JP2000317811A - スラリ供給装置とスラリ供給方法、及びポリッシング装置とポリッシング方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スラリの供給量を一定に保つことが可能なス
ラリ供給装置及び方法、及びポリッシング装置及びその
方法を提供すること。 【解決手段】 被研磨対象物にスラリ２２を供給するス
ラリ供給装置２０において、スラリ２２を蓄えるスラリ
タンク２１と、スラリタンク２１に蓄えられたスラリ２
２の汲み上げを行うポンプ２４と、ポンプ２４により吸
引されたスラリ２２の流量を計測する流量計２６と、流
量計２６での計測結果に基づいて、ポンプ２４の吸引作
動を制御するコントローラ２７と、流量計２６を通過し
たスラリ２２のスラリタンク２１側若しくは被研磨対象
物４１側への流通の切換えを行う三方弁２９と、を具備
することを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被研磨対象物を研
磨加工する場合に用いられるスラリ供給装置、スラリ供
給方法、及びポリッシング装置、ポリッシング方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】ＣＭＰ（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｍｅｃｈａ
ｎｉｃａｌ ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）装置は、半導体ウエ
ハや液晶ガラス基板等の被研磨対象物上に研磨液として
スラリを供給し、この被研磨対象物の研磨加工を行うも
のである。

【０００３】このＣＭＰ装置では、被研磨対象物上にス
ラリを供給するスラリ供給装置が一般に用いられてい
る。図４に、従来のスラリ供給装置１の構成を示す。ス
ラリ供給装置１は、スラリタンク２を有している。スラ
リタンク２は、内部にスラリ３を蓄えるものであり、こ
こにスラリ３を汲み上げるタンク側配管４が設けられて
いる。配管４はポンプ５に連結されており、それにより
タンク側配管４にスラリ３の吸引力が与えられる。

【０００４】そして、ポンプ５により吸引されたスラリ
３は、配管６を介して三方弁７に供給される。この三方
弁７は、配管６から供給されたスラリ３を、バルブの切
換えによりスラリタンク２側若しくはＣＭＰ装置（不図
示）側のいずれかに向けて流通可能な構成としている。

【０００５】三方弁７からスラリタンク２側に向かう側
には、戻し配管８が設けられており、また、三方弁７か
らＣＭＰ装置側に向かう側にも、供給配管９が設けられ
ている。

【０００６】このような構成では、スラリタンク２内に
存するスラリ３をポンプ５により汲み上げ、三方弁７を
介して供給配管９からＣＭＰ装置の研磨布上に供給して
いる。また、ＣＭＰ処理を行わない場合は、三方弁７の
ＣＭＰ装置への吐出側のバルブを閉じ、スラリタンク２
へのリターン側のバルブを開けて、スラリタンク２側に
スラリ３を循環させて戻している。

【０００７】この場合、スラリ３の流量調整は、以下の
ように行っている。

【０００８】まず、ポンプ５がモータコントロール式定
量ダイアフラムポンプの場合には、吐出されるスラリ３
を一定時間サンプリングし、その時の液量から流量を求
める。そして、この流量が既定値となるようにポンプ５
に供給する空気圧を調整を行い、以後モータ回転数を一
定に設定する。

【０００９】また、ポンプ５が空気圧駆動式ベローズポ
ンプの場合も、上述の場合と同様に吐出口から吐出させ
るスラリ３のサンプリングを行って、ポンプ５に供給す
る空気圧を調整し、以後空気圧を一定に設定している。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ようにポンプ５のモータ回転数を一定に設定した場合に
は、ポンプ５に突発的な流量変化が生じた場合に、対応
できないものとなる。また、配管４，６，８，９内部や
三方弁７内部では、スラリ３の堆積によって経時的な流
量変化が生じることがあるが、この流量変化も何等検知
できないため、スラリ流量が既定値からずれた状態で、
研磨布上への供給を行うといった不具合も生じている。
このため、被研磨対象物の研磨状態に変化をきたし、製
品不良や品質のばらつきが発生する等の問題を有してい
る。

【００１１】本発明は上記の事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、スラリの供給量を一定
に保つことが可能なスラリ供給装置及び方法、及びポリ
ッシング装置及びその方法を提供しようとするものであ
る。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明は、被研磨対象物にスラリを供
給するスラリ供給装置において、スラリを蓄える容器体
と、上記容器体に蓄えられたスラリを吸引する吸引手段
と、上記吸引手段により吸引されたスラリの流量を計測
する計測手段と、上記計測手段での計測結果に基づい
て、上記吸引手段により吸引されるスラリ量を制御する
制御手段と、上記スラリの容器体側或いは被研磨対象物
側への流通を切換える切換え手段と、を具備することを
特徴とするスラリ供給装置である。

【００１３】請求項２記載の発明は、被研磨対象物にス
ラリを供給するスラリ供給装置において、スラリを蓄え
る容器体と、上記容器体に蓄えられたスラリを吸引する
吸引手段と、上記吸引手段により吸引されたスラリの流
量を計測する計測手段と、上記スラリの流量調整を行う
流量調整手段と、上記計測手段での計測結果に基づい
て、上記流量調整手段によりスラリの流量調整を制御す
る制御手段と、上記スラリの容器体側或いは被研磨対象
物側への流通を切換える切換え手段と、を具備すること
を特徴とするスラリ供給装置である。

【００１４】請求項３記載の発明は、上記制御手段は、
上記計測手段で計測されたスラリの流量と、予め設定さ
れたスラリの設定流量との比較を行い、スラリの流量が
設定流量となるように制御することを特徴とする請求項
１記載のスラリ供給装置である。

【００１５】請求項４記載の発明は、上記計測手段は、
スラリの接液部が樹脂より構成されていることを特徴と
する請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のスラリ供
給装置である。

【００１６】請求項５記載の発明は、上記切換え手段
は、スラリの接液部が樹脂より構成されていることを特
徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のスラ
リ供給装置である。

【００１７】請求項６記載の発明は、上記計測手段に
は、スラリの流量が設定値から大きく外れた場合に警報
を発して制御手段に制御信号を伝送する警報手段が接続
されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のい
ずれかに記載のスラリ供給装置である。

【００１８】請求項７記載の発明は、被研磨対象物にス
ラリを供給するスラリ供給方法において、スラリが蓄え
られた容器体よりスラリを吸引手段で吸引する吸引工程
と、上記吸引工程により吸引されたスラリの流量を計測
する流量計測工程と、上記流量計測工程でのスラリの流
量計測結果に基づいて、スラリの流量を制御調整する制
御工程と、上記制御工程により流量が制御されたスラリ
の容器体側或いは被研磨対象物側への流通を切換える切
換え工程と、を具備することを特徴とするスラリ供給方
法である。

【００１９】請求項８記載の発明は、上記制御工程は、
上記吸引手段の駆動を制御調整することにより行うこと
を特徴とする請求項７記載のスラリ供給方法である。

【００２０】請求項９記載の発明は、上記制御工程は、
スラリの流量調整を行う流量調整手段の駆動を制御する
ことにより行うことを特徴とする請求項７記載のスラリ
供給方法である。

【００２１】請求項１０記載の発明は、上記制御工程
は、上記流量計測工程で計測されたスラリの流量と、予
め設定されたスラリの設定流量との比較を行い、スラリ
の流量が設定流量となるように制御することを特徴とす
る請求項７乃至請求項９のいずれかに記載のスラリ供給
方法である。

【００２２】請求項１１記載の発明は、被研磨対象物と
その研磨面と対向配置されたテーブル上面に取り付けら
れた研磨布とを相対的に押圧してポリッシング加工を行
うポリッシング装置において、スラリを蓄える容器体
と、上記容器体に蓄えられたスラリを吸引する吸引手段
と、上記吸引手段により吸引されたスラリの流量を計測
する計測手段と、上記計測手段での計測結果に基づい
て、上記吸引手段により吸引されるスラリ量を制御する
制御手段と、上記スラリの容器体側或いは被研磨対象物
側への流通を切換える切換え手段と、上記被研磨対象物
を保持する保持手段と、上記保持手段に保持された被研
磨対象物と上記研磨布とを相対的に押圧すると共に、相
対的に回転駆動させる駆動手段と、を具備することを特
徴とするポリッシング装置である。

【００２３】請求項１２記載の発明は、上記制御手段
は、上記計測手段で計測されたスラリの流量と、予め設
定されたスラリの設定流量との比較を行い、スラリの流
量が設定流量となるように制御することを特徴とする請
求項１１記載のポリッシング装置である。

【００２４】請求項１３記載の発明は、上記計測手段
は、スラリの接液部が樹脂より構成されていることを特
徴とする請求項１１又は請求項１２記載のスラリ供給装
置である。

【００２５】請求項１４記載の発明は、上記切換え手段
は、スラリの接液部が樹脂より構成されていることを特
徴とする請求項１１乃至請求項１３のいずれかに記載の
スラリ供給装置である。

【００２６】請求項１５記載の発明は、上記計測手段に
は、スラリの流量が設定値から大きく外れた場合に警報
を発して制御手段に制御信号を伝送する警報手段が接続
されていることを特徴とする請求項１１乃至請求項１４
のいずれかに記載のスラリ供給装置である。

【００２７】請求項１６記載の発明は、保持手段に保持
された被研磨対象物とその被研磨対象物と対向配置され
た研磨布とを相対的に押圧し、この研磨布に対して保持
手段を相対的に回転駆動させてポリッシング加工を行う
ポリッシング方法において、スラリが蓄えられた容器体
よりスラリを吸引手段で吸引する吸引工程と、上記吸引
工程により吸引されたスラリの流量を計測する流量計測
工程と、上記流量計測工程でのスラリの流量計測結果に
基づいて、上記吸引手段により吸引されるスラリ量を制
御する制御工程と、上記制御工程により流量が制御され
たスラリの容器体側或いは被研磨対象物側への流通を切
換える切換え工程と、上記切換え工程によりスラリが被
研磨対象物側に供給された場合に、上記被研磨対象物の
ポリッシング加工を行うポリッシング加工工程と、を具
備することを特徴とするポリッシング方法である。

【００２８】上記手段を講じた結果、次のような作用が
生じる。請求項１の発明によると、計測手段により、ス
ラリの流量が計測され、この計測手段での計測結果に基
づいて吸引手段により吸引されるスラリ量が制御手段に
より制御されるので、スラリの流量を適宜調整可能とな
る。すなわち、所望の吐出量にスラリの流量を設定可能
となると共に、スラリの流量を一定にする制御も容易に
行える。

【００２９】請求項２の発明によると、計測手段により
スラリの流量が計測され、この流量計測に基づいて流量
調整手段でスラリ量の流量調整を行うので、スラリの流
量を適宜に設定可能となる。

【００３０】請求項３、請求項１０及び請求項１２の発
明によると、制御手段は、計測手段で計測されたスラリ
の流量と、予め設定されたスラリの設定流量との比較を
行い、スラリの流量が設定流量となるように制御を行う
ので、スラリの流量が常に一定となるように制御調整す
ることが可能となる。それによって、被研磨対象物への
スラリの供給量を一定に設定することが可能となり、被
研磨対象物の研磨加工にばらつきが生じるのを防止する
ことが可能となる。すなわち、品質にばらつきのない安
定した研磨加工を行うことが可能となる。

【００３１】請求項４、請求項１３の発明によると、計
測手段は、スラリの接液部が樹脂より構成されているの
で、計測手段内部をスラリが流通しても、金属汚染が発
生するのを防止することが可能となる。

【００３２】請求項５、請求項１４の発明によると、切
換え手段は、スラリの接液部が樹脂より構成されている
ので、切換え手段内部をスラリが流通しても、金属汚染
が発生するのを防止することが可能となる。

【００３３】請求項６、請求項１５の発明によると、計
測手段においてスラリの流量が設定値から大きく外れた
場合、警報手段によって警報を発することにより作業者
等に不良が生じたのを素早く知らせることが可能とな
る。

【００３４】また、警報手段は、制御手段に制御信号を
伝送するように接続されているので、スラリの流量が設
定値から大きく外れて処理不良の原因となるのを防止す
ることが可能となる。

【００３５】請求項７の発明によると、流量計測工程で
スラリの流量を計測した後に、制御工程でスラリの流量
計測結果に基づいて吸引手段を制御駆動すれば、被研磨
対象物に対して適宜の分量だけスラリの供給を行うこと
が可能となる。

【００３６】請求項８、請求項９の発明によると、制御
工程は、吸引手段若しくは流量調整手段の駆動を制御す
るので、スラリの流量を適宜の値に設定することが可能
となっている。

【００３７】請求項１１の発明によると、ポリッシング
装置において、スラリの流量を計測手段で計測し、この
計測手段での計測結果に基づいて吸引手段により吸引さ
れるスラリ量が制御されるため、吸引手段の作動を適宜
に制御すれば、被研磨対象物へのスラリの供給を良好に
することが可能となる。このため、保持手段に保持され
た被研磨対象物を、研磨布に対して駆動手段で押圧して
保持手段を回転駆動させた場合、被研磨対象物へのスラ
リの供給を良好にし、被研磨対象物にばらつきが生じる
のを防止することができる。すなわち、品質にばらつき
のない、安定した研磨加工を行うことが可能となる。

【００３８】請求項１６の発明によると、ポリッシング
加工工程において、スラリが制御工程で適宜に制御され
て供給される。このため、被研磨対象物のポリッシング
加工を精度良く行うことが可能となる。

【００３９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図１及び図２に基づいて説明する。

【００４０】なお、以下の説明では、スラリ供給装置２
０の構成を説明すると共に、このスラリ供給装置２０を
用いたスラリ供給方法、及びポリッシング装置１０とこ
のポリッシング装置１０を用いたポリッシング方法につ
いても説明する。

【００４１】なお、このポリッシング装置１０は、スラ
リ供給装置２０とＣＭＰ装置４０とが組み合わされて構
成されている。

【００４２】図１は、本発明のスラリ供給装置２０の構
成を示す概略図である。スラリ供給装置２０は、スラリ
タンク２１を有している。スラリタンク２１には、内部
に十分な分量のスラリ２２が蓄えられている。そして、
蓄えられたスラリ２２の吸引を行うため、下端に開口端
部が位置するように設けられた配管２３を有している。
そしてこの配管２３が、吸引手段であるポンプ２４に接
続されている。

【００４３】ポンプ２４は、例えばモータ駆動式定量ダ
イアフラムポンプである。モータ駆動式定量ダイアフラ
ムポンプは、その材質を例えばフッ素系樹脂とするダイ
アフラムがスラリ２２の流動方向に平行となるように取
り付けられている。このダイアフラムには、流動方向に
垂直となるようにシャフトが取り付けられている。シャ
フトは、往復運動自在に設けられており、それによって
ダイアフラムを配管内部に伸縮させ、スラリ２２の吸引
力を生じさせるものである。

【００４４】ポンプ２４により吸引されたスラリ２２
は、配管２５を介して流量計２６に供給される。流量計
２６は、例えば超音波流量計であり、超音波の付与によ
り流量計２６を通過するスラリ２２の流量を計測するも
のである。なお、流量計２６は、超音波流量計には限ら
れず、配管２５内を流通するスラリ２２の流量を良好に
検出できるものであれば、如何なる流量計であっても構
わない。

【００４５】この流量計２６には、コントローラ２７が
接続されている。また、このコントローラ２７は、ポン
プ２４に接続されている。このため、流量計２６で流量
が検出されると、それに基づいた検出信号がコントロー
ラ２７に伝送され、コントローラ２７で検出信号に基づ
く検出結果を判定する。そして、判定の結果、スラリ２
２の流量が既定値となっていない場合は、コントローラ
２７が制御信号をポンプ２４に向かい発する。

【００４６】この制御信号に基づいて、ポンプ２４の内
部に設けられた回転モータ等の駆動手段が作動して制御
駆動される。

【００４７】ポンプ２４の制御駆動により、配管２５内
部ではスラリ２２の流量が調整される。そして、配管２
５を流通するスラリ２２の流量が再び流量計２６で検出
される。この検出の結果、スラリ２２の流量が既定値の
範囲内であると判定されたときは、コントローラ２７は
作動しない。しかし、スラリ２２の流量が既定値の範囲
内にないと判定されたときは、再びコントローラ２７か
らポンプ２４に向かって制御信号が発せられ、再びポン
プ２４が制御駆動される。

【００４８】このようなフィードバック制御を、スラリ
２２の流量が既定値の範囲内に収まるまで行う。

【００４９】なお、流量計２６には、警報手段２８が接
続されている。この警報手段２８は、スラリ２２の流量
が設定値範囲から大きく外れて処理不良の原因となるよ
うな場合、警報を発する。このとき、コントローラ２７
は、ポンプ２４に制御信号を送り、ポンプ２４の作動を
停止すべく作動する。

【００５０】しかしながら、コントローラ２７は、これ
以外の作動を行っても構わない。例えば、被処理対象物
４１の処理効果を確認し、効果が適正値以下なら再処理
を行う等の適切な処理を迅速に行えるようにしたり、ス
ラリ２２をスラリタンク２１から被処理対象物４１に供
給する供給ラインのパージを行い、スラリ供給を再開す
ることで、既定値範囲内への回復を図るように構成して
も構わない。この場合、再度既定値の範囲から外れてい
るならフィードバック制御を行うように構成しても構わ
ない。

【００５１】流量計２６を通過したスラリ２２は、配管
２５を介して三方弁２９へと送られる。三方弁２９は、
内部に弁を有しており、この弁を作動させることによっ
てＣＭＰ装置４０側へ向かう供給配管３０、及びスラリ
タンク２１側に向かう戻し配管３１にスラリ２２の流通
を切り替えることを可能としている。

【００５２】すなわち、ＣＭＰ装置４０側にスラリ２２
を流通させる場合には、スラリタンク２１側の弁を閉じ
てＣＭＰ装置４０側の弁を開放する。それによって、Ｃ
ＭＰ装置４０側に、スラリ２２が供給されるようにな
る。また、これとは逆に、スラリタンク２１側にスラリ
２２を戻す場合には、ＣＭＰ装置４０側の弁を閉じてス
ラリタンク２１側の弁を開放する。それによって、スラ
リタンク２１から汲み上げられたスラリ２２が再びスラ
リタンク２１に戻り、スラリ２２が循環する構成とな
る。

【００５３】ここで、流量計２６内部の接液部は、例え
ばフッ素樹脂のような樹脂より形成されている。また、
流量計２６と同様に、三方弁２９の接液部も例えばフッ
素樹脂のような樹脂より形成されている。

【００５４】供給配管３０を通過したスラリ２２は、Ｃ
ＭＰ装置４０に供給される。ＣＭＰ装置４０は、被研磨
対象物４１を保持するキャリア４２を有しており、この
キャリア４２の保持部４３で被研磨対象物４１を保持す
るように構成されている。

【００５５】キャリア４２は、モータ４４を有してお
り、このモータ４４の回転駆動によって保持部４３で保
持された被研磨対象物４１を後述する研磨布４６との間
で相対的に回転駆動させる構成となっている。

【００５６】キャリア４２と対向配置してテーブル４５
が設けられている。テーブル４５の上面には、不織布や
発泡ポリウレタンを材質とする研磨布４６が貼付され
る。そして、上記キャリア４２に保持された被研磨対象
物４１を押し付けて、キャリア４２及びテーブル４５の
両方を回転駆動させる。それによって、被研磨対象物４
１の平坦加工が為される。

【００５７】以上のような構成を有するスラリ供給装置
２０とこれを用いたスラリ供給方法、及びポリッシング
装置１０とこれを用いたポリッシング方法によれば、流
量計２６を設けたことにより、スラリ２２の流量を検出
することが可能となる。このため、流量計２６で流量が
検出されると、その検出信号がコントローラ２７に送ら
れ、ポンプ２４の駆動を制御する。それにより、配管２
３，２５、及び供給配管３０を流通するスラリの流量を
一定に保つことが可能となる。

【００５８】このため、被研磨対象物４１を研磨加工す
る場合、被研磨対象物４１の研磨加工にばらつきを生じ
させることなく、品質にばらつきのない安定した研磨加
工を行うことが可能となる。

【００５９】また、流量計２６は、その接液部が樹脂
（例えばフッ素系の樹脂）より構成されているので、流
量計２６内部をスラリが流通しても、流量計２６内部に
スラリ２２が堆積する量を少なくすることができる。さ
らに、接液部がフッ素系樹脂で構成されているので、金
属汚染が発生するのを防止することが可能となる。

【００６０】これは、流量計２６以外にも、三方弁２９
や配管２３，２５，供給配管３０、戻し配管３１の接液
部を樹脂で構成した場合にも、同様の作用効果を得るこ
とが可能となっている。

【００６１】さらに、流量計２６でのスラリ２２の流量
を計測した後に、コントローラ２７でスラリ２２の流量
計測結果に基づいてポンプ２４を制御駆動すれば、被研
磨対象物４１に対して常に一定流量のスラリ２２を供給
することが可能となる。

【００６２】そして、このようなスラリ供給装置２０を
用いて被研磨対象物４１にスラリ２２を供給すれば、被
研磨対象物４１の安定した研磨加工を行うことが可能と
なっている。

【００６３】また、流量計２６は、警報手段２８が接続
されているので、スラリ２２の流量が設定値範囲から大
きく外れた場合、作業者等にそれを知らせることが可能
となる。このため、スラリ２２を無駄に浪費せずに済
む。

【００６４】また、警報手段２８は、コントローラ２７
に接続されているので、スラリ２２の流量が設定値範囲
から大きく外れて処理不良の原因となるのを防止するこ
とが可能となっている。

【００６５】以上、本発明の一実施の形態について説明
したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となってい
る。以下それについて述べる。

【００６６】上記実施の形態では、三方弁２９を設けた
構成について説明したが、それ以外の構成としても構わ
ない。例えば、供給配管３０側と戻し配管３１側に夫々
独立に弁を設け、これらの開閉によってスラリ２２の流
通を切り替えても構わない。

【００６７】また、ポンプ２４と流量計２６の間に、図
３に示すようにモータ駆動ダイアフラム式流量制御バル
ブ５０を設ける構成としても構わない。このモータ駆動
ダイアフラム式流量制御バルブ５０は、モータの駆動に
よりダイアフラムを駆動させてスラリ２２の流量を調整
するものである。

【００６８】このモータ駆動ダイアフラム式流量制御バ
ルブ５０にコントローラ２７を接続し、ポンプ２４の駆
動制御ではなく、モータ駆動ダイアフラム式流量制御バ
ルブ５０の駆動制御することにより、スラリ２２の流量
調整を行う構成としても構わない。

【００６９】その他、本発明の要旨を変更しない範囲に
おいて、種々変形可能となっている。

【００７０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
計測手段により、スラリの流量が計測され、この計測手
段での計測結果に基づいて吸引手段の吸引作動が制御さ
れるので、スラリの流量を適宜調整可能となる。すなわ
ち、所望の流量にスラリの流量を設定可能となると共
に、スラリの流量を一定にする制御も容易に行える。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係わるスラリ供給装置
の構成を示す概略図。

【図２】同実施の形態に係わるモータコントロール式ダ
イアフラムポンプの構成を示す図。

【図３】本発明の変形例に係わるスラリ供給装置の構成
を示す概略図。

【図４】従来のスラリ供給装置の構成を示す概略図。

【符号の説明】

１０…ポリッシング装置 ２０…スラリ供給装置 ２１…スラリタンク ２２…スラリ ２４…ポンプ ２６…流量計 ２７…コントローラ ２８…警報手段 ２９…三方弁 ３０…供給配管 ３１…戻し配管 ４０…ＣＭＰ装置 ４１…被研磨対象物

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平林 英明 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術研究所内 Ｆターム(参考） 3C058 AA07 AC04 BA09 BC03 CA01 CB06 DA17

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被研磨対象物にスラリを供給するスラリ
   供給装置において、 スラリを蓄える容器体と、 上記容器体に蓄えられたスラリを吸引する吸引手段と、 上記吸引手段により吸引されたスラリの流量を計測する
   計測手段と、 上記計測手段での計測結果に基づいて、上記吸引手段に
   より吸引されるスラリ量を制御する制御手段と、 上記スラリの容器体側或いは被研磨対象物側への流通を
   切換える切換え手段と、 を具備することを特徴とするスラリ供給装置。
2. 【請求項２】 被研磨対象物にスラリを供給するスラリ
   供給装置において、 スラリを蓄える容器体と、 上記容器体に蓄えられたスラリを吸引する吸引手段と、 上記吸引手段により吸引されたスラリの流量を計測する
   計測手段と、 上記スラリの流量調整を行う流量調整手段と、 上記計測手段での計測結果に基づいて、上記流量調整手
   段によりスラリの流量調整を制御する制御手段と、 上記スラリの容器体側或いは被研磨対象物側への流通を
   切換える切換え手段と、 を具備することを特徴とするスラリ供給装置。
3. 【請求項３】 上記制御手段は、上記計測手段で計測さ
   れたスラリの流量と、予め設定されたスラリの設定流量
   との比較を行い、スラリの流量が設定流量となるように
   制御することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の
   スラリ供給装置。
4. 【請求項４】 上記計測手段は、スラリの接液部が樹脂
   より構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求
   項３のいずれかに記載のスラリ供給装置。
5. 【請求項５】 上記切換え手段は、スラリの接液部が樹
   脂より構成されていることを特徴とする請求項１乃至請
   求項４のいずれかに記載のスラリ供給装置。
6. 【請求項６】 上記計測手段には、スラリの流量が設定
   値から大きく外れた場合に警報を発して制御手段に制御
   信号を伝送する警報手段が接続されていることを特徴と
   する請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のスラリ供
   給装置。
7. 【請求項７】 被研磨対象物にスラリを供給するスラリ
   供給方法において、 スラリが蓄えられた容器体よりスラリを吸引手段で吸引
   する吸引工程と、 上記吸引工程により吸引されたスラリの流量を計測する
   流量計測工程と、 上記流量計測工程でのスラリの流量計測結果に基づい
   て、スラリの流量を制御調整する制御工程と、 上記制御工程により流量が制御されたスラリの容器体側
   或いは被研磨対象物側への流通を切換える切換え工程
   と、 を具備することを特徴とするスラリ供給方法。
8. 【請求項８】 上記制御工程は、上記吸引手段の駆動を
   制御調整することにより行うことを特徴とする請求項７
   記載のスラリ供給方法。
9. 【請求項９】 上記制御工程は、スラリの流量調整を行
   う流量調整手段の駆動を制御することにより行うことを
   特徴とする請求項７記載のスラリ供給方法。
10. 【請求項１０】 上記制御工程は、上記流量計測工程で
    計測されたスラリの流量と、予め設定されたスラリの設
    定流量との比較を行い、スラリの流量が設定流量となる
    ように制御することを特徴とする請求項７乃至請求項９
    のいずれかに記載のスラリ供給方法。
11. 【請求項１１】 被研磨対象物とその研磨面と対向配置
    されたテーブル上面に取り付けられた研磨布とを相対的
    に押圧してポリッシング加工を行うポリッシング装置に
    おいて、 スラリを蓄える容器体と、 上記容器体に蓄えられたスラリを吸引する吸引手段と、 上記吸引手段により吸引されたスラリの流量を計測する
    計測手段と、 上記計測手段での計測結果に基づいて、上記吸引手段に
    より吸引されるスラリ量を制御する制御手段と、 上記スラリの容器体側或いは被研磨対象物側への流通を
    切換える切換え手段と、 上記被研磨対象物を保持する保持手段と、 上記保持手段に保持された被研磨対象物と上記研磨布と
    を相対的に押圧すると共に、相対的に回転駆動させる駆
    動手段と、 を具備することを特徴とするポリッシング装置。
12. 【請求項１２】 上記制御手段は、上記計測手段で計測
    されたスラリの流量と、予め設定されたスラリの設定流
    量との比較を行い、スラリの流量が設定流量となるよう
    に制御することを特徴とする請求項１１記載のポリッシ
    ング装置。
13. 【請求項１３】 上記計測手段は、スラリの接液部が樹
    脂より構成されていることを特徴とする請求項１１又は
    請求項１２記載のスラリ供給装置。
14. 【請求項１４】 上記切換え手段は、スラリの接液部が
    樹脂より構成されていることを特徴とする請求項１１乃
    至請求項１３のいずれかに記載のスラリ供給装置。
15. 【請求項１５】 上記計測手段には、スラリの流量が設
    定値から大きく外れた場合に警報を発して制御手段に制
    御信号を伝送する警報手段が接続されていることを特徴
    とする請求項１１乃至請求項１４のいずれかに記載のス
    ラリ供給装置。
16. 【請求項１６】 保持手段に保持された被研磨対象物と
    その被研磨対象物と対向配置された研磨布とを相対的に
    押圧し、この研磨布に対して保持手段を相対的に回転駆
    動させてポリッシング加工を行うポリッシング方法にお
    いて、 スラリが蓄えられた容器体よりスラリを吸引手段で吸引
    する吸引工程と、 上記吸引工程により吸引されたスラリの流量を計測する
    流量計測工程と、 上記流量計測工程でのスラリの流量計測結果に基づい
    て、上記吸引手段により吸引されるスラリ量を制御する
    制御工程と、 上記制御工程により流量が制御されたスラリの容器体側
    或いは被研磨対象物側への流通を切換える切換え工程
    と、 上記切換え工程によりスラリが被研磨対象物側に供給さ
    れた場合に、上記被研磨対象物のポリッシング加工を行
    うポリッシング加工工程と、 を具備することを特徴とするポリッシング方法。