JP2000296633A - サーマルプリントヘッド - Google Patents

サーマルプリントヘッド

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JP2000296633A JP2000031897A JP2000031897A JP2000296633A JP 2000296633 A JP2000296633 A JP 2000296633A JP 2000031897 A JP2000031897 A JP 2000031897A JP 2000031897 A JP2000031897 A JP 2000031897A JP 2000296633 A JP2000296633 A JP 2000296633A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 セラミック基板とガラスエポキシ系の回路基
板との熱膨張率の差による膨張を吸収して優れた印字品
質を得られ、信頼性が高く、さらに小型化の可能なサー
マルプリントヘッドを得ることを目的とする。 【解決手段】 発熱抵抗体を備えた基体と、前記基体に
近接して配置された回路基板と、前記基体または前記回
路基板に搭載され、かつ前記基体および前記回路基板に
電気的に接続された駆動用半導体素子と、前記駆動用半
導体素子を封止し、かつ硬性封止材料からなる硬性封止
部分と前記硬性封止材料より柔らかい軟性封止材料から
なる軟性封止部分とを含む、封止部材とを具備し、前記
硬性封止部分は前記基体上に配置され、前記軟性封止部
分は前記基体上と前記回路基板上に跨って配置されてい
るサーマルプリントヘッドを構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ファクシミリ、ビ
デオプリンタ、孔版印刷等の感熱式記録装置に用いられ
るサ−マルプリントヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】サーマルヘッドは、低騒音、低メンテナ
ンスコストおよび低ランニングコスト等の利点があるこ
とから、ファクシミリ、ビデオプリンタあるいは製版機
等の各種ΟA機器の感熱式記録装置に多用される。
【0003】一般にサーマルヘッドは熱伝導性の良好な
金属、たとえばアルミニウムなどから作られた放熱部材
上に発熱抵抗体を備えた基体と、この発熱抵抗体に電気
を供給するための回路基板と、基体または回路基板のい
ずれかの上に形成された駆動用半導体素子とを具備して
いる。そして、発熱抵抗体を備えた基体と回路基板と
は、駆動用半導体素子を介して電気的に接続されてい
る。
【0004】基体上には表面円滑性と蓄熱性の向上を主
目的とするグレーズガラス層が任意で形成されている。
そして、グレーズガラス層上には、発熱抵抗体層および
アルミニウム等導電層の形成後にフォトエングレービン
グプロセスを行うことにより、複数の発熱抵抗体および
電極パターンが形成される。
【0005】駆動用半導体素子は、製版機においては基
体上に形成されている場合が多い。一方、ビデオプリン
タにおいては、駆動用半導体素子が回路基板上に形成さ
れている場合が多い。
【0006】駆動用半導体素子と発熱抵抗体を備えた基
体および回路基板間の電気的接続部は、熱硬化型有機樹
脂系材料等からなる封止部材により封止され、保護され
ている。
【0007】熱硬化型有機樹脂系材料は、電気的接続部
に影響を及ぼさない材料であれば特に限定されない。エ
ポキシ樹脂系材料等が、熱硬化後に常温で十分な機械的
強度を有し、基板への接着性が高く、且つ表面に粘着性
を有さない点で適している。この一方、熱硬化後に比較
的柔軟性を有するシリコン樹脂系材料等も用いられる。
【0008】シリコン系等硬化しても柔軟性のある材料
を封止部材として用いるときには、金属又は樹脂製カバ
ーにより、接続線および電気的接続部、さらに基体、回
路基板、駆動用半導体素子、封止部材の少なくとも一部
を外力から保護することが必要である。このカバーは、
半導体素子等を電気的、機械的、環境的に保護する。な
お、このカバーは、封止部材がエポキシ系等、硬化した
ときに十分な硬度を有している場合には必要がない。
【0009】従来の一般的なサーマルヘッドの断面を図
7〜図10に示す。
【0010】図7〜図10に示されるように、熱伝導性
の良いアルミニウム等の金属から作製された放熱部材3
上に、基体であるセラミック基板1と回路基板であるP
CB(Print Circuit Board )2が接着層4を介して接
着されている。セラミック基板1上には、発熱抵抗体9
と発熱抵抗体9に接続された電極パタ−ンとが形成され
ている。PCB2は、発熱抵抗体9を発熱させるための
電流を供給するものであり、例えばガラスエポキシ系の
材料から構成される。
【0011】そして、駆動用半導体素子(駆動用IC)
5が、セラミック基板1もしくはPCB2上に設置され
る。セラミック基板1上の電極パターンとPCB2と
は、駆動用IC5を介してボンディングワイヤ6等によ
り電気的に接続されている。さらに、駆動用IC5およ
び電気的接続部は熱硬化型有機樹脂系材料7Aまたは7
Bにより封止および保護されている。
【0012】図7および8では、封止部材としてエポキ
シ系樹脂7Aを用いている。図7では、駆動用IC5は
PCB2側に、図8では、駆動用IC5は発熱抵抗体9
の形成された基体であるセラミック基板1側に形成され
ている。
【0013】また、図9および図10では、封止部材と
してシリコン系樹脂7Bを用いている。シリコン系樹脂
7Bは硬化しても比較的柔軟性があることから、金属製
のカバー8をネジ(図示せず)で止めて取り付けて外力
から保護している。図9では、駆動用IC5はPCB2
側に、図10では、駆動用IC5は発熱抵抗体9の形成
された基体であるセラミック基板1側に形成されてい
る。
【0014】以上のように、一般的なサ−マルプリント
ヘッドにおいては、発熱抵抗体9を有するセラミック基
板1と発熱抵抗体9を発熱させる回路基板2とは、駆動
用IC5を介してボンディングワイヤ6等により電気的
に接続されている。駆動用IC5および電気的接続部
は、熱硬化型有機樹脂系材料7Aもしくは7Bにより封
止され保護されている。
【0015】ガラスエポキシ系製のPCB2は、セラミ
ック基板1に比べて熱膨張係数が大きい。従って、セラ
ミック基板1と回路基板2に跨った状態でエポキシ樹脂
系材料7Aを塗布し、熱硬化させると、熱硬化後の電気
的接続部は、PCB2がセラミック基板1より膨張した
状態で接続・固定される。
【0016】この状態から室温に戻すと、セラミック基
板1とPCB2の収縮率の差により双方が基板平面内に
おいて湾曲し、セラミック基板1上に形成された発熱抵
抗体9も湾曲してしまう。
【0017】発熱抵抗体9が湾曲すると、印字される画
像の形状に湾曲が生じる。さらに、発熱抵抗体9の主走
査方向の端部と中央部では、プラテンロ−ラ10との位
置関係に差異が生じるため、印字される画像の濃淡が不
均一になる。このようにして、発熱抵抗体9の湾曲に起
因して画像の品質が劣化する。
【0018】さらに、セラミック基板1とPCB2が基
板平面内で湾曲することにより、セラミック基板1およ
びPCB2と接着層4との間や電気的接続部に応力の集
中が発生する。この応力の集中によって、セラミック基
板1およびPCB2の接着層4からの剥離やボンディン
グワイヤ6の断線およびエポキシ樹脂系材料7Aの剥離
や亀裂が生じる恐れがある。
【0019】一方、電気的接続部の封止および保護にシ
リコン樹脂系材料7Bを使用すると、熱硬化後のシリコ
ン樹脂系材料に比較的柔軟性があるため、双方の基板の
収縮率の差による湾曲が緩和され、発熱抵抗体9の湾曲
も減少される。このため、画像品質の劣化や応力集中に
よる影響等が緩和される。
【0020】この一方、シリコン樹脂系材料7Bは機械
的強度が大きくない。従って、前述した通り、電気的接
続部を外部からの衝撃等から保護するためにカバー8を
取り付ける必要が生じる。このカバ−8を取り付ける
と、セラミック基板1の大きさや発熱抵抗体9の位置お
よびプラテンロ−ラ10の径等に影響を及ぼす。すなわ
ち、プラテンローラ10をPCB2寄りに形成すること
をカバー8が物理的に妨げてしまう。その結果、高価な
セラミック基板2のサイズを小さくして全体の価格を抑
えることが困難になる。
【0021】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した課
題に対処するために為されたものであり、以下を目的と
する。
【0022】(1)セラミック基板とガラスエポキシ系
の回路基板との熱膨張率の差による膨張を吸収して、優
れた印字品質のサーマルプリントヘッドを得る。
【0023】(2)信頼性が高く、さらに小型化の可能
なサーマルプリントヘッドを得る。
【0024】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明は以下のようにサーマルプリントヘッドを構成
する。
【0025】(1)本発明の一態様における記録媒体に
記録を行うサーマルプリントヘッドは、発熱抵抗体を備
えた基体と、前記基体に近接して配置された回路基板
と、前記基体または前記回路基板に搭載され、かつ前記
基体および前記回路基板に電気的に接続された駆動用半
導体素子と、前記駆動用半導体素子を封止し、かつ硬性
封止材料からなる硬性封止部分と前記硬性封止材料より
柔らかい軟性封止材料からなる軟性封止部分とを含む、
封止部材とを具備し、前記硬性封止部分は前記基体上に
配置され、前記軟性封止部分は前記基体上と前記回路基
板上に跨って配置されている。
【0026】硬性封止部分が基体上に配置されているこ
とから、この部分にはカバー等による保護を必要としな
い。そして、軟性封止部分が基体と回路基板の境界領域
上に配置されていることから、発熱抵抗体の湾曲が緩和
される。
【0027】その結果、印字された画像の品質の向上
と、サ−マルプリントヘッドのサイズダウンの双方が可
能となる。
【0028】(2)本発明の一態様におけるサーマルプ
リントヘッドは、発熱抵抗体を備えた基体と、前記基体
に近接して配置された回路基板と、前記基体または前記
回路基板に搭載され、かつ前記基体および前記回路基板
に電気的に接続された駆動用半導体素子と、前記駆動用
半導体素子を封止し、かつ硬性封止材料からなる硬性封
止部分と前記硬性封止材料より柔らかい軟性封止材料か
らなる軟性封止部分とを含む、封止部材とを具備し、前
記硬性封止部分は前記基体上に配置され、前記軟性封止
部分は前記回路基板上に配置され、前記硬性封止部分と
前記軟性封止部分とが接続されている。
【0029】軟性封止部分が前記回路基板上に配置され
ていることから、発熱抵抗体の湾曲が緩和される。ま
た、硬性封止部分が基体上に配置されていることから、
この部分はカバー等による保護を必要としない。さら
に、硬性封止部分と軟性封止部分とが接続されているた
め、封止部材の強度が向上する。
【0030】その結果、印字された画像の品質の向上
と、サ−マルプリントヘッドのサイズダウンの双方が可
能となる。
【0031】(3)本発明の他の実施態様における記録
媒体に記録を行うサーマルプリントヘッドは、発熱抵抗
体を備えた基体と、前記基体に近接して配置された回路
基板と、前記基体または前記回路基板に搭載され、かつ
前記基体および前記回路基板に電気的に接続された駆動
用半導体素子と、前記駆動用半導体素子を封止し、かつ
硬性封止材料からなる硬性封止部分と前記硬性封止材料
より柔らかい軟性封止材料からなる軟性封止部分とを含
む、封止部材とを具備し、前記軟性封止部分は前記基体
上と前記回路基板上に跨って配置され、前記硬性封止部
分が前記軟性封止部分を覆っている。
【0032】基体及び回路基板上の大部分には、柔軟性
のある軟性封止部材が配置されていることから、発熱抵
抗体の湾曲が緩和される。また、軟性封止部材が硬性封
止部材で覆われていることから、カバー等による保護を
必要としない。
【0033】その結果、印字された画像の品質の向上
と、サ−マルプリントヘッドのサイズダウンの双方が可
能となる。
【0034】
【発明の実施の形態】本発明に係るサーマルヘッドは、
ファクシミリ、ビデオプリンタあるいは製版機等の各種
ΟA機器や感熱式記録装置に好適に用いられる。
【0035】本発明を以下の実施形態に基づいて説明す
る。
【0036】[実施形態1]図1から図3に本発明に係
るサーマルヘッドの第1の実施形態を示す。図1および
図2は正面図であり、図3は横断面図である。ここで、
図1はプラテンローラ110を、図2(a)はさらにカ
バー108を、図2(b)はさらに封止部材107を省
いた状態を示している。
【0037】以下に、本実施形態の概略を述べる。
【0038】図1から図3に示されるように、放熱部材
3にセラミック基板101および回路基板102が接着
層104を介して接着されている。
【0039】セラミック基板101上には、発熱抵抗体
109、それぞれの発熱抵抗体109に接続された個別
電極111、及び発熱抵抗体109のアレーに接続され
た共通電極112が形成されている。本実施形態におい
て、セラミック基板101は基体を構成する。
【0040】回路基板102は、発熱抵抗体109に電
流を供給し発熱させるための駆動用回路基板であり、駆
動用IC(駆動用半導体素子)105及び信号線113
が形成されている。
【0041】セラミック基板101上の個別電極111
と回路基板102上の駆動用IC105とは、接続線1
06Aにより電気的に接続されている。また、回路基板
102上において、駆動用IC105と信号線113と
は接続線106Bにより電気的に接続されている。
【0042】駆動用IC105および接続線106A、
106Bは、封止部材107によって封止されている。
この封止は、セラミック基板101側は硬性封止材料か
らなる硬性封止部材107Aによって、セラミック基板
101と回路基板102との境界領域を含めた回路基板
102側は軟性封止材料からなる軟性封止部材107B
によって、それぞれ行われている。
【0043】さらに、軟性封止部材107Bを覆うよう
に保護カバ−108が設置されている。保護カバ−10
8は、ネジ114によって回路基板102に接続されて
いる。
【0044】なお、発熱抵抗体109に対向して、記録
媒体を搬送するためのプラテンローラ110が設置され
ている。
【0045】以上のように本発明では、駆動用IC10
5およびその電気的接続部を、セラミック基板101側
は硬性封止部材107Aで、回路基板102側は軟性封
止部材107Bで封止している。
【0046】セラミック基板101側は硬性封止部材1
07Aで封止され、硬性封止部材107Aの機械的強度
が大きいことから、この部分にはカバー108による保
護を必要としない。そして、セラミック基板101に対
して熱膨張係数が大きな回路基板102側を軟性封止部
材107Bで封止していることから、封止部材107硬
化時の加熱処理に起因する発熱抵抗体109の湾曲が緩
和される。その結果、印字された画像の品質の向上と、
サ−マルプリントヘッドのサイズダウンの双方が可能と
なる。
【0047】以下に、上記構成要素の詳細について述べ
る。
【0048】放熱部材103は、例えば熱伝導性の良い
アルミニウム等の金属から形成された放熱板である。こ
の放熱板としては、熱伝導性に優れ、かつセラミック基
板101と回路基板102とを保持することのできる材
料であれば、とくに制限されないが、アルミニウムやア
ルミニウム合金等が好ましい。
【0049】放熱部材103と、セラミック基板101
および回路基板102とを接着する接着層104は各々
の材料に対して充分な接着力を有するものを選択して用
いる。
【0050】セラミック基板101は、本実施形態にお
ける基体を構成し、通常アルミナセラミックス等の材料
が用いられるがこれに限られるものではない。このセラ
ミック基板101上には、サーマルプリントヘッドの蓄
熱性を高め、基板の表面を円滑にして発熱素子アレイを
均質に形成するためにグレーズ層を任意で形成すること
が望ましい。
【0051】グレーズ層の材料としては、SiO2 ある
いはSiO2 にCa、Ba、Al、Si等を混合したも
のが挙げられる。ただし、サーマルプリントヘッドの抵
抗値の上昇を防止することから、グレーズガラス層のガ
ラス転移点は、670℃以上であることが望ましい。ま
た、グレーズガラス層の膜厚は、通常、40〜200μ
m程度とする。ここで、グレーズ層の形成方法として
は、印刷法あるいはスプレー法が挙げられる。
【0052】発熱抵抗体109の材料としては、ニッケ
ル(Ni)、クロム(Cr)、タンタル (Ta)等の
安定性の高い金属材料の窒化物や、Ta−SiO2 、N
b−SiO2 、Ti−SiO2 等の各種サーメット材料
を適宜用いることができる。
【0053】発熱抵抗体109に接続される各電極(個
別電極111,共通電極112)としては、Al、Al
−Si、Al−Si−Cu等が用いられるがこれに限定
されるものではない。
【0054】回路基板102は、例えばガラスエポキシ
系製の基板上に信号線113等を含む回路が形成された
PCB(Print Circuit Board )、あるいはFPC(Fl
exible Print Circuit)等を使用できる。回路基板10
2は、PCBやFPC以外でも、コネクタ等が実装でき
るものであれば差し支えない。回路基板への駆動用IC
105の実装は、例えばCOB(Chip On Board )の形
態をとる。
【0055】硬性封止部材107Aと軟性封止部材10
7Bとは、接続されて全体として封止部材107を構成
するものであり、例えば熱硬化型有機樹脂系材料から形
成される。具体的には、硬性封止部材107Aに用いる
硬性材料は例えばエポキシ系の合成樹脂を、軟性封止部
材107Bに用いる軟性材料は例えばシリコン系の合成
樹脂を、それぞれ用いることができる。
【0056】エポキシ系の合成樹脂は、熱硬化後の常温
で十分な機械的強度を有し、基板への接着性が高く、且
つ表面に粘着性を有さない。一方、シリコン系の合成樹
脂は、熱硬化後も比較的柔軟性を有する。本発明は、こ
の両者の特長を組み合わせることによって、発熱抵抗体
109の湾曲を低減しつつ、しかも封止部材107全体
へのカバー108による保護を不要としたものである。
【0057】ここで、硬性封止部材107Aと軟性封止
部材107Bとの界面に、この双方と付着強度の大きい
中間層を形成すると、両層の付着強度が増加し機械的強
度も向上する。中間層の材料には、例えば硬性封止部材
107Aと軟性封止部材107Bがそれぞれエポキシ樹
脂系材料とシリコン樹脂系材料で形成されている場合に
は、この両者を混合した材料を使用できる。
【0058】本実施形態では、セラミック基板101上
と回路基板102上に跨って軟性封止部材107Aが形
成されている。これに対して、セラミック基板101と
回路基板102の境界と硬性封止部材107Aと軟性封
止部材107Bの境界とを一致させても差し支えない。
このとき封止部材107としては、セラミック基板10
1上に硬性封止部材上を、回路基板102上に軟性封止
部材107Bを形成し、この両者が接続された状態とな
る。
【0059】カバー108の材質は、環境的機械的に信
頼性が保たれるものであれば特に制限されない。例え
ば、金属、その中でもステンレス鋼(SUS)が好まし
い。
【0060】記録媒体としては特に限られるものではな
いが、感熱紙や製版フィルム、印画紙等が例示される。
【0061】(製造方法)以下に本実施形態における封
止部材107の製造方法について述べる。
【0062】硬性封止部材107Aおよび軟性封止部材
107Bは、液状のエポキシ系樹脂材料およびシリコン
樹脂材料を、駆動用IC(半導体素子)105、接続線
106および電気的接続部上にマイクロシリンジ等によ
りそれぞれ塗布し、その後加熱して硬化することにより
形成できる。即ち、1つの加熱工程で硬性封止部材10
7Aおよび軟性封止部材107B双方の形成が可能であ
る。なお、それぞれの材料毎に、塗布と加熱硬化を行う
ことも可能である。
【0063】ここで、軟性封止部材107Bを回路基板
102側に用いることから発熱抵抗体109の湾曲が起
きにくいため、加熱処理は従来に比べてより高温で行う
ことができる。例えばエポキシ系樹脂のみを封止部材1
07に用いるときは、熱膨張に起因する発熱抵抗体10
9の湾曲を考慮して処理温度を例えば90℃に制限する
必要がある。このときは、熱硬化に例えば10時間を要
する。
【0064】これに対して、本発明では、例えばエポキ
シ系樹脂材料およびシリコン樹脂材料を用いる場合、熱
処理温度を例えば100〜150℃程度まで上げること
ができる。その結果、熱処理時間を例えば30分〜2時
間程度と、大幅に短縮することが可能となり、製造効率
が向上する。
【0065】発熱抵抗体109、個別電極111および
共通電極112は、スパッタリング法など各種成膜方法
を用いて膜を形成し、その後フォトエングレービングプ
ロセスによりパターニングすることにより形成できる。
【0066】発熱抵抗体109と各電極111,112
を保護するために、Si−O−N系の材料をスパッタリ
ング法等各種成膜方法によって成膜し、保護膜を形成す
ることができる。
【0067】回路基板102への信号線113の形成
は、Al、Cu等の材料を用いた通常の薄膜形成方法、
例えば、真空蒸着法、スパッタリング法等により行え
る。
【0068】[実施形態2]図4は、本発明の構成の第
2の実施形態を示す断面図であり、実施形態1と同一の
機能を有する要素には、同一番号を付与している。
【0069】セラミック基板101上に駆動用IC10
5を形成した以外は実施形態1と同様である。本実施形
態においても硬性封止部材107Aと軟性封止部材10
7Bの界面に中間層を形成すると、両層の付着強度が増
加し、機械的強度も向上する。
【0070】本実施形態における共通電極112と駆動
用IC105の接続は、ワイヤボンディング、フリップ
チップ、TAB(Tape Automated Bonding)等いずれの
接続方法によって行ってもよい。
【0071】[実施形態3]図5は、本発明の構成の第
3の実施形態を示す断面図である。以下に、本実施形態
の概略を述べる。
【0072】図5に示されるように、放熱部材103に
セラミック基板101および回路基板102が接着層1
04を介して接着されている。
【0073】セラミック基板101上には、発熱抵抗体
109、それぞれの発熱抵抗体109に接続された個別
電極111、及び発熱抵抗体109のアレーに接続され
た共通電極112が形成されている。本実施形態におい
て、セラミック基板101は基体を構成する。
【0074】回路基板102は、発熱抵抗体109に電
力を供給し発熱させるための駆動用回路基板であり、駆
動用IC105及び信号線113が形成されている。
【0075】セラミック基板101上の個別電極111
と回路基板102上の駆動用IC105とは、接続線1
06Aにより電気的に接続されている。また、回路基板
102上において、駆動用IC105と信号線113と
は接続線106Bにより電気的に接続されている。
【0076】駆動用IC105および接続線106A、
106Bは、封止部材107によって封止されている。
この封止は、軟性封止部材107Bで封止し、さらにそ
の下層の軟性封止部材107Bを上層の硬性封止部材1
07Aで覆った2重封止構造によって行われている。
【0077】以上のように本発明では、駆動用IC10
5およびその電気的接続部の封止は、下層の軟性封止部
材107Bをさらに硬性封止部材107Aで覆うことに
より行われている。
【0078】軟性封止部材107Bが機械的強度の大き
い硬性封止部材107Aで覆われていることから、カバ
ー108による保護を必要としない。そして、セラミッ
ク基板101及び回路基板102上の大部分には、柔軟
性のある軟性封止部材107Bが設置されていることか
ら、封止部材107硬化時の加熱処理に起因する発熱抵
抗体109の湾曲が緩和される。その結果、印字された
画像の品質の向上と、サ−マルプリントヘッドのサイズ
ダウンの双方が可能となる。
【0079】ここで、熱膨張係数の大きな回路基板10
2上に柔軟性が乏しい硬性封止部材107Aの一部が接
触している。しかし、回路基板102上の肉厚が軟性封
止部材107Bのそれに比較して充分小さければ、発熱
抵抗体109の湾曲を招くことはない。
【0080】硬性封止部材107Aおよび軟性封止部材
107Bには、例えばそれぞれエポキシ樹脂系材料およ
びシリコン樹脂系材料を使用できる。そして、封止部材
107は、例えばシリコン樹脂系材料と液状のエポキシ
樹脂系材料とを順にマイクロシリンジ等により滴下し
て、その後加熱硬化することにより形成できる。
【0081】また、上層と下層の界面に例えば、中間層
等を形成すると、上層と下層との付着強度が増加し、封
止部材107の機械的強度も向上する。中間層として
は、例えばエポキシ樹脂系材料とシリコン樹脂系材料を
混合した材料を使用できる。
【0082】[実施形態4]図6は、本発明の構成の第
4の実施形態を示すものであり、実施形態3と同一の機
能を有する要素には、同一番号を付与している。
【0083】セラミック基板101上に駆動用IC10
5を形成した以外は実施形態3と同様である。本実施形
態においても、上層と下層の界面に上下の層いずれとも
付着強度の大きい中間層等を形成することで、上層と下
層の付着強度が増加し、封止部材107の機械的強度が
向上する。
【0084】[その他の実施形態]本発明の実施形態は
上記実施形態には限られず、本発明の技術的思想の範囲
で拡張、変更することができる。そして、この拡張、変
更した実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
【0085】(1)本発明は、駆動用IC105とセラ
ミック基板(基体)101及び回路基板102との間の
電気的接続の形態に制限されない。電気的接続が、ワイ
ヤーボンディングの他、フリップチップボンディング、
TAB(Tape Automated Bonding)等いずれによって行
われていても良い。
【0086】(2) 本発明では、駆動用IC105は
必ずしもその全体を封止する必要はない。例えば、駆動
用IC105がプラスチック等でパッケージされている
場合には、このパッケージが外気や外部衝撃等から保護
する役割を果たしているので、さらに重ねて封止を行わ
なくてもよい。
【0087】駆動用IC105を封止する一つの目的
は、駆動用IC105の電気的接続部を外気から遮断
し、電気的接続状態の劣化を防止することにある。従っ
て、駆動用IC105の電気的接続部が外気から遮断さ
れていればよい。例えば、電気的接続がバンプによって
行われている場合、バンプは駆動用IC105と回路基
板102等の間の狭い隙間に設置される。このため、駆
動用IC105と回路基板102等の境界の周囲を封止
すれば、封止の目的は十分達成できる。
【0088】なお、必ずしも駆動用IC105の電気的
接続部に封止部材107が直接接触している必要はな
い。
【0089】(3)本発明の基本的な考え方は、熱膨張
係数の大きな回路基板102の直接的な封止を主として
柔軟性のある軟性封止部材107Bで行い、その他の部
分の封止を機械的強度の大きい硬性封止部材107Aに
よって行うことで、発熱抵抗体109の湾曲の低減とサ
イズダウンの両立を図ることにある。
【0090】従って、封止の形態は、セラミック基板
(基体)101側を硬性封止部材107Aで回路基板1
02側を軟性封止部材107Bで行う構成、軟性封止部
材107Bで封止しこれを硬性封止部材107Aで覆う
構成には限られない。これらを組み合わせたような構成
も可能である。
【0091】例えば、セラミック基板101側を硬性封
止部材107Aで回路基板102側を軟性封止部材10
7Bで封止し、さらに軟性封止部材107Bが硬性封止
部材107Aの一部によって覆われている構成も可能で
ある。
【0092】また、セラミック基板101側を硬性封止
部材107Aで回路基板102側を軟性封止部材107
Bで行う構成において、回路基板102の一部の封止が
硬性封止部材107Aによって行われても差し支えな
い。回路基板102上における硬性封止部材107Aの
肉厚が軟性封止部材107Bのそれに対して充分小さけ
れば、発熱抵抗体109の湾曲の低減上差し支えない。
【0093】要は、回路基板102の熱膨張に起因する
応力が軟性封止部材107Bによって緩和されれば良い
のである。
【0094】(4)硬性封止部材107Aと軟性封止部
材107Bの硬軟の程度は必ずしも絶対的なものではな
く、相対的なものである。従って、封止に使用する材料
はエポキシ系樹脂、シリコン系樹脂に限られない。軟性
封止部材107Bが硬性封止部材107Aに比較して柔
らかく、硬性封止部材107Aが軟性封止部材107B
に比較して機械的強度が大きい材料で構成されればよ
い。
【0095】ここで、軟性封止部材107Bの柔らかさ
は、ヤング率によって評価できる。ヤング率が小さい材
料は伸縮した場合に生じる応力が小さい。従って、ヤン
グ率が比較的小さな軟性封止部材107Bは、加熱によ
り熱膨張した回路基板102が冷却され収縮したときに
これに伴って収縮する。その結果、軟性封止部材107
Bはセラミック基板101と回路基板102との境界に
発生する熱応力を緩和する。
【0096】これに対して硬性封止部材107Aの機械
的強度は、例えばプラスチック材料の評価基準の一つで
あるJIS硬度(日本工業規格K6900、番号411
の硬さ)によって評価できる。硬度が大きい硬性封止部
材107Aは、外部からの機械的衝撃により変形されに
くいので、機械的衝撃を受けた場合に封止が破れにく
い。
【0097】(5)さらに、本発明は、セラミック基板
101および回路基板102上の回路構成にも制限され
ない。例えば、個別電極111、共通電極112や信号
線113の形状に依存しない。
【0098】
【発明の効果】本発明は、軟性封止部分と硬性封止部分
とを組み合わせて封止部材を構成し、駆動用半導体素子
を封止している。
【0099】軟性封止部分によってセラミック基板とガ
ラスエポキシ系の回路基板との熱膨張率差を吸収してい
る。このため、優れた印字品質のサーマルプリントヘッ
ドを得ることができる。
【0100】また、硬性封止部分によって駆動用半導体
が保護されるため信頼性が高いサーマルプリントヘッド
を得ることができる。さらに、硬性封止部分には、保護
のためのカバーが不要であるため、サーマルプリントヘ
ッドの小型化を図ることができる。
【0101】以上のように、本発明は軟性封止部分と硬
性封止部分とを組み合わせることで、優れた印字品質、
高信頼性および小型化を同時に達成している。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るサ−マルプリントヘッドの正面
図である。
【図2】 本発明に係るサ−マルプリントヘッドの正面
図である。
【図3】 本発明に係るサ−マルプリントヘッドの断面
図である。
【図4】 本発明に係るサーマルプリントヘッドの断面
図である。
【図5】 本発明に係るサ−マルプリントヘッドの断面
図である。
【図6】 本発明に係るサーマルプリントヘッドの断面
図である。
【図7】 従来例のサーマルプリントヘッドの断面図で
ある。
【図8】 従来例のサーマルプリントヘッドの断面図で
ある。
【図9】 従来例のサーマルプリントヘッドの断面図で
ある。
【図10】 従来例のサーマルプリントヘッドの断面図
である。
【符号の説明】
101 セラミック基板 102 回路基板 103 放熱部材 104 接着層 105 駆動用IC 106、106A、106B 接続線 107 封止部材 107A 硬性封止部材 107B 軟性封止部材 108 カバー 109 発熱抵抗体 110 プラテンローラ 111 個別電極 112 共通電極 113 信号線 114 ネジ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年7月17日(2000.7.1
7)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】(1)本発明の一態様における記録媒体に
記録を行うサーマルプリントヘッドは、発熱抵抗体を備
えた基体と、前記基体に近接して配置され、前記基体と
は熱膨張係数が異なる部材からなる回路基板と、前記基
体または前記回路基板に搭載され、かつ前記基体および
前記回路基板に電気的に接続された駆動用半導体素子
と、前記駆動用半導体素子を封止し、かつ硬性封止材料
からなる硬性封止部分と前記硬性封止材料より柔らかい
軟性封止材料からなる軟性封止部分とを含む、封止部材
とを具備し、前記硬性封止部分は前記基体上に配置さ
れ、前記軟性封止部分は前記基体上と前記回路基板上に
跨って配置されている。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】(2)本発明の一態様におけるサーマルプ
リントヘッドは、発熱抵抗体を備えた基体と、前記基体
に近接して配置され、前記基体とは熱膨張係数が異なる
部材からなる回路基板と、前記基体または前記回路基板
に搭載され、かつ前記基体および前記回路基板に電気的
に接続された駆動用半導体素子と、前記駆動用半導体素
子を封止し、かつ硬性封止材料からなる硬性封止部分と
前記硬性封止材料より柔らかい軟性封止材料からなる軟
性封止部分とを含む、封止部材とを具備し、前記硬性封
止部分は前記基体上に配置され、前記軟性封止部分は前
記回路基板上に配置され、前記硬性封止部分と前記軟性
封止部分とが接続されている。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】(3)本発明の他の実施態様における記録
媒体に記録を行うサーマルプリントヘッドは、発熱抵抗
体を備えた基体と、前記基体に近接して配置され、前記
基体とは熱膨張係数が異なる部材からなる回路基板と、
前記基体または前記回路基板に搭載され、かつ前記基体
および前記回路基板に電気的に接続された駆動用半導体
素子と、前記駆動用半導体素子を封止し、かつ硬性封止
材料からなる硬性封止部分と前記硬性封止材料より柔ら
かい軟性封止材料からなる軟性封止部分とを含む、封止
部材とを具備し、前記軟性封止部分は前記基体上と前記
回路基板上に跨って配置され、前記硬性封止部分が前記
軟性封止部分を覆っている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀内 弘 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 竹内 秀巳 神奈川県川崎市川崎区日進町7番地1 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 大庭 眞人 神奈川県川崎市川崎区日進町7番地1 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 2C065 GA01 HA11 HA14 HA17 HA28 KK03 KK07 KK26

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 発熱抵抗体を備えた基体と、 前記基体に近接して配置された回路基板と、 前記基体または前記回路基板に搭載され、かつ前記基体
    および前記回路基板に電気的に接続された駆動用半導体
    素子と、 前記駆動用半導体素子を封止し、かつ硬性封止材料から
    なる硬性封止部分と前記硬性封止材料より柔らかい軟性
    封止材料からなる軟性封止部分とを含む、封止部材とを
    具備する、記録媒体に記録を行うサーマルプリントヘッ
    ドであって、 前記硬性封止部分は前記基体上に配置され、前記軟性封
    止部分は前記基体上と前記回路基板上に跨って配置され
    ている、サーマルプリントヘッド。
  2. 【請求項2】 発熱抵抗体を備えた基体と、 前記基体に近接して配置された回路基板と、 前記基体または前記回路基板に搭載され、かつ前記基体
    および前記回路基板に電気的に接続された駆動用半導体
    素子と、 前記駆動用半導体素子を封止し、かつ硬性封止材料から
    なる硬性封止部分と前記硬性封止材料より柔らかい軟性
    封止材料からなる軟性封止部分とを含む、封止部材とを
    具備する、記録媒体に記録を行うサーマルプリントヘッ
    ドであって、 前記硬性封止部分は前記基体上に配置され、前記軟性封
    止部分は前記回路基板上に配置され、前記硬性封止部分
    と前記軟性封止部分とが接続されている、サーマルプリ
    ントヘッド。
  3. 【請求項3】 前記軟性封止部分を覆うカバーをさらに
    具備することを特徴とする請求項1または請求項2のい
    ずれか1項記載のサーマルプリントヘッド。
  4. 【請求項4】 前記硬性封止部分と前記軟性封止部分と
    が接続されていることを特徴とする請求項1または請求
    項2のいずれか1項記載のサーマルプリントヘッド。
  5. 【請求項5】 前記硬性封止部分と前記軟性封止部分と
    が中間層を介して接続されていることを特徴とする請求
    項4記載のサーマルプリントヘッド。
  6. 【請求項6】 前記硬性封止材料がエポキシ系樹脂であ
    り、前記軟性封止材料がシリコン系樹脂であることを特
    徴とする請求項1または請求項2のいずれか1項記載の
    サーマルプリントヘッド。
  7. 【請求項7】 前記駆動用半導体素子が前記回路基板上
    に搭載されていることを特徴とする請求項1または請求
    項2のいずれか1項記載のサーマルプリントヘッド。
  8. 【請求項8】 前記駆動用半導体素子が前記基体上に搭
    載されていることを特徴とする請求項1または請求項2
    のいずれか1項記載のサーマルプリントヘッド。
  9. 【請求項9】 発熱抵抗体を備えた基体と、 前記基体に近接して配置された回路基板と、 前記基体または前記回路基板に搭載され、かつ前記基体
    および前記回路基板に電気的に接続された駆動用半導体
    素子と、 前記駆動用半導体素子を封止し、かつ硬性封止材料から
    なる硬性封止部分と前記硬性封止材料より柔らかい軟性
    封止材料からなる軟性封止部分とを含む、封止部材とを
    具備する、記録媒体に記録を行うサーマルプリントヘッ
    ドであって、 前記軟性封止部分は前記基体上と前記回路基板上に跨っ
    て配置され、前記硬性封止部分が前記軟性封止部分を覆
    っている、サーマルプリントヘッド。
  10. 【請求項10】 前記硬性封止部分と前記軟性封止部分
    との境界に中間層が介在することを特徴とする請求項9
    記載のサーマルプリントヘッド。
  11. 【請求項11】 前記硬性封止材料がエポキシ系樹脂で
    あり、前記軟性封止材料がシリコン系樹脂であることを
    特徴とする請求項9記載のサーマルプリントヘッド。
  12. 【請求項12】 前記駆動用半導体素子が前記回路基板
    上に搭載されていることを特徴とする請求項9記載のサ
    ーマルプリントヘッド。
  13. 【請求項13】 前記駆動用半導体素子が前記基体上に
    搭載されていることを特徴とする請求項9記載のサーマ
    ルプリントヘッド。
  14. 【請求項14】 前記軟性封止部分の肉厚が、前記硬性
    封止部分の肉厚よりも大きいことを特徴とする請求項9
    記載のサーマルプリントヘッド。
  15. 【請求項15】 前記硬性封止部分が、前記記録媒体と
    前記記録媒体を送る機構に接触しない程度に設けられて
    いることを特徴とする請求項9記載のサーマルプリント
    ヘッド。
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