JP2023040637A - 液体供給システム - Google Patents

Abstract

【課題】流量制御機器の校正又は調整にかかる時間を抑制できる液体供給システムを提供することを目的とする。【解決手段】液体供給システム１００の液体供給装置１０は、供給ライン１１と、第１流量制御弁１２と、第１流量計１３と、第１流量制御弁１２の開度を閉ループ制御する第１コントローラ１４と、を有する第１ＣＬＣユニットＣ１と、を備える。液体供給システム１００の校正装置２０は、第１ＣＬＣユニットＣ１より上流側の分岐部１６に接続する校正ライン２１と、第２流量制御弁２２と、第２流量計２３と、第２流量制御弁２２の開度を閉ループ制御する第２コントローラ２４と、を有する第２ＣＬＣユニットＣ２と、を備える。【選択図】図１

Description

本発明は、液体供給システムに関する。

従来、ウェーハを研磨するポリッシング装置に備わる液体供給装置において、ワークに作用する研磨テーブル上に供給するスラリーや、研磨パッド洗浄機構のＤＩＷ（Ｄｅｉｏｎｉｚｅｄ ｗａｔｅｒ）等の流量は、基準値を設定するレシピに基づいて、流量制御機器によって制御されることがあった。
流量制御機器としては、指令値に応じて流路の開度を調整する比例制御バルブや、上流側の流量又は圧力の変動に関わらず、指令値に応じて下流側の流量を制御するＣＬＣ（Ｃｌｏｓｅｄ Ｌｏｏｐ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）がある。

特開２００３－３０３０２３号公報

しかしながら、従来の液体供給装置は、流量制御機器の品質にばらつきがある。また、流量制御機器を校正（キャリブレーション）又は調整するには、ワークに液体を供給する通常のプロセスを停止する必要があり、ウェーハ製造の歩留まりを低下させる要因となる場合があった。そして、ＣＬＣ等の流量制御機器の校正又は調整には、相応の時間を要するものであった。

本発明は、流量制御機器の校正又は調整にかかる時間を抑制できる液体供給システムを提供することを目的とする。

本発明は、以下の態様を有する。
（１）本発明に係る一態様の液体供給システムは、液体をウェーハ加工機に供給する液体供給装置を備える液体供給システムであって、前記液体供給システムは、校正装置を有し、前記液体供給装置は、供給ライン、及び、第１流量制御弁と、前記供給ラインを流れる液体の第１測定流量を測定する第１流量計と、前記第１測定流量及び第１流量指令値に基づいて前記第１流量制御弁の開度を閉ループ制御する第１コントローラと、を有する第１ＣＬＣユニット、を備え、前記校正装置は、前記第１ＣＬＣユニットより上流側の分岐部に接続する校正ライン、及び、第２流量制御弁と、前記校正ラインを流れるダミー液体の第２測定流量を測定する第２流量計と、前記第２測定流量及び第２流量指令値に基づいて前記第２流量制御弁の開度を閉ループ制御する第２コントローラと、を有する第２ＣＬＣユニット、を備える。
（２）上記（１）において、前記液体供給装置は、前記分岐部より上流側に設けられる開閉弁を備え、前記校正装置は、前記開閉弁を閉制御した後に、前記第１ＣＬＣユニット及び前記第２ＣＬＣユニットに前記ダミー液体を供給するダミー液体供給ポンプを駆動する校正モードに切り替え可能な校正コントローラ、を備えてよい。
（３）上記（２）において、前記校正コントローラは、前記校正モードにおいて、前記第２流量指令値に基づく前記第２測定流量を標準とする前記第１測定流量の誤差を算出する誤差算出部と、前記第２流量指令値に基づいて前記誤差を修正して前記第１流量計を調整する誤差調整部と、を備えてよい。
（４）上記（３）において、前記校正コントローラは、誤差閾値を記憶する記憶部と、前記誤差が前記誤差閾値を超える場合にアラートを出力する報知部と、を備えてよい。

本発明によれば、流量制御機器の校正又は調整にかかる時間を抑制できる液体供給システムを提供できる。

第１実施形態に係る液体供給システムの説明図である。 第２実施形態に係る液体供給システムの説明図である。 第３実施形態に係る液体供給システムの説明図である。

［第１実施形態］
以下、第１実施形態に係る液体供給システム１００を説明する。図１は、第１実施形態に係る液体供給システム１００の説明図である。

（液体供給システム）
図１に示すように、第１実施形態に係る液体供給システム１００は、液体Ｌをウェーハ加工機Ｔとなるウェーハ研磨用ターンテーブルに供給する液体供給装置１０を備えるシステムに適用できる。
ウェーハ研磨用ターンテーブルで研磨するウェーハは、例えば、半導体の素材となるシリコンウェーハである。
液体Ｌは、例えば、ウェーハを研磨する研磨パッドに供給するＣＭＰスラリーであってよい。ＣＭＰスラリーは、例えば、化学薬品中に研磨剤成分を分散させた液体である。
液体Ｌは、例えばウェーハを洗浄するための薬液であってよい。薬液は、例えば、塩酸、硫酸等である。
液体Ｌは、例えば、研磨パッド又はウェーハを洗浄するためのＤＩＷであってよい。
ウェーハ研磨用ターンテーブルは、回転軸に垂直で平坦な上面を有する回転台である。ウェーハ研磨用ターンテーブルは、ウェーハの表面を化学的機械的に研磨して平坦化仕上げを行うＣＭＰ装置に備えられている。
液体供給システム１００は、液体供給装置１０と校正装置２０とを備えている。

（液体供給装置）
液体供給装置１０は、供給ライン１１、及び、第１流量制御弁１２と、供給ライン１１を流れる液体Ｌの第１測定流量ｑ１を測定する第１流量計１３と、第１測定流量ｑ１及び第１流量指令値Ｃｑ１に基づいて第１流量制御弁１２の開度を閉ループ制御する第１コントローラ１４と、を有する第１ＣＬＣユニットＣ１、を備えている。なお、第１流量計１３は、供給ライン１１の液体Ｌの流量を超音波を利用して測定する、いわゆる超音波流量計であってよい。

液体供給装置１０は、後述する校正装置２０が接続される分岐部１６より上流側に設けられる開閉弁１７を備えている。これにより、後述する校正モードにおいて、校正装置２０から分岐部１６に合流するダミー液体ＤＬを、供給ライン１１において上流に逆流させることなく、下流に向けて流すことができる。よって、校正モードにおいて、校正ライン２１を流れるダミー液体ＤＬの流量と供給ライン１１を流れるダミー液体ＤＬの流量とを同じにできる。

液体供給装置１０は、適宜、第１ＣＬＣユニットＣ１より上流側に、メイン圧力計１８、フィルタ１９、エントランスバルブ１０ｖ１、メンテナンスバルブ１０ｖ２を備えている。また、液体供給装置１０は、適宜、第１ＣＬＣユニットＣ１より下流側に、イグジットバルブ１０ｖ３を備えている。また、液体供給装置１０は、適宜、供給ライン１１に液体Ｌを供給する不図示の液体供給ポンプを備えている。

（フラッシング装置）
液体供給装置１０は、適宜、供給ライン１１、ウェーハ又はウェーハ加工機Ｔとなるウェーハ研磨用ターンテーブルを洗浄するＤＩＷを供給ライン１１に流すためのフラッシング装置３０を備えていてよい。
フラッシング装置３０は、供給ライン１１の中間部Ｍに合流している。
フラッシング装置３０は、適宜、フラッシングライン３１と、バルブ３２と、逆止弁３３と、を備えている。
フラッシング装置３０は、適宜、ＤＩＷを供給する不図示のポンプを備えている。

（校正装置）
液体供給システム１００は、校正装置２０を有している。
校正装置２０は、第１ＣＬＣユニットＣ１より上流側の分岐部１６に接続する校正ライン２１、及び、第２流量制御弁２２と、校正ライン２１を流れるダミー液体ＤＬの第２測定流量ｑ２を測定する第２流量計２３と、第２測定流量ｑ２及び第２流量指令値Ｃｑ２に基づいて第２流量制御弁２２の開度を閉ループ制御する第２コントローラ２４と、を有する第２ＣＬＣユニットＣ２、を備えている。このように、液体供給システム１００は、液体供給装置１０と、校正装置２０と、を有している。これにより、流量制御機器（第１ＣＬＣユニットＣ１）を校正又は調整する都度、データロガー、配管部品、インターフェース、ソフトフェア等を含む特別な校正装置を設計して検証する必要をなくすことができる。そして、液体Ｌをウェーハに作用させるプロセス期間を除くアイドリング期間に、液体供給装置１０に備わる第１ＣＬＣユニットＣ１の第１流量計１３を、液体供給装置１０に接続された校正装置２０に備わる第２ＣＬＣユニットＣ２の第２流量計２３を用いて校正及び調整できる。よって、流量制御機器（第１ＣＬＣユニットＣ１）の校正又は調整にかかる時間を抑制できる。
なお、この際、供給ライン１１と、ダミー液体ＤＬが流れる校正ライン２１とを、別系統とし、供給ライン１１に液体Ｌを流すポンプ（前述の供給ライン１１に液体Ｌを供給する液体供給ポンプ）等の供給源と、校正ライン２１にダミー液体ＤＬを流すポンプ（後述のダミー液体供給ポンプ２５）等の供給源とを、それぞれ独立させて設けると、校正ライン２１に流れるダミー液体ＤＬは供給源の設定に沿った流量となり、流量変動を抑えやすい。
なお、処理装置として処理時に利用するポンプ（前述の供給ライン１１に液体Ｌを供給する液体供給ポンプ）、工場備え付けの処理液送水施設につながる送水管、又は、処理時に利用する薬液供給源から供給する場合は、液体供給システム１００以外への供給に伴う校正ライン２１に流れるダミー液体ＤＬの設定流量の変動が生じるが、その変動が校正に影響ない範囲に抑えられるのであれば、校正ライン２１にダミー液体ＤＬを流すための後述のダミー液体供給ポンプ２５を独立して設けずに、処理装置として処理時に利用するポンプ（前述の供給ライン１１に液体Ｌを供給する液体供給ポンプ）、工場備え付けの処理液送水施設につながる送水管、又は、処理時に利用する薬液供給源を利用して、ダミー液体ＤＬを校正ライン２１に流してもよい。この場合、供給ライン１１（通常の送液用配管）と校正ライン２１とが並列になるように校正ライン２１を含む治具を供給ライン１１に接続し、その接続部に三方弁等のバルブを設け、そのバルブのポートを切り替えることにより、供給ライン１１に液体Ｌを流す場合と校正ライン２１にダミー液体ＤＬを流す場合とで、切り替えられるようにしてもよい。

ここで、第２流量計２３は、例えば、コリオリ式流量計のように、第１流量計１３より精度のよい流量計であることが好ましい。これにより、精度のよい第２流量計２３を標準として、第１流量計１３を正確に校正できる。

校正装置２０は、開閉弁１７を閉制御した後に、第１ＣＬＣユニットＣ１及び第２ＣＬＣユニットＣ２にダミー液体ＤＬを供給するダミー液体供給ポンプ２５を駆動する校正モードに切り替え可能な校正コントローラＣ３、を備えている。

校正コントローラＣ３は、校正モードにおいて、第２流量指令値Ｃｑ２に基づく第２測定流量ｑ２を標準とする第１測定流量ｑ１の誤差ｅを算出する誤差算出部Ｃ３１と、第２流量指令値Ｃｑ２に基づいて誤差ｅを修正して第１流量計１３を調整する誤差調整部Ｃ３２と、を備えている。これにより、校正装置２０は、校正モードにおいて、第１流量計１３を校正し、調整できる。なお、校正コントローラＣ３は、アイドリング期間において、例えば、プロセス期間が終了する度等、定期的に、自動的に校正モードに切り替わるように設定されていてもよい。

また、校正コントローラＣ３は、誤差閾値ｔｈを記憶する記憶部Ｃ３３と、誤差ｅが誤差閾値ｔｈを超える場合にアラートを出力する報知部Ｃ３４と、を備えてもよい。これにより、第１流量計１３の測定値である第１測定流量ｑ１の誤差ｅが大きい場合に、ユーザに報知することができる。よって、ユーザに、第１流量計１３の調整を促すことができる。

校正装置２０は、適宜、第２ＣＬＣユニットＣ２の上流側と下流側との間の差圧を測定するための第１圧力計２６及び第２圧力計２７を有していてもよい。これにより、供給ライン１１の吐出口のレベルとダミー液体供給ポンプ２５のレベルとの間の水頭差が比較的大きい場合であっても、ダミー液体ＤＬが校正ライン２１から供給ライン１１へ向かって流れているか否かを確認できる。

校正装置２０は、適宜、補助流量計２８と、補助バルブ２９と、を有していてもよい。

［第２実施形態］
次に、第２実施形態に係る液体供給システム２００を説明する。図２は、第２実施形態に係る液体供給システム２００の説明図である。なお、以下、第１実施形態に係る液体供給システム１００と第２実施形態に係る液体供給システム２００との共通する事項については説明が省略される場合がある。また、以下、第１実施形態に係る液体供給システム１００と第２実施形態に係る液体供給システム２００との共通する構成には、同じ符号又は記号が付される場合がある。

図２に示すように、第２実施形態に係る液体供給システム２００は、液体Ｌをウェーハ加工機Ｔとなるウォータステーションに供給する液体供給装置１０を備えるシステムに適用できる。
ウォータステーションは、例えば、ウェーハを洗浄するために硫酸、塩酸等の薬液である液体Ｌをウェーハに作用させる装置である。ウォータステーションは、ウェーハの表面を化学的機械的に研磨して平坦化仕上げを行うＣＭＰ装置に備えられている。
液体供給システム２００は、第１実施形態に係る液体供給システム１００と同様に、液体供給装置１０と校正装置２０とを備えている。

（液体供給装置）
液体供給装置１０は、供給ライン１１、及び、第１流量制御弁１２と、供給ライン１１を流れる液体Ｌの第１測定流量ｑ１を測定する第１流量計１３と、第１測定流量ｑ１及び第１流量指令値Ｃｑ１に基づいて第１流量制御弁１２の開度を閉ループ制御する第１コントローラ１４と、を有する第１ＣＬＣユニットＣ１、を備えている。なお、第１流量計１３は、供給ライン１１に設けたオリフィスの上流側及び下流側で測定された液体Ｌの液圧の差に基づいて流量を求める、いわゆる差圧式流量計であってよい。

液体供給装置１０は、校正装置２０が接続される分岐部１６より上流側に設けられる開閉弁１７を備えている。これにより、校正モードにおいて、校正装置２０から分岐部１６に合流するダミー液体ＤＬを、供給ライン１１において上流に逆流させることなく、下流に向けて流すことができる。よって、校正モードにおいて、校正ライン２１を流れるダミー液体ＤＬの流量と供給ライン１１を流れるダミー液体ＤＬの流量とを同じにできる。

液体供給装置１０は、適宜、第１ＣＬＣユニットＣ１より上流側に、メイン圧力計１８、メンテナンスバルブ１０ｖ２を備えている。また、液体供給装置１０は、適宜、第１ＣＬＣユニットＣ１より下流側に、イグジットバルブ１０ｖ３を備えている。また、液体供給装置１０は、適宜、供給ライン１１に液体Ｌを供給する不図示の液体供給ポンプを備えている。

（フラッシング装置）
液体供給装置１０は、適宜、供給ライン１１、ウェーハ又はウォータステーションを洗浄するＤＩＷを供給ライン１１に流すためのフラッシング装置３０を備えていてよい。
フラッシング装置３０は、供給ライン１１の中間部Ｍに合流している。
フラッシング装置３０は、適宜、フラッシングライン３１と、バルブ３２と、逆止弁３３と、を備えている。
フラッシング装置３０は、適宜、ＤＩＷを供給する不図示のポンプを備えている。

（リンス装置）
液体供給装置１０は、適宜、供給ライン１１、ウェーハ又はウォータステーションを洗浄するＤＩＷを供給ライン１１に流すためのリンス装置４０を備えていてよい。
リンス装置４０は、供給ライン１１の中間部Ｎに合流している。
リンス装置４０は、適宜、リンスライン４１と、バルブ４２と、逆止弁４３と、を備えている。
リンス装置４０は、適宜、ＤＩＷを供給する不図示のポンプを備えている。

（校正装置）
液体供給システム２００は、校正装置２０を有している。
校正装置２０は、第１ＣＬＣユニットＣ１より上流側の分岐部１６に接続する校正ライン２１、及び、第２流量制御弁２２と、校正ライン２１を流れるダミー液体ＤＬの第２測定流量ｑ２を測定する第２流量計２３と、第２測定流量ｑ２及び第２流量指令値Ｃｑ２に基づいて第２流量制御弁２２の開度を閉ループ制御する第２コントローラ２４と、を有する第２ＣＬＣユニットＣ２、を備えている。このように、液体供給システム２００は、液体供給装置１０と、校正装置２０と、を有している。これにより、流量制御機器（第１ＣＬＣユニットＣ１）を校正又は調整する都度、データロガー、配管部品等を含む校正装置を設計して検証する必要をなくすことができる。そして、液体Ｌをウェーハに作用させるプロセス期間を除くアイドリング期間に、液体供給装置１０に備わる第１ＣＬＣユニットＣ１の第１流量計１３を、液体供給装置１０に接続された校正装置２０に備わる第２ＣＬＣユニットＣ２の第２流量計２３を用いて校正及び調整できる。よって、流量制御機器（第１ＣＬＣユニットＣ１）の校正又は調整にかかる時間を抑制できる。

校正装置２０は、開閉弁１７を閉制御した後に、第１ＣＬＣユニットＣ１及び第２ＣＬＣユニットＣ２にダミー液体ＤＬを供給するダミー液体供給ポンプ２５を駆動する校正モードに切り替え可能な校正コントローラＣ３、を備えている。

校正コントローラＣ３は、校正モードにおいて、第２流量指令値Ｃｑ２に基づく第２測定流量ｑ２を標準とする第１測定流量ｑ１の誤差ｅを算出する誤差算出部Ｃ３１と、第２流量指令値Ｃｑ２に基づいて誤差ｅを修正して第１流量計１３を調整する誤差調整部Ｃ３２と、を備えている。これにより、校正装置２０は、校正モードにおいて、第１流量計１３を校正し、調整できる。なお、校正コントローラＣ３は、アイドリング期間において、例えば、プロセス期間が終了する度等、定期的に、自動的に校正モードに切り替わるように設定されていてもよい。

また、校正コントローラＣ３は、誤差閾値ｔｈを記憶する記憶部Ｃ３３と、誤差ｅが誤差閾値ｔｈを超える場合にアラートを出力する報知部Ｃ３４と、を備えてもよい。これにより、第１流量計１３の測定値である第１測定流量ｑ１の誤差ｅが大きい場合に、ユーザに報知することができる。よって、ユーザに、第１流量計１３の調整を促すことができる。

校正装置２０は、適宜、第２ＣＬＣユニットＣ２の上流側と下流側との間の差圧を測定するための第１圧力計２６及び第２圧力計２７を有していてもよい。これにより、供給ライン１１の吐出口のレベルとダミー液体供給ポンプ２５のレベルとの間の水頭差が比較的大きい場合であっても、ダミー液体ＤＬが校正ライン２１から供給ライン１１へ向かって流れているか否かを確認できる。

校正装置２０は、適宜、補助流量計２８と、補助バルブ２９と、を有していてもよい。

［第３実施形態］
次に、第３実施形態に係る液体供給システム３００を説明する。図３は、第３実施形態に係る液体供給システム３００の説明図である。なお、以下、第１実施形態に係る液体供給システム１００又は第２実施形態に係る液体供給システム２００と第３実施形態に係る液体供給システム３００との共通する事項については説明が省略される場合がある。また、以下、第１実施形態に係る液体供給システム１００又は第２実施形態に係る液体供給システム２００と第３実施形態に係る液体供給システム３００との共通する構成には、同じ符号又は記号が付される場合がある。

図３に示すように、第３実施形態に係る液体供給システム３００は、液体Ｌを、アトマイザＡＴを介して、ウェーハ加工機Ｔとなるウェーハ研磨用ターンテーブルに供給する液体供給装置１０を備えるシステムに適用できる。
アトマイザＡＴは、例えば、適宜のガスを含むＤＩＷ等の液体Ｌを複数のノズルからウェーハ研磨用ターンテーブル上の研磨パッドに向けて噴出する装置である。
アトマイザＡＴは、ウェーハの表面を化学的機械的に研磨して平坦化仕上げを行うＣＭＰ装置に備えられている。
液体供給システム３００は、第１実施形態に係る液体供給システム１００及び第２実施形態に係る液体供給システム２００と同様に、液体供給装置１０と校正装置２０とを備えている。

（液体供給装置）
液体供給装置１０は、供給ライン１１、及び、第１流量制御弁１２と、供給ライン１１を流れる液体Ｌの第１測定流量ｑ１を測定する第１流量計１３と、第１測定流量ｑ１及び第１流量指令値Ｃｑ１に基づいて第１流量制御弁１２の開度を閉ループ制御する第１コントローラ１４と、を有する第１ＣＬＣユニットＣ１、を備えている。

液体供給装置１０は、校正装置２０が接続される分岐部１６より上流側に設けられる開閉弁１７を備えている。これにより、校正モードにおいて、校正装置２０から分岐部１６に合流するダミー液体ＤＬを、供給ライン１１において上流に逆流させることなく、下流に向けて流すことができる。よって、校正モードにおいて、校正ライン２１を流れるダミー液体ＤＬの流量と供給ライン１１を流れるダミー液体ＤＬの流量とを同じにできる。

液体供給装置１０は、適宜、第１ＣＬＣユニットＣ１より上流側に、メイン圧力計１８、エントランスバルブ１０ｖ１、メンテナンスバルブ１０ｖ２を備えている。また、液体供給装置１０は、適宜、第１ＣＬＣユニットＣ１より下流側に、イグジットバルブ１０ｖ３を備えている。また、液体供給装置１０は、適宜、供給ライン１１に液体Ｌを供給する不図示の液体供給ポンプを備えている。

（校正装置）
液体供給システム３００は、校正装置２０を有している。
校正装置２０は、第１ＣＬＣユニットＣ１より上流側の分岐部１６に接続する校正ライン２１、及び、第２流量制御弁２２と、校正ライン２１を流れるダミー液体ＤＬの第２測定流量ｑ２を測定する第２流量計２３と、第２測定流量ｑ２及び第２流量指令値Ｃｑ２に基づいて第２流量制御弁２２の開度を閉ループ制御する第２コントローラ２４と、を有する第２ＣＬＣユニットＣ２、を備えている。このように、液体供給システム３００は、液体供給装置１０と、校正装置２０と、を有している。これにより、流量制御機器（第１ＣＬＣユニットＣ１）を校正又は調整する都度、データロガー、配管部品等を含む校正装置を設計して検証する必要をなくすことができる。そして、液体Ｌをウェーハに作用させるプロセス期間を除くアイドリング期間に、液体供給装置１０に備わる第１ＣＬＣユニットＣ１の第１流量計１３を、液体供給装置１０に接続された校正装置２０に備わる第２ＣＬＣユニットＣ２の第２流量計２３を用いて校正及び調整できる。よって、流量制御機器（第１ＣＬＣユニットＣ１）の校正又は調整にかかる時間を抑制できる。

校正装置２０は、開閉弁１７を閉制御した後に、第１ＣＬＣユニットＣ１及び第２ＣＬＣユニットＣ２にダミー液体ＤＬを供給するダミー液体供給ポンプ２５を駆動する校正モードに切り替え可能な校正コントローラＣ３、を備えている。

校正コントローラＣ３は、校正モードにおいて、第２流量指令値Ｃｑ２に基づく第２測定流量ｑ２を標準とする第１測定流量ｑ１の誤差ｅを算出する誤差算出部Ｃ３１と、第２流量指令値Ｃｑ２に基づいて誤差ｅを修正して第１流量計１３を調整する誤差調整部Ｃ３２と、を備えている。これにより、校正装置２０は、校正モードにおいて、第１流量計１３を校正し、調整できる。なお、校正コントローラＣ３は、アイドリング期間において、例えば、プロセス期間が終了する度等、定期的に、自動的に校正モードに切り替わるように設定されていてもよい。

また、校正コントローラＣ３は、誤差閾値ｔｈを記憶する記憶部Ｃ３３と、誤差ｅが誤差閾値ｔｈを超える場合にアラートを出力する報知部Ｃ３４と、を備えてもよい。これにより、第１流量計１３の測定値である第１測定流量ｑ１の誤差ｅが大きい場合に、ユーザに報知することができる。よって、ユーザに、第１流量計１３の調整を促すことができる。

校正装置２０は、適宜、第２ＣＬＣユニットＣ２の上流側と下流側との間の差圧を測定するための第１圧力計２６及び第２圧力計２７を有していてもよい。これにより、供給ライン１１の吐出口のレベルとダミー液体供給ポンプ２５のレベルとの間の水頭差が比較的大きい場合であっても、ダミー液体ＤＬが校正ライン２１から供給ライン１１へ向かって流れているか否かを確認できる。

校正装置２０は、適宜、補助流量計２８と、補助バルブ２９と、を有していてもよい。

以上、図面を参照して実施形態について説明したが、本発明は上述のものに限られない。実施形態として挙げられた複数の特徴を、自由に組み合わせてもよい。

本実施形態に係る液体供給システム１００，２００，３００は、液体Ｌをウェーハ加工機Ｔに供給する液体供給装置１０を備えている。液体供給システム１００，２００，３００は、校正装置２０を有している。液体供給装置１０は、供給ライン１１、及び、第１流量制御弁１２と、供給ライン１１を流れる液体Ｌの第１測定流量ｑ１を測定する第１流量計１３と、第１測定流量ｑ１及び第１流量指令値Ｃｑ１に基づいて第１流量制御弁１２の開度を閉ループ制御する第１コントローラ１４と、を有する第１ＣＬＣユニットＣ１、を備えている。校正装置２０は、第１ＣＬＣユニットＣ１より上流側の分岐部１６に接続する校正ライン２１、及び、第２流量制御弁２２と、校正ライン２１を流れるダミー液体ＤＬの第２測定流量ｑ２を測定する第２流量計２３と、第２測定流量ｑ２及び第２流量指令値Ｃｑ２に基づいて第２流量制御弁２２の開度を閉ループ制御する第２コントローラ２４と、を有する第２ＣＬＣユニットＣ２、を備えている。これにより、流量制御機器（第１ＣＬＣユニットＣ１）を校正又は調整する都度、データロガー、配管部品、インターフェース、ソフトフェア等を含む特別な校正装置を設計して検証する必要をなくすことができる。そして、液体Ｌをウェーハに作用させるプロセス期間を除くアイドリング期間に、液体供給装置１０に備わる第１ＣＬＣユニットＣ１の第１流量計１３を、液体供給装置１０に接続された校正装置２０に備わる第２ＣＬＣユニットＣ２の第２流量計２３を用いて校正及び調整できる。よって、流量制御機器（第１ＣＬＣユニットＣ１）の校正又は調整にかかる時間を抑制できる。

１０ 液体供給装置
１０ｖ１ エントランスバルブ
１０ｖ２ メンテナンスバルブ
１０ｖ３ イグジットバルブ
１１ 供給ライン
１２ 第１流量制御弁
１３ 第１流量計
１４ 第１コントローラ
１６ 分岐部
１７ 開閉弁
１８ メイン圧力計
１９ フィルタ
２０ 校正装置
２１ 校正ライン
２２ 第２流量制御弁
２３ 第２流量計
２４ 第２コントローラ
２５ ダミー液体供給ポンプ
２６ 第１圧力計
２７ 第２圧力計
２８ 補助流量計
２９ 補助バルブ
３０ フラッシング装置
３１ フラッシングライン
３２ バルブ
３３ 逆止弁
４０ リンス装置
４１ リンスライン
４２ バルブ
４３ 逆止弁
１００，２００，３００ 液体供給システム
ＡＴ アトマイザ
Ｃ１ 第１ＣＬＣユニット
Ｃ２ 第２ＣＬＣユニット
Ｃ３ 校正コントローラ
Ｃ３１ 誤差算出部
Ｃ３２ 誤差調整部
Ｃ３３ 記憶部
Ｃ３４ 報知部
Ｃｑ１ 第１流量指令値
Ｃｑ２ 第２流量指令値
ＤＬ ダミー液体
Ｌ 液体
Ｍ，Ｎ 中間部
ｑ１ 第１測定流量
ｑ２ 第２測定流量
Ｔ ウェーハ加工機

Claims (4)

1. 液体をウェーハ加工機に供給する液体供給装置を備える液体供給システムであって、
   前記液体供給システムは、校正装置を有し、
   前記液体供給装置は、供給ライン、及び、第１流量制御弁と、前記供給ラインを流れる液体の第１測定流量を測定する第１流量計と、前記第１測定流量及び第１流量指令値に基づいて前記第１流量制御弁の開度を閉ループ制御する第１コントローラと、を有する第１ＣＬＣユニット、を備え、
   前記校正装置は、前記第１ＣＬＣユニットより上流側の分岐部に接続する校正ライン、及び、第２流量制御弁と、前記校正ラインを流れるダミー液体の第２測定流量を測定する第２流量計と、前記第２測定流量及び第２流量指令値に基づいて前記第２流量制御弁の開度を閉ループ制御する第２コントローラと、を有する第２ＣＬＣユニット、を備える液体供給システム。
2. 前記液体供給装置は、前記分岐部より上流側に設けられる開閉弁を備え、
   前記校正装置は、
   前記開閉弁を閉制御した後に、前記第１ＣＬＣユニット及び前記第２ＣＬＣユニットに前記ダミー液体を供給するダミー液体供給ポンプを駆動する校正モードに切り替え可能な校正コントローラ、を備える請求項１に記載の液体供給システム。
3. 前記校正コントローラは、
   前記校正モードにおいて、前記第２流量指令値に基づく前記第２測定流量を標準とする前記第１測定流量の誤差を算出する誤差算出部と、
   前記第２流量指令値に基づいて前記誤差を修正して前記第１流量計を調整する誤差調整部と、を備える請求項２に記載の液体供給システム。
4. 前記校正コントローラは、
   誤差閾値を記憶する記憶部と、
   前記誤差が前記誤差閾値を超える場合にアラートを出力する報知部と、を備える請求項３に記載の液体供給システム。

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