JP2000299510A - 圧電素子及びその製造方法並びにそれを用いたインクジェットヘッド及びその製造方法 - Google Patents

圧電素子及びその製造方法並びにそれを用いたインクジェットヘッド及びその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低電圧で駆動が可能で、高密度で、小型のイ
ンクジェットヘッドの作製を可能とする。 【解決手段】 共通電極3と、共通電極3上にPb,Zr,Ti
を主成分とするペロブスカイト型誘電体薄膜で積層した
圧電体2と、さらに圧電体上に積層した個別電極1とを
有する圧電素子4において、圧電体2のPbと、Zr及びTi
との組成比:Pb/(Zr+Ti)が1より大きくかつ1.3以下
であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、圧電素子及びその
製造方法並びにその圧電素子を用いたインクジェットヘ
ッド及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、パソコンなどの印刷装置としてイ
ンクジェットヘッドを用いたプリンタが印字性能がよく
取り扱いが簡単、低コストなどの理由から広く普及して
いる。
【0003】このインクジェットヘッドには、熱エネル
ギーによってインク中に気泡を発生させ、その気泡によ
る圧力波によりインク滴を吐出させるもの、静電力によ
りインク滴を吸引吐出させるもの、圧電素子のような振
動子による圧力波を利用したもの等、種々の方式があ
る。
【0004】一般に、圧電素子を用いたものは、例え
ば、インク吐出口に連通したインク供給室と、そのイン
ク供給室に連通した圧力室と、その圧力室に設けられ、
圧電素子が接合された振動板等により構成されている。
従来、インクの吐出方向と圧電素子の振動方向は同方向
である。このような構成において、圧電素子に所定の電
圧を印加すると、圧電素子が伸縮することによって、圧
電素子と振動板が太鼓状の振動を起こして圧力室内のイ
ンクが圧縮され、それによりインク吐出口からインク液
滴が吐出する。現在カラーのインクジェト記録装置が普
及してきたが、その印字性能の向上、特に高解像度化お
よび高速印字が求められている。そのためインクヘッド
の微細化しマルチノズルヘッド構造を用いて高解像度お
よび高速印字を実現する事が試みられている。インクヘ
ッドの微細化には、インクを供給するための圧電素子の
小型化が強く求められている。圧電素子の小型化のため
には圧電体の厚みを薄くして、振動板を利用してたわみ
振動を発生させインクを吐出させる方法が構成上可能で
ある。しかし、電圧に対する圧電体自身の変位量は非常
に小さく、そのため圧電素子を小型化すると圧電性の低
下から十分な応力や振動が発生せずインクを吐出するこ
とができない。そこで、小型、マルチノズルヘッドを有
した高解像度、高速プリンタを実現するためには薄い膜
厚においても十分な圧電性を有する圧電薄膜材料を開発
し、その製造方法を確立することが必要がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように厚みの薄い圧電体を用いて、アクチュエ−タ又は
センサ−に使用する小型の圧電素子およびそれらを用い
たインクジェットヘッドをこれまで実現することができ
なかった。特に、従来から用いてきた焼結体の圧電材料
では、素子を切削等の機械的な加工により小型化してき
たが、機械的加工では小型化に限界がある上、圧電特性
の劣化を招き、小型化と高解像度化を両立させる事は困
難であった。
【0006】本発明は、従来のこのような圧電素子の課
題を解決するもので、圧電素子を構成する圧電体や振動
板等を薄膜化することで半導体プロセスで一般に用いら
れている微細加工が可能な形状とし、更に膜厚が薄くて
も大きな圧電特性を有する薄膜材料を開発し、インクジ
ェットヘッドにおいてはノズルの構造が高密度の多素子
化を実現する構成、かつその製造方法を提供する事を目
的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明にお
いては、共通電極と、前記共通電極上にPb,Zr,Tiを主成
分とするペロブスカイト型誘電体薄膜(以後単にPZTと称
す)からなるペロブスカイト型誘電体薄膜で積層した圧
電体と、さらに前記圧電体上に積層した個別電極とを有
する圧電素子において、前記圧電体のPbと、Zr及びTiと
の組成比:Pb/(Zr+Ti)が1より大きくかつ1.3以下で
あることを特徴とする。
【0008】上記構成により、圧電体の圧電特性が向上
し、アクチュエ−タとしては低電圧で駆動が可能とな
り、センサ−としては感度の向上が図れる。
【0009】請求項2記載の発明においては、圧電体の
厚みが、0.5μm〜5μmであることを特徴とする。
【0010】上記構成により、薄膜成膜により高密度化
が図れ、小型で高解像度の圧電素子が作製可能となる。
【0011】請求項3記載の発明においては、圧電体が
ジルコニウムの組成が異なるいくつかの層からなる多層
構造、もしくはジルコニウムの組成が連続して変化する
傾斜組成構造であることを特徴とする。
【0012】上記構成により、高品質な圧電体の薄膜形
成が容易となる。
【0013】請求項4記載の発明においては、基板上に
個別電極を形成し、前記個別電極上にスパッタ法により
PZTからなるペロブスカイト型誘電体薄膜の圧電体を形
成し、前記圧電体上に更に共通電極を形成した後、前記
基板の全てもしくは一部を除去する圧電素子製造方法に
おいて、前記圧電体のPbと、Zr及びTiとの組成比:Pb/
(Zr+Ti)が1より大きくかつ1.3以下である圧電体を
形成することを特徴とする。
【0014】上記方法により、請求項1と同様の効果が
得られる。
【0015】請求項5記載の発明においては、スパッタ
法のタ−ゲットの組成がPZTとPbOとの混合物からなり、
かつPZTとPbOとの組成比:PbO/(PZT+PbO)が、0.05
〜0.35であることを特徴とする。
【0016】上記方法により、安定した圧電性の高い圧
電素子を作製するのが可能となる。
【0017】請求項6記載の発明においては、個別電極
をMgO基板の(100)面上に形成することを特徴とする。
【0018】上記方法により、安定した圧電性の高い圧
電素子を作製するのが可能となる。
【0019】請求項7記載の発明においては、個別電極
が白金からなることを特徴とする。
【0020】上記方法により、請求項1と同様の効果が
得られ、かつ白金の加工性が良いので、上部電極として
個別化が容易となる。
【0021】請求項8記載の発明においては、請求項1
〜3のいずれか一つに記載の圧電素子と、インクを吐出
させる振動板と、圧力室を形成する共通インク室部品と
を具備することを特徴とする。
【0022】上記方法により、圧電体の圧電特性が向上
し、低電圧でインク吐出の駆動が可能で、かつ薄膜成膜
により高密度化が図れ、小型で高解像度のヘッドが作製
可能となる。
【0023】請求項9記載の発明においては、基板上に
個別電極を形成し、前記個別電極上にスパッタ法により
PZTからなるペロブスカイト型誘電体薄膜の圧電体を形
成し、前記圧電体上に更に共通電極を形成し、前記共通
電極上に振動板を形成した後、基板の全てもしくは一部
を除去し、前記振動板の上にインク液体を収容するため
の圧力室を形成することを特徴とする。
【0024】上記方法により、請求項8と同様の効果が
得られる。
【0025】請求項10記載の発明においては、基板上
に個別電極を形成し、前記個別電極上にスパッタ法によ
りPZTからなるペロブスカイト型誘電体薄膜の圧電体を
形成し、前記圧電体上に更に共通電極を形成し、前記共
通電極上に振動板を形成し、前記振動板上にインク液体
を収容するための圧力室を形成した後、前記基板の全て
もしくは一部を除去することを特徴とする。
【0026】上記方法により、請求項8と同様の効果が
得られ、さらに振動板が薄膜で剛性がない場合でも、振
動板に損傷を与えることなくインクジェットヘッドの作
製が可能となる。
【0027】請求項11記載の発明においては、スパッ
タ法のタ−ゲットの組成がPZTとPbOとの混合物からな
り、かつPZTとPbOとの組成比:PbO/(PZT+PbO)が、0.
05〜0.35であることを特徴とする。
【0028】上記方法により、安定した圧電性の高い圧
電素子を作製するのが可能となる。
【0029】請求項12記載の発明においては、個別電
極をMgO基板の(100)面上に形成することを特徴とする上
記方法により、安定した圧電性の高い圧電素子を作製す
るのが可能となる。
【0030】請求項13記載の発明においては、個別電
極が白金からなることを特徴とする上記方法により、請
求項8と同様の効果が得られ、かつ白金の加工性が良い
ので、上部電極として個別化が容易となる。
【0031】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて図面を用いて説明する。
【0032】(実施の形態1)図1は、本発明にかかる
実施の形態1の圧電素子を用いたインクジェットヘッド
を横から見た断面図である。
【0033】図1において、本実施の形態の圧電素子を
用いたインクジェットヘッドは、インクを収容する圧力
室6、インクを吐出する吐出口8、その吐出口8に連通
し圧力室6に圧力を印加するための圧電素子4、及びそ
の圧電素子4で振動する振動板5から構成されている。
圧電素子4は、共通電極3、圧電体2及び個別電極1と
からなり、この順に振動板5に積層している。圧力室6
は、振動板5と共通インク室部品7から形成される。
尚、図1は断面図であり、圧力室6は隔壁により分離さ
れた複数個が、この断面と垂直方向に並んだ構成になっ
ており、吐出口8、圧電素子4も圧力室6と同数が同様
に並んでいる。
【0034】圧電体2は、ペロブスカイト型のPZT薄膜
であり、個別電極1及び共通電極3は、圧電体2に電圧
を印加するためのもので、導電性材料を用いることがで
き特に少なくとも一部に白金もしくは金を用いる事が好
ましい。
【0035】振動板5は、圧力室6の体積を収縮及び膨
張させるためのもので、ニッケル、クロム、またはアル
ミニウム金属、もしくは金属の酸化物、シリコンの酸化
物、セラミックスまたは高分子有機物等からなる。
【0036】共通インク室部品7は、インクを圧力室5
に供給し、又インクを吐出口8から吐出させるためのも
ので、SUS等からなる金属材料、感光性ガラスまたは樹
脂等からなる。
【0037】図2は、インクジェットヘッドの製造工程
について示した図である。図2を用いてインクジェット
ヘッドの製造工程について説明する。 図2(a):MgO、Si、SUS等からなる基板20上に、rfスパ
ッタ法により、白金の個別電極1を形成する。 図2(b):個別電極1上に、rfスパッタ法により、PZT薄
膜の圧電体2を形成する。 図2(c):圧電体2上に、rfスパッタ法により、共通電極
3を形成する。この段階で、圧電素子4が形成される。 図2(d):共通電極3の隣接面に沿って振動板5を形成す
る。振動板5の形成法は、スパッタ法、真空蒸着法、メ
ッキ法、スピンコート法、または接合法などがある。 図2(e):酸性溶液を用いて基板20をエッチング除去す
る。 図2(f):最後に振動板5と簡略化して図示した共通イン
ク室部品7とを接合する。
【0038】ここで図2(a)において、特に基板20にM
gOを用い、MgO基板20の(100)面上に白金からなる個別
電極1を形成して圧電体2を作製した場合、安定した圧
電性の高い圧電素子4を作製するのが可能となる。又、
ここでは形成方法としてrfスパッタ法を用いたが、この
他、MOCVDもしくはゾルゲル溶液を用いたスピンコ
ート法においても良好な結晶性を有する圧電性薄膜を形
成することができる。
【0039】次に、振動板が薄膜で剛性がない場合でも
インクジェットヘッドを作製するための製造方法につい
て、図3を用いて説明する。図3の工程(a)〜(d)までは
図2の製造方法と同様である。図3(e)は、振動板5に
共通インク室部品7を接合する。その後、図3(f)で酸
性溶液を用いて基板20をエッチング除去する。この製
造方法により、共通インク室部品7で剛性を確保するの
で、振動板5が薄膜で剛性がない場合でも、振動板5に
損傷を与えることなくインクジェットヘッドを作製する
ことが可能である。
【0040】次に実験結果について説明する。作製した
インクジェットヘッドの構造は、振動板5については、
圧力室6と圧電素子4との間の振動板5の厚みが2.9
μmで、クロム材料を用いた。又、共通インク室部品7
は、厚みが300μmでSUS材料を用いた。又、圧電素子
4については、個別電極1及び共通電極3に、共に厚み
が0.1μmの白金を用いた。インクジェットヘッドの
製造方法については、振動板5が薄膜で剛性がない場合
であるので、図3と同様の方法で製造した。但し、個別
電極1をMgO基板の(100)面上に形成した。
【0041】上記構成を用いて、圧電体2の厚みと、Pb
/(Zr+Ti)の組成比とを変化させた時の圧電特性を表す圧
電定数:d31(単位:pC/N)の変化を求めた。
【0042】その結果について、(表1)に示す。
【0043】
【表1】
【0044】(表1)より分かるように圧電定数が100
を超える高い値を示すのは、(条件1)Pb/(Zr+Ti)の組成
比が、1を超えかつ1.3以下の時で、かつ(条件2)圧
電体の膜圧が、0.5μm以上5.0μm以下の時であ
る。又、実際にインクを用いて吐出実験を行ったが、イ
ンクが良好に吐出するのを確認した。
【0045】従って、上記条件1及び条件2で作製した
圧電素子4は、圧電体2の圧電特性が高いので、アクチ
ュエ−タとしては低電圧で駆動が可能となり、又センサ
−としては感度の向上が図れる。又、インクジェットヘ
ッドとして圧電素子4を用いた場合、低電圧で駆動が可
能となることに加えて、薄膜成膜により高密度化が図
れ、小型で高解像度化が図れるので、美しい画像を出力
するインクジェットヘッドの作製が可能となる。
【0046】又、圧電体2の製造方法にスパッタ法を用
い、そのタ−ゲットの組成がPZTとPbOとの混合物からな
り、かつタ−ゲットのPZTとPbOとの組成比:PbO/(PZT+P
bO)が、0.05〜0.35にすることにより、圧電体
2の膜圧が10μm以下で、かつPb/(Zr+Ti)の組成比
を、1を超えかつ1.3以下に容易にすることかできる
ので、好ましい。
【0047】又、ここでは共通電極3と振動板5を別々
にしたが、振動板5が導電性材料の場合は、振動板5が
共通電極3を兼ねても良い。このことにより、構成が簡
素化される。
【0048】(実施の形態2)実施の形態1との相違点
は、圧電体2がジルコニウムの組成が異なるいくつかの
層からなる多層構造である点である。
【0049】図4には、2層構成のものを図示した。図
4の圧電体2−aは、Pb,Zr,Tiを主成分とするペロブス
カイト型PZT薄膜である。圧電体2−bは、Zrの含有
していないPbTiO3やPbTiO3にランタンを添加したもの
で、その厚みは約0.01μmである。このように、個
別電極1の上に、まず圧電体2−bを形成した後、その
上に圧電体2−aを形成することにより、高品質な圧電
体薄膜を安定して形成することができる。
【0050】又、ここでは圧電体2を2層構成とした
が、3以上のいくつかの層からなる多層構造、もしくは
ジルコニウムの組成が連続して変化する傾斜組成構造で
も同様の効果が得られる。
【0051】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、圧電体の
組成比:Pb/(Zr+Ti)が1より大きくかつ1.3以下であ
る圧電体を形成することにより低電圧で駆動が可能とな
り、かつ薄膜成膜により高密度化が図れ、小型で高解像
度化が図れるので、美しい画像を出力するインクジェッ
トヘッドの作製が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1におけるのインクジェッ
トヘッドの横断面図
【図2】(a)〜(f)は本発明の実施の形態1におけ
るインクジェットヘッドの製造工程図
【図3】(a)〜(f)は本発明の実施の形態1におけ
るインクジェットヘッドの製造工程図
【図4】本発明の実施の形態2におけるインクジェット
ヘッドの構成断面図
【符号の説明】
1 個別電極 2 圧電体 3 共通電極 4 圧電素子 5 振動板 6 圧力室 7 共通インク室部品 8 吐出口
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 41/22 Fターム(参考) 2C057 AF34 AF55 AF93 AG44 AG93 AP02 AP14 AP52 BA04 BA14 4K029 AA04 BA50 BB07 BC00 CA05 DC05

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 共通電極と、前記共通電極上に鉛(P
    b),ジルコニウム(Zr),チタン(Ti)を主成分とする
    ペロブスカイト型誘電体薄膜(以後単にPZTと称す)で積
    層した圧電体と、さらに前記圧電体上に積層した個別電
    極とを有する圧電素子において、前記圧電体のPbと、Zr
    及びTiとの組成比:Pb/(Zr+Ti)が1より大きくかつ1.
    3以下であることを特徴とする圧電素子。
  2. 【請求項2】 圧電体の厚みが、0.5μm〜5μmであ
    ることを特徴とする請求項1記載の圧電素子。
  3. 【請求項3】 圧電体の構成が、ジルコニウムの組成が
    異なるいくつかの層からなる多層構造、もしくはジルコ
    ニウムの組成が連続して変化する傾斜組成構造であるこ
    とを特徴とする請求項1または2記載の圧電素子。
  4. 【請求項4】 基板上に個別電極を形成し、前記個別電
    極上にスパッタ法によりPZTからなるペロブスカイト型
    誘電体薄膜の圧電体を形成し、前記圧電体上に更に共通
    電極を形成した後、前記基板の全てもしくは一部を除去
    する圧電素子製造方法において、前記圧電体のPbと、Zr
    及びTiとの組成比:Pb/(Zr+Ti)が1より大きくかつ1.
    3以下である圧電体を形成することを特徴とする圧電素
    子の製造方法。
  5. 【請求項5】 スパッタ法のタ−ゲットの組成がPZTと
    酸化鉛(PbO)との混合物からなり、かつPZTとPbOとの
    組成比:PbO/(PZT+PbO)が、0.05〜0.35である
    ことを特徴とする請求項4記載の圧電素子の製造方法。
  6. 【請求項6】 個別電極を酸化マグネシウム(MgO)基
    板の(100)面上に形成することを特徴とする請求項4ま
    たは5記載の圧電素子の製造方法。
  7. 【請求項7】 個別電極が白金からなることを特徴とす
    る請求項4〜6のいずれか一つに記載の圧電素子の製造
    方法。
  8. 【請求項8】 請求項1〜3のいずれか一つに記載の圧
    電素子と、インクを吐出させる振動板と、圧力室を形成
    する共通インク室部品とを具備することを特徴とするイ
    ンクジェットヘッド。
  9. 【請求項9】 基板上に個別電極を形成し、前記個別電
    極上にスパッタ法によりPZTからなるペロブスカイト型
    誘電体薄膜の圧電体を形成し、前記圧電体上に更に共通
    電極を形成し、前記共通電極上に振動板を形成した後、
    基板の全てもしくは一部を除去し、前記振動板の上にイ
    ンク液体を収容するための圧力室を形成することを特徴
    とするインクジェットヘッドの製造方法。
  10. 【請求項10】 基板上に個別電極を形成し、前記個別
    電極上にスパッタ法によりPZTからなるペロブスカイト
    型誘電体薄膜の圧電体を形成し、前記圧電体上に更に共
    通電極を形成し、前記共通電極上に振動板を形成し、前
    記振動板上にインク液体を収容するための圧力室を形成
    した後、前記基板の全てもしくは一部を除去することを
    特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
  11. 【請求項11】 スパッタ法のタ−ゲットの組成がPZT
    とPbOとの混合物からなり、かつPZTとPbOとの組成比:P
    bO/(PZT+PbO)が、0.05〜0.35であることを特徴
    とする請求項9または10記載のインクジェットヘッド
    の製造方法。
  12. 【請求項12】 個別電極をMgO基板の(100)面上に形成
    することを特徴とする請求項9〜11のいずれか一つに
    記載のインクジェットヘッドの製造方法。
  13. 【請求項13】 個別電極が白金からなることを特徴と
    する請求項9〜12のいずれか一つに記載のインクジェ
    ットヘッドの製造方法。
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