JP2000303300A

JP2000303300A - 磁気記録媒体等の製造に用いるクロス

Info

Publication number: JP2000303300A
Application number: JP11103577A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Takase; 清高瀬; Takero Nakamura; 健朗中村; Toru Kondo; 徹近藤
Original assignee: Kanebo Synthetic Fibers Ltd; Kanebo Ltd
Current assignee: Kanebo Synthetic Fibers Ltd; Kanebo Ltd
Priority date: 1999-04-12
Filing date: 1999-04-12
Publication date: 2000-10-31

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気記録媒体等の基板にワイピング又は研磨
を施す際、研磨後の基板表面粗度の低減と研磨中の研削
量の向上を同時に達成することの出来る研磨用クロスの
提供。【解決手段】経糸方向及び緯糸方向の織物カバーファ
クターの和を２，５００〜４，０００の範囲とした高密
度織物を形成し、経糸及び／又は緯糸に、単糸繊度０．
５ｄ以下のマルチフィラメント糸を用い、該マルチフィ
ラメント糸の総繊度を３０〜２５０ｄの範囲に、打込本
数を１５０本／インチ以上となし、更に、前記織物に親
水化剤を付与せしめる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体等を製
造する工程において、媒体用基板の表面にワイピング又
は研磨を施すクロスに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】特公平７−１３８４１号公報、特開平８
−９６３５５号公報等に記載されている通り、磁気記録
媒体としては、従来、アルミニウム合金からなる基板に
アルマイト処理やＮｉ−Ｐメッキ等の非磁性メッキ処理
を施した後に、Ｃｒ等の下地層を被覆し、次いでＣｏ系
合金の磁性薄膜層を被覆し、更に炭素質の保護膜で被覆
したものが主に使用される。

【０００３】このような磁気記録媒体（磁気ディスク）
は基板が硬いため寸法精度が高く記録密度もあがりやす
いが、磁気ヘッドが高速回転する磁気ディスクと接触す
ると、磁気ヘッドを破壊する所謂ヘッドクラッシュを生
ずる。これを回避するため磁気ヘッドを浮上させて使用
している。

【０００４】ところが、磁気ディスクの高密度化に伴
い、ヘッド浮上高さは益々小さくなっており、最近では
１．５μｍ以下が要求されている。このようにヘッド浮
上高さを非常に小さい値に保つことが記録密度向上の最
大のポイントであり、低浮上高さでありながらしかもヘ
ッドクラッシュが生じないようにすることに技術上の最
大課題がある。

【０００５】一方、磁気ディスクについて検討してみる
と、磁気ディスクへの書き込み或はその再生を行う際、
ディスクの静止時に磁気ヘッドの浮上面と磁気ディスク
間に吸着を生ずることがある。上述の吸着現象は、磁気
ヘッド浮上面と磁気ディスク表面が極めて平滑で微小間
隔で対面しているときに、その間でＯ₂ 、Ｎ₂ 、Ｈ₂ Ｏ
等の分子により埋めつくされて界面張力により大きな吸
着力が発生することに起因しており、係る吸着が発生す
るとモータ起動時に多大の電力を消費する不都合なこと
が生ずる。

【０００６】このような吸着現象を防ぐ目的で、基板の
上に磁性膜などを形成するのに先立って、基板表面を一
旦鏡面仕上げにした後、その表面を粗くして適当な表面
粗さに調整するテクスチャー加工が実施される。

【０００７】従来、係るテクスチャー加工を施す方法と
しては、固定砥粒式の研磨テープを用いるテープ研削方
法、或は遊離研粒のスラリーを研磨テープ表面に付着さ
せて研削を行うスラリー研削方法が知られており、両方
法共、磁気ディスク基板を回転させた状態で前記研磨テ
ープをテープ裏面側からロールで押し付けながら基板径
方向へ接触移動させ、基板表面に同心円状の条こんを形
成して所謂テクスチャー付き基板が得られるようにして
いる。

【０００８】しかして、磁気ヘッドの低浮上化を図るた
め磁気ディスク表面の更なる平坦化が常時求められてお
り、これを達成する手段として、研磨テープを構成する
繊維の繊度を細かくすること、砥粒の粒子径を小さくす
ること、研磨テープの押し付け面圧を小さくすること等
が有効とされており、技術動向もこのような要望に合わ
せて、ラッピングテープを用いる固定砥粒方式から電気
植毛品を用いる遊離砥粒方式へ変わり、更にマイクロフ
ァイバー織物を用いる遊離砥粒方式へと変転している。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところが、現在基板研
磨の主流となっている遊離砥粒を用いるテクスチャー加
工について検討してみると、研磨テープを構成する繊維
の細繊度化は研磨後の基板表面粗度の低減化に大きく寄
与するが、その反面、係る細繊度化は表面加工量の低減
をもたらしており、この点が研磨上の大きな隘路となっ
ている。

【００１０】本発明は上述した従来技術の問題点を解消
すべくなされたものであり、基板表面粗度の低減化とこ
れに伴う表面加工量減少の回避を同時に実施することの
出来る新規なワイピング又は研磨用クロスを提供しよう
とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に本発明は次の構成を備えている。即ち、磁気記録媒体
等の基板表面にワイピング又は研磨を施すクロスであっ
て、経糸方向及び緯糸方向の織物カバーファクターの和
を２，５００〜４，０００の範囲とした高密度織物から
なり、経糸及び／又は緯糸に、単糸繊度０．５ｄ以下の
マルチフィラメント糸を用い、該マルチフィラメント糸
の総繊度を３０〜２５０ｄの範囲に、打込本数を１５０
本／インチ以上となし、更に、前記織物に親水化剤を付
与せしめたことを特徴とする構成である。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。先ず最初に、図１及び図２により
テクスチャー加工を例に挙げて本発明クロスの使用状態
を説明する。図１は使用状態の全体を示す斜視図、図２
は図１の側面図である。

【００１３】両図に示す通り、矢印Ａ方向に向かって積
極回転する基板１の表裏面２，３の夫々には、各１本ず
つ計２本のクロス４，５が各押圧ロール６，７で押し付
けられつつ矢印Ｂ方向に向かって走行すると共に、クロ
ス４，５の各研磨面にノズル８，９から遊離砥粒を含有
する研磨液が連続供給され、スラリー研磨が実施され
る。

【００１４】各押圧ロール６，７はロール加工用シリン
ダー１０により駆動し、基板１の表裏面２，３に夫々ク
ロス４，５を所定の圧力で押圧する。各クロス４，５は
矢印Ｂ方向に向かって連続走行するが、その間、基板１
の表裏両面２，３には常に新しいクロスが加圧接触する
状態で供給され、これにより表裏面２，３の研磨が実施
される。

【００１５】又クロス４，５は夫々押圧ロール６，７の
往復動により矢印Ｃ方向へ往復動（振動）し、この移動
と基板１自体の回転により基板１両面に条こんが作成さ
れ、テクスチャー加工済の基板１が形成される。

【００１６】本発明クロスは図１及び図２に示す通り、
高い張力下で使用されるので、クロスを構成する地組織
としては編物や不織布ではなく織物であることを要し、
しかも経糸方向及び緯糸方向の織物カバーファクターの
和（以下これをＴＣＦと呼称する）を２，５００〜４，
０００の範囲とした高密度織物であることを要する。Ｔ
ＣＦが２，５００未満になると織組織の間隙を十分に詰
めることが出来ず織地表面の平滑性を損ない、又４，０
００以上では製織性に難点がある。織物の組織は特に問
わないが、以下の理由から朱子織が最も好ましい。

【００１７】即ち、朱子織は経糸と緯糸各５本以上で作
られ、織物表面に組織点がとびとびに入っており、織物
の片面に経又は緯糸のどちらか一方が一面に長く浮いて
布面を覆い、組織点がかくれて表面が滑らかである点に
特徴を持っている。本発明のクロスには本質的にこのよ
うな特質を備えた織地が好ましい。朱子織では織機のヘ
ルド枚数が多い場合、例えば１０枚朱子などでは織布の
耐久性が低下する。係る点から本クロスには５〜８枚朱
子が好ましく、これ以上の高枚数の朱子織では耐久性に
欠ける弊害がある。

【００１８】尚、本発明における経糸方向の織物カバー
ファクターとは、経糸密度（本／インチ）×経糸デニー
ルの平方根を示し、又緯糸方向の織物カバーファクター
とは、緯糸密度（本／インチ）×緯糸デニールの平方根
を示す。本発明のＴＣＦとは、前記両者の和である。

【００１９】前記織物を構成する経緯のマルチフィラメ
ント糸の少なくとも一方には、２種以上のポリマーから
なる複合繊維（コンジュゲート繊維）を割繊せしめてな
る単糸繊度０．５デニール以下の超極細繊維を用いるこ
とが好ましい。前記超極細繊維は特公昭６１−３７３８
３号公報等に記載する分割型の複合繊維、又は、特公昭
６２−５０５９４号公報等に記載する海島型の複合繊維
を割繊して得られたもの、或は、特公平６−２１３９７
号公報に記載するもの等が使用し得る。

【００２０】中でも製造の容易性、単糸綾線の少なくと
も一線に形成されるシャープエッジが簡単に得られるこ
とから分割型の複合繊維が好適である。特にポリアミド
及びポリエステルよりなる複合繊維を、フィブリル化
（分割）して得られたものが好ましい。この複合繊維か
ら得られた単糸群はポリエステルの寸法安定性とポリア
ミドの親水性を同時に保持しているので、本発明クロス
として最適である。

【００２１】前記フィブリル化の方法は、特公昭５３−
３５６３３号公報等に記載された公知の方法が用い得
る。中でも、ベンジルアルコールを用いる方法が好まし
い。

【００２２】係る分割型の複合繊維としては、種々のも
のが公知である。例えば、ポリアミド成分とポリエステ
ル成分とが単一フィラメントの任意の横断面において、
一方の成分を他方の成分が完全に包囲することなく両成
分が接合された形状を有する複合繊維、具体的には横断
面がサイドバイサイド型の複合繊維［図３（Ａ）］，サ
イドバイサイド繰り返し型の複合繊維［図３（Ｂ）］，
放射型の形状を有する部分と該放射部を補完する形状を
有する他の成分からなる複合繊維［図３（Ｃ），
（Ｄ）］，該形状に中空部分を設けた複合繊維［図３
（Ｅ）］等が挙げられる。

【００２３】これらの複合繊維のうち本発明クロスの原
糸としては、放射型の形状を有する部分と該放射部を補
完する形状を有する他の部分からなる複合繊維［図３
（Ｃ），（Ｄ）］が好ましく、先に述べた通り、放射型
の形状を有する部分としてポリアミド、該放射部を補完
する形状を有する部分としてポリエステルを用いたもの
が最適である。

【００２４】又、本発明に使用する複合繊維としては、
前述の通り特公昭６２−５０５９４号公報等に記載する
海島型繊維（溶解分割型繊維）によって得られたものも
使用し得る。前記公報等に記載する通り、海島繊維は少
なくとも２種のポリマーからなる繊維であって、繊維断
面は海成分と島成分から形成されており、島成分は海成
分により複数に区分されている。

【００２５】本発明クロスに適用される主な海島型繊維
についてその横断面を図４に示す。図４においてＡ１・
２は島成分でありＢは海成分である。本発明における海
島型ポリマーは薬剤に対して溶解、分解性の異なるポリ
マーを２種類以上選択し使用しており、ポリエチレンテ
レフタレート，同共重合体，（イソフタル酸，イソフタ
ル酸ソディウムスルホネートなど），ナイロン６，ナイ
ロン６６等がその代表例として挙げられる。

【００２６】以上の中で好ましいポリマーの組み合せ
は、海成分ポリマーが島成分ポリマーに比べて薬剤によ
る溶解性、分解性が大になるような組み合せか、又は、
島成分ポリマーを溶解、分解せず海成分ポリマーのみを
完全に溶解させる組み合せであり、後者が最も好まし
い。

【００２７】係る海島型繊維の場合は、島成分として熱
水収縮率の異なる２種の成分を用いれば、海成分の溶解
除去後も、複合繊維のみで、熱水収縮率の異なる成分を
得ることができるが、一般に、多成分となるほど複合繊
維の紡糸が困難となるため、溶解成分と単一の非溶解成
分とからなる複合繊維を用いる場合は、非溶解成分に対
し熱水収縮率の異なる繊維を混繊維して用いることが必
要となる。係る繊維としては、熱水収縮率が非溶解成分
よりも高い繊維を用いることが好ましく、例えば、ポリ
エチレンテレフタレートにイソフタル酸やビスフェノー
ル等の変性成分を共重合したもの等は２０〜４０％以上
の熱水収縮率を有するため好ましい。

【００２８】前述の如く、本発明クロスの少なくとも一
部を構成する複合繊維は、織成後、薬剤を用いた割繊処
理によりポリマー毎の各単糸に分割し、その際、熱収縮
率差によりクロス表面上に多数の弧状ループを形成す
る。

【００２９】例えば複合繊維の構成ポリマーがポリアミ
ドとポリエステルの２種であり、横断面形状が図３
（Ｃ）の場合は、クロス表面に形成されるループ層の内
層部までポリアミドが収縮沱降し、又表層部は実質的に
細繊度のポリエステルで覆われる。勿論、内装部にもポ
リエステルは残存するが、ポリアミドが収縮して緻密な
組織と成り、これらは層状構造を呈する。このように本
発明クロスの表層部は実質的に細繊度のフィブリルから
形成され、表面のタッチはソフトであり、一方その内層
部は比較的腰のある構造体となっている。係る多層構造
からワイピング及び研磨時に、有効な作用効果をクロス
に付与するのである。

【００３０】しかして、前記多層構造をクロス表面の全
域にむらなく均等に形成するためには、本発明の複合繊
維からなるマルチフィラメント糸の総繊度を３０〜２５
０ｄの範囲に、又打込本数を１５０本／インチ以上にす
る必要がある。該打込本数とは前記マルチフィラメント
糸を経糸に用いた場合は経糸の、又緯糸に用いた場合は
緯糸の打込本数である。総繊度が前記範囲を外れて過剰
になると、熱収縮率の差に起因する大小様々な微細弧状
ループが重なり合って却って表層部が不均一になり、逆
に総繊度と打込本数が過小になると疎によって斑が生ず
ることとなる。

【００３１】上記構成からなる本発明クロスは、次い
で、製織後織面全体に公知の親水加工が付与される。こ
の親水加工は表面研磨加工量（研削量）の向上を目的と
するもので、研磨時のスラリーの均一分散を図るもので
ある。本発明において使用される親水化剤としては、次
式によって表わされるものが好ましい。

【００３２】

【化１】

【００３３】前記親水化剤は、本発明クロスに、０．０
５〜２重量％、好ましくは０．１〜１重量％（織物の総
重量を基準として）付与することが好ましい。親水化剤
をクロスに付与する方法は特に制限的ではなく、吸尽法
及びバッドードライーキュア法のいずれも使用すること
が出来るが、後者の方がより好ましい。吸尽法は液温度
１４０℃以下、好ましくは約１３０℃で約２時間以内、
例えば１時間、親水化剤を含む液にクロス原布を浸漬し
て親水化剤を殆ど吸尽させることにより行われる。使用
される液は、例えば約１０重量％の親水化剤を含む水性
分散系であることが出来る。バッドードライーキュア法
では、親水化剤を含む液をクロス原布にバッドし、所望
により乾燥し、次にキュアする。キュア温度は２１０℃
以下であることが好ましい。

【００３４】本発明クロスは上記の如く、所定の高密度
織物から構成しており、しかも、少なくとも経緯いずれ
か一方の糸条に単糸繊度の０．５ｄ以下のマルチフィラ
メントを用いることとにより、基板との接触面を極めて
平滑に且つソフトなものにし、図１及び図２に示す形態
で使用した際、テクスチャー加工の完了した基板表面粗
度を７Åレベルの程度まで低減せしめることが出来る。
又係る高い密度織物の使用によって生ずる表面研磨加工
量（研削量）の減少を織面に付与する親水加工処理によ
って抑制し又解消し、研削量を従来クロスと同程度、更
にはこれよりも高く維持することが可能となる。

【００３５】本発明の上記構成に加えてクロスの裏側面
に揆水加工、ラミネート加工等のバックコーティング処
理を施すことにより、研磨時に使用するスラリーを有効
利用することが出来る。織物に付与する揆水加工として
は不通気性防水加工と通気性防水加工があるが、本発明
クロスには加工の容易さと、得られる防水効果の良好な
ことからアクリル樹脂加工、サンディング加工、ポリウ
レタン樹脂加工等を用いた不通気防水加工が適切であ
る。

【００３６】尚、前記実施の形態においては本発明クロ
スがテクスチャー加工で使用される例について説明した
が、テクスチャー加工の完了した基板に付与されるバニ
ッシュ加工においても、通常使用されるポリエステルフ
ィルム製のラッピングテープに代えて本発明クロスは有
効に使用される。この場合の使用例はテクスチャー加工
と同様に図１及び図２図示の過程で実施され、従来使用
のラッピングテープに比べ、基板表面の平均粗さを更に
向上させることが出来る。

【００３７】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を更に説明する。
次の４種の織物を準備した。実施例１−経糸として６００Ｔ／Ｍ（Ｚ）の撚を有する
ポリエステル３０ｄ／１２ｆを、又緯糸として２５０Ｔ
／Ｍ（Ｓ）の撚を有するポリエステル７０％／ナイロン
３０％の複合繊維５５ｄ／５０ｆを用い、これらを打込
本数経／緯＝２００／２５０（本／インチ）で片面８枚
朱子の高密度織物に製織仕上した。該織物のカバーファ
クター（ＴＣＦ）は２，９５１であった。

【００３８】前記実施例１で得られた高密度織物に、常
法により開繊、収縮、精練の各工程を順次行った後、下
記処方の親水加工用水溶液を調液し、これへ前記織物を
浸漬させ、マングルにて絞り率６０％で均一に絞り、次
いで温度１９０℃、時間６０秒にて熱処理を行い、更に
この織物を所定長に切断して実施例１のクロスを得た。
前記親水加工用の水溶液としては、化１の化学式に示す
親水化剤の１０％（重量比）水溶液を用いた。

【００３９】比較例１−実施例１で用いた高密度織物に
親水加工用水溶液を付与せず、無付与のまま所定長のク
ロスに形成して比較例１のクロスを得た。

【００４０】比較例２−経糸として６００Ｔ／Ｍ（Ｚ）
の撚を有するポリエステル３０ｄ／１２ｆを、又緯糸と
して２５０Ｔ／Ｍ（Ｓ）の撚を有するポリエステル７０
％／ナイロン３０％の複合繊維５０ｄ／２５ｆを用い、
これらを打込本数経／緯＝１７０／１４０（本／イン
チ）で両面４枚朱子の高密度織物に製織仕上した。該織
物のカバーファクター（ＴＣＦ）は１，９２２であっ
た。前記比較例２で得られた高密度織物に実施例１と同
様の親水加工を実施した後、この織物を所定長に切断し
て比較例２のクロスを得た。

【００４１】比較例３−比較例２で用いた高密度織物に
親水加工用水溶液を付与せず、無付与のまま所定のクロ
スを形成して比較例３のクロスを得た。

【００４２】上記実施例及び比較例の緯糸に用いた複合
繊維は、図３（Ｃ）に示す横断面形状を有する複合糸で
あって、放射状部をナイロン、これを補完する８個のセ
グメントをポリエステルで形成しており、出願人の１人
が市販する商品名ベリーマＸ及びベリーマＳＸを使用し
ている。

【００４３】平均粒径０．５μｍ以下の砥粒を含有する
研磨液と、上記実施例１及び比較例１〜３、計４種のク
ロスを使用して市販のＮｉ−Ｐ合金メッキ処理を施した
アルミニウム製基板に図１及び図２に示す方法により夫
々テクスチャー加工を実施し、その表面粗度、加工量
（研削量）及び研磨中のスラリーの分散性を調査し、表
１に示す結果を得た。次いでテクスチャー加工処理の終
了した４種の基板に、夫々、洗浄、スパッタリングを施
した後、更にテクスチャー加工と同一のクロスを用いて
バニッシュ加工を実施し、完成された磁気ディスクを得
た。

【００４４】

【表１】

【００４５】表１に示す１〜５の数字は、各項目毎の調
査結果を良好の５から不良の１まで５段階で評価した格
付を示すもので、例えば、表面粗度の１はこれが均斉で
なく不良であることを、加工量の５は研削量が多く生産
性が高いことを、更にスラリーの分散性の５は研磨中の
スラリーの分散性が良好であることを示す。

【００４６】表１から明らかな通り、本発明の実施例に
よる研磨テープは研磨後の表面粗度及び加工量の点で比
較例のものより優れており、格付３〜４以上を実用上有
効とすると、実施例のものはいずれもこれを充足してい
た。尚本明細書に記載する表面粗度とはＪＩＳＢ０
６０１に規定する表面粗さである。

【００４７】

【発明の効果】以上説明した通り、磁気記録媒体等の製
造過程であるテクスチャー加工或はバニッシュ加工等に
本発明クロスを用いることにより、容易且つ適格に基板
表面の表面粗さを飛躍的に向上せしめることが可能とな
り、又表面粗度の低減化に伴う表面加工量の低下を親水
化剤の附与で解消する。このように、本発明は品質上求
められる表面粗度の低減化と生産効率上求められる加工
量確保の両方を同時に達成し、冒頭に記載する課題の解
消に大きく寄与するのである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るクロスの使用状態を示す斜視図で
ある。

【図２】本発明に係るクロスの使用状態を示す側面図で
ある。

【図３】本クロスに用いる分割型複合繊維の横断面図で
ある。

【図４】本クロスに用いる海島型複合繊維の横断面図で
ある。

【符号の説明】

１基板２表面（基板）３裏面（基板）４，５クロス６，７押圧ロール８，９ノズル１０シリンダー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考） // Ｄ０６Ｍ 101:32 (72)発明者中村健朗滋賀県長浜市鐘紡町１番11号カネボウ繊維株式会社内 (72)発明者近藤徹大阪府大阪市北区梅田１丁目２番２号カネボウ合繊株式会社内Ｆターム(参考） 4L033 AB01 AB05 AC07 BA14 BA16 4L048 AA20 AA24 AA29 AA30 AA35 AB07 AB12 BA01 BA02 CA15 DA21 DA24 EB00 EB05 5D112 AA02 AA24 BA06 GA13

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気記録媒体等の基板表面にワイピング
又は研磨を施すクロスであって、経糸方向及び緯糸方向
の織物カバーファクターの和を２，５００〜４，０００
の範囲とした高密度織物からなり、経糸及び／又は緯糸
に、単糸繊度０．５ｄ以下のマルチフィラメント糸を用
い、該マルチフィラメント糸の総繊度を３０〜２５０ｄ
の範囲に、打込本数を１５０本／インチ以上となし、更
に、前記織物に親水化剤を付与せしめたことを特徴とす
る磁気記録媒体等の製造に用いるクロス。