TWI776326B - 研磨液供應系統、研磨液測試裝置及研磨液測試方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供了一種研磨液供應系統，用於供應測試用的研磨液，包括儲液裝置、出液管道和開關閥，所述儲液裝置用於存儲第一研磨液，所述出液管道的一端與所述儲液裝置相連，出液管道的另一端設有出液口，所述一端高於所述另一端，所述開關閥設置於所述出液管道上，所述開關閥開啟或關閉以用於控制所述出液管道的通斷。本發明的研磨液供應系統可以花費較小的代價，高效地完成第一研磨液的測試，避免第一研磨液因共用化學機械研磨設備的研磨液輸送管而造成的研磨液混淆，防止第一研磨液的測試結果出現偏差。研磨液供應系統還能通過所述開關閥控制所述出液管道內的第一研磨液的流量。相應的，本發明還提供一種研磨液測試裝置及研磨液測試方法。

Description

研磨液供應系統、研磨液測試裝置及研磨液測試方法

本發明係關於半導體製造技術領域，尤其係關於一種研磨液供應系統、研磨液測試裝置及研磨液測試方法。

化學機械研磨(Chemical Mechanical Polish，CMP)是一個通過化學反應和機械摩擦共同作用的製程。通常地，在化學機械研磨過程中研磨頭向晶圓背面施加一定的壓力，以使晶圓正面緊貼研磨墊。所述研磨墊是黏貼於研磨盤上，同時，研磨液通過研磨液供應管路輸送到研磨墊上，並通過離心力均勻地分佈在研磨墊上。當研磨盤在馬達的驅動下進行旋轉時，帶動所述研磨墊旋轉，研磨頭也進行相應運動以帶動晶圓運動，如此實現了晶圓和研磨墊產生相對運動。以使晶圓正面與研磨墊產生機械摩擦，從而達到晶圓表面平坦化的目的。

研磨製程所使用的研磨液一般包含有化學腐蝕劑和研磨顆粒，通過化學腐蝕劑和所述待研磨表面的化學反應生成較軟的容易被去除的材料，然後通過機械摩擦將這些較軟的物質從被研磨晶圓正面去掉。

在晶圓研磨製程的研發中，經常需要測試各種新型的研磨液。測試新型的研磨液時，存在新型研磨液與原有的研磨液混淆，繼而導致了測試結果出現偏差的問題，同時還存在研磨液供應管路受到新型的研磨液污染的風險。

本發明的目的在於提供一種研磨液供應系統，能夠有效避免新型研磨液與原有的研磨液混淆，且還能夠避免研磨液供應管路受到新型研磨液的污染。

為了達到上述目的，本發明提供了一種研磨液供應系統，包括：儲液裝置，用於存儲第一研磨液；出液管道，一端與所述儲液裝置相連，另一端設置有出液口，所述一端高於所述另一端；以及，開關閥，設置於所述出液管道上，所述開關閥開啟或關閉以用於控制所述出液管道的通斷。

於一實施例中，還包括固定單元，所述固定單元的頂面用承載所述出液管道及所述儲液裝置，底面設置有一凹槽。

於一實施例中，所述儲液裝置為密封罐體；所述研磨液供應系統還包括：進氣管道，通過所述進氣管道向所述儲液裝置輸入氣體；以及，進氣閥，設置於所述進氣管道上，所述氣閥開啟或關閉以用於控制所述進氣管道的氣體輸入量。

於一實施例中，所述儲液裝置的容積為4公升(L)-6L。

於一實施例中，所述儲液裝置還開設一補液口，用於為所述儲液裝置補充第一研磨液。

於一實施例中，還包括流量調節閥，設置於所述出液管道上。

於一實施例中，所述進氣閥和/或所述開關閥和/或所述流量調節閥為自動閥。

於一實施例中，所述進氣閥和/或所述開關閥和/或所述流量調節閥為手閥。

相應的，本發明還提供一種研磨液測試裝置，包括：採用所述研磨液供應系統，用於提供第一研磨液；研磨液輸送臂，所述研磨液供應系統通過凹槽安裝於所述研磨液輸送臂上；研磨盤，設置於所述研磨液輸送臂下方；研磨墊，設置於所述研磨盤表面。

相應的，本發明還提供一種研磨液測試方法，其特徵在於，採用上述的研磨液測試裝置，包括：通過研磨液供應系統提供第一研磨液，通過研磨墊及所述第一研磨液對測試晶圓進行研磨測試，獲取第一測試結果；通過研磨液輸送臂提供第二研磨液，通過所述研磨墊及所述第二研磨液對測試晶圓進行研磨測試，獲取第二測試結果；通過比對所述第一測試結果和所述第二測試結果，以判斷所述第一研磨液與所述第二研磨液的優劣。

於一實施例中，通過研磨液供應系統提供第一研磨液包括：開啟開關閥，使得出液管道導通，儲液裝置內的所述第一研磨液流經所述出液管道及出液口流到所述研磨墊上。

於一實施例中，所述儲液裝置為密封罐體，通過進氣管道向所述儲液裝置輸入氣體，通過研磨液供應系統提供第一研磨液還包括：通過進氣閥控制所述進氣管道的氣體輸入量，以控制所述出液管道內所述第一研磨液的流量。

於一實施例中，流量調節閥設置於所述出液管道上，通過研磨液供應系統提供第一研磨液還包括：通過控制所述流量調節閥以控制所述出液管道內所述第一研磨液的流量。

在本發明提供的研磨液供應系統中，儲液裝置用於存儲第一研磨液，出液管道的一端與所述儲液裝置相連，開關閥設置於所述出液管道上，所述開關閥開啟或關閉以用於控制所述出液管道的通斷。出液管道的另一端設有出液口，所述一端高於所述另一端。如此，所述開關閥開啟時，所述儲液裝置內的第一研磨液在重力的作用下，會自行從所述儲液裝置流向所述出液口。如此，本發明的研磨液供應系統可以無需動力源來帶動所述第一研磨液流動，實現第一研磨液的供應，可以降低研磨液供應系統的成本。

此外，所述開關閥採用手閥，研磨液供應系統可以不需要供電供氣，可以花費較小的代價，高效地完成第一研磨液的測試。

此外，採用獨立於研磨液輸送管道的研磨液供應系統，避免了第一研磨液因也使用化學機械研磨設備的研磨液輸送管道而造成的研磨液混淆。防止了第一研磨液的測試結果出現偏差，還防止了第一研磨液污染研磨液輸送管道。

此外，可以通過控制所述開關閥全部開啟或部分開啟以控制所述出液管道內的第一研磨液的流量。

相應的，本發明還提供一種研磨液測試裝置及研磨液測試方法。

100:化學蝕刻研磨設備

110:研磨頭

120:研磨盤

130:研磨墊

140:研磨液輸送臂

141:送液口

150:研磨液輸送管道

160:泵

170:研磨液儲罐

120:研磨盤

130:研磨墊

140:研磨液輸送臂

200:研磨液供應系統

210:儲液裝置

220:出液管道

221:出液口

230:開關閥

240:進氣管道

241:進氣閥

250:流量調節閥

260:固定單元

300:研磨液測試裝置

圖1為本發明實施例中的一種化學蝕刻研磨設備的示意圖。

圖2為本發明實施例中的研磨液輸送管道的流向示意圖。

圖3為本發明實施例中的一種研磨液供應系統的結構示意圖。

圖4為本發明實施例中的另一種研磨液供應系統的結構示意圖。

圖5為本發明實施例中的研磨液測試裝置的結構示意圖。

圖6為本發明實施例中的研磨液測試方法的流程圖。

下面將結合示意圖對本發明的具體實施方式進行更詳細的描述。根據下列描述，本發明的優點和特徵將更清楚。需說明的是，附圖均採用非常簡化的形式且均使用非精准的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。

圖1為本實施例中的一種化學蝕刻研磨設備的示意圖。如圖1所示，化學蝕刻研磨設備100包括研磨頭110、研磨盤120、研磨液輸送臂140、研磨液輸送管道150和研磨墊130。所述研磨液輸送管道150上設置有泵160，部分所述研磨液輸送管道150隱設於所述研磨液輸送臂140內。所述研磨液輸送管道150位於所述研磨盤120上方的一端設置有一送液口141，所述研磨液輸送管道150的另一端與一研磨液儲罐170相連。

請參考圖1，採用所述化學蝕刻研磨設備100的研磨製程包括：將晶圓反轉180度之後，利用所述研磨頭110吸附晶圓背面，然後以所述晶圓正面朝下的方式放置於所述研磨頭110與所述研磨墊130之間；所述研磨液輸送管道用於將研磨液輸送至所述研磨墊130，所述研磨液用於與晶圓表面材料發生化學 反應，將不溶物質轉化為易溶物質，或將高硬度物質進行軟化。所述研磨墊130可拆卸的設置於所述研磨盤120的上表面(一般是黏附在研磨盤120的上表面)，研磨盤120轉動以帶動所述研磨墊130轉動，然後利用研磨墊130和研磨頭110之間的相對運動，即兩者之間的線速度的差異，迫使超細固體粒子研磨顆粒對所述晶圓表面的凸出點進行研磨，以達到晶圓表面平坦化的目的。

在晶圓化學機械研磨製程的研發中，經常需要測試各種新型研磨液，然而，研磨液的供應需要一套完整的研磨液供應系統來支援，同時需要一定的場地空間，以及配套的供水系統、供電系統和供氣系統，因此，新增一套供應系統需要花費比較大代價和成本。

圖2為本實施例中的研磨液輸送管道的流向示意圖。如圖1和圖2所示，對新型研磨進行測試時，新型研磨液需要暫存在研磨液儲罐170內，並通過泵160帶動後流經研磨液輸送管道150後，從研磨液輸送臂140流出。因此，新型研磨液和舊的研磨液存在共用所述研磨液輸送管道150的問題。由於舊的研磨液會殘留在研磨液輸送管道150內，則必然會存在新型研磨液與舊的研磨液混淆的可能，導致新型研磨液的測試結果會有偏差。基於此，若在測試新型研磨液時，使用生產設備上自帶的研磨液輸送管道150進行供給，勢必需要花費比較大的代價對研磨液輸送管道150進行徹底清洗，以清除研磨液輸送管道150內舊的研磨液。然而，即使這樣也不能保證絕對消除新型研磨液與舊的研磨液混淆的風險。

再者，當新型研磨液接入研磨液輸送管道150，同樣存在新型研磨液污染研磨液輸送管道150的問題，在新型研磨液測試完畢後，殘留在研磨液輸送管道150內的新型研磨液會帶來污染的風險，導致測試結束後恢復生產時，舊的研磨液中因混入新型研磨液而影響研磨效果。

基於此，本發明實施例提供一種研磨液供應系統200，包括儲液裝置210、出液管道220和開關閥230。

圖3為本實施例中的一種研磨液供應系統的結構示意圖。如圖3所示，所述儲液裝置210為一外形為圓柱狀的罐體，所述罐體的外形還可以是方形柱體或其它多邊形柱體，在此不做限定。所述儲液裝置210可以採用金屬製成，也可以採用塑膠製成。所述出液管道220包括垂直段和水平段，所述垂直段用於與所述儲液裝置210相連，所述開關閥230可以設置於所述水平段上，應知道，所述開關閥230也可以設置於所述垂直段上。所述研磨液供應系統還可以設置有一外殼，通用所述外殼將所述出液管道220包裹，使得所述儲液裝置210、所述出液管道220和所述開關閥230構成一個結構整體。

所述儲液裝置210用於存儲第一研磨液，所述第一研磨液為用於測試的新型研磨液。所述出液管道220的一端與所述儲液裝置210相連，出液管道220的另一端設有出液口221，所述一端高於所述另一端。如此，所述儲液裝置210內的第一研磨液在重力的作用下，會自行從所述儲液裝置210流向所述出液口221。如此，本發明的研磨液供應系統200可以無需動力源來帶動所述第一研磨液流動，實現新型研磨液的供應，可以降低研磨液供應系統200的成本。而且，採用獨立於化學機械研磨設備的研磨液供應系統200，也避免了第一研磨液因使用化學蝕刻研磨設備100的研磨液輸送管道150而造成的新型研磨液(也即第一研磨液)與舊的研磨液混淆。可以防止第一研磨液的測試結果出現偏差，同時還能避免了第一研磨液污染研磨液輸送管道150。

所述開關閥230設置於所述出液管道220上，所述開關閥230開啟或關閉以用於控制所述出液管道220的通斷。當所述開關閥230開啟時，第一研磨液在重力的作用下，會自行從所述儲液裝置210經所述出液管道220流向所述 出液口221。當所述開關閥230關閉時，則阻斷所述出液管道220，第一研磨液停止從所述出液口221流出。

應知道，所述開關閥230全部開啟或部分開啟，會直接影響所述出液管道220內的第一研磨液的流量。基於此，可以通過控制所述開關閥230全部開啟或部分開啟以控制所述出液管道220內的第一研磨液的流量。

圖4為本實施例中的另一種研磨液供應系統的結構示意圖。如圖4所示，作為本發明的一個可選實施例，所述儲液裝置210為密封罐體。所述研磨液供應系統200還包括進氣管道240，通過所述進氣管道240向所述儲液裝置210輸入氣體。所述進氣管道240包括水平段和垂直段。進一步的，所述進氣管道240上設置有進氣閥241，所述進氣閥設置於所述進氣管道240的水平段，用於控制所述進氣管道240的氣體輸入量。更進一步的，所述進氣閥241設置於所述進氣管道240的末端，便於對所述進氣閥進行手動操作。

應理解，由於所述儲液裝置210為密封罐體，由於大氣壓強的作用，若不向所述儲液裝置210內輸入氣體，則所述儲液裝置210內的第一研磨液不能流出，基於此，通過控制所述進氣閥241的開啟或關閉，以使得所述進氣管道240能夠導通或阻斷，以控制進氣管道240是否向所述儲液裝置210內輸入的氣體，進一步的控制所述第一研磨液是否能夠從儲液裝置210流出。

更進一步的，通過控制所述進氣閥241全部開啟或部分開啟以控制所述進氣管道240的氣體輸入量，以控制所述儲液裝置210內的第一研磨液的流出量，從而間接控制所述出液管道220內的第一研磨液的流量。

於一實施例中，所述儲液裝置210的容積為4公升(L)-6L。應知道，所述儲液裝置210用於存儲第一研磨液，若所述儲液裝置210的容量過大，則會造成所述研磨液供應系統200過於笨重，不易於攜帶，同時也不利於所述研磨液供應系統200的安裝。若所述儲液裝置210的容量過小，則會造成所述儲液 裝置210內存儲的第一研磨液過少，進而會造成所述第一研磨液不足以支撐一次或多次的研磨測試，導致研磨測試過程中需要頻繁更換儲液裝置210以添加第一研磨液，這不利於第一研磨液的測試。綜合上述兩方面的考慮，較佳的，在本發明中的所述儲液裝置210的容積為4L-6L。經過申請人統計，所述儲液裝置210的容積為5L，可滿足10片測試晶圓的研磨液的供應量。

於一實施例中，所述儲液裝置210還開設一補液口(圖4中未出)，用於為所述儲液裝置210補充第一研磨液。所述補液口可以設置於所述儲液裝置210的頂端，如此，可以便於第一研磨液的注入。應知道，所述補液口設置的位置不限於所述儲液裝置210的頂端，還可以設置於所述儲液裝置210側面靠頂端的位置，還可以依據本領域技術人員的經驗進行設置，在此不做過多限制。應理解，若所述研磨測試中的測試晶圓的測試量大於10片，為了保持研磨測試的連貫性，頻繁更換所述儲液裝置210以補充第一研磨液會影響測試效率。因此，所述儲液裝置210還開設一補液口，可以在研磨測試中隨時向所述儲液裝置210內部補充第一研磨液，提升測試效率。

繼續參照圖4，於一實施例中，所述研磨液供應系統200還包括流量調節閥250，設置於所述出液管道220上。所述流量調節閥250是一種直觀簡便的流量調節控制裝置，在所述出液管道220中應用所述流量調節閥250可直接根據需求來設定流量。因此，在本發明的一個較佳實施例中，可以通過調節所述流量調節閥250以調節所述出液管道220內第一研磨液的流量。

於一實施例中，所述進氣閥241和/或所述開關閥230和/或所述流量調節閥250為自動閥。所述自動閥通過由化學蝕刻研磨設備100的控制系統的電源和信號進行控制。通過調節所述進氣管道240和/或出液管道220的直徑大小，從而達到調節第一研磨液流量的目的。

於一實施例中，所述進氣閥241、所述開關閥230和所述流量調節閥250均為手閥。由本領域技術人員掌握手閥的開關時機，並手動完成閥門的調節，通過調節所述進氣管道240和/或出液管道220的截面積大小，從而達到調節第一研磨液流量的目的。本領域技術人員進行手動操作手閥以調節第一研磨液的流量，無須額外軟體系統便可實現臨時的、較少量的第一研磨液的供應。同時，研磨液供應系統200可以不需要供電供氣，能夠以花費較小的代價，高效地完成新型研磨液的測試。

在本發明的一個實施例中，所述研磨液供應系統200安裝在研磨液輸送臂140上，例如採用紮帶將所述出液管道220紮在所述研磨液輸送臂140。

在本發明的另一個實施例中，所述化學蝕刻研磨設備100上設置一支撐架，所述研磨液供應系統200安裝於所述支撐架上。

繼續參照圖4，在本發明的另一個實施例中，所述研磨液供應系統200還包括固定單元260，所述固定單元260的頂面用於承載所述出液管道220及所述儲液裝置210，底面設置有用於固定的凹槽。所述凹槽貼合所述研磨液輸送臂140，當所述固定單元260通過所述凹槽卡合在所述研磨液輸送臂140上時，所述研磨液供應系統200便能夠穩定地架設於所述研磨液輸送臂140之上。設置所述固定單元260使得所述研磨液供應系統200便於安裝或拆除，還便於清洗及更換零件。

應理解，需要進行研磨測試時，通過所述固定單元260的凹槽將所述研磨液供應系統200插接在所述研磨液輸送臂140上，由於出液口221的位置與研磨液輸送臂140上的送液口141相近，還能夠較好的模擬第一研磨液從所述研磨液輸送臂140上的送液口141流出的情形。

相應的，本發明實施例還提供一種研磨液測試裝置。

圖5為本實施例中的研磨液測試裝置的結構示意圖。如圖5所示，所述研磨液測試裝置300採用所述研磨液供應系統200，用於提供第一研磨液。所述研磨液測試裝置300還包括研磨液輸送臂140，所述研磨液供應系統200通過凹槽安裝於所述研磨液輸送臂140上。所述研磨液測試裝置300還包括研磨盤120，所述研磨盤120設置於所述研磨液輸送臂140下方，用於承載研磨墊130及測試晶圓。所述研磨墊130設置於所述研磨盤120表面。設置於研磨液輸送臂140上的研磨液供應系統200可以將第一研磨液輸送至所述研磨墊130上。

相應的，本發明實施例還提供一種研磨液測試方法。

圖6為本實施例中的研磨液測試方法的流程圖。如圖6所示，所述研磨液測試方法採用所述研磨液測試裝置300，包括以下步驟：步驟S001：通過研磨液供應系統200提供第一研磨液，通過研磨墊130及所述第一研磨液對測試晶圓進行研磨測試，獲取第一測試結果；步驟S002：通過研磨液輸送臂140提供第二研磨液，通過所述研磨墊130及所述第二研磨液對測試晶圓進行研磨測試，獲取第二測試結果；步驟S003：通過比對所述第一測試結果和所述第二測試結果，以判斷所述第一研磨液與所述第二研磨液的優劣。

在本發明的研磨液測試方法中，所述第二研磨液為舊的研磨液。由於所採用的研磨測試裝置相同，採用的研磨墊130相同。也即，第一研磨液與第二研磨液的研磨測試條件相同。基於此，可以最小程度的降低因研磨測試條件不同所帶來的偏差。同時採用研磨液供應系統200提供第一研磨液進行研磨測試，獲得第一測試結果。採用研磨液輸送臂140提供第二研磨液進行研磨測試，獲得第二測試結果。可以進一步的避免第一研磨液和第二研磨液混淆帶來的偏差。最後通過比對所述第一測試結果和所述第二測試結果，便可以直觀的判斷出所述第一研磨液與所述第二研磨液的優劣。

進一步的，在步驟S001中，通過研磨液供應系統200提供第一研磨液包括：開啟開關閥230，使得出液管道220導通，儲液裝置210內的所述第一研磨液流經所述出液管道220及出液口221流到所述研磨墊130上。第一研磨液配合研磨墊130對測試晶圓進行研磨。並且，可以通過控制所述開關閥230全部開啟或部分開啟以控制所述出液管道220內的第一研磨液的流量。

進一步的，在步驟S001中，所述儲液裝置210為密封罐體，通過進氣管道240向所述儲液裝置210輸入氣體，通過研磨液供應系統200提供第一研磨液還包括：通過進氣閥241控制所述進氣管道240的氣體輸入量，以控制所述出液管道220內所述第一研磨液的流量。以使得所述研磨墊130上的第一研磨液保持一個合理的供應量。

進一步的，在步驟S001中，流量調節閥250設置於所述出液管道220上，通過研磨液供應系統200提供第一研磨液還包括：通過控制所述流量調節閥250以控制所述出液管道220內所述第一研磨液的流量。進一步使得所述研磨墊130上的第一研磨液保持一個合理的供應量。

綜上所述，本發明實施例中提供一種研磨液供應系統，包括儲液裝置、出液管道和開關閥。所述儲液裝置用於存儲第一研磨液，所述出液管道的一端與所述儲液裝置相連，出液管道的另一端設有出液口，所述一端高於所述另一端。如此，所述儲液裝置內的第一研磨液在重力的作用下，會自行從所述儲液裝置流向所述出液口。如此，本發明的研磨液供應系統可以無需動力源來帶動所述第一研磨液流動，可以降低研磨液供應系統的成本，可以花費較小的代價，實現新型研磨液的供應，有利於高效地完成新型研磨液的測試，同時，研磨液供應系統不需要供電供氣。而且，採用獨立於研磨液輸送管的研磨液供應系統，也避免了第一研磨液因使用化學蝕刻研磨設備的研磨液輸送管而造成的研磨液混淆。又避免了第一研磨液的測試結果出現偏差，還避免了第一 研磨液污染研磨液輸送管。所述開關閥設置於所述出液管道上，所述開關閥開啟或關閉以用於控制所述出液管道的通斷。而且，可以通過控制所述開關閥全部開啟或部分開啟以控制所述出液管道內的第一研磨液的流量。相應的，本發明還提供了一種研磨液測試裝置及研磨液測試方法。

上述僅為本發明的較佳實施例，並不意圖限制本發明。任何所屬技術領域的技術人員，在不脫離本發明的技術方案的範圍內，對本發明揭露的技術方案和技術內容做任何形式的等同替換或修改等變動，均屬未脫離本發明的技術方案的內容，仍屬於本發明的保護範圍之內。

200:研磨液供應系統

210:儲液裝置

220:出液管道

221:出液口

230:開關閥

240:進氣管道

241:進氣閥

250:流量調節閥

260:固定單元

Claims (9)

1. 一種研磨液測試裝置，其特徵在於，包括：研磨液供應系統，用於提供第一研磨液；研磨液輸送臂，所述研磨液供應系統安裝於所述研磨液輸送臂上；研磨盤，設置於所述研磨液輸送臂下方；研磨墊，設置於所述研磨盤表面；研磨液輸送管道，用於提供第二研磨液，部分所述研磨液輸送管道設置於所述研磨液輸送臂內，且所述研磨液輸送管道位於所述研磨盤上方的一端設置有一送液口，另一端與一研磨儲液罐相連；其中，所述研磨液供應系統，包括：儲液裝置，用於存儲第一研磨液；出液管道，一端與所述儲液裝置相連，另一端設置有出液口，所述一端高於所述另一端；以及，開關閥，設置於所述出液管道上，所述開關閥開啟或關閉以用於控制所述出液管道的通斷。
2. 如申請專利範圍第1項所述的研磨液測試裝置，其特徵在於，還包括固定單元，所述固定單元的頂面用於承載所述出液管道及所述儲液裝置，底面設置有一凹槽。
3. 如申請專利範圍第2項所述的研磨液測試裝置，其特徵在於，所述儲液裝置為密封罐體；所述研磨液供應系統還包括：進氣管道，通過所述進氣管道向所述儲液裝置輸入氣體；以及， 進氣閥，設置於所述進氣管道上，所述進氣閥開啟或關閉以用於控制所述進氣管道的氣體輸入量。
4. 如申請專利範圍第3項所述的研磨液測試裝置，其特徵在於，所述儲液裝置的容積為4公升(L)-6L。
5. 如申請專利範圍第4項所述的研磨液測試裝置，其特徵在於，所述儲液裝置還開設一補液口，用於為所述儲液裝置補充所述第一研磨液。
6. 如申請專利範圍第2項所述的研磨液測試裝置，其特徵在於，還包括流量調節閥，設置於所述出液管道上。
7. 一種研磨液測試方法，其特徵在於，採用如申請專利範圍第1-6項所述所述的研磨液測試裝置，包括：通過所述研磨液供應系統提供第一研磨液，通過研磨墊及所述第一研磨液對測試晶圓進行研磨測試，獲取第一測試結果；通過研磨液輸送臂提供第二研磨液，通過所述研磨墊及所述第二研磨液對測試晶圓進行研磨測試，獲取第二測試結果；通過比對所述第一測試結果和所述第二測試結果，以判斷所述第一研磨液與所述第二研磨液的優劣。
8. 如申請專利範圍第7項所述的研磨液測試方法，其中，通過研磨液供應系統提供第一研磨液包括：開啟開關閥，使得出液管道導通，儲液裝置內的所述第一研磨液流經所述出液管道及出液口流到所述研磨墊上。
9. 如申請專利範圍第8項所述的研磨液測試方法，其中，所述儲液裝置為密封罐體，通過進氣管道向所述儲液裝置輸入氣體，通過研磨液供應系統提供第一研磨液還包括： 通過進氣閥控制所述進氣管道的氣體輸入量，以控制所述出液管道內所述第一研磨液的流量。

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