JP2000300988A - 触媒体およびその製造法 - Google Patents
触媒体およびその製造法Info
- Publication number
- JP2000300988A JP2000300988A JP11114430A JP11443099A JP2000300988A JP 2000300988 A JP2000300988 A JP 2000300988A JP 11114430 A JP11114430 A JP 11114430A JP 11443099 A JP11443099 A JP 11443099A JP 2000300988 A JP2000300988 A JP 2000300988A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- titanium oxide
- alumina
- metal
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 157
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 57
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 21
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims description 16
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 12
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 8
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 7
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 claims description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000011888 foil Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 abstract description 3
- ZZCONUBOESKGOK-UHFFFAOYSA-N aluminum;trinitrate;hydrate Chemical compound O.[Al+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZZCONUBOESKGOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 abstract 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 abstract 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 24
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Inorganic materials [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 5
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Inorganic materials [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N barium nitrate Chemical compound [Ba+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNDZQQSKSQTQQD-UHFFFAOYSA-N 3-methylcyclohex-2-en-1-ol Chemical compound CC1=CC(O)CCC1 XNDZQQSKSQTQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100032566 Carbonic anhydrase-related protein 10 Human genes 0.000 description 1
- 102100033029 Carbonic anhydrase-related protein 11 Human genes 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- 101000867836 Homo sapiens Carbonic anhydrase-related protein 10 Proteins 0.000 description 1
- 101000867841 Homo sapiens Carbonic anhydrase-related protein 11 Proteins 0.000 description 1
- 101001075218 Homo sapiens Gastrokine-1 Proteins 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L azanide;platinum(2+);dinitrite Chemical compound [NH2-].[NH2-].[Pt+2].[O-]N=O.[O-]N=O IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000009965 odorless effect Effects 0.000 description 1
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の触媒体は、塩素ガスに対する浄化能力
は高いが、臭気成分に対する浄化能力は保証されていな
いという課題を有している。 【解決手段】 少なくとも酸化チタンとアルミナおよび
貴金属触媒とを含有する触媒層５を金属基材３から成る
触媒担体に設けた触媒体とするものである。
は高いが、臭気成分に対する浄化能力は保証されていな
いという課題を有している。 【解決手段】 少なくとも酸化チタンとアルミナおよび
貴金属触媒とを含有する触媒層５を金属基材３から成る
触媒担体に設けた触媒体とするものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス中の臭気成
分および塩素系ガスの浄化を行う触媒体およびその製造
法に関するものである。
分および塩素系ガスの浄化を行う触媒体およびその製造
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の酸化触媒体は、セラミック焼結
体、多孔状のブロックやハニカム担持体の表層に活性ア
ルミナを有する無機微粒子と貴金属類とを混合したスラ
リーを焼結担持したものや、セラミック繊維堆積ペーパ
ーのハニカム状成形体に酸化マンガンを主体とする成分
を吸着担持したもの、または触媒成分としてチタン酸化
物を含有し、チタン酸化物の細孔群の細孔径の範囲を限
定した有機ハロゲン化合物除去用触媒（特開平１０ー２
３５１９１）などがあった。
体、多孔状のブロックやハニカム担持体の表層に活性ア
ルミナを有する無機微粒子と貴金属類とを混合したスラ
リーを焼結担持したものや、セラミック繊維堆積ペーパ
ーのハニカム状成形体に酸化マンガンを主体とする成分
を吸着担持したもの、または触媒成分としてチタン酸化
物を含有し、チタン酸化物の細孔群の細孔径の範囲を限
定した有機ハロゲン化合物除去用触媒（特開平１０ー２
３５１９１）などがあった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の触媒体の内で、
多孔状のブロックやハニカム担持体の表層に活性アルミ
ナを有する無機微粒子と貴金属触媒類とを混合したスラ
リーを焼結担持した触媒体は硫化水素、アンモニア、メ
チルメルカプタン、ホルムアルデヒドなどの臭気成分に
対する浄化能力は優れているが、有機塩素系ガスに対す
る浄化能力が低い。また、セラミック繊維堆積ペ−パ−
のハニカム状成形体に二酸化マンガンを主体とする成分
を吸着担持した触媒体は硫黄により被毒されやすく、ま
た耐熱限界が５００℃程度であり触媒寿命が短い。一
方、特開平１０−２３５１９１に示されたチタン酸化物
を含有し、チタン酸化物の細孔群の細孔径の範囲を限定
した有機ハロゲン化合物除去用触媒は塩素系ガスに対す
る浄化能は高いが、臭気成分に対する浄化能に対する効
果は開示されていない。
多孔状のブロックやハニカム担持体の表層に活性アルミ
ナを有する無機微粒子と貴金属触媒類とを混合したスラ
リーを焼結担持した触媒体は硫化水素、アンモニア、メ
チルメルカプタン、ホルムアルデヒドなどの臭気成分に
対する浄化能力は優れているが、有機塩素系ガスに対す
る浄化能力が低い。また、セラミック繊維堆積ペ−パ−
のハニカム状成形体に二酸化マンガンを主体とする成分
を吸着担持した触媒体は硫黄により被毒されやすく、ま
た耐熱限界が５００℃程度であり触媒寿命が短い。一
方、特開平１０−２３５１９１に示されたチタン酸化物
を含有し、チタン酸化物の細孔群の細孔径の範囲を限定
した有機ハロゲン化合物除去用触媒は塩素系ガスに対す
る浄化能は高いが、臭気成分に対する浄化能に対する効
果は開示されていない。
【０００４】本発明はこのような従来の触媒体が有して
いる課題を解決するもので、熱容量が小さく浄化能力に
優れ、２００〜９００℃の温度範囲で使用可能な触媒体
を提供することを目的としている。
いる課題を解決するもので、熱容量が小さく浄化能力に
優れ、２００〜９００℃の温度範囲で使用可能な触媒体
を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の手段の一つは、少なくとも酸化チタンとアル
ミナおよび貴金属触媒とを含有する触媒層を金属基材か
らなる触媒担体に設けた触媒体とする。
に本発明の手段の一つは、少なくとも酸化チタンとアル
ミナおよび貴金属触媒とを含有する触媒層を金属基材か
らなる触媒担体に設けた触媒体とする。
【０００６】また他の手段は、酸化チタンとアルミナお
よび貴金属触媒に加え、少なくとも、バリウム、ストロ
ンチウム、セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以
上を含有する触媒層を金属基材からなる触媒担体に設け
た触媒体とする。
よび貴金属触媒に加え、少なくとも、バリウム、ストロ
ンチウム、セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以
上を含有する触媒層を金属基材からなる触媒担体に設け
た触媒体とする。
【０００７】また他の手段は、前記酸化チタンの結晶形
態、純度、比表面積をそれぞれ最適化した触媒層を金属
基材からなる触媒担体に設けた触媒体とする。
態、純度、比表面積をそれぞれ最適化した触媒層を金属
基材からなる触媒担体に設けた触媒体とする。
【０００８】また、他の手段は加熱不動態化皮膜を有す
る金属基材を触媒担体とする。
る金属基材を触媒担体とする。
【０００９】また他の手段は、酸化チタンとアルミナを
主成分とし、助触媒としてバリウム、ストロンチウム、
セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以上を添加
し、これに少なくともコロイド状アルミナもしくはコロ
イド状シリカあるいは両者の混合物のいずれかを含むス
ラリ−を加熱不動態化皮膜を有する触媒担体上に塗布
し、乾燥焼成後に貴金属硝酸塩水溶液を塗布含浸し、そ
の後乾燥焼成したことを特徴とする触媒体の製造方法で
ある。
主成分とし、助触媒としてバリウム、ストロンチウム、
セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以上を添加
し、これに少なくともコロイド状アルミナもしくはコロ
イド状シリカあるいは両者の混合物のいずれかを含むス
ラリ−を加熱不動態化皮膜を有する触媒担体上に塗布
し、乾燥焼成後に貴金属硝酸塩水溶液を塗布含浸し、そ
の後乾燥焼成したことを特徴とする触媒体の製造方法で
ある。
【００１０】また他の手段は、少なくとも酸化チタンと
アルミナを主成分とし、助触媒としてバリウム、ストロ
ンチウム、セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以
上を添加し、これに少なくともコロイド状アルミナもし
くはコロイド状シリカあるいは両者の混合物のいずれか
を含むスラリーを加熱不動態化皮膜を有する触媒担体に
塗布し、乾燥焼成後にジニトロジアンミン貴金属硝酸塩
水溶液を塗布含浸し、その後乾燥焼成することを特徴と
する触媒体の製造方法である。
アルミナを主成分とし、助触媒としてバリウム、ストロ
ンチウム、セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以
上を添加し、これに少なくともコロイド状アルミナもし
くはコロイド状シリカあるいは両者の混合物のいずれか
を含むスラリーを加熱不動態化皮膜を有する触媒担体に
塗布し、乾燥焼成後にジニトロジアンミン貴金属硝酸塩
水溶液を塗布含浸し、その後乾燥焼成することを特徴と
する触媒体の製造方法である。
【００１１】また、触媒担体に加熱不動態化皮膜を形成
する手段が、少なくとも雰囲気中の酸素が０．０５〜
０．２容積％含有するガス中で加熱焼鈍処理したことを
特徴とする触媒体の製造方法である。
する手段が、少なくとも雰囲気中の酸素が０．０５〜
０．２容積％含有するガス中で加熱焼鈍処理したことを
特徴とする触媒体の製造方法である。
【００１２】
【発明の実施の形態】請求項１記載の発明は、少なくと
も酸化チタンとアルミナおよび貴金属触媒とを有する触
媒層を金属基材からなる触媒担体に設けた触媒体とする
ことにより、活性の高い触媒層を形成し、且つ触媒担体
への強固な密着性を持たせる触媒層を有しているので、
従来に比べて特に臭気成分や塩素系のガスの浄化能力と
耐久能力が共に優れた触媒体を提供できるものである。
も酸化チタンとアルミナおよび貴金属触媒とを有する触
媒層を金属基材からなる触媒担体に設けた触媒体とする
ことにより、活性の高い触媒層を形成し、且つ触媒担体
への強固な密着性を持たせる触媒層を有しているので、
従来に比べて特に臭気成分や塩素系のガスの浄化能力と
耐久能力が共に優れた触媒体を提供できるものである。
【００１３】請求項２記載の発明は、酸化チタンとアル
ミナおよび貴金属触媒と少なくとも、バリウム、ストロ
ンチウム、セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以
上を含有する触媒層を触媒担体に設けた触媒体とするこ
とにより、特に、酢酸臭の分解に効果的に作用し、且つ
触媒担体への強固な密着性を持たせる触媒層を形成して
いるで、従来に比べて触媒能力と耐久能力の双方に優れ
た触媒体を提供できるものである。
ミナおよび貴金属触媒と少なくとも、バリウム、ストロ
ンチウム、セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以
上を含有する触媒層を触媒担体に設けた触媒体とするこ
とにより、特に、酢酸臭の分解に効果的に作用し、且つ
触媒担体への強固な密着性を持たせる触媒層を形成して
いるで、従来に比べて触媒能力と耐久能力の双方に優れ
た触媒体を提供できるものである。
【００１４】請求項３記載の発明は、酸化チタンの結晶
構造をアナタ−ゼ型に限定することで、熱触媒としての
触媒能力と光触媒作用を有する触媒体を提供できるもの
である。
構造をアナタ−ゼ型に限定することで、熱触媒としての
触媒能力と光触媒作用を有する触媒体を提供できるもの
である。
【００１５】請求項４記載の発明は、酸化チタンの純度
を９９％以上とすることで、触媒活性をさらに高めた触
媒体を提供できるものである。
を９９％以上とすることで、触媒活性をさらに高めた触
媒体を提供できるものである。
【００１６】請求項５記載の発明は、比表面積が１００
〜５００ｍ2／ｇの酸化チタンを含有した触媒体とする
ことにより、さらに活性を高めた触媒体を提供できるも
のである。
〜５００ｍ2／ｇの酸化チタンを含有した触媒体とする
ことにより、さらに活性を高めた触媒体を提供できるも
のである。
【００１７】請求項６記載の発明は、触媒担体を加熱不
動態化皮膜を有する金属基材とすることで、触媒層と触
媒担体との密着性をより強固にした触媒体を提供できる
ものである。
動態化皮膜を有する金属基材とすることで、触媒層と触
媒担体との密着性をより強固にした触媒体を提供できる
ものである。
【００１８】請求項７記載の発明は、酸化チタンとアル
ミナを主成分とし、助触媒としてバリウム、ストロンチ
ウム、セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以上を
添加し、これに少なくともコロイド状アルミナもしくは
コロイド状シリカあるいは両者の混合物のいずれかを含
む分散スラリ−を加熱不動態化皮膜を有する触媒担体上
に塗布し、乾燥焼成後に貴金属硝酸塩水溶液を塗布含浸
し、その後乾燥焼成した触媒体の製造法としているの
で、極めて表層部分に貴金属の密度の高い触媒体を形成
させることができる。従って従来に見られない浄化能力
を発揮するものとなる。この触媒体の特質としてアンダ
ーコートの成分としてバリウム、ストロンチウム、セリ
ウム、ランタンのうちの一種以上の酸化物を使用するこ
とで従来の酸化マンガン触媒で転化不良のために発生し
ていた酢酸臭気を全く発生することなく完全に無臭の状
態に浄化する能力を有する触媒体の製造方法を提供する
ことができる。
ミナを主成分とし、助触媒としてバリウム、ストロンチ
ウム、セリウム、ランタンの酸化物のうちの一種以上を
添加し、これに少なくともコロイド状アルミナもしくは
コロイド状シリカあるいは両者の混合物のいずれかを含
む分散スラリ−を加熱不動態化皮膜を有する触媒担体上
に塗布し、乾燥焼成後に貴金属硝酸塩水溶液を塗布含浸
し、その後乾燥焼成した触媒体の製造法としているの
で、極めて表層部分に貴金属の密度の高い触媒体を形成
させることができる。従って従来に見られない浄化能力
を発揮するものとなる。この触媒体の特質としてアンダ
ーコートの成分としてバリウム、ストロンチウム、セリ
ウム、ランタンのうちの一種以上の酸化物を使用するこ
とで従来の酸化マンガン触媒で転化不良のために発生し
ていた酢酸臭気を全く発生することなく完全に無臭の状
態に浄化する能力を有する触媒体の製造方法を提供する
ことができる。
【００１９】請求項８記載の発明は、貴金属硝酸塩の水
溶液が白金ジニトロジアンミン硝酸溶液とパラジウムジ
ニトロジアンミン硝酸溶液、ロジウムジニトロジアンミ
ン硝酸溶液の中の少なくとも一種を含むことを特徴とす
ることにより、触媒体表層部分に高密度の触媒を形成す
る方法としているので、浄化すべきガスに含まれる水蒸
気に影響されることなく、且つ２００〜９００℃の温度
範囲で高活性を示す触媒体の製造方法を提供することが
できる。
溶液が白金ジニトロジアンミン硝酸溶液とパラジウムジ
ニトロジアンミン硝酸溶液、ロジウムジニトロジアンミ
ン硝酸溶液の中の少なくとも一種を含むことを特徴とす
ることにより、触媒体表層部分に高密度の触媒を形成す
る方法としているので、浄化すべきガスに含まれる水蒸
気に影響されることなく、且つ２００〜９００℃の温度
範囲で高活性を示す触媒体の製造方法を提供することが
できる。
【００２０】請求項９記載の発明における加熱不動態化
皮膜を有する金属基材は、少なくとも雰囲気中の酸素が
０．０５〜０．２容量％含有するガス中で加熱焼鈍処理
したものである。この処理は上記の加熱雰囲気中１０５
０℃程度で実施するもので、黒色状メッキ様の凹凸のあ
る加熱不動態皮膜が形成され、アンダーコートの塗布焼
成時にこの成分である酸化チタン、アルミナ或いは酸化
チタン、アルミナ、バリウム酸化物との相互密着が発生
するため、金属基材上にアンダーコートが強固に密着保
持し続ける形成を可能にし、さらに担体上に形成させた
加熱不動態化皮膜が耐食性を発揮する触媒体を製造す
る。これに該当する雰囲気は都市ガス燃焼排ガス中での
加熱焼鈍処理（一般的にはＤＸ処理とも称する）、プロ
パン燃焼排ガス中での加熱焼鈍処理（ＲＸ処理）、上記
の酸素濃度である窒素雰囲気、同上酸素濃度にある炭酸
ガス雰囲気で実施する。
皮膜を有する金属基材は、少なくとも雰囲気中の酸素が
０．０５〜０．２容量％含有するガス中で加熱焼鈍処理
したものである。この処理は上記の加熱雰囲気中１０５
０℃程度で実施するもので、黒色状メッキ様の凹凸のあ
る加熱不動態皮膜が形成され、アンダーコートの塗布焼
成時にこの成分である酸化チタン、アルミナ或いは酸化
チタン、アルミナ、バリウム酸化物との相互密着が発生
するため、金属基材上にアンダーコートが強固に密着保
持し続ける形成を可能にし、さらに担体上に形成させた
加熱不動態化皮膜が耐食性を発揮する触媒体を製造す
る。これに該当する雰囲気は都市ガス燃焼排ガス中での
加熱焼鈍処理（一般的にはＤＸ処理とも称する）、プロ
パン燃焼排ガス中での加熱焼鈍処理（ＲＸ処理）、上記
の酸素濃度である窒素雰囲気、同上酸素濃度にある炭酸
ガス雰囲気で実施する。
【００２１】
【実施例】（実施例１）以下、本発明の請求項１、６、
８、９に対応する一実施例について説明する。
８、９に対応する一実施例について説明する。
【００２２】本発明では触媒担体の形状を限定するもの
ではないが図１に本発明で用いた金属基材からなる触媒
担体の形状の一実施例を示す。触媒担体の形状は一般的
なコルゲ−トタイプの金属担体であり、金属箔の平板１
と波付け加工された金属箔である波板２を交互になるよ
うに巻回することによって構成されている。材料は平板
１、波板２ともに耐食性ステンレス鋼ＮＡＲ−ＦＣ４
（住友金属工業製）の厚み０．１ｍｍのものである。コ
ルゲ−ト加工後の触媒担体の形状は外径寸法がφ４５、
高さが４０ｍｍの円筒形（シェル数・２００個／平方イ
ンチ）とした。その後、前記触媒担体にＤＸ処理を施す
ことで不動態化皮膜を基材表面に形成させる。
ではないが図１に本発明で用いた金属基材からなる触媒
担体の形状の一実施例を示す。触媒担体の形状は一般的
なコルゲ−トタイプの金属担体であり、金属箔の平板１
と波付け加工された金属箔である波板２を交互になるよ
うに巻回することによって構成されている。材料は平板
１、波板２ともに耐食性ステンレス鋼ＮＡＲ−ＦＣ４
（住友金属工業製）の厚み０．１ｍｍのものである。コ
ルゲ−ト加工後の触媒担体の形状は外径寸法がφ４５、
高さが４０ｍｍの円筒形（シェル数・２００個／平方イ
ンチ）とした。その後、前記触媒担体にＤＸ処理を施す
ことで不動態化皮膜を基材表面に形成させる。
【００２３】このＤＸ処理は、都市ガスと空気を理論空
気比以下で燃焼させ、燃焼排ガス中の水分を除湿した
後、１０５０℃の電気炉中に充満させ、この雰囲気下で
加熱焼鈍処理するものである。なお、雰囲気ガス発生は
大阪ガス株式会社製の装置を使用した。
気比以下で燃焼させ、燃焼排ガス中の水分を除湿した
後、１０５０℃の電気炉中に充満させ、この雰囲気下で
加熱焼鈍処理するものである。なお、雰囲気ガス発生は
大阪ガス株式会社製の装置を使用した。
【００２４】ＤＸ処理を施した触媒担体に後述するアン
ダーコートスラリーを５．０ｇ塗布した後、１３０℃×
２０分乾燥、６００℃×２０分焼成し、アンダーコート
層を形成した。次に、１．９重量％のジニトロジアンミ
ン白金硝酸水溶液と１．９重量％のジニトロジアンミン
パラジウム硝酸水溶液とを２／１の比で混合し５．０ｇ
（貴金属重量として１．５ｇ／担体１リットル）塗布し
た。その後、１３０℃×２０分乾燥、６００℃×２０分
焼成し触媒体３を作製した。
ダーコートスラリーを５．０ｇ塗布した後、１３０℃×
２０分乾燥、６００℃×２０分焼成し、アンダーコート
層を形成した。次に、１．９重量％のジニトロジアンミ
ン白金硝酸水溶液と１．９重量％のジニトロジアンミン
パラジウム硝酸水溶液とを２／１の比で混合し５．０ｇ
（貴金属重量として１．５ｇ／担体１リットル）塗布し
た。その後、１３０℃×２０分乾燥、６００℃×２０分
焼成し触媒体３を作製した。
【００２５】次に、アンダーコートスラリーの調製につ
いて詳述する。スラリー組成物Ａは次の様にして調製し
た。酸化チタンは比表面積が３００ｍ2／ｇ、純度が９
９．５％でアナタ−ゼ型の結晶構造のものを用いた。配
合比は前記酸化チタン３００重量部、活性アルミナ１０
０重量部、硝酸アルミニウム９水和物を５０重量部、コ
ロイド状アルミナを１２０重量部、イオン交換水を７４
０重量部として、これを２リットルボールミルで２時間
混合してアンダーコートスラリーを得た。
いて詳述する。スラリー組成物Ａは次の様にして調製し
た。酸化チタンは比表面積が３００ｍ2／ｇ、純度が９
９．５％でアナタ−ゼ型の結晶構造のものを用いた。配
合比は前記酸化チタン３００重量部、活性アルミナ１０
０重量部、硝酸アルミニウム９水和物を５０重量部、コ
ロイド状アルミナを１２０重量部、イオン交換水を７４
０重量部として、これを２リットルボールミルで２時間
混合してアンダーコートスラリーを得た。
【００２６】このようにして作製した本発明の触媒体の
断面構成を模式図で図２に示した。この図において、３
は金属基材、３ａは加熱不動態化皮膜、４はアンダーコ
ート層、５は貴金属触媒層である。
断面構成を模式図で図２に示した。この図において、３
は金属基材、３ａは加熱不動態化皮膜、４はアンダーコ
ート層、５は貴金属触媒層である。
【００２７】次に本触媒体の浄化性能測定装置を図３に
示した測定装置を参照して説明する。６は空気を送るた
めのコンプレッサ−、７は空気量を調節するための流量
調整器Ａ（マスフロ−コントロ−ラ−）、８は液体を蒸
発させて測定ガスを発生させるガス発生器（パ−ミエ−
タ−）、９は測定ガスを一定の濃度に希釈して充填した
ガスボンベ、ガスボンベ９とガス発生器８は切り替えコ
ック１０を切り替えて使い分ける。１１は流量調整器Ｂ
でガスボンベ９からの流量を調節する。１２は測定ガス
を触媒体に導入するための配管、１３は測定ガスの混合
拡散を行うための整流板、１４は本発明の触媒体、１５
はガス漏れを防止するためのセラミックウールシ−ル
材、１６は測定ガスを採取するためのサンプリング管
Ａ、１７は浄化ガスを採取すためのサンプリング管Ｂ、
１８は触媒体を加熱するマッフル炉、１９は浄化ガスの
排出口２０を備えた触媒体保持容器で石英管で作られて
いる。
示した測定装置を参照して説明する。６は空気を送るた
めのコンプレッサ−、７は空気量を調節するための流量
調整器Ａ（マスフロ−コントロ−ラ−）、８は液体を蒸
発させて測定ガスを発生させるガス発生器（パ−ミエ−
タ−）、９は測定ガスを一定の濃度に希釈して充填した
ガスボンベ、ガスボンベ９とガス発生器８は切り替えコ
ック１０を切り替えて使い分ける。１１は流量調整器Ｂ
でガスボンベ９からの流量を調節する。１２は測定ガス
を触媒体に導入するための配管、１３は測定ガスの混合
拡散を行うための整流板、１４は本発明の触媒体、１５
はガス漏れを防止するためのセラミックウールシ−ル
材、１６は測定ガスを採取するためのサンプリング管
Ａ、１７は浄化ガスを採取すためのサンプリング管Ｂ、
１８は触媒体を加熱するマッフル炉、１９は浄化ガスの
排出口２０を備えた触媒体保持容器で石英管で作られて
いる。
【００２８】次に、この動作を説明する。測定する臭気
物質が液体（例えばトルエンなど）の場合、ガス発生器
８に測定する液体を入れてコンプレッサ−６からの空気
で蒸発させながら臭気物質を発生させる。コンプレッサ
−からの空気量は流量調整器Ａ７で調整して空間スピー
ド（ＳＶ値）３０００／ｈｒ（触媒の体積に対する１ｈ
ｒ当りのガス流量負荷）とし、切り替えコック１０から
配管１２を通って流入するガスをマッフル炉１８で加熱
した触媒体１４に導入する。触媒体１４の温度は２００
〜７００℃の間変化させ、浄化の状態をサンプリング管
１６、１７からガスを採取して触媒体１４の入り口と出
口のガス濃度をガスクロマトグラフィ−または北川式ガ
ス検知管で測定し、浄化率を求めた。
物質が液体（例えばトルエンなど）の場合、ガス発生器
８に測定する液体を入れてコンプレッサ−６からの空気
で蒸発させながら臭気物質を発生させる。コンプレッサ
−からの空気量は流量調整器Ａ７で調整して空間スピー
ド（ＳＶ値）３０００／ｈｒ（触媒の体積に対する１ｈ
ｒ当りのガス流量負荷）とし、切り替えコック１０から
配管１２を通って流入するガスをマッフル炉１８で加熱
した触媒体１４に導入する。触媒体１４の温度は２００
〜７００℃の間変化させ、浄化の状態をサンプリング管
１６、１７からガスを採取して触媒体１４の入り口と出
口のガス濃度をガスクロマトグラフィ−または北川式ガ
ス検知管で測定し、浄化率を求めた。
【００２９】これと同様にして、ガス状の臭気物質は一
定の濃度に希釈して充填したガスボンベ９から流量調整
器Ｂ１１で流量を調整して切り替えコック１０を通して
触媒体１４に導入する。測定は前記液状の臭気物質と同
様の方法で行った。
定の濃度に希釈して充填したガスボンベ９から流量調整
器Ｂ１１で流量を調整して切り替えコック１０を通して
触媒体１４に導入する。測定は前記液状の臭気物質と同
様の方法で行った。
【００３０】測定した臭気物質はエタノ−ル、硫化ジメ
チル、アンモニア、塩素系ガスとしてトリクロロベンゼ
ン、について浄化性能を測定した。比較品としてセラミ
ック繊維堆積ペ−パ−のハニカム状成形体（シェル数・
３００個／平方インチ）を基材とし、二酸化マンガンを
触媒種とした触媒体により、上記と同様にして浄化性能
を測定した。測定したこれらの結果を表１に示す。
チル、アンモニア、塩素系ガスとしてトリクロロベンゼ
ン、について浄化性能を測定した。比較品としてセラミ
ック繊維堆積ペ−パ−のハニカム状成形体（シェル数・
３００個／平方インチ）を基材とし、二酸化マンガンを
触媒種とした触媒体により、上記と同様にして浄化性能
を測定した。測定したこれらの結果を表１に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】表１に示しているように、初期の状態は比
較品に対して本実施例の触媒体は各種ガスの浄化性能が
優れている。特に塩素系ガスの浄化特性は明らかに本実
施例が優れている。また、１５重量％のエタノ−ル３０
ｇを蒸発させて触媒体を通過させた時に中間体として発
生する酢酸の排出状態を試験した結果も表１に併記し
た。この結果からも明らかなように本発明品が優れてお
り、特に酢酸の浄化能力に優れている結果を示してい
る。
較品に対して本実施例の触媒体は各種ガスの浄化性能が
優れている。特に塩素系ガスの浄化特性は明らかに本実
施例が優れている。また、１５重量％のエタノ−ル３０
ｇを蒸発させて触媒体を通過させた時に中間体として発
生する酢酸の排出状態を試験した結果も表１に併記し
た。この結果からも明らかなように本発明品が優れてお
り、特に酢酸の浄化能力に優れている結果を示してい
る。
【００３３】（実施例２）請求項２、請求項７に対応す
る実施例で、触媒体の製造工程については実施例１と概
略は同じであるが、アンダーコートスラリーの調製方法
のみ異なっているので、以下にこの調製方法を詳述す
る。
る実施例で、触媒体の製造工程については実施例１と概
略は同じであるが、アンダーコートスラリーの調製方法
のみ異なっているので、以下にこの調製方法を詳述す
る。
【００３４】アンダーコートスラリーは以下のようにし
て調製した。配合比は酸化チタン（実施例１と同じ）３
００重量部、活性アルミナ１００重量部、硝酸アルミニ
ウム９水和物を５０重量部、硝酸バリウム２５重量部、
コロイド状アルミナを１２０重量部、イオン交換水を７
９０重量部とし、これを２リットルボールミルで２時間
混合してスラリー組成物Ｂを得た。
て調製した。配合比は酸化チタン（実施例１と同じ）３
００重量部、活性アルミナ１００重量部、硝酸アルミニ
ウム９水和物を５０重量部、硝酸バリウム２５重量部、
コロイド状アルミナを１２０重量部、イオン交換水を７
９０重量部とし、これを２リットルボールミルで２時間
混合してスラリー組成物Ｂを得た。
【００３５】このようにして得られた触媒体は、実施例
１で得られる触媒体に比べて、酸化チタンの比表面積の
低下が少なく、２００〜９００℃の温度範囲において、
浄化性能は同等の性能を示すものであるが、耐久性にお
いて優れている。バリウム酸化物の代わりにセリウム、
ストロンチウム、ランタンの酸化物を添加しても同様の
効果が得られた。１５重量％エタノール水溶液の浄化性
能は酢酸２ｐｐｍ、ホルムアルデヒドは検出なしの結果
を示した。従って、酢酸およびホルムアルデヒドの浄化
に特異性を示す触媒体をもたらすものである。
１で得られる触媒体に比べて、酸化チタンの比表面積の
低下が少なく、２００〜９００℃の温度範囲において、
浄化性能は同等の性能を示すものであるが、耐久性にお
いて優れている。バリウム酸化物の代わりにセリウム、
ストロンチウム、ランタンの酸化物を添加しても同様の
効果が得られた。１５重量％エタノール水溶液の浄化性
能は酢酸２ｐｐｍ、ホルムアルデヒドは検出なしの結果
を示した。従って、酢酸およびホルムアルデヒドの浄化
に特異性を示す触媒体をもたらすものである。
【００３６】（実施例３）請求項３、４、５に対応する
実施例で酸化チタンの結晶構造、純度、被表面積と脱臭
性能について実験したものである。
実施例で酸化チタンの結晶構造、純度、被表面積と脱臭
性能について実験したものである。
【００３７】酸化チタンの結晶構造はチタン原子を中心
に６個の酸素原子が八面体を構成しており、チタンの配
位数は６である。この八面体の連なり方には３種類あ
り、それぞれアナタ−ゼ、ルチル、ブルカイトと呼ばれ
ている。アナタ−ゼとルチルは正方晶系であるが、ブル
カイトは斜方晶系である。３種類の結晶構造の中ではル
チル型が最も安定でアナターゼおよびブルカイトは転移
抑制剤や促進剤がない場合にはそれぞれ９１５℃および
６５０℃以上でルチルに不可逆的に転移する。
に６個の酸素原子が八面体を構成しており、チタンの配
位数は６である。この八面体の連なり方には３種類あ
り、それぞれアナタ−ゼ、ルチル、ブルカイトと呼ばれ
ている。アナタ−ゼとルチルは正方晶系であるが、ブル
カイトは斜方晶系である。３種類の結晶構造の中ではル
チル型が最も安定でアナターゼおよびブルカイトは転移
抑制剤や促進剤がない場合にはそれぞれ９１５℃および
６５０℃以上でルチルに不可逆的に転移する。
【００３８】触媒体の作製は実施例１の配合比で酸化チ
タンの結晶構造だけをかえて行った。浄化能の測定も実
施例１と同様の方法で行った。実験結果を表２に示す。
タンの結晶構造だけをかえて行った。浄化能の測定も実
施例１と同様の方法で行った。実験結果を表２に示す。
【００３９】
【表２】
【００４０】表２から明らかなように、３種類の結晶構
造の中ではアナタ−ゼ型の酸化チタンの浄化性能が優れ
ていた。
造の中ではアナタ−ゼ型の酸化チタンの浄化性能が優れ
ていた。
【００４１】次に酸化チタンの純度について実験した結
果を表３に示す。
果を表３に示す。
【００４２】
【表３】
【００４３】表３から明らかなように、純度が９９．０
％以上になると浄化特性が大幅に改善する。これは不純
物として酸化チタンに含まれているＳＯ2の影響が大き
いためと思われる。
％以上になると浄化特性が大幅に改善する。これは不純
物として酸化チタンに含まれているＳＯ2の影響が大き
いためと思われる。
【００４４】次に酸化チタンの比表面積の影響について
実験した結果を表４に示す。
実験した結果を表４に示す。
【００４５】
【表４】
【００４６】表４から明らかなように、比表面積が１０
０ｍ2／ｇ以上になると浄化特性の著しい改善が認めら
れるが５００ｍ2／ｇを越えると粒径が細かくなりすぎ
て加工性が極端に悪くなる。したがって、本発明の触媒
体用としては比表面積が１００〜５００ｍ2／ｇの２酸
化チタンが適している。加工性を加味すると好ましくは
３００ｍ2／ｇ前後のものが適している。
０ｍ2／ｇ以上になると浄化特性の著しい改善が認めら
れるが５００ｍ2／ｇを越えると粒径が細かくなりすぎ
て加工性が極端に悪くなる。したがって、本発明の触媒
体用としては比表面積が１００〜５００ｍ2／ｇの２酸
化チタンが適している。加工性を加味すると好ましくは
３００ｍ2／ｇ前後のものが適している。
【００４７】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、少なくと
も酸化チタンとアルミナと貴金属触媒とを有する活性の
高い触媒層を加熱不動態化皮膜を有する金属基材に設け
ているので、従来に比べて触媒層の密着性が強く脱臭性
能、有機塩素系ガスの触媒浄化能力と耐久性に優れた触
媒体を提供できるものである。
も酸化チタンとアルミナと貴金属触媒とを有する活性の
高い触媒層を加熱不動態化皮膜を有する金属基材に設け
ているので、従来に比べて触媒層の密着性が強く脱臭性
能、有機塩素系ガスの触媒浄化能力と耐久性に優れた触
媒体を提供できるものである。
【００４８】請求項２記載の発明によれば、酸化チタン
とアルミナおよび貴金属触媒と少なくとも、バリウム、
セリウム、ストロンチウム、ランタンの酸化物のうちの
一種以上を含有する活性の高い触媒層を不動態化皮膜を
有する触媒担体に設けているので、従来に比較して触媒
浄化能力と耐久性に優れた触媒体であり、また、酢酸と
ホルムアルデヒドの浄化性能に優れている触媒体を提供
できる。
とアルミナおよび貴金属触媒と少なくとも、バリウム、
セリウム、ストロンチウム、ランタンの酸化物のうちの
一種以上を含有する活性の高い触媒層を不動態化皮膜を
有する触媒担体に設けているので、従来に比較して触媒
浄化能力と耐久性に優れた触媒体であり、また、酢酸と
ホルムアルデヒドの浄化性能に優れている触媒体を提供
できる。
【００４９】請求項３記載の発明によれば、アナタ−ゼ
型の結晶構造の酸化チタンを用いることで、熱触媒とし
ても優れた浄化能力を発揮する。また、触媒体の昇温も
すばやく、従来に比べて即熱できる触媒の提供ができ
る。
型の結晶構造の酸化チタンを用いることで、熱触媒とし
ても優れた浄化能力を発揮する。また、触媒体の昇温も
すばやく、従来に比べて即熱できる触媒の提供ができ
る。
【００５０】請求項４記載の発明によれば、純度が９９
％以上の酸化チタンを用いることで、触媒活性をさらに
高めた触媒体を提供できる。
％以上の酸化チタンを用いることで、触媒活性をさらに
高めた触媒体を提供できる。
【００５１】請求項５記載の発明によれば、比表面積が
１００〜５００ｍ2／ｇの酸化チタンを用いることで、
貴金属触媒の分散性が改善され触媒活性をさらに高めた
触媒体を提供できる。
請求項６記載の発明によれば、触媒
担体を加熱不動態化皮膜を有する金属基材とすること
で、触媒層と触媒担体との密着性をより強固にした触媒
体を提供できるものである。
１００〜５００ｍ2／ｇの酸化チタンを用いることで、
貴金属触媒の分散性が改善され触媒活性をさらに高めた
触媒体を提供できる。
請求項６記載の発明によれば、触媒
担体を加熱不動態化皮膜を有する金属基材とすること
で、触媒層と触媒担体との密着性をより強固にした触媒
体を提供できるものである。
【００５２】請求項７記載の発明によれば、酸化チタン
とアルミナを主成分とし、助触媒としてバリウム、セリ
ウム、ストロンチウム、ランタンの酸化物の一種以上を
添加し、これに少なくともコロイド状アルミナもしくは
コロイド状シリカあるいは両者の混合物のいずれかを含
む分散スラリ−を加熱不動態化皮膜を有する金属基材上
に塗布し、乾燥焼成後に貴金属硝酸塩水溶液を塗布含浸
し、その後乾燥焼成した触媒体の製造法としているの
で、極めて表層部分に貴金属の密度の高い触媒体を形成
させることができる。従って従来に見られない浄化能力
を発揮するものとなる。また、触媒体は表面部分に貴金
属濃度の高い状態で製造されることから従来に比べて触
媒の浄化能力と耐久性に優れた触媒体を提供できるもの
である。また、ホルムアルデヒドの浄化性能に優れてい
る触媒体の製造方法が提供できる。
とアルミナを主成分とし、助触媒としてバリウム、セリ
ウム、ストロンチウム、ランタンの酸化物の一種以上を
添加し、これに少なくともコロイド状アルミナもしくは
コロイド状シリカあるいは両者の混合物のいずれかを含
む分散スラリ−を加熱不動態化皮膜を有する金属基材上
に塗布し、乾燥焼成後に貴金属硝酸塩水溶液を塗布含浸
し、その後乾燥焼成した触媒体の製造法としているの
で、極めて表層部分に貴金属の密度の高い触媒体を形成
させることができる。従って従来に見られない浄化能力
を発揮するものとなる。また、触媒体は表面部分に貴金
属濃度の高い状態で製造されることから従来に比べて触
媒の浄化能力と耐久性に優れた触媒体を提供できるもの
である。また、ホルムアルデヒドの浄化性能に優れてい
る触媒体の製造方法が提供できる。
【００５３】請求項８記載の発明によれば、酸化チタン
とアルミナを主成分とし、助触媒としてバリウム、セリ
ウム、ストロンチウム、ランタンの酸化物の一種以上を
添加し、これに少なくともコロイド状アルミナもしくは
コロイド状シリカあるいは両者の混合物のいずれかを含
む分散スラリ−を加熱不動態化皮膜を有する金属基材上
に塗布し、乾燥焼成後、白金ジニトロジアンミン硝酸溶
液とパラジウムジニトロジアンミン硝酸溶液とロジウム
ジニトロジアンミン硝酸溶液の少なくともいずれか一方
を含む水溶液により触媒体を製造するので、触媒体の表
面層に高濃度の貴金属触媒層を形成できるので、ガス中
に含まれる水蒸気にほとんど影響されることなく、２０
０〜９００℃の温度範囲で高活性を確保できる触媒体の
製造方法が提供できる。
とアルミナを主成分とし、助触媒としてバリウム、セリ
ウム、ストロンチウム、ランタンの酸化物の一種以上を
添加し、これに少なくともコロイド状アルミナもしくは
コロイド状シリカあるいは両者の混合物のいずれかを含
む分散スラリ−を加熱不動態化皮膜を有する金属基材上
に塗布し、乾燥焼成後、白金ジニトロジアンミン硝酸溶
液とパラジウムジニトロジアンミン硝酸溶液とロジウム
ジニトロジアンミン硝酸溶液の少なくともいずれか一方
を含む水溶液により触媒体を製造するので、触媒体の表
面層に高濃度の貴金属触媒層を形成できるので、ガス中
に含まれる水蒸気にほとんど影響されることなく、２０
０〜９００℃の温度範囲で高活性を確保できる触媒体の
製造方法が提供できる。
【００５４】請求項９記載の発明によれば、触媒担体は
ガス燃焼排ガス中で加熱焼鈍処理して加熱不動態化皮膜
を有する基材とすることから、少なくとも雰囲気中の酸
素が０．０５〜０．２容量％を含有するガス雰囲気中で
加熱焼鈍処理したものにより、触媒体を製造することか
ら基材と触媒層が強固に密着し、耐食性に優れた触媒体
の製造を可能にする。
ガス燃焼排ガス中で加熱焼鈍処理して加熱不動態化皮膜
を有する基材とすることから、少なくとも雰囲気中の酸
素が０．０５〜０．２容量％を含有するガス雰囲気中で
加熱焼鈍処理したものにより、触媒体を製造することか
ら基材と触媒層が強固に密着し、耐食性に優れた触媒体
の製造を可能にする。
【図１】本発明の触媒体の一実施例における基材の構成
を示す斜視図
を示す斜視図
【図２】本発明の触媒体の構成を示す断面図
【図３】本発明の触媒体の性能を測定する浄化性能測定
装置の構成を示す断面図
装置の構成を示す断面図
３ 金属基材 ３ａ 加熱不動態化皮膜 ４ アンダーコート層 ５ 触媒層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 23/58 Ｂ０１Ｊ 35/02 Ｊ 32/00 35/04 ３０１Ｚ 35/02 37/02 １０１Ａ 35/04 ３０１ ３０１Ｆ 37/02 １０１ Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｈ ３０１ ＺＡＢＪ (72)発明者 守屋 好文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 ▲徳▼満 修三 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 4D048 AA11 AA22 AB01 AB03 AB05 BA03X BA06X BA07X BA13X BA15X BA18X BA19X BA30X BA31X BA33Y BA41X BB02 EA01 4G069 AA01 AA04 AA08 AA09 AA11 AA12 AA14 BA01A BA01B BA01C BA02B BA02C BA04A BA04B BA04C BA17 BA18 BA48A BA48C BB04A BB04B BB04C BC12A BC12B BC13A BC13B BC42A BC42B BC43A BC43B BC71A BC72A BC72B BC72C BC75A BC75B BC75C CA02 CA07 CA10 CA11 CA17 DA06 EA19 EC03X EC22X EC27 FA01 FA02 FA03 FA04 FA06 FB14 FB16 FB23 FC02
Claims (9)
- 【請求項１】 少なくとも、酸化チタン、アルミナおよ
び貴金属触媒とを有する触媒層を金属基材からなる触媒
担体に設けた触媒体。 - 【請求項２】 バリウム、セリウム、ストロンチウム、
ランタンの酸化物の一種以上を含有する請求項１記載の
触媒体 - 【請求項３】 酸化チタンの結晶構造がアナタ−ゼ型で
ある請求項１〜２記載の触媒体 - 【請求項４】 酸化チタンの純度が９９％以上である請
求項１〜３記載の触媒体 - 【請求項５】 酸化チタンの比表面積が１００〜５００
ｍ2／ｇである請求項１〜４記載の触媒体 - 【請求項６】 触媒担体が加熱不動態化皮膜を有する金
属基材である請求項１〜５記載の触媒体。 - 【請求項７】 酸化チタンとアルミナを主成分とし、助
触媒としてバリウム、ストロンチウム、セリウム、ラン
タンの酸化物のうちの一種以上を添加し、これに少なく
ともコロイド状アルミナもしくはコロイド状シリカある
いは両者の混合物のいずれかを含むスラリ−を加熱不動
態化皮膜を有する触媒担体上に塗布し、乾燥焼成後に貴
金属硝酸塩水溶液を塗布含浸し、その後乾燥焼成する触
媒体の製造法。 - 【請求項８】 貴金属硝酸塩の水溶液が、白金ジニトロ
ジアンミン硝酸溶液とパラジウムジニトロジアンミン硝
酸溶液、ロジウムジニトロジアンミン硝酸溶液のうちの
少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項７記載の
触媒体の製造法。 - 【請求項９】 触媒担体が、少なくとも雰囲気中の酸素
が０．０５〜０．２容積％含有するガス中で加熱焼鈍処
理して加熱不動態化皮膜を形成した金属基材である請求
項７〜８記載の触媒体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11114430A JP2000300988A (ja) | 1999-04-22 | 1999-04-22 | 触媒体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11114430A JP2000300988A (ja) | 1999-04-22 | 1999-04-22 | 触媒体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000300988A true JP2000300988A (ja) | 2000-10-31 |
Family
ID=14637531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11114430A Pending JP2000300988A (ja) | 1999-04-22 | 1999-04-22 | 触媒体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000300988A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007330864A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Nissan Motor Co Ltd | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
| CN101947447A (zh) * | 2010-09-10 | 2011-01-19 | 山东大学 | 可图案化环境催化材料及其浆料的制备 |
-
1999
- 1999-04-22 JP JP11114430A patent/JP2000300988A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007330864A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Nissan Motor Co Ltd | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
| CN101947447A (zh) * | 2010-09-10 | 2011-01-19 | 山东大学 | 可图案化环境催化材料及其浆料的制备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3956437B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| EP2104567B1 (en) | Method of making a NOx storage material | |
| JP4725034B2 (ja) | ２重層コーティング構造のパラジウム三元触媒の製造方法 | |
| EP0960649B1 (en) | Exhaust gas clean-up catalyst | |
| CA1100292A (en) | Catalysis | |
| JPH04224220A (ja) | ハニカムヒーター及び触媒コンバーター | |
| US4910180A (en) | Catalyst and process for its preparation | |
| JPH01270946A (ja) | 排ガス浄化用触媒およびその製造および使用 | |
| JPH10277394A (ja) | 自動車排ガス触媒及びその製法 | |
| JP5327048B2 (ja) | 排ガス浄化触媒担体の製造方法および排ガス浄化触媒担体 | |
| JP2007504945A (ja) | 多層化アンモニア酸化触媒 | |
| CN110876944A (zh) | 一种用于催化燃烧的催化剂及其制备方法 | |
| US5102853A (en) | Three-way catalyst for automotive emission control | |
| JPS58156349A (ja) | 排ガス浄化用三元触媒 | |
| JP2000300988A (ja) | 触媒体およびその製造法 | |
| JP4298071B2 (ja) | 排ガス浄化材及びその製造方法 | |
| JPH04250852A (ja) | 含炭素化合物を酸化するための触媒およびその製造方法 | |
| JP3327164B2 (ja) | 触媒体およびその製造方法 | |
| JP4303799B2 (ja) | リーンＮＯｘ浄化用触媒の製造方法 | |
| JP2001046870A (ja) | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化システム | |
| JPS62149343A (ja) | 高温耐熱触媒の製造方法 | |
| CN115990486B (zh) | 用于含溴有机废气净化的整体型非贵金属催化剂及其制备方法和应用 | |
| JP5412104B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP4721241B2 (ja) | Ｃｏシフト反応用触媒 | |
| JP2005021878A (ja) | 排ガス浄化触媒及びその製造方法 |