性の点から、とく
に必要のない限り、同一の金属酸化物層、同一の金属層
にするのが望ましい。
層および金属層はそれぞれ、とくに同一の組成である必
要はない。以下に示す条件を満たしたものの中から自由
に選択できる。ただし、生産性、経済性の点から、とく
に必要のない限り、同一の金属酸化物層、同一の金属層
にするのが望ましい。
【００２２】金属酸化物としては、酸化インジウムと酸
化セリウム、を主成分とした混合物であり、酸化セリウ
ムの含有量が、重量比で５％以上である必要がある。酸
化セリウムの割合が５％未満であると、金属層の耐腐食
性の向上に寄与しなくなるおそれがある。
化セリウム、を主成分とした混合物であり、酸化セリウ
ムの含有量が、重量比で５％以上である必要がある。酸
化セリウムの割合が５％未満であると、金属層の耐腐食
性の向上に寄与しなくなるおそれがある。
【００２３】なお、これには透明性を阻害しない程度の
他の成分が含まれていても差し支えない。金属として
は、銀または銀を主成分とする合金である必要がある。
他の成分が含まれていても差し支えない。金属として
は、銀または銀を主成分とする合金である必要がある。
【００２４】このような金属酸化物層、金属層を基材上
または他の層の上に設ける方法としては、とくに制限は
ないが、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法などの物理的蒸着法が好適に用いられる。
または他の層の上に設ける方法としては、とくに制限は
ないが、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法などの物理的蒸着法が好適に用いられる。
【００２５】金属層については、その面抵抗値（電磁波
については特性インピーダンス）Ｚと電磁波の反射率Ｓ
とのあいだに、式１で示されるような関係があるため、
Ｚは小さいほどよく、実用的なレベル（１０ＭＨｚ〜１
ＧＨｚの周波数帯で２０ｄＢ以上）の電磁波シールド性
を得るためには、１０Ω／□以下であることが好まし
い。
については特性インピーダンス）Ｚと電磁波の反射率Ｓ
とのあいだに、式１で示されるような関係があるため、
Ｚは小さいほどよく、実用的なレベル（１０ＭＨｚ〜１
ＧＨｚの周波数帯で２０ｄＢ以上）の電磁波シールド性
を得るためには、１０Ω／□以下であることが好まし
い。
【００２６】
【式１】
【００２７】銀または銀を主成分とする合金の場合にこ
の面抵抗値を得て、しかも透明性を阻害しないことを考
えると、金属層の厚さは金属層各層の合計で８０〜３０
０Åであることが好ましい。さらに金属層が複数ある場
合に、それぞれの層の厚さは最低８０Åあることが好ま
しい。これ以下の膜厚であると、島状構造になって、膜
にならないおそれがある。さらに、これ以下の膜厚では
十分な耐腐食性が得られないおそれがある。
の面抵抗値を得て、しかも透明性を阻害しないことを考
えると、金属層の厚さは金属層各層の合計で８０〜３０
０Åであることが好ましい。さらに金属層が複数ある場
合に、それぞれの層の厚さは最低８０Åあることが好ま
しい。これ以下の膜厚であると、島状構造になって、膜
にならないおそれがある。さらに、これ以下の膜厚では
十分な耐腐食性が得られないおそれがある。
【００２８】金属酸化物層の膜厚については、光の干渉
現象を利用して透明性を上げるように計算して設定して
いる。その値は、金属層の層数、金属層の膜厚、金属酸
化物層が第何層にあるか、それぞれの物質の屈折率など
によって異なるが、金属層として銀層をを１５０Å設
け、それを金属酸化物で挟んで三層構成にしたもので
は、二つの金属酸化物層の厚さはともに通常３００〜５
００Åの範囲になる。
現象を利用して透明性を上げるように計算して設定して
いる。その値は、金属層の層数、金属層の膜厚、金属酸
化物層が第何層にあるか、それぞれの物質の屈折率など
によって異なるが、金属層として銀層をを１５０Å設
け、それを金属酸化物で挟んで三層構成にしたもので
は、二つの金属酸化物層の厚さはともに通常３００〜５
００Åの範囲になる。
【００２９】また、金属層として厚さ１５０Åの銀層を
２層設け、それらの上下に金属酸化物層を配置して五層
構成にしたものでは、プラスチックフィルム上と最上層
の金属酸化物の厚さは通常２００〜４００Å、その他の
金属酸化物層の厚さは通常７００〜１０００Åである。
２層設け、それらの上下に金属酸化物層を配置して五層
構成にしたものでは、プラスチックフィルム上と最上層
の金属酸化物の厚さは通常２００〜４００Å、その他の
金属酸化物層の厚さは通常７００〜１０００Åである。
【００３０】また、透明を要件とする場合には、透明性
を阻害しない限りにおいて、透明プラスチックフィルム
等の基材に金属酸化物層を設けていない面、もしくは最
上層の金属酸化物層の上に、さらに保護層や接着層を設
けることは差し支えない。
を阻害しない限りにおいて、透明プラスチックフィルム
等の基材に金属酸化物層を設けていない面、もしくは最
上層の金属酸化物層の上に、さらに保護層や接着層を設
けることは差し支えない。
【００３１】
【実施例】（実施例１）ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１００
ｍｍ角）の片面上に、インジウムセリウム酸化物（以後
ＩＣＯ、酸化セリウム含有量：9.0%、厚さ：４５０
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含
有量：9.0%、厚さ：４５０Å）の薄膜をスパッタリング
法によってこの順に形成して積層フィルムを得た。
ィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１００
ｍｍ角）の片面上に、インジウムセリウム酸化物（以後
ＩＣＯ、酸化セリウム含有量：9.0%、厚さ：４５０
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含
有量：9.0%、厚さ：４５０Å）の薄膜をスパッタリング
法によってこの順に形成して積層フィルムを得た。
【００３２】〔電磁波シールド性〕２５ｍｍ角の開口部
を持つ１５０ｍｍ角のアルミ板に、上記積層フィルムを
スパッタリング面をアルミ板に向け、さらに開口部を積
層フィルムにてふさぐようにセロハンテープにて固定し
た。次いで、このアルミ板を、積層フィルムのスパッタ
リング層側から電磁波が入射するように、電磁波シール
ド測定装置（アドバンテスト製ＴＲ１７３０１Ａ）に固
定し、１０ＭＨｚから３ＧＨｚまでの電磁波シールド性
を測定した。その結果、全測定領域において２０ｄＢ以
上の電磁波シールド性をもつことがわかった。
を持つ１５０ｍｍ角のアルミ板に、上記積層フィルムを
スパッタリング面をアルミ板に向け、さらに開口部を積
層フィルムにてふさぐようにセロハンテープにて固定し
た。次いで、このアルミ板を、積層フィルムのスパッタ
リング層側から電磁波が入射するように、電磁波シール
ド測定装置（アドバンテスト製ＴＲ１７３０１Ａ）に固
定し、１０ＭＨｚから３ＧＨｚまでの電磁波シールド性
を測定した。その結果、全測定領域において２０ｄＢ以
上の電磁波シールド性をもつことがわかった。
【００３３】〔可視光透過率、熱線遮断性〕可視光透過
率は透明性を示す指標のひとつである。JIS A 5759（窓
ガラス用フィルム）に基づき、可視光透過率と熱線遮断
性をそれぞれ式（２）、式（３）のように定義し、３５
０〜２１００ｎｍの範囲の光線透過率の測定値（日立製
作所製 Ｕ―４０００ にて測定）を用いて算出した。
その結果、可視光透過率８５％、熱線遮断性6 ０％の性
能を示すことがわかった。
率は透明性を示す指標のひとつである。JIS A 5759（窓
ガラス用フィルム）に基づき、可視光透過率と熱線遮断
性をそれぞれ式（２）、式（３）のように定義し、３５
０〜２１００ｎｍの範囲の光線透過率の測定値（日立製
作所製 Ｕ―４０００ にて測定）を用いて算出した。
その結果、可視光透過率８５％、熱線遮断性6 ０％の性
能を示すことがわかった。
【００３４】〔耐腐食性〕銀薄膜層を含む構成の電磁波
シールドフィルムにおいて、銀層の腐食が起こった場
合、通常それは黒色の点状になって現れる。
シールドフィルムにおいて、銀層の腐食が起こった場
合、通常それは黒色の点状になって現れる。
【００３５】４０℃―９０％ＲＨの雰囲気下に１週間保
存して、１日後、３日後、５日後、１週間後の黒点の数
を数えた。数え方としては、サンプルをデジタルカメラ
（オリンパス製 Ｃ―１４００）にて撮影し、パソコン
画面上にて拡大して、拡大前の直径が０．３ｍｍ以上の
黒点について数える方法をとった。その結果、１週間後
でも黒点の数は０個であった。
存して、１日後、３日後、５日後、１週間後の黒点の数
を数えた。数え方としては、サンプルをデジタルカメラ
（オリンパス製 Ｃ―１４００）にて撮影し、パソコン
画面上にて拡大して、拡大前の直径が０．３ｍｍ以上の
黒点について数える方法をとった。その結果、１週間後
でも黒点の数は０個であった。
【００３６】（比較例１）ポリエチレンテレフタレート
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、酸化インジウム（厚さ：４５０
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、酸化インジウム（厚さ：
４５０Å）の薄膜をスパッタリング法によってこの順に
形成して積層フィルムを得た。
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、酸化インジウム（厚さ：４５０
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、酸化インジウム（厚さ：
４５０Å）の薄膜をスパッタリング法によってこの順に
形成して積層フィルムを得た。
【００３７】〔電磁波シールド性〕実施例１と全く同様
にして測定した。その結果、その結果、全測定領域にお
いて２０ｄＢ以上の電磁波シールド性をもつことがわか
った。
にして測定した。その結果、その結果、全測定領域にお
いて２０ｄＢ以上の電磁波シールド性をもつことがわか
った。
【００３８】〔可視光透過率、熱線遮断性〕実施例１と
全く同様にして測定した。その結果、透明性は８５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
全く同様にして測定した。その結果、透明性は８５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
【００３９】〔耐腐食性〕実施例１と全く同様にして測
定した。その結果、保存開始１日目で黒点は５つ、３日
目で１７、５日目で３４、一週間後では６８個であっ
た。
定した。その結果、保存開始１日目で黒点は５つ、３日
目で１７、５日目で３４、一週間後では６８個であっ
た。
【００４０】（比較例２）ポリエチレンテレフタレート
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、インジウムセリウム酸化物（以
後ＩＣＯ、酸化セリウム含有量：4.0%、厚さ：４５０
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含
有量：4.0%、厚さ：４５０Å）の薄膜をスパッタリング
法によってこの順に形成して積層フィルムを得た。
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、インジウムセリウム酸化物（以
後ＩＣＯ、酸化セリウム含有量：4.0%、厚さ：４５０
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含
有量：4.0%、厚さ：４５０Å）の薄膜をスパッタリング
法によってこの順に形成して積層フィルムを得た。
【００４１】〔電磁波シールド性〕実施例１と全く同様
にして測定した。その結果、全測定領域において２０ｄ
Ｂ以上の電磁波シールド性をもつことがわかった。
にして測定した。その結果、全測定領域において２０ｄ
Ｂ以上の電磁波シールド性をもつことがわかった。
【００４２】〔可視光透過率、熱線遮断性〕実施例１と
全く同様にして測定した。その結果、透明性は８５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
全く同様にして測定した。その結果、透明性は８５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
【００４３】〔耐腐食性〕実施例１と全く同様にして測
定した。その結果、保存開始１日目で黒点は2 つ、３日
目で１１、５日目で２４、一週間後では５０個であっ
た。
定した。その結果、保存開始１日目で黒点は2 つ、３日
目で１１、５日目で２４、一週間後では５０個であっ
た。
【００４４】（比較例３）ポリエチレンテレフタレート
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、インジウムセリウム酸化物（以
後ＩＣＯ、酸化セリウム含有量：40.0% 、厚さ：４５０
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含
有量：40.0% 、厚さ：４５０Å）の薄膜をスパッタリン
グ法によってこの順に形成して積層フィルムを得た。
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、インジウムセリウム酸化物（以
後ＩＣＯ、酸化セリウム含有量：40.0% 、厚さ：４５０
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含
有量：40.0% 、厚さ：４５０Å）の薄膜をスパッタリン
グ法によってこの順に形成して積層フィルムを得た。
【００４５】〔電磁波シールド性〕実施例１と全く同様
にして測定した。その結果、全測定領域において２０ｄ
Ｂ以上の電磁波シールド性をもつことがわかった。
にして測定した。その結果、全測定領域において２０ｄ
Ｂ以上の電磁波シールド性をもつことがわかった。
【００４６】〔可視光透過率、熱線遮断性〕実施例１と
全く同様にして測定した。その結果、透明性は８５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
全く同様にして測定した。その結果、透明性は８５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
【００４７】〔耐腐食性〕実施例１と全く同様にして測
定した。その結果、１週間後でも黒点の数は０個であっ
た。
定した。その結果、１週間後でも黒点の数は０個であっ
た。
【００４８】（比較例4 ）ポリエチレンテレフタレート
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、インジウム錫酸化物（以後ＩＴ
Ｏ、酸化錫含有量：9.0%、厚さ：４５０Å）、銀（厚
さ：１５０Å）、ＩＴＯ（酸化錫含有量：9.0%、厚さ：
４５０Åの薄膜をスパッタリング法によってこの順に形
成して積層フィルムを得た。
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、インジウム錫酸化物（以後ＩＴ
Ｏ、酸化錫含有量：9.0%、厚さ：４５０Å）、銀（厚
さ：１５０Å）、ＩＴＯ（酸化錫含有量：9.0%、厚さ：
４５０Åの薄膜をスパッタリング法によってこの順に形
成して積層フィルムを得た。
【００４９】〔電磁波シールド性〕実施例１と全く同様
にして測定した。その結果、全測定領域において２０ｄ
Ｂ以上電磁波シールド性をもつことがわかった。
にして測定した。その結果、全測定領域において２０ｄ
Ｂ以上電磁波シールド性をもつことがわかった。
【００５０】〔可視光透過率、熱線遮断性〕実施例１と
全く同様にして測定した。その結果、透明性は８５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
全く同様にして測定した。その結果、透明性は８５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
【００５１】〔耐腐食性〕実施例１と全く同様にして測
定した。その結果、保存開始１日目で黒点は４つ、３日
目で１５、５日目で３７、一週間後では７２個であっ
た。
定した。その結果、保存開始１日目で黒点は４つ、３日
目で１５、５日目で３７、一週間後では７２個であっ
た。
【００５２】（実施例２）ポリエチレンテレフタレート
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、インジウムセリウム酸化物（以
後ＩＣＯ、酸化セリウム含有量：9.0%、厚さ：３００
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含
有量：9.0%、厚さ：９００Å）、銀（厚さ：１５０
Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含有量：9.0%、厚さ：３０
０Å）の薄膜をスパッタリング法によってこの順に形成
して積層フィルムを得た。
フィルム（東レ製Ｔ―６０、厚さ５０μm 、大きさ１０
０ｍｍ角）の片面上に、インジウムセリウム酸化物（以
後ＩＣＯ、酸化セリウム含有量：9.0%、厚さ：３００
Å）、銀（厚さ：１５０Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含
有量：9.0%、厚さ：９００Å）、銀（厚さ：１５０
Å）、ＩＣＯ（酸化セリウム含有量：9.0%、厚さ：３０
０Å）の薄膜をスパッタリング法によってこの順に形成
して積層フィルムを得た。
【００５３】〔電磁波シールド性〕実施例１と全く同様
にして測定した。その結果、全測定領域において２５ｄ
Ｂ以上の電磁波シールド性をもつことがわかった。
にして測定した。その結果、全測定領域において２５ｄ
Ｂ以上の電磁波シールド性をもつことがわかった。
【００５４】〔可視光透過率、熱線遮断性〕実施例１と
全く同様にして測定した。その結果、透明性は６５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
全く同様にして測定した。その結果、透明性は６５％、
熱線遮断性は6 ０％であった。
【００５５】〔耐腐食性〕実施例１と全く同様にして測
定した。その結果、１週間後でも黒点の数は０個であっ
た。
定した。その結果、１週間後でも黒点の数は０個であっ
た。
【００５６】
【発明の効果】以上に比較例、実施例を用いて説明した
ように、本発明によって、視認性、透明性、熱線遮断
性、電磁波シールド性に優れ、さらに耐腐食性に優れた
透明電磁波シールド材が提供できる。
ように、本発明によって、視認性、透明性、熱線遮断
性、電磁波シールド性に優れ、さらに耐腐食性に優れた
透明電磁波シールド材が提供できる。
【図１】本発明にかかわる電磁波シールド材の実施の形
態を示す断面図である。
態を示す断面図である。
【図２】本発明にかかわる電磁波シールド材の他の実施
の形態を示す断面図である。
の形態を示す断面図である。
１０、２０ 透明電磁波シールドフィルム １１ 透明なプラスチックフィルム １２、１４、１６ 金属酸化物層 １３、１５ 金属層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 晶彦 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 Ｆターム(参考） 5E321 AA46 BB23 BB25 BB53 CC16 GG05 GH01
Claims (3)
- 【請求項１】基材の少なくとも片面上に金属酸化物、金
属層の順に交互に設け、最上層が金属酸化物層である電
磁波シールド材において、該金属層が銀または銀を主成
分とする合金であり、該金属酸化物が酸化インジウムと
酸化セリウムを主成分とする物質であり、酸化セリウム
の含有量が、重量比で５％以上であることを特徴とする
電磁波シールド材 - 【請求項２】基材が透明材であることを特徴とする請求
項１記載の透明電磁波シールド材 - 【請求項３】基材がフィルムであることを特徴とする請
求項１又は２記載の電磁波シールド材
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11197413A JP2001024382A (ja) | 1999-07-12 | 1999-07-12 | 電磁波シールド材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11197413A JP2001024382A (ja) | 1999-07-12 | 1999-07-12 | 電磁波シールド材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001024382A true JP2001024382A (ja) | 2001-01-26 |
Family
ID=16374112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11197413A Pending JP2001024382A (ja) | 1999-07-12 | 1999-07-12 | 電磁波シールド材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001024382A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003039590A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-13 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリア積層フイルム |
-
1999
- 1999-07-12 JP JP11197413A patent/JP2001024382A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003039590A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-13 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリア積層フイルム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20080118762A1 (en) | Electromagnetic wave shielding film and protective plate for plasma display panel | |
| JP5683034B2 (ja) | 伝導性構造体、タッチパネルおよびその製造方法｛ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ、ｔｏｕｃｈ ｐａｎｅｌ ａｎｄ ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ ｔｈｅ ｓａｍｅ｝ | |
| US7405005B2 (en) | Display apparatus and antireflection substance | |
| JP2010034577A (ja) | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 | |
| JPWO2006090798A1 (ja) | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 | |
| EP1441239A1 (en) | Transparent laminate, method for producing the same, and plasma display panel | |
| KR20000016876A (ko) | 전자파차폐투명체 | |
| JP2007299672A (ja) | 導電性積層体およびプラズマディスプレイ用保護板 | |
| KR20050009677A (ko) | 적층체 및 그 용도 | |
| JP2001024382A (ja) | 電磁波シールド材 | |
| JP2006156927A (ja) | プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板 | |
| JP3713774B2 (ja) | 透明電磁波シールド基板 | |
| JP2008036952A (ja) | 導電性積層体およびプラズマディスプレイ用保護板 | |
| JP3924849B2 (ja) | 透明導電フィルムおよびそれを用いた電磁波シールドフィルター | |
| JP2001237589A (ja) | 透明電磁波シールドフィルム | |
| JP3924846B2 (ja) | 透明導電フィルム | |
| JP4820738B2 (ja) | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 | |
| JP2000329934A (ja) | 透明導電性フィルム | |
| JPH10309778A (ja) | 積層体 | |
| JP2005148501A (ja) | 導電性積層体および、それを用いたディスプレイ用光学フィルター、電磁波シールドならびに建築用窓材 | |
| JP2000332485A (ja) | 透明電磁波シ−ルドフィルム | |
| JP3952609B2 (ja) | 電磁波低減反射防止コート | |
| CN212392013U (zh) | 一种低方阻的透明导电膜 | |
| JP3915202B2 (ja) | 導電性反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
| JPH11177277A (ja) | 電磁波シールド用積層体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060626 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081002 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081007 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081208 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090616 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090807 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100202 |