JP2000272921A - 酸化チタン粉末の製造方法及び酸化チタン被膜の製造方法 - Google Patents
酸化チタン粉末の製造方法及び酸化チタン被膜の製造方法Info
- Publication number
- JP2000272921A JP2000272921A JP8347799A JP8347799A JP2000272921A JP 2000272921 A JP2000272921 A JP 2000272921A JP 8347799 A JP8347799 A JP 8347799A JP 8347799 A JP8347799 A JP 8347799A JP 2000272921 A JP2000272921 A JP 2000272921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium oxide
- titanium
- treatment liquid
- oxide film
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 後処理として焼成処理等の熱処理を行わなく
ても結晶性の高い酸化チタンを形成することができる酸
化チタン粉末の製造方法を提供する。 【解決手段】 チタンフルオロ錯体を含む水溶液中に下
記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進める添加剤を
添加し、酸化チタンの過飽和液とした処理液を調製す
る。耐熱密閉容器内で密閉してこの処理液から酸化チタ
ンを析出させる。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１）
ても結晶性の高い酸化チタンを形成することができる酸
化チタン粉末の製造方法を提供する。 【解決手段】 チタンフルオロ錯体を含む水溶液中に下
記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進める添加剤を
添加し、酸化チタンの過飽和液とした処理液を調製す
る。耐熱密閉容器内で密閉してこの処理液から酸化チタ
ンを析出させる。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化チタン粉末及
び酸化チタン被膜の製造方法に関し、詳しくは液相での
析出現象を利用して酸化チタン粉末又は酸化チタン被膜
を形成する方法に関するものである。
び酸化チタン被膜の製造方法に関し、詳しくは液相での
析出現象を利用して酸化チタン粉末又は酸化チタン被膜
を形成する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、チタンフッ化水素酸にほう酸ある
いは塩化アルミニウムを添加した溶液にガラス基材を浸
漬して、基材表面にＴｉＯ2膜を形成する方法（例えば
特開昭５９−１４１４４１号公報や、特開平１−９３４
４３号公報に開示）や、チタンフッ化アンモニウムを含
む水溶液を用いたＴｉＯ2膜の形成方法（例えば特開平
３−２８５８２２号公報、特開平３−２８５８２１号公
報、特開平４−１３００１７号公報等に開示）が知られ
ている。
いは塩化アルミニウムを添加した溶液にガラス基材を浸
漬して、基材表面にＴｉＯ2膜を形成する方法（例えば
特開昭５９−１４１４４１号公報や、特開平１−９３４
４３号公報に開示）や、チタンフッ化アンモニウムを含
む水溶液を用いたＴｉＯ2膜の形成方法（例えば特開平
３−２８５８２２号公報、特開平３−２８５８２１号公
報、特開平４−１３００１７号公報等に開示）が知られ
ている。
【０００３】また同様の出発物質から光触媒活性を持つ
酸化チタン粉体や被膜の形成方法（例えば特公平１０−
２８４５１９号公報に開示）が知られている。
酸化チタン粉体や被膜の形成方法（例えば特公平１０−
２８４５１９号公報に開示）が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記析出法によ
って得られる酸化チタンは熱処理を行わなければ非晶質
であるか、結晶性が比較的低く、光触媒活性が不充分で
あり、酸化チタン形成後、１００〜７００℃程度の温度
で焼成して結晶性を高めて光触媒活性を向上させなけれ
ばならないものであった。そのため、処理コストが嵩
み、また酸化チタンを形成する基材が熱により劣化する
という問題もあった。
って得られる酸化チタンは熱処理を行わなければ非晶質
であるか、結晶性が比較的低く、光触媒活性が不充分で
あり、酸化チタン形成後、１００〜７００℃程度の温度
で焼成して結晶性を高めて光触媒活性を向上させなけれ
ばならないものであった。そのため、処理コストが嵩
み、また酸化チタンを形成する基材が熱により劣化する
という問題もあった。
【０００５】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、後処理として焼成処理等の熱処理を行わなくても
結晶性の高い酸化チタンを形成することができ、処理コ
ストの削減や、酸化チタンを形成する基材の熱による劣
化を防ぐことができる酸化チタン粉末及び酸化チタン被
膜の製造方法を提供することを目的とするものである。
あり、後処理として焼成処理等の熱処理を行わなくても
結晶性の高い酸化チタンを形成することができ、処理コ
ストの削減や、酸化チタンを形成する基材の熱による劣
化を防ぐことができる酸化チタン粉末及び酸化チタン被
膜の製造方法を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
酸化チタン粉末の製造方法は、チタンフルオロ錯体を含
む水溶液中に下記反応式（１）に示す反応の平衡を右に
進める添加剤を添加して、酸化チタンの過飽和液とした
処理液を調製し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液
から酸化チタンを析出させることを特徴とするものであ
る。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１） また本発明の請求項２に係る酸化チタン粉末の製造方法
は、請求項１の構成に加えて、チタンフルオロ錯体とし
てチタンフッ化アンモニウムを用いることを特徴とする
ものである。
酸化チタン粉末の製造方法は、チタンフルオロ錯体を含
む水溶液中に下記反応式（１）に示す反応の平衡を右に
進める添加剤を添加して、酸化チタンの過飽和液とした
処理液を調製し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液
から酸化チタンを析出させることを特徴とするものであ
る。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１） また本発明の請求項２に係る酸化チタン粉末の製造方法
は、請求項１の構成に加えて、チタンフルオロ錯体とし
てチタンフッ化アンモニウムを用いることを特徴とする
ものである。
【０００７】また本発明の請求項３に係る酸化チタン粉
末の製造方法は、請求項１又は２の構成に加えて、処理
液中のチタンフルオロ錯体の濃度を処理液全量に対して
０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットルとし、上記反応式
（１）の平衡を右に進める添加剤の配合量を処理液全量
に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとすること
を特徴とするものである。
末の製造方法は、請求項１又は２の構成に加えて、処理
液中のチタンフルオロ錯体の濃度を処理液全量に対して
０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットルとし、上記反応式
（１）の平衡を右に進める添加剤の配合量を処理液全量
に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとすること
を特徴とするものである。
【０００８】また本発明の請求項４に係る酸化チタン被
膜の製造方法は、チタンフルオロ錯体を含む水溶液中に
下記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進める添加剤
を添加して、酸化チタンの過飽和液とした処理液を調製
し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液を基材と接触
させて基材の表面に酸化チタン被膜を形成することを特
徴とするものである。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１） また本発明の請求項５に係る酸化チタン被膜の製造方法
は、請求項４の構成に加えて、チタンフルオロ錯体とし
てチタンフッ化アンモニウムを用いることを特徴とする
ものである。
膜の製造方法は、チタンフルオロ錯体を含む水溶液中に
下記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進める添加剤
を添加して、酸化チタンの過飽和液とした処理液を調製
し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液を基材と接触
させて基材の表面に酸化チタン被膜を形成することを特
徴とするものである。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１） また本発明の請求項５に係る酸化チタン被膜の製造方法
は、請求項４の構成に加えて、チタンフルオロ錯体とし
てチタンフッ化アンモニウムを用いることを特徴とする
ものである。
【０００９】また本発明の請求項６に係る酸化チタン被
膜の製造方法は、請求項４又は５の構成に加えて、処理
液中のチタンフルオロ錯体の濃度を処理液全量に対して
０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットルとし、上記反応式
（１）の平衡を右に進める添加剤の配合量を処理液全量
に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとすること
を特徴とするものである。
膜の製造方法は、請求項４又は５の構成に加えて、処理
液中のチタンフルオロ錯体の濃度を処理液全量に対して
０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットルとし、上記反応式
（１）の平衡を右に進める添加剤の配合量を処理液全量
に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとすること
を特徴とするものである。
【００１０】また本発明の請求項７に係る酸化チタン被
膜の製造方法は、請求項４乃至６のいずれかの方法に加
えて、基材の表面に厚み１００ｎｍ〜２μｍの酸化チタ
ン被膜を形成することを特徴とするものである。
膜の製造方法は、請求項４乃至６のいずれかの方法に加
えて、基材の表面に厚み１００ｎｍ〜２μｍの酸化チタ
ン被膜を形成することを特徴とするものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
する。
【００１２】本発明に係る酸化チタン粉末あるいは酸化
チタン被膜の製造方法においては、チタンフルオロ錯体
を含む水溶液中の下記反応式（１）の平衡を右に進める
添加剤を添加して処理液を調製し、過飽和となったこの
処理液から酸化チタンを析出させるものである。ここで
下記反応式（１）中の⇔は、反応が可逆的であることを
示す。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１） 更に詳しく述べると、反応開始時における処理液中のチ
タンフルオロ錯体の濃度は、０．０１〜０．２ｍｏｌ／
リットルとすることが、良好な反応速度で酸化チタンの
みを析出させることができる点で好ましい。チタンフル
オロ錯体の濃度がこの範囲に満たないと、反応速度が遅
く、酸化チタンの析出速度が遅くなって、工業的な利用
に供することが困難となり、またこの範囲を超えると、
処理液中の反応によりＮＨ4ＴｉＯＦ3とＴｉＯＦ2の混
合物が析出する傾向が発生する。ここでチタンフルオロ
錯体を供給する物質としては、チタンフッ化アンモニウ
ムを用いることが、酸化チタンの析出速度が大きい点、
及び酸化チタン中に不純物として取り込まれるＮＨ4 +が
熱処理等で容易に除去できる点で好ましいが、これに限
られるものではない。チタンフルオロ錯体を供給する物
質としてチタンフッ化アンモニウムを用いる場合は、処
理液中の上記反応式（１）で示される反応は、下記反応
式（２）で表される。ここで下記反応式（２）中の⇔
は、反応が可逆的であることを示す。 （ＮＨ4）2ＴｉＦ6＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２ＮＨ4Ｆ （２） また処理液中の、上記反応式（１）の平衡を右に進める
添加剤の、反応開始時の濃度は、処理液全量に対して
０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとすることが、良好
な反応速度で均一な膜厚の酸化チタンを得ることができ
る点で好ましい。添加剤の濃度がこの範囲に満たない
と、反応速度が遅く、酸化チタンの析出速度が遅くなる
か、酸化チタンが析出しなくなって、工業的な利用に供
することが困難となる。また添加剤の濃度がこの範囲を
超える溶液は工業上、調製することが困難であるか、ま
たは調製に非常に時間がかかるため、作業効率が悪く、
コストの上昇にもつながるものであり、また酸化チタン
被膜を作製する場合は得られる酸化チタン被膜の膜厚が
不均一になるおそれがある。ここで上記反応式（１）の
平衡を右に進める添加剤として用いる物質は、ほう酸、
アルミニウム、塩化アルミニウム等が挙げられ、特にほ
う酸を用いることが製造コストを低減することができ、
また均一な膜厚の酸化チタン被膜を得ることができる点
で好ましいが、これらに限られるものではなく、フッ素
と錯体を形成して上記反応式（１）の平衡を右に進めて
処理液中の酸化チタンを過飽和状態とすることができ、
かつ形成されたフッ素との錯体が処理液中に安定して存
在するものであればよいものである。
チタン被膜の製造方法においては、チタンフルオロ錯体
を含む水溶液中の下記反応式（１）の平衡を右に進める
添加剤を添加して処理液を調製し、過飽和となったこの
処理液から酸化チタンを析出させるものである。ここで
下記反応式（１）中の⇔は、反応が可逆的であることを
示す。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１） 更に詳しく述べると、反応開始時における処理液中のチ
タンフルオロ錯体の濃度は、０．０１〜０．２ｍｏｌ／
リットルとすることが、良好な反応速度で酸化チタンの
みを析出させることができる点で好ましい。チタンフル
オロ錯体の濃度がこの範囲に満たないと、反応速度が遅
く、酸化チタンの析出速度が遅くなって、工業的な利用
に供することが困難となり、またこの範囲を超えると、
処理液中の反応によりＮＨ4ＴｉＯＦ3とＴｉＯＦ2の混
合物が析出する傾向が発生する。ここでチタンフルオロ
錯体を供給する物質としては、チタンフッ化アンモニウ
ムを用いることが、酸化チタンの析出速度が大きい点、
及び酸化チタン中に不純物として取り込まれるＮＨ4 +が
熱処理等で容易に除去できる点で好ましいが、これに限
られるものではない。チタンフルオロ錯体を供給する物
質としてチタンフッ化アンモニウムを用いる場合は、処
理液中の上記反応式（１）で示される反応は、下記反応
式（２）で表される。ここで下記反応式（２）中の⇔
は、反応が可逆的であることを示す。 （ＮＨ4）2ＴｉＦ6＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２ＮＨ4Ｆ （２） また処理液中の、上記反応式（１）の平衡を右に進める
添加剤の、反応開始時の濃度は、処理液全量に対して
０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとすることが、良好
な反応速度で均一な膜厚の酸化チタンを得ることができ
る点で好ましい。添加剤の濃度がこの範囲に満たない
と、反応速度が遅く、酸化チタンの析出速度が遅くなる
か、酸化チタンが析出しなくなって、工業的な利用に供
することが困難となる。また添加剤の濃度がこの範囲を
超える溶液は工業上、調製することが困難であるか、ま
たは調製に非常に時間がかかるため、作業効率が悪く、
コストの上昇にもつながるものであり、また酸化チタン
被膜を作製する場合は得られる酸化チタン被膜の膜厚が
不均一になるおそれがある。ここで上記反応式（１）の
平衡を右に進める添加剤として用いる物質は、ほう酸、
アルミニウム、塩化アルミニウム等が挙げられ、特にほ
う酸を用いることが製造コストを低減することができ、
また均一な膜厚の酸化チタン被膜を得ることができる点
で好ましいが、これらに限られるものではなく、フッ素
と錯体を形成して上記反応式（１）の平衡を右に進めて
処理液中の酸化チタンを過飽和状態とすることができ、
かつ形成されたフッ素との錯体が処理液中に安定して存
在するものであればよいものである。
【００１３】酸化チタン粉末を製造するにあたっては、
上記のように調製される処理液を、耐圧密閉容器内に入
れ、密閉状態で適宜の時間放置することにより、酸化チ
タン粉末を析出させる。ここで耐圧密閉容器とは、使用
する温度範囲において内部のガスを密閉でき、かつこの
温度範囲において容積変化がない容器であり、すなわち
内部に反応溶液を入れて密閉した際に内部の圧力を反応
溶液の蒸気圧に保つことができる容器である。この反応
後の処理液を濾過して得られる酸化チタン粉末を、充分
洗浄した後、乾燥する。この得られる酸化チタン粉末
は、後処理として焼成処理を行わなくても、結晶性が高
く、優れた光触媒活性を有するものである。この酸化チ
タンの結晶性が向上する理由は明らかではないが、耐圧
密閉容器内で反応を進行させることにより、耐圧密閉容
器内は反応温度における処理溶液の蒸気圧、すなわち常
圧よりも高い圧力となっており、その圧力がチタンフル
オロ錯体の加水分解・縮重合反応に何らかの影響を及ぼ
すものと考えられる。ここで耐圧密閉容器内における処
理液の反応温度は５０〜１４０℃とすることが、より結
晶性が高く、充分な光触媒活性を有する酸化チタン粉末
を得ることができると共に、反応中における密閉性を容
易に維持することができる点で好ましく、反応温度が５
０℃に満たないと析出する酸化チタンの結晶性が充分で
なく、充分な光触媒活性が得られないおそれがあり、１
４０℃を超えると耐圧密閉容器に要求される耐圧性能が
大きくなり、反応中の密閉性を維持することが困難とな
る場合がある。また反応後の処理液の乾燥は、室温（２
５℃）で行うことができるが、より高温で乾燥してもよ
い。
上記のように調製される処理液を、耐圧密閉容器内に入
れ、密閉状態で適宜の時間放置することにより、酸化チ
タン粉末を析出させる。ここで耐圧密閉容器とは、使用
する温度範囲において内部のガスを密閉でき、かつこの
温度範囲において容積変化がない容器であり、すなわち
内部に反応溶液を入れて密閉した際に内部の圧力を反応
溶液の蒸気圧に保つことができる容器である。この反応
後の処理液を濾過して得られる酸化チタン粉末を、充分
洗浄した後、乾燥する。この得られる酸化チタン粉末
は、後処理として焼成処理を行わなくても、結晶性が高
く、優れた光触媒活性を有するものである。この酸化チ
タンの結晶性が向上する理由は明らかではないが、耐圧
密閉容器内で反応を進行させることにより、耐圧密閉容
器内は反応温度における処理溶液の蒸気圧、すなわち常
圧よりも高い圧力となっており、その圧力がチタンフル
オロ錯体の加水分解・縮重合反応に何らかの影響を及ぼ
すものと考えられる。ここで耐圧密閉容器内における処
理液の反応温度は５０〜１４０℃とすることが、より結
晶性が高く、充分な光触媒活性を有する酸化チタン粉末
を得ることができると共に、反応中における密閉性を容
易に維持することができる点で好ましく、反応温度が５
０℃に満たないと析出する酸化チタンの結晶性が充分で
なく、充分な光触媒活性が得られないおそれがあり、１
４０℃を超えると耐圧密閉容器に要求される耐圧性能が
大きくなり、反応中の密閉性を維持することが困難とな
る場合がある。また反応後の処理液の乾燥は、室温（２
５℃）で行うことができるが、より高温で乾燥してもよ
い。
【００１４】また酸化チタン被膜を形成するにあたって
は、上記のように調製される処理液を耐圧密閉容器内に
入れて密閉状態とすると共に、耐圧密閉容器内で、処理
液と、酸化チタン被膜が形成される所望の基材とを接触
させて、適宜の時間放置することにより、基材表面に酸
化チタン被膜を形成する。この反応後、酸化チタン被膜
が形成された基材表面を充分洗浄した後、乾燥する。こ
の得られる酸化チタン被膜は、後処理として焼成処理を
行わなくても、結晶性が高く、優れた光触媒活性を有す
るものである。ここで耐圧密閉容器内における処理液の
反応温度は５０〜１４０℃とすることが、より結晶性が
高く、充分な光触媒活性を有する酸化チタン被膜を得る
ことができると共に、反応中における密閉性を容易に維
持することができる点で好ましく、反応温度が５０℃に
満たないと析出する酸化チタンの結晶性が充分でなく、
充分な光触媒活性が得られないおそれがあり、１４０℃
を超えると耐圧密閉容器に要求される耐圧性能が大きく
なり、反応中の密閉性を維持することが困難となる場合
がある。また反応後の処理液の乾燥は、室温（２５℃）
で行うことができるが、より高温で乾燥してもよい。
は、上記のように調製される処理液を耐圧密閉容器内に
入れて密閉状態とすると共に、耐圧密閉容器内で、処理
液と、酸化チタン被膜が形成される所望の基材とを接触
させて、適宜の時間放置することにより、基材表面に酸
化チタン被膜を形成する。この反応後、酸化チタン被膜
が形成された基材表面を充分洗浄した後、乾燥する。こ
の得られる酸化チタン被膜は、後処理として焼成処理を
行わなくても、結晶性が高く、優れた光触媒活性を有す
るものである。ここで耐圧密閉容器内における処理液の
反応温度は５０〜１４０℃とすることが、より結晶性が
高く、充分な光触媒活性を有する酸化チタン被膜を得る
ことができると共に、反応中における密閉性を容易に維
持することができる点で好ましく、反応温度が５０℃に
満たないと析出する酸化チタンの結晶性が充分でなく、
充分な光触媒活性が得られないおそれがあり、１４０℃
を超えると耐圧密閉容器に要求される耐圧性能が大きく
なり、反応中の密閉性を維持することが困難となる場合
がある。また反応後の処理液の乾燥は、室温（２５℃）
で行うことができるが、より高温で乾燥してもよい。
【００１５】このようにして酸化チタン被膜を製造する
にあたって、この酸化チタン被膜の膜厚を１００ｎｍ〜
２μｍとすると、光触媒活性が著しく優れた酸化チタン
被膜を得ることができる。酸化チタン被膜の膜厚がこの
範囲に満たないと、酸化チタン被膜の光触媒活性が充分
に得られないおそれがあり、膜厚がこの範囲を超える
と、光触媒活性が飽和してそれ以上の触媒活性を得るこ
とができなくなると共に被膜がもろくなって強度が低下
するおそれがある。
にあたって、この酸化チタン被膜の膜厚を１００ｎｍ〜
２μｍとすると、光触媒活性が著しく優れた酸化チタン
被膜を得ることができる。酸化チタン被膜の膜厚がこの
範囲に満たないと、酸化チタン被膜の光触媒活性が充分
に得られないおそれがあり、膜厚がこの範囲を超える
と、光触媒活性が飽和してそれ以上の触媒活性を得るこ
とができなくなると共に被膜がもろくなって強度が低下
するおそれがある。
【００１６】酸化チタン被膜を形成する基材としては、
チタンフルオロ錯体を含む上記処理液と反応し難いもの
であればよく、ガラス、金属酸化物又は金属からなるも
のを好適に用いることができる。基材としてプラスチッ
クからなるものを用いる場合は、シランカップリング剤
にて基材表面を処理するなどして、基材表面に基材と酸
化チタンとの密着性を向上させる処理を施しておくこと
が好ましい。また更に好ましくは、酸化チタンの光触媒
作用による、基材であるプラスチックの分解を妨げるた
めに、基材表面にシリカ等のアンダーコートを施してお
くものである。
チタンフルオロ錯体を含む上記処理液と反応し難いもの
であればよく、ガラス、金属酸化物又は金属からなるも
のを好適に用いることができる。基材としてプラスチッ
クからなるものを用いる場合は、シランカップリング剤
にて基材表面を処理するなどして、基材表面に基材と酸
化チタンとの密着性を向上させる処理を施しておくこと
が好ましい。また更に好ましくは、酸化チタンの光触媒
作用による、基材であるプラスチックの分解を妨げるた
めに、基材表面にシリカ等のアンダーコートを施してお
くものである。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例によって詳述する。
【００１８】下記の実施例１、２及び比較例１に示す方
法にて、酸化チタン粉末を得た。
法にて、酸化チタン粉末を得た。
【００１９】（実施例１）チタンフッ化アンモニウム
０．４ｍｏｌ／リットル水溶液６２．５ミリリットルと
ほう酸０．５ｍｏｌ／リットル水溶液１００ミリリット
ルを混合し、更に水を加えて、２５０ミリリットルの処
理液を得た。この処理液を、内部にテフロンコートを施
したステンレス製の耐圧容器に注入してこの耐圧容器を
密閉し、１２０℃で３時間保ったところ、一次粒径２０
〜８０Åの酸化チタン粉末が析出した。この酸化チタン
粉末が析出した処理液を濾過し、得られる酸化チタン粉
末を充分に洗浄した後、室温（２５℃）で乾燥した。
０．４ｍｏｌ／リットル水溶液６２．５ミリリットルと
ほう酸０．５ｍｏｌ／リットル水溶液１００ミリリット
ルを混合し、更に水を加えて、２５０ミリリットルの処
理液を得た。この処理液を、内部にテフロンコートを施
したステンレス製の耐圧容器に注入してこの耐圧容器を
密閉し、１２０℃で３時間保ったところ、一次粒径２０
〜８０Åの酸化チタン粉末が析出した。この酸化チタン
粉末が析出した処理液を濾過し、得られる酸化チタン粉
末を充分に洗浄した後、室温（２５℃）で乾燥した。
【００２０】（比較例１）実施例１と同一条件で処理液
を調製した。この処理液を、ポリエチレン製の容器に注
入し、このポリエチレン製の容器を密閉しない状態で、
３０℃で３時間保ったところ、一次粒径２０〜８０Åの
酸化チタン粉末が析出した。この酸化チタン粉末が析出
した処理液を濾過し、得られる酸化チタン粉末を充分に
洗浄した後、室温（２５℃）で乾燥した。
を調製した。この処理液を、ポリエチレン製の容器に注
入し、このポリエチレン製の容器を密閉しない状態で、
３０℃で３時間保ったところ、一次粒径２０〜８０Åの
酸化チタン粉末が析出した。この酸化チタン粉末が析出
した処理液を濾過し、得られる酸化チタン粉末を充分に
洗浄した後、室温（２５℃）で乾燥した。
【００２１】上記の実施例１及び比較例１にて得られた
酸化チタン粉末を、Ｘ線回折測定装置［理学電気株式会
社製、品番：Ｒｉｇａｋｕ ＲＩＮＴ ２１００］を用
い、て測定した。Ｘ線源としては銅の管球を用いた。測
定の結果、図１に示すような回折曲線が得られた。ここ
で図中の横軸は試料へのＸ線の入射角に２を乗じた値を
示し、縦軸は試料から反射されたＸ線の強度を示す。こ
の図１から明らかなように、実施例１では、比較例１の
場合よりもシャープな回折ピークが測定され、実施例１
で得られた酸化チタン粉末は、比較例１で得られた酸化
チタン粉末よりも高い結晶性を有することが確認され
た。
酸化チタン粉末を、Ｘ線回折測定装置［理学電気株式会
社製、品番：Ｒｉｇａｋｕ ＲＩＮＴ ２１００］を用
い、て測定した。Ｘ線源としては銅の管球を用いた。測
定の結果、図１に示すような回折曲線が得られた。ここ
で図中の横軸は試料へのＸ線の入射角に２を乗じた値を
示し、縦軸は試料から反射されたＸ線の強度を示す。こ
の図１から明らかなように、実施例１では、比較例１の
場合よりもシャープな回折ピークが測定され、実施例１
で得られた酸化チタン粉末は、比較例１で得られた酸化
チタン粉末よりも高い結晶性を有することが確認され
た。
【００２２】また上記の実施例１及び比較例１にて得ら
れた各酸化チタン粉末０．１ｇをそれぞれ容量３００ｃ
ｃの石英ガラス製透明容器に入れ、この容器内にアセト
アルデヒドを容器内の濃度が５０ｐｐｍとなるように注
入した状態で容器を密封した。この容器に波長３２０〜
３８０ｎｍ、光量０．６５ｍＷ／ｃｍ2のブラックライ
トを照射した。この状態で容器内のアセトアルデヒド濃
度の変化をガスクロマトグラフにて観測し、アセトアル
デヒド濃度が半減するまでに要するブラックライトの照
射時間、すなわち半減期を測定した。この結果を表１に
示す。
れた各酸化チタン粉末０．１ｇをそれぞれ容量３００ｃ
ｃの石英ガラス製透明容器に入れ、この容器内にアセト
アルデヒドを容器内の濃度が５０ｐｐｍとなるように注
入した状態で容器を密封した。この容器に波長３２０〜
３８０ｎｍ、光量０．６５ｍＷ／ｃｍ2のブラックライ
トを照射した。この状態で容器内のアセトアルデヒド濃
度の変化をガスクロマトグラフにて観測し、アセトアル
デヒド濃度が半減するまでに要するブラックライトの照
射時間、すなわち半減期を測定した。この結果を表１に
示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】表１に示される結果から明らかなように、
実施例１では比較例１よりもアセトアルデヒドの半減期
が短縮されており、酸化チタン粉末の光触媒活性が向上
したことが確認された。
実施例１では比較例１よりもアセトアルデヒドの半減期
が短縮されており、酸化チタン粉末の光触媒活性が向上
したことが確認された。
【００２５】また下記の実施例２、３及び比較例２に示
す方法にて、酸化チタン粉末を得た。
す方法にて、酸化チタン粉末を得た。
【００２６】（実施例２）実施例１と同一条件で処理液
を調製した。この処理液を実施例１と同一の耐圧容器に
注入すると共に耐圧容器内の処理液によく洗浄したガラ
ス基材を浸漬してこの耐圧容器を密閉し、５０℃で１５
時間保ったところ、ガラス基材表面に膜厚１μｍの酸化
チタン被膜が形成された。この酸化チタン被膜が形成さ
れたガラス基材を充分に洗浄した後、室温（２５℃）で
乾燥した。
を調製した。この処理液を実施例１と同一の耐圧容器に
注入すると共に耐圧容器内の処理液によく洗浄したガラ
ス基材を浸漬してこの耐圧容器を密閉し、５０℃で１５
時間保ったところ、ガラス基材表面に膜厚１μｍの酸化
チタン被膜が形成された。この酸化チタン被膜が形成さ
れたガラス基材を充分に洗浄した後、室温（２５℃）で
乾燥した。
【００２７】（実施例３）実施例１と同一条件で処理液
を調製した。この処理液を実施例１と同一の耐圧容器に
注入すると共に耐圧容器内の処理液によく洗浄したガラ
ス基材を浸漬してこの耐圧容器を密閉し、５０℃で１時
間保ったところ、ガラス基材表面に膜厚４０ｎｍの酸化
チタン被膜が形成された。この酸化チタン被膜が形成さ
れたガラス基材を充分に洗浄した後、室温（２５℃）で
乾燥した。
を調製した。この処理液を実施例１と同一の耐圧容器に
注入すると共に耐圧容器内の処理液によく洗浄したガラ
ス基材を浸漬してこの耐圧容器を密閉し、５０℃で１時
間保ったところ、ガラス基材表面に膜厚４０ｎｍの酸化
チタン被膜が形成された。この酸化チタン被膜が形成さ
れたガラス基材を充分に洗浄した後、室温（２５℃）で
乾燥した。
【００２８】（比較例２）実施例１と同一条件で処理液
を調製した。この処理液を、ポリエチレン製の容器に注
入すると共にポリエチレン製の容器内の処理液によく洗
浄したガラス基材を浸漬し、このポリエチレン製の容器
を密閉しない状態で、３０℃で２４時間保ったところ、
ガラス基材表面に厚み１μｍの酸化チタン被膜が形成さ
れた。この酸化チタン被膜が形成されたガラス基材を充
分に洗浄した後、室温（２５℃）で乾燥した。
を調製した。この処理液を、ポリエチレン製の容器に注
入すると共にポリエチレン製の容器内の処理液によく洗
浄したガラス基材を浸漬し、このポリエチレン製の容器
を密閉しない状態で、３０℃で２４時間保ったところ、
ガラス基材表面に厚み１μｍの酸化チタン被膜が形成さ
れた。この酸化チタン被膜が形成されたガラス基材を充
分に洗浄した後、室温（２５℃）で乾燥した。
【００２９】上記の実施例２及び比較例２にて得られた
酸化チタン被膜を、Ｘ線回折測定装置［理学電気株式会
社製、品番：Ｒｉｇａｋｕ ＲＡＤ−ｒＸ］を用いて測
定した。Ｘ線源としては、銅の管球を用いた。測定の結
果、図２に示すような回折曲線が得られた。図中の横軸
は試料へのＸ線の入射角の２を乗じた値を示し、縦軸は
試料から反射されたＸ線の強度を示す。この図２から明
らかなように、実施例２では、比較例２の場合よりもシ
ャープな回折ピークが測定され、実施例２で得られた酸
化チタン被膜は、比較例２で得られた酸化チタン被膜よ
りも高い結晶性を有することが確認された。
酸化チタン被膜を、Ｘ線回折測定装置［理学電気株式会
社製、品番：Ｒｉｇａｋｕ ＲＡＤ−ｒＸ］を用いて測
定した。Ｘ線源としては、銅の管球を用いた。測定の結
果、図２に示すような回折曲線が得られた。図中の横軸
は試料へのＸ線の入射角の２を乗じた値を示し、縦軸は
試料から反射されたＸ線の強度を示す。この図２から明
らかなように、実施例２では、比較例２の場合よりもシ
ャープな回折ピークが測定され、実施例２で得られた酸
化チタン被膜は、比較例２で得られた酸化チタン被膜よ
りも高い結晶性を有することが確認された。
【００３０】また上記の実施例２、３及び比較例２にて
得られた、酸化チタン被膜が形成されたガラス基材から
５ｃｍ×５ｃｍの寸法の試験片を切り出した。この各試
験片をそれぞれ容量３００ｃｃの石英ガラス製透明容器
に入れ、この容器内にアセトアルデヒドを容器内の濃度
が５０ｐｐｍとなるように注入した状態で容器を密封し
た。この容器に波長３２０〜３８０ｎｍ光量０．６５ｍ
Ｗ／ｃｍ2のブラックライトを照射した。この状態で容
器内のアセトアルデヒド濃度の変化をガスクロマトグラ
フにより観測し、アセトアルデヒド濃度が半減するまで
に要するブラックライトの照射時間、すなわち半減期を
測定した。この結果を表２に示す。
得られた、酸化チタン被膜が形成されたガラス基材から
５ｃｍ×５ｃｍの寸法の試験片を切り出した。この各試
験片をそれぞれ容量３００ｃｃの石英ガラス製透明容器
に入れ、この容器内にアセトアルデヒドを容器内の濃度
が５０ｐｐｍとなるように注入した状態で容器を密封し
た。この容器に波長３２０〜３８０ｎｍ光量０．６５ｍ
Ｗ／ｃｍ2のブラックライトを照射した。この状態で容
器内のアセトアルデヒド濃度の変化をガスクロマトグラ
フにより観測し、アセトアルデヒド濃度が半減するまで
に要するブラックライトの照射時間、すなわち半減期を
測定した。この結果を表２に示す。
【００３１】
【表２】
【００３２】表２に示される結果から明らかなように、
実施例２，３は比較例２よりもアセトアルデヒドの半減
期が短縮されており、酸化チタン被膜の光触媒活性が向
上したことが確認された。また実施例２では、酸化チタ
ン被膜の厚みが１００ｎｍよりも薄い実施例３よりも光
触媒活性が更に向上したことが確認された。
実施例２，３は比較例２よりもアセトアルデヒドの半減
期が短縮されており、酸化チタン被膜の光触媒活性が向
上したことが確認された。また実施例２では、酸化チタ
ン被膜の厚みが１００ｎｍよりも薄い実施例３よりも光
触媒活性が更に向上したことが確認された。
【００３３】
【発明の効果】上記のように本発明の請求項１に係る酸
化チタン粉末の製造方法は、チタンフルオロ錯体を含む
水溶液中に上記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進
める添加剤を添加して、酸化チタンの過飽和液とした処
理液を調製し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液か
ら酸化チタンを析出させるものであり、後処理として焼
成処理を施さなくても、結晶性が高く、優れた光触媒活
性を有する酸化チタン粉末を得ることができるものであ
る。
化チタン粉末の製造方法は、チタンフルオロ錯体を含む
水溶液中に上記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進
める添加剤を添加して、酸化チタンの過飽和液とした処
理液を調製し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液か
ら酸化チタンを析出させるものであり、後処理として焼
成処理を施さなくても、結晶性が高く、優れた光触媒活
性を有する酸化チタン粉末を得ることができるものであ
る。
【００３４】また本発明の請求項２に係る酸化チタン粉
末の製造方法は、請求項１の構成に加えて、チタンフル
オロ錯体としてチタンフッ化アンモニウムを用いるもの
であり、酸化チタンの析出速度を大きくすることができ
ると共に、酸化チタン中に不純物として取り込まれるＮ
Ｈ4 +を熱処理等で容易に除去することができるものであ
る。
末の製造方法は、請求項１の構成に加えて、チタンフル
オロ錯体としてチタンフッ化アンモニウムを用いるもの
であり、酸化チタンの析出速度を大きくすることができ
ると共に、酸化チタン中に不純物として取り込まれるＮ
Ｈ4 +を熱処理等で容易に除去することができるものであ
る。
【００３５】また本発明の請求項３に係る酸化チタン粉
末の製造方法は、請求項１又は２の構成に加えて、処理
液中のチタンフルオロ錯体の濃度を処理液全量に対して
０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットルとし、上記反応式
（１）の平衡を右に進める添加剤の配合量を処理液全量
に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとするもの
であり、良好な反応速度で酸化チタンのみを析出させる
ことができるものである。
末の製造方法は、請求項１又は２の構成に加えて、処理
液中のチタンフルオロ錯体の濃度を処理液全量に対して
０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットルとし、上記反応式
（１）の平衡を右に進める添加剤の配合量を処理液全量
に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとするもの
であり、良好な反応速度で酸化チタンのみを析出させる
ことができるものである。
【００３６】また本発明の請求項４に係る酸化チタン被
膜の製造方法は、チタンフルオロ錯体を含む水溶液中に
上記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進める添加剤
を添加して、酸化チタンの過飽和液とした処理液を調製
し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液を基材と接触
させて基材の表面に酸化チタン被膜を形成するものであ
り、後処理として焼成処理を施さなくても、結晶性が高
く、優れた光触媒活性を有する酸化チタン被膜を得るこ
とができるものである。
膜の製造方法は、チタンフルオロ錯体を含む水溶液中に
上記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進める添加剤
を添加して、酸化チタンの過飽和液とした処理液を調製
し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液を基材と接触
させて基材の表面に酸化チタン被膜を形成するものであ
り、後処理として焼成処理を施さなくても、結晶性が高
く、優れた光触媒活性を有する酸化チタン被膜を得るこ
とができるものである。
【００３７】また本発明の請求項５に係る酸化チタン被
膜の製造方法は、請求項４の構成に加えて、チタンフル
オロ錯体としてチタンフッ化アンモニウムを用いるもの
であり、酸化チタンの析出速度を大きくすることができ
ると共に、酸化チタン中に不純物として取り込まれるＮ
Ｈ4 +を熱処理等で容易に除去することができるものであ
る。
膜の製造方法は、請求項４の構成に加えて、チタンフル
オロ錯体としてチタンフッ化アンモニウムを用いるもの
であり、酸化チタンの析出速度を大きくすることができ
ると共に、酸化チタン中に不純物として取り込まれるＮ
Ｈ4 +を熱処理等で容易に除去することができるものであ
る。
【００３８】また本発明の請求項６に係る酸化チタン被
膜の製造方法は、請求項４又は５の構成に加えて、処理
液中のチタンフルオロ錯体の濃度を処理液全量に対して
０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットルとし、上記反応式
（１）の平衡を右に進める添加剤の配合量を処理液全量
に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとするもの
であり、良好な反応速度で酸化チタンのみを析出させる
ことができ、しかも均一な膜厚の酸化チタン被膜を得る
ことができるものである。
膜の製造方法は、請求項４又は５の構成に加えて、処理
液中のチタンフルオロ錯体の濃度を処理液全量に対して
０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットルとし、上記反応式
（１）の平衡を右に進める添加剤の配合量を処理液全量
に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リットルとするもの
であり、良好な反応速度で酸化チタンのみを析出させる
ことができ、しかも均一な膜厚の酸化チタン被膜を得る
ことができるものである。
【００３９】また本発明の請求項７に係る酸化チタン被
膜の製造方法は、請求項４乃至６のいずれかの方法に加
えて、基材の表面に厚み１００ｎｍ〜２μｍの酸化チタ
ン被膜を形成するものであり、光触媒活性が更に優れた
酸化チタン被膜を得ることができるものである。
膜の製造方法は、請求項４乃至６のいずれかの方法に加
えて、基材の表面に厚み１００ｎｍ〜２μｍの酸化チタ
ン被膜を形成するものであり、光触媒活性が更に優れた
酸化チタン被膜を得ることができるものである。
【図１】実施例１、２及び比較例１で得られた酸化チタ
ン粉末のＸ線回折測定により測定された回折曲線を示す
図である。
ン粉末のＸ線回折測定により測定された回折曲線を示す
図である。
【図２】実施例３〜５及び比較例２で得られた酸化チタ
ン被膜のＸ線回折測定により測定された回折曲線を示す
図である。
ン被膜のＸ線回折測定により測定された回折曲線を示す
図である。
Claims (7)
- 【請求項１】 チタンフルオロ錯体を含む水溶液中に下
記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進める添加剤を
添加して、酸化チタンの過飽和液とした処理液を調製
し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液から酸化チタ
ンを析出させることを特徴とする酸化チタン粉末の製造
方法。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１） - 【請求項２】 チタンフルオロ錯体としてチタンフッ化
アンモニウムを用いることを特徴とする請求項１に記載
の酸化チタン粉末の製造方法。 - 【請求項３】 処理液中のチタンフルオロ錯体の濃度を
処理液全量に対して０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットル
とし、上記反応式（１）の平衡を右に進める添加剤の配
合量を処理液全量に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リ
ットルとすることを特徴とする請求項１又は２に記載の
酸化チタン粉末の製造方法。 - 【請求項４】 チタンフルオロ錯体を含む水溶液中に下
記反応式（１）に示す反応の平衡を右に進める添加剤を
添加して、酸化チタンの過飽和液とした処理液を調製
し、耐圧密閉容器内で密閉してこの処理液を基材と接触
させて基材の表面に酸化チタン被膜を形成することを特
徴とする酸化チタン被膜の製造方法。 ＴｉＦ6 2-＋２Ｈ2Ｏ⇔ＴｉＯ2＋４ＨＦ＋２Ｆ- （１） - 【請求項５】 チタンフルオロ錯体としてチタンフッ化
アンモニウムを用いることを特徴とする請求項４に記載
の酸化チタン被膜の製造方法。 - 【請求項６】 処理液中のチタンフルオロ錯体の濃度を
処理液全量に対して０．０１〜０．２ｍｏｌ／リットル
とし、上記反応式（１）の平衡を右に進める添加剤の配
合量を処理液全量に対して０．０５〜０．５ｍｏｌ／リ
ットルとすることを特徴とする請求項４又は５に記載の
酸化チタン被膜の製造方法。 - 【請求項７】 基材の表面に厚み１００ｎｍ〜２μｍの
酸化チタン被膜を形成することを特徴とする請求項４乃
至６のいずれかに記載の酸化チタン被膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8347799A JP2000272921A (ja) | 1999-03-26 | 1999-03-26 | 酸化チタン粉末の製造方法及び酸化チタン被膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8347799A JP2000272921A (ja) | 1999-03-26 | 1999-03-26 | 酸化チタン粉末の製造方法及び酸化チタン被膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000272921A true JP2000272921A (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13803556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8347799A Withdrawn JP2000272921A (ja) | 1999-03-26 | 1999-03-26 | 酸化チタン粉末の製造方法及び酸化チタン被膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000272921A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002069655A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-08 | National Institute For Materials Science | 酸化亜鉛基化合物パターン化膜の製造方法 |
| JP2010208941A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-09-24 | Osaka Gas Co Ltd | 酸化チタン構造体 |
| CN110013682A (zh) * | 2019-05-05 | 2019-07-16 | 河北工业大学 | 一种新型的纳米二氧化钛生产流程控制装置和方法 |
-
1999
- 1999-03-26 JP JP8347799A patent/JP2000272921A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002069655A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-08 | National Institute For Materials Science | 酸化亜鉛基化合物パターン化膜の製造方法 |
| JP2010208941A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-09-24 | Osaka Gas Co Ltd | 酸化チタン構造体 |
| CN110013682A (zh) * | 2019-05-05 | 2019-07-16 | 河北工业大学 | 一种新型的纳米二氧化钛生产流程控制装置和方法 |
| CN110013682B (zh) * | 2019-05-05 | 2024-01-26 | 河北工业大学 | 一种新型的纳米二氧化钛生产流程控制装置和方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4304235B2 (ja) | 酸化チタン薄膜の製造方法および光分解触媒 | |
| JP4335446B2 (ja) | 酸化チタンゾル、薄膜およびそれらの製造法 | |
| EP1031538B1 (en) | Processes of producing a titanium oxide-forming solution and a dispersion with crystalline titanium oxide particles | |
| Kamiya et al. | Nitridation of the Sol–Gel‐Derived Titanium Oxide Films by Heating in Ammonia Gas | |
| US20140220351A1 (en) | Synthesis of Metal Oxide and Mixed Metal Oxide Solutions | |
| KR101750473B1 (ko) | 무소성 고결정성 이산화바나듐의 제조방법 | |
| Kato et al. | Microstructure and crystallographic orientation of anatase coatings produced from chemically modified titanium tetraisopropoxide | |
| JP2016528149A (ja) | 超親水性コーティング | |
| Angelomé et al. | Hybrid non-silica mesoporous thin films | |
| Liu et al. | Influences of Solvent on Properties of TiO 2 Porous Films Prepared by a Sol-Gel Method from the System Containing PEG | |
| JP2541269B2 (ja) | 酸化物薄膜の製造方法 | |
| JP3122658B1 (ja) | チタン酸化物形成用溶液およびその製造方法 | |
| CA1313886C (en) | Preparation of titanium ceramic membranes | |
| JP2000272921A (ja) | 酸化チタン粉末の製造方法及び酸化チタン被膜の製造方法 | |
| JP3505574B2 (ja) | チタニア超薄膜およびその製造方法 | |
| Manjumol et al. | A hybrid sol–gel approach for novel photoactive and hydrophobic titania coatings on aluminium metal surfaces | |
| JP2003252626A (ja) | 二酸化チタン前駆体とその製造方法およびそれを用いた二酸化チタンとその製造方法 | |
| EP3519089B1 (en) | Mesoporous hydrogenated titanium dioxide | |
| JP2017226580A (ja) | 結晶性金属酸化物膜の製造方法。 | |
| Yamabi et al. | Fabrication of rutile TiO2 foils with high specific surface area via heterogeneous nucleation in aqueous solutions | |
| JP3372435B2 (ja) | 酸化チタン被膜の製造方法 | |
| JP2002249319A (ja) | 酸化チタンの製造方法 | |
| JPH07196342A (ja) | シリカ系被膜の製造方法 | |
| JPH11147717A (ja) | 酸化チタン被膜の製造方法 | |
| JPH04132636A (ja) | 酸化チタン被膜の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060606 |