JP2000319134A - エナメルリムーバー - Google Patents

エナメルリムーバー

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JP2000319134A
JP2000319134A JP11158451A JP15845199A JP2000319134A JP 2000319134 A JP2000319134 A JP 2000319134A JP 11158451 A JP11158451 A JP 11158451A JP 15845199 A JP15845199 A JP 15845199A JP 2000319134 A JP2000319134 A JP 2000319134A
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poe
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Hidefumi Ogura
英史 小倉
Mineko Horibe
峰子 堀部
Kaoru Suzuki
薫 鈴木
Nobuyuki Yamamoto
信之 山本
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Lion Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 爪、皮膚および付け爪に損傷を与えず、
かつエナメルの除去性に優れており、かつ経済的に生産
可能なエナメルリムーバーの提供 【解決手段】 1,3−ジオキソラン−2−オン誘導体
を含有するエナメルリムーバーを提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、塗布されたエナメ
ルを十分に除去し、且つ爪や皮膚に損傷を与えず、また
付け爪を溶解しないエナメルリムーバーに関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】爪上に
塗布されたエナメルを除去するために使用されるエナメ
ルリムーバーは、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等
のケトン系、エステル系の溶剤を主成分として使用され
ている。しかし、これらはエナメルを除去するだけでな
く、爪および皮膚を白化、脱脂し、爪や皮膚に損傷を与
えてしまうという問題を生じていた。また、低沸点で引
火性が高いこと、衣服等に付着した場合、衣服を溶解し
たり衣服の染料を脱色してしまうこと、最近多く利用さ
れるようになった付け爪からネイルエナメルを除去した
場合、付け爪を溶解し再利用できなくさせることなどの
問題があった。
【0003】このような問題を解決するために、エチレ
ンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカ
ーボネートおよびグリセリンカーボネートを用いたエナ
メルリムーバーが提案されている(特開昭62−022
709号公報)。しかし、これらのエナメルリムーバー
は、引火性が軽減され、さらに爪や皮膚の脱脂などの損
傷も軽減されるものの、エナメルを除去する性能は不十
分であった。そのため、エナメルの除去を向上させるた
めに、これらに従来用いられていたアセトンなどのケト
ン類を配合させたエナメルリムーバーが提案されている
(特開平09−169621号公報)が、使用感は満足
いくものではなかった。また、アセトンによる爪の油分
や保湿能を補うためにエステル系油剤やカルビトール類
を配合しているエナメルリムーバーが提案されている
(特開平08−143428号公報)が、配合される成
分が多いためにコストがかさんでしまうという問題があ
った。したがって、爪、皮膚および付け爪に損傷を与え
ず、かつエナメルの除去性に優れており、経済的に生産
可能なエナメルリムーバーの開発が望まれていた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
重ねた結果、1,3−ジオキソラン−2−オン誘導体
が、高沸点、低引火性の物質で、取扱い上非常に安全な
物質であり、さらにエナメルの主成分であるニトロセル
ロースの良い溶媒であるため、爪、皮膚および付け爪へ
損傷を与えず、溶剤臭がなく、かつエナメルの除去力を
向上させることができる性能があることを見い出し、本
発明を完成した。すなわち、本発明によれば、下記一般
式(I)で表される1,3−ジオキソラン−2−オン誘
導体を含有するエナメルリムーバーが提供される。
【化4】 [式中Rは、下記一般式(II)または一般式(II
I)
【化5】
【化6】 (前式中、Rは炭素数1〜22の飽和もしくは不飽和
の直鎖、分岐鎖、又は環式の炭化水素基および/または
これらの誘導体で、Rは炭素数2〜4のアルキレン基
で同じでも異なっていてもよく、nはアルキレンオキシ
ド基の平均付加モル数で0〜30の整数を示す)で表さ
れる基を示す]
【0005】
【発明の実施の形態】前記一般式(I)において、Rは
前記した一般式(II)または(III)で表される基
の中から選ばれる。これらの式に含まれるRは炭素数
1〜22飽和もしくは不飽和の直鎖、分岐鎖、又は環式
の炭化水素基および/またはこれらの誘導体を表す。具
体例としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基、ミリスチル基、ペンタデシル基、パルミチル
基、ステアリル基、ベヘニル基、イソプロピル基、イソ
ブチル基、t−ブチル基、1−メチルヘプチル基、2−
エチルヘキシル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オク
チニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、
ドデセニル基、ミリステニル基、ペンタデセニル基、パ
ルミテニル基、オレイル基、リノール基、リノレニル
基、アラキジル基、2−エチルヘキセニル基、フェニル
基、4−メチルフェニル基、ベンジル基及びp−メトキ
シベンジル基を挙げることができるが、特にメチル基、
エチル基、プロピル基が好ましい。Rは炭素数2〜4
のアルキレン基で同一でも異なっていてもよく、nはア
ルキレンオキシド基の平均付加モル数を表し0〜30の
整数であり、特に好ましくは0〜20である。
【0006】前記一般式(I)で表される1,3−ジオ
キソラン−2−オン誘導体は、一種又は二種以上の混合
物として使用することができる。また、前記一般式
(I)で表される1,3−ジオキソラン−2−オン誘導
体は、例えばアルキルグリセリルエーテルとジエチルカ
ーボネート等の炭酸エステルを用いるなど、既知の方法
で合成される。
【0007】前記一般式(I)で表される1,3−ジオ
キソラン−2−オン誘導体は、エナメルの高い除去性を
示し、爪や皮膚の脱脂や白化を起こすこともないので、
それ単独でエナメルリムーバーとして使用することが可
能であるが、エナメルリムーバー中に、好ましくは5〜
99重量%(以下、単に「%」で示す)、さらに好まし
くは10〜80%、特に好ましくは20〜60%配合さ
れる。
【0008】本発明のエナメルリムーバーには、本発明
の効果を損なわない範囲で、必要に応じて洗浄補強成分
や保湿力、安定力の向上剤を含有することができる。
【0009】洗浄補強成分としては、ケトン類、エステ
ル類および脂肪族アルコール類が挙げられる。ケトン
類、エステル類は、エナメルの主成分であるニトロセル
ロースの良い溶剤であり、また、脂肪族アルコールは、
本発明で使用される1,3−ジオキソラン−2−オン誘
導体のエナメルへの浸透性を向上させ、除去速度を高
め、さらに保湿力にも優れている。ケトン類としては、
具体的にはアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、エチルブチルケトン等
が挙げられ、エステル類としては、具体的には酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等が挙げられる。また、脂肪族アルコー
ルとしては、炭素数1〜6のものが好ましく、例えば、
メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロ
パノール、n−ブタノール、i−ブタノール、n−ペン
タノール、i−ペンタノール、n−ヘキサノールが挙げ
られるが、エタノール、n−プロパノール、i−プロパ
ノールがより好ましく、特にエタノールが好ましい。
【0010】洗浄補強成分は、それらの一種又は二種以
上を含有することが可能であり、エナメルリムーバー中
に好ましくは0.001〜40%、さらに好ましくは1
〜30%、特に好ましくは5〜20%配合される。
【0011】保湿力、安定性を向上させる成分として
は、エステル系油剤、界面活性剤、カルビトール類、ポ
リオール類、脂質類およびシリコーン類等が挙げられ
る。エステル系油剤としては、具体的には2−エチルヘ
キサン酸トリグリセライド、トリアセチン等のグリセリ
ンエステル類、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸
ジイソブチルおよびコハク酸ジプロピル等のジエステル
類、フタル酸ジエチルおよびフタル酸ジブチル等の芳香
族エステル類等が挙げられる。界面活性剤類としては、
具体的にはポリオキシエチレン(以下、「POE」と略
す)ソルビタンモノオレエート、POEソルビタンモノ
ステアレートおよびPOEソルビタンテトラオレエート
等のPOEソルビタン脂肪酸エステル類、POEソルビ
ットモノラウレート、POEソルビットモノオレエー
ト、POEソルビットペンタオレエートおよびPOEソ
ルビットモノステアレート等のPOEソルビット脂肪酸
エステル類、POEグリセリンモノステアレート、PO
EグリセリンモノイソステアレートおよびPOEグリセ
リントリイソステアレート等のPOEグリセリン脂肪酸
エステル類、POEラウリルエーテル、POEオレイル
エーテル、POEステアリルエーテル、POEベヘニル
エーテル、POE2−オクチルドデシルエーテルおよび
POEコレスタノールエーテル等のPOEアルキルエー
テル類、POEオクチルフェニルエーテル、POEノニ
ルフェニルエーテルおよびPOEジノニルフェニルエー
テル等のPOEアルキルフェニルエーテル類などの非イ
オン界面活性剤や、油脂アルコールの硫酸エステル、ス
ルホン化油、アルキルスルホナートなどの陰イオン界面
活性剤などが挙げられる。爪、皮膚に刺激を与えないこ
とから、非イオン界面活性剤が特に好ましい。
【0012】カルビトール類としては、具体的には、メ
チルカルビトール、エチルカルビトール、ジエチルカル
ビトールおよびブチルカルビトール等が挙げられる。ポ
リオール類としては、具体的には、グリセリン、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブチレ
ングリコール、イソプレングリコールおよびポリエチレ
ングリコール等が挙げられる。脂質類としては、具体的
には、白色ワセリン、パラフィンろう、流動パラフィ
ン、スクワランおよびポリエチレングリコール等の炭化
水素化合物、オリーブ油、ひまし油およびアーモンド油
のような植物性油脂、ラノリン等の動物性油脂およびエ
チルセルロース等が挙げられる。シリコーン類は直鎖状
でも環状でもよく、具体的には、メチルポリシロキサ
ン、メチルフェニルポリシロキサン、オクタメチルシク
ロテトラシロキサン、ジメチルシロキサンメチル等が挙
げられる。
【0013】上記エステル系油剤、界面活性剤類、カル
ビトール類、ポリオール類、脂質類およびシリコーン類
は、それらの一種又は二種以上を含有することが可能で
あり、エナメルリムーバー中に好ましくは0.001〜
40%、さらに好ましくは0.1〜30%配合される。
【0014】本発明のエナメルリムーバーには、本発明
の効果を損なわない範囲で、上記成分以外に更に必要に
応じて、通常のエナメルリムーバーに使用される他の成
分、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、微細セル
ロース、ポリメタクリル酸メチルにアルカリ性物質を添
加したもの等の増粘剤、ビタミンA、β−カロチン、ビ
タミンC、ビタミンE、トコフェロール等ビタミン類、
粘土鉱物、湿潤剤、香料、染料、顔料、防腐剤、紫外線
吸収剤および各種薬剤を混合しても良い。
【0015】本発明のエナメルリムーバーは、基材に含
浸させて用いてもよい。すなわち、本発明のエナメルリ
ムーバーを基材に含浸させ、エナメルが塗布された爪も
しくは付け爪からエナメルを除去することができる。基
材としては、具体的には、ポリアミド繊維、ポリエチレ
ンテレフタレート繊維、ポリオレフィン繊維、タンパク
繊維、セルロース繊維、グラファイト繊維およびカーボ
ン繊維で、基材形状としては、シート、パッド、綿、綿
棒、紙および不織布が考えられる。
【0016】
【発明の効果】本発明のエナメルリムーバーは、従来使
用されていた低沸点、高引火性物質を用いることなく、
爪に塗布されたエナメルを簡単に除去することができ、
エナメル除去後も爪や皮膚に白化等の損傷をあたえず、
さらには付け爪にも損傷与えず、満足な使用感を与え
る。
【0017】
【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、配合量はすべて重量%である。
【0018】参考例14−メチルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−
オンの製造 グリセリン−1−メチルエーテル95.5g(0.90
モル)に、炭酸ジエチル307.1g(2.6モル)と
水酸化ナトリウム2.5g(0.063モル)とを加
え、70℃に0.5時間保った後、副生するエタノール
と過剰の炭酸ジエチルとを留去しながら温度を120℃
から150℃まで徐々に昇温し、5時間反応させた。反
応終了後、濾過して水酸化ナトリウムを除去し、4−メ
チルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン7
7.2gを得た。収率は65%であった。
【0019】参考例24−プロピルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2
−オンの製造 グリセリン−1−メチルエーテルのかわりにグリセリン
−1−プロピルエーテルを用いた他は参考例1と同様の
方法で合成した。
【0020】実施例1〜4、比較例1〜3 市販のエナメルを塗布した爪を、表1に示す配合で調整
したエナメルリムーバーを含ませた脱脂綿で拭き、エナ
メルの除去力、爪の損傷度、マイルド感および溶剤臭の
なさを評価した。また、付け爪の損傷度に関しては、市
販の付け爪に市販のエナメルを塗布し、エナメルリムー
バーを含ませた脱脂綿で拭き取り、評価した。パネル6
名による使用テストした結果も併せて表1に示す。尚、
評価の基準は以下の通りである。
【0021】評価基準 ◎:非常に良い ○:やや良い △:やや悪い ×:非常に悪い
【0022】
【表1】
【0023】 実施例5 4−メチルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン 20% アセトン 5% i−プロパノール 10% POEエチレンステアリルエーテル 0.5% ブチルカルビトール 2% 流動パラフィン 2% 香料 0.1% 紫外線吸収剤 0.2% 精製水 残部
【0024】 実施例6 4−メチルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン 20% メチルエチルケトン 5% エタノール 10% 2−エチルヘキサン酸トリグリセライド 2% ひまし油 2% 麻セルロース 2% ビタミンA 1% アロエ 3% 精製水 残部
【0025】 実施例7 4−メチルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン 25% アセトン 5% n−プロパノール 10% アジピン酸ジイソブチル 5% POEグリセリンモノステアレート 2% 染料 0.1% 防腐剤 適量 精製水 残部
【0026】 実施例8 4−プロピルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン 20% 酢酸エチル 5% エタノール 10% フタル酸ジブチル 5% POEステアリルエーテル 5% エチレングリコール 5% スクワラン 5% 紫外線吸収剤 0.2% 精製水 残部
【0027】 実施例9 4−プロピルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン 20% 流動パラフィン 1% プロピレングリコールモノステアレート 0.75% POEステアリルエーテル 0.25% ナトリウムカルボキシメチルセルロース . 0.1% 香料 0.2% 精製水 残部
【0028】 実施例10 4−アセチルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン 20% セロソルブ 10% 香料 0.2% ビタミンE 2% 染料 0.01% オリーブ油 2% 精製水 残部
【0029】 実施例11 4−アセチルオキシエチレンオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン 20% エタノール 20% ヒドロキシプロピルセルロース 1% 香料 0.2% 精製水 残部
【0030】 実施例12 4−エチルオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン 20% 酢酸ブチル 5% ベンジルアルコール 5% 酢酸ブチルカルビトール 5% 1,3−ブチレングリコール 5% 精製水 残部
【0031】 実施例13 4−アセチルオキシエチレンオキシメチル−1,3−ジオキソラン−2−オン 20% エタノール 10% 1,3−ブチレングリコール 5% POEステアリルエーテル 5% スクワラン 5% 精製水 残部
【0032】実施例5〜13のエナメルリムーバーは、
いずれもエナメルを爪から完全に除去することができ
た。また、使用中、溶剤臭などの不快感を与えることな
く、除去後の爪には白化等の損傷は見られず、さらに付
け爪に塗布されたネイルエネメルを除去しても、付け爪
にも損傷を与えることなく、繰り返し使用することがで
きた。また、いずれの組成物も、ポリアミド繊維に含浸
させた場合でも、爪および付け爪に塗布されたエナメル
を効果的に除去することが可能であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 信之 東京都墨田区本所1丁目3番7号 ライオ ン株式会社内 Fターム(参考) 4C083 AA112 AA122 AC022 AC092 AC102 AC112 AC152 AC172 AC182 AC212 AC332 AC372 AC392 AC422 AC841 AC842 AD262 AD272 AD282 AD622 AD662 CC29 DD23 EE10

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記一般式(I)で表される1,3−ジオ
    キソラン−2−オン誘導体を含有するエナメルリムーバ
    ー。 【化1】 [式中Rは、下記一般式(II)または一般式(II
    I) 【化2】 【化3】 (前式中、Rは炭素数1〜22の飽和もしくは不飽和
    の直鎖、分岐鎖、又は環式の炭化水素基および/または
    これらの誘導体で、Rは炭素数2〜4のアルキレン基
    で同一でも異なっていてもよく、nはアルキレンオキシ
    ド基の平均付加モル数で0〜30の整数を示す)で表さ
    れる基を示す]
JP11158451A 1999-04-28 1999-04-28 エナメルリムーバー Pending JP2000319134A (ja)

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