JP2000269417A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JP2000269417A
JP2000269417A JP11070499A JP7049999A JP2000269417A JP 2000269417 A JP2000269417 A JP 2000269417A JP 11070499 A JP11070499 A JP 11070499A JP 7049999 A JP7049999 A JP 7049999A JP 2000269417 A JP2000269417 A JP 2000269417A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
frequency
semiconductor device
heater
hard macro
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11070499A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Kaneko
義男 金子
Satoru Sudo
悟 須藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11070499A priority Critical patent/JP2000269417A/ja
Priority to US09/526,469 priority patent/US6329642B1/en
Publication of JP2000269417A publication Critical patent/JP2000269417A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/02Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
    • G11C29/028Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters with adaption or trimming of parameters
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • G11C2029/5002Characteristic

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のハードマクロコアを混載しても、広い
動作温度範囲が保証可能な半導体装置を提供する。 【解決手段】 発振部2の温度依存性を有する周波数
を、異常周波数検出部4で異常周波数か否か判定する。
ヒーター3は、周波数が異常周波数であれば発熱し、異
常周波数でなければ発熱しない。ハードマクロコアによ
る回路部8と9は停止モードから始動し周波数が異常周
波数でないとの判定により正常動作モードに移る。これ
らのことによりハードマクロコア毎に最低動作温度が設
定できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はセミカスタムLSI
等の半導体装置に係り、特に、広い動作温度範囲が保証
可能な複数の機能ブロックを混載した半導体チップに関
するものである。
【0002】
【従来の技術】ディジタル・スチル・カメラやディジタ
ル・ビデオ・カメラといったディジタル民生機器では、
画像処理と音声処理を多用するためPC(パーソナル・
コンピュータ)と同等のデータ処理能力が必要になっ
た。これらの民生機器においては低コスト化が要求され
ることはもちろん携帯性が要求され小型であることと低
消費電力であることが必要である。これらの要求に応え
るために、従来は機能毎に半導体チップを分けて構成し
ていたものをワン・チップに集積するシステムLSIが
使用されるようになっている。システムLSIを使用す
ることによって上記要求だけでなく処理能力を向上させ
ることができる。
【0003】システムLSIは複数の機能を発揮するた
めマイクロプロセッサ、デジタルシグナルプロセッサ、
フラッシュメモリー、スタティックRAMやダイナミッ
クRAMなどのハードマクロコアを有している。これら
のハードマクロコアはIP(設計資産)として標準化さ
れており、セルベースト方式の組み合わせにより大規模
なシステムをワン・チップ化できるようになった。
【0004】しかし、ハードマクロコアはコア毎に決ま
った温度保証範囲が有り、過去に開発したコアなどは、
最近の広い動作温度保証範囲を保証できない。保証でき
ない理由は様々あるが、仕様書に記載された機能とおり
の動作ができなくなり誤動作を発生したり、動かなくな
ってしまったり、スピードが速くあるいは遅くなりすぎ
たり、出力電流が少なくなりすぎたり等々、設計された
ハードマクロコアによって異なる。これらのコアを含む
システムLSIでは、低温保証値はこれらのコアの中で
一番高い低温保証値を持つコアによって、動作おんど範
囲の低温保証値が決定され、高温保証値はこれらのコア
の中で一番低い高温保証値を持つコアによって、動作温
度範囲の高温保証値が決定される。
【0005】このようにして、大部分の回路は広い温度
範囲で動作可能にも関わらず、一部のハードマクロのた
めに、システムLSIとしての保証可能な温度範囲が狭
くなってしまう場合があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、
温度動作保証が難しい複数種類のコアを有する場合で
も、同一プロセス製品を用いて、動作速度に関する要求
仕様を低下させることなく、広い動作温度範囲を保証可
能な半導体装置を提供することにある。
【0007】本発明の他の目的は、発振部を温度に敏感
な回路の近くに設置することにより正確な値を把握する
ことができる半導体装置を提供することにある。
【0008】本発明の他の目的は、発振部、ヒーター、
ヒーター制御部と異常周波数検出部を半導体チップ内部
に設置する半導体装置を提供することにある。
【0009】本発明の他の目的は、異常周波数検出部の
設計が標準化され、顧客の様々な動作温度要求範囲に合
った検出装置が自動設計できる半導体装置を提供するこ
とにある。
【0010】本発明の他の目的は、オーバーシュートし
にくい昇温が可能なヒーターを有する半導体装置を提供
することにある。
【0011】本発明の他の目的は、低温の際にも仕様の
動作速度で自動的に動作をスタートさせる半導体装置を
提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】以上目的を達成するため
に、本発明の特徴は、単数又は複数の温度依存性を有す
る周波数で発振する発振部と、単数又は複数で発振部と
対をなし、発振部の周波数が異常周波数か否か判定する
異常周波数検出部と、単数又は複数で発振部と対をな
し、周波数が異常周波数であるとの判定により発熱する
ヒーターと、発振部の個数以上で、停止モードから始動
し周波数が異常周波数でないとの判定により正常動作モ
ードに移るハードマクロコアによる回路部とで構成され
る半導体装置であることである。ここで異常周波数と
は、ハードマクロコア毎に存在し、あるハードマクロコ
アが半導体装置内で動作しない温度範囲を温度に依存す
る周波数で示したものである。このことにより、温度動
作保証が難しい複数種類のコアを有する場合でも、同一
プロセス製品を用いて、動作速度に関する要求仕様を低
下させることなく、広い動作温度範囲を保証可能な半導
体装置を供給できる。また、低温の際にも仕様の動作速
度で自動的に動作をスタートさせる半導体装置を提供す
ることができる。さらに、広い温度保証範囲を確保する
ために相対的な遅延時間を広くする設計をする必要がな
いので設計に自由度が生まれる。
【0013】本発明の特徴は、発振部と、ヒーターと、
ハードマクロコアによる回路部が、1の半導体チップ上
にあることにより効果的である。さらに、発振部と、ヒ
ーターと、異常周波数検出部と、ハードマクロコアによ
る回路部が1の半導体チップ上にあっても効果的であ
る。このことにより、発振部、ヒーター、ヒーター制御
部と異常周波数検出部を半導体チップ内部に設置する半
導体装置を提供でき、半導体装置を小さくできる。
【0014】さらに、本発明の特徴は、1の発振部と、
1のヒーターと、1の異常周波数検出部と、単数又は複
数のハードマクロコアによる回路部とで構成される単数
又は複数の動作保証対策回路が1の半導体チップ上にあ
ることによりいっそう効果的である。このことにより、
複数のハードマクロコアの1の半導体チップへの混載が
容易になる。
【0015】本発明の特徴は、発振部の外周部にハード
マクロコアによる回路部が位置し、ハードマクロコアに
よる回路部の外周部にヒーターが位置することである。
このことにより、発振部を温度に敏感な回路の近くに設
置することにより正確な値を把握することができる。ま
た、回路部の全体を均一に昇温することができる。さら
に、回路部のヒーターから最も離れた場所の温度がモニ
ターできる。これらの配置によれば、回路部はヒーター
により暖められ、一番遠い位置にある発振部が一定温度
に達した時には、回路部はそれ以上の温度となってい
る。また、ヒーターがOFFし降温する時は放熱はヒー
ターを介して行われるので、一番遠い位置にある発振部
が周辺の回路部に比べ温度が高くなる。温度勾配が存在
することによってヒーターのONの間隔を延ばすことが
できる。
【0016】なお、本発明の特徴は、複数の上記半導体
チップから構成されていてもよく、単数又は複数の上記
半導体チップとハードマクロコアによる回路部は含むが
動作保証対策回路は含まない単数又は複数の半導体チッ
プから構成されていてもよい。
【0017】このことにより、容易に大きなシステムを
作ることができる。
【0018】また、本発明の特徴は、異常周波数検出部
が、発振部で発振する周波数をカウントする周波数カウ
ンター部と、異常周波数の下限値を設定し、カウントさ
れた周波数を異常周波数か判定する異常周波数判定部
と、判定によりヒーターのONとOFFを行うヒーター
制御部とで構成されることである。そして、このヒータ
ー制御部がAND回路を有することにより本発明の特徴
はいっそう効果的である。
【0019】このことによれば、異常周波数検出部の出
力をヒーター制御部の制御信号とできるので、半導体チ
ップ上に追加される必要な回路が簡素化され、半導体チ
ップの面積の増大を小さくできる。そして、異常周波数
検出部の設計が標準化され、顧客の様々な動作温度要求
範囲に合った検出装置が自動設計できる半導体装置を提
供できる。
【0020】本発明の特徴は、発振部が、奇数のインバ
ータ回路を直列に接続してなるリングオシレータ回路を
有することにより効果的である。
【0021】本発明の特徴は、ヒーターが、pMOSと
nMOSで構成されドライブ能力が小さいプリバッファ
と、pMOSとnMOSで構成されドライブ能力が大き
いメインバッファとが、直列に接続されてなることによ
り効果的である。そして、このヒーターが、貫通電流が
前記大きいメインバッファを流れることで発熱すること
によりいっそう効果的である。このことにより、オーバ
ーシュートしにくい昇温が可能なヒーターを有する半導
体装置を提供することができる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施の形態を説明する。以下の図面の記載において同一又
は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。た
だし、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との
関係、各層の厚みとの比率等は現実のものとは異なるこ
とに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸
法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。ま
た、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率の異
なる部分が含まれるのはもちろんである。
【0023】図1は、本発明の実施の形態に係る半導体
装置の構成図である。本発明の実施の形態に係る半導体
装置1は、単数又は複数の温度依存性を有する周波数で
発振する発振部2と、単数又は複数で発振部2と対をな
し、発振部2の周波数が異常周波数か否か判定する異常
周波数検出部4と、単数又は複数で発振部2と対をな
し、周波数2が異常周波数であるとの判定により発熱す
るヒーター3と、発振部2の個数以上で、停止モードか
ら始動し周波数が異常周波数でないとの判定により正常
動作モードに移るハードマクロコア1による回路部8と
ハードマクロコア2による回路部9で構成される。ここ
でハードマクロコア2には一般のコア化されていないセ
ル単位の回路を組み合わせた回路であっても良い。
【0024】異常周波数検出4部は、発振部2で発振す
る周波数をカウントする周波数カウンター部5と、異常
周波数の下限値を設定し、カウントされた周波数を異常
周波数か判定する異常周波数判定部6と、判定によりヒ
ーター3のONとOFFを行うヒーター制御部7とで構
成される。
【0025】図2は、本発明の実施の形態に係る半導体
装置の動作を説明するフローチャート図である。
【0026】(イ)まず、ステップS1において異常周
波数の下限値を周波数カウンター部5に設定する。半導
体装置が正常稼動する状況では、その発振部2で発生す
る周波数がどの位になるか、その最高値があらかじめシ
ュミレーションによって求められ、その値をセットして
おく。ハードマクロコア1による回路部8とハードマク
ロコア2による回路部9を停止モードにする。
【0027】(ロ)ステップS2において発振部2で発
生した発振波を周波数カウンター部5へ出力する。ステ
ップS3においてこのフローをストップするか否か判断
する。ストップするときは半導体装置の使用を終了させ
るときで、これ以外の場合はステップS4に進む。
【0028】(ハ)ステップS4において発振波の周波
数のカウントを周波数カウンター部5で行う。ステップ
S5において周波数を異常周波数判定部6へ出力する。
【0029】(ニ)ステップS6において周波数が異常
周波数の下限値よりも大きいか否か判断する。大きい場
合は、ステップS7において判定信号として周波数異常
信号<1>を異常周波数判定部6からヒーター制御部7
に出力する。そして、ステップS8においてヒーター制
御部7がヒーター3をONにし、ステップS2に戻る。
周波数が異常周波数の下限値以下の場合は、ステップS
9において判定信号として周波数正常信号<0>を異常
周波数判定部6からヒーター制御部7とハードマクロコ
ア1による回路部8とハードマクロコア2による回路部
9に出力する。そして、ステップS10においてヒータ
ー制御部7がヒーター3をOFFにし、ハードマクロコ
ア1による回路部8とハードマクロコア2による回路部
9を正常動作モードにする。最後にステップS2に戻
る。
【0030】異常周波数の解除する時の判定周波数を、
異常周波数の値より少し低めに設定しておくことによ
り、すなわち対応する温度より高めに設定することによ
り、ヒートアップ投入および解除の時間間隔を大きくで
きて、ヒートアップ投入、解除の繰り返し回数を減らす
ことができる。
【0031】(実施例1)図3は、本発明の実施例1に
係る半導体装置である。図4は、図3の回路13の拡大
図である。図3と図4に示す半導体チップ11はハード
マクロコア1による回路8とハードマクロコア2による
回路9を混載したシステムLSIである。ここでハード
マクロコア2には一般のコア化されていないセル単位の
回路を組み合わせた回路であっても良い。回路13に
は、ヒーター3、発振部2とハードマクロコア1による
回路部8で構成されている。本発明の実施例1に係る半
導体装置は、発振部2と、ヒーター3と、回路部8と、
回路部9が、図3の半導体チップ11上にある。半導体
装置は半導体チップ11と異常周波数検出部4とヒータ
ー制御部7とで構成されている。回路13からは半導体
チップ11の外部に取り出す端子として、発振部2の出
力端子14、ヒーター3のON、OFF端子15と判定
信号入力端子16が半導体チップ11の外周部に配置さ
れている。回路部9からは、判定信号入力端子17が半
導体チップ11の外周部に配置され異常周波数判定部5
に接続されている。
【0032】発振部2の外周部に回路部8が位置し、回
路部8の外周部にヒーター3が位置する。回路部8の外
側の1ヶ所又は複数ヶ所に発振部2を配置しても良い。
このように配置すれば昇温の熱効率が向上しヒーターに
よる消費電力を小さくできる。発振部2は発振部の出力
端子14を介して周波数カウンター部6に接続され、回
路部8は判定信号入力端子16を介して異常周波数判定
部5に接続され、ヒーター3はヒーターのON、OFF
端子15を介してヒーター制御部7に接続されている。
なお、回路部8は複数のハードマクロコアで構成されて
いても良い。この場合各コアが判定信号入力端子16に
接続される。
【0033】図5(a)は、本発明の実施例1に係る半
導体装置の発振部の構成図で、図5(b)、(c)はそ
の発振波形の温度依存性を示す図である。図5(a)に
示すように、発振部2は、奇数のインバータ回路22を
直列に接続してなるリングオシレータ回路21を有す
る。リングオシレータ回路21の最終段の出力信号を、
最初の段のインバータ回路の入力信号として接続したも
のであり、そのうちに1個のインバータの出力を外部出
力として取り出したものが発振部の出力端子14であ
る。出力波形は図5(b)に示すように“1”と“0”
のロジックレベルを交互に繰り返す。その周波数はイン
バータの遅延時間に反比例する。すなわち図5(c)に
示すように発振部2の温度が−40℃のような低温にな
り遅延時間が短くなると周波数は増加し、図5(b)に
示すように85℃のような高温になって遅延時間が長く
なると周波数は減少する。発振部2は前もって温度が変
化した時の周波数特性が把握され、周波数を測定するこ
とにより、発振部2の置かれている温度が把握できる。
【0034】図6(a)はヒーターの構成図、図6
(b)は電子回路図、図6(c)はヒーターに係るメイ
ンバッファ24への入力電圧V1の電圧波形、図6
(d)はメインバッファ24を流れる貫通電流I2の電
流波形である。ヒーターは、図6(b)に示すようにp
MOS1とnMOS1で構成されドライブ能力が小さい
プリバッファ23と、pMOS2とnMOS2で構成さ
れドライブ能力が大きいメインバッファ24とが、直列
に接続されている。ヒーターのON、OFF端子15に
ドライブ能力の小さなプリバッファ23が接続してい
る。大きいメインバッファ24はドライブ能力を大きく
するためにpMOS2とnMOS2のゲート幅が大き
く、ゲート、ソース間に付着するキャパシタンス負荷C
Gが大きい。
【0035】ヒーター3は、貫通電流が大きいメインバ
ッファ24を流れることで発熱する。キャパシタンス負
荷CGが大きいのでV1の電圧波形の立ち上がり時や立
ち下がり時の波形はなだらかになる。メインバッファ2
4はCMOSのトランジスタで構成されている為、入力
電圧V1が中間電位になっている時には、pMOS2と
nMOSの双方が導通状態となり、大きな電流が流れ
る。この大きな貫通電流によりpMOS2とnMOS2
等が発熱するのでこの熱をヒーターの熱源として用い
る。また、ヒーターのON、OFF端子15に印可する
入力波の周波数を、大きくすることにより、一定時間に
貫通する電流の回数を増やせるので高速ヒートアップが
可能になり、周波数を小さくするとゆっくりとヒートア
ップさせる事が可能となる。ヒーターのON、OFF端
子15に発振部2の発振波形を印可するできれば、温度
が低いときは発振波の周波数は大きく高速ヒートアップ
がなされ、温度が高いときは発振波の周波数は小さくゆ
っくりとヒートアップされることになり、温度をオーバ
ーシュートさせたり大きく振動させることが無くなる。
【0036】図7は、ヒーター3を抵抗素子で形成した
場合のヒーター3の構成図である。ヒーター3は、抵抗
素子30を有していても良く、ヒーターのON、OFF
端子15にポリシリコンによる抵抗素子30が接続さ
れ、抵抗素子30の他の端子が接地されていてもよい。
このことによりヒーターのON、OFF端子15に電圧
を印可することにより電圧に比例した電流が抵抗素子3
0に流れ発熱する。
【0037】図8(a)は、本発明の実施例1に係る半
導体装置の遅延時間に対する半導体チップの温度依存性
を示す図である。横軸は図3の半導体チップ11の温度
であり、縦軸は半導体チップ11上のハードマクロコア
による回路の相対的な遅延時間で、メモリは任意目盛り
である。ハードマクロコア1やハードマクロコア2は各
種セルをたくさん組み合わせて構成している。各セルの
遅延時間は、通常25℃の時の遅延時間を1.00とす
ると−40℃で0.81から85℃で1.18倍位に温
度によって遅延時間が変動する。各セルにより変動の比
率は変わらない。しかしながら、各セルを組み合わせて
ハードマクロコアを形成する方法で、25℃では期待し
た機能とおりの動作を行うのに、周囲温度が変わって各
種セルの遅延時間が変わると誤動作を発生する場合があ
る。簡単な例として、例えば図8(b)のような回路構
成をハードマクロコア1に内蔵していたケースを考え
る。入力信号が回路1のIN端子に接続され、OUT端
子から回路2のD型フリップフロップのD入力に接続さ
れており、CLOCK入力信号が回路2のCK端子に接
続されている場合である。ここで回路1はIN端子に印
加された信号を100nsec後にOUT端子に信号出
力するものとする。ここでD型フリップはCK端子に印
可された信号が“0”から“1”に遷移した時のD入力
端子のデータを取り込んでQ出力端子に出力させる。そ
れ以外ではQ出力端子の信号は変わらない。
【0038】図9は図8(b)の回路の動作を示す図で
ある。図9(a)はチップ温度が25℃の時の各端子に
おける信号の動きを示している。DATAはD入力端子
に印可される信号である。Aに印可されるパルスの幅
(“1”の期間機関)は10nsecとする。Aに印可
されたパルスは、それから100nsec後にD入力端
子に発生し、その時CK端子に信号の立ち上がり信号が
印可されて、パルスデータ“1”が正しくフリップフロ
ップに取込まれる。従ってOUT出力信号は“1”に切
り変わる。図9(b)はチップの温度が−40℃の時の
各端子における信号の動きを示している。この時にはD
ATAにはA信号の81nsec後に“1”のパルスが
発生して、CK端子に印可される信号が立ち上がる時に
は、DATAのパルスは消えている。従ってパルスデー
タ“1”は正しくフリップフロップに取込まれない。従
ってOUT出力信号は“0”のままである。図9(c)
はチップの温度が85℃の時の各端子における信号の動
きを示している。この時にはDATAにはA信号の11
8nsec後に“1”のパルスが発生するが、CK端子
に印可される信号が立ち上がる時には、DATAのパル
スは未だ到着していない。従ってパルスデータ“1”は
正しくフリップフロップには取込まれない。従ってOU
T出力信号“0”のままである。このように、チップの
大部分を占めるハードマクロコア2が−40℃から85
℃で動作可能であるにも係わらず、ハードマクロコア1
が−10℃から55℃の範囲でしか動作しないために、
半導体チップ11は温度範囲が−10℃から55℃まで
でしか使用できない。
【0039】本発明の実施例1に係る半導体装置は、コ
アの設計の変更をすることなしに温度範囲−40℃から
−10℃までの使用を可能にする。使用環境温度が−1
0℃を下まわり半導体チップ11が使用環境温度と同じ
になっているときに、半導体チップの使用をスタートさ
せた場合について半導体装置の動作を説明する。動作の
フローは図2のフローチャート図に従う。
【0040】(イ)まず、図2のステップS1におい
て、半導体チップ11が動作しない低温の範囲の最高温
度−10℃以上の温度例えば0℃と定め、この温度によ
って一意に決まる異常周波数の下限値を周波数カウンタ
ー部5に設定する。半導体装置が正常稼動する状況で
は、その発振部2で発生する周波数がどの位になるか、
その最高値があらかじめシュミレーションによって求め
られ、その値に基づいてセットしてもよい。回路部8と
回路部9を停止モードにする。
【0041】(ロ)(ハ)ステップS2からS5は、図
2の説明と重複するので省略する。 (ニ)ステップS6において周波数が異常周波数の下限
値よりも大きいか否か判断する。大きい場合(温度が低
い場合)は、ステップS7において判定信号として周波
数異常信号<1>を異常周波数判定部6からヒーター制
御部7に出力する。そして、ステップS8においてヒー
ター制御部7がヒーター3をONにし、ステップS2に
戻る。このループを何度か経るうちにヒーターの発熱に
よって発振部2と回路部8の温度が上昇し0℃以上にな
り発振部2で発振する周波数が異常周波数の下限値以下
になる。ステップS6において周波数が異常周波数の下
限値よりも大きくないと判断され、ステップS9におい
て判定信号として周波数正常信号<0>を異常周波数判
定部6からヒーター制御部7と、判定信号入力端子16
を経由して回路部8と、判定信号入力端子17を経由し
て回路部9に出力する。そして、ステップS10におい
てヒーター制御部7がヒーターのON、OFF端子15
を経由してヒーター3をOFFにし、回路部8と回路部
9を正常動作モードにする。半導体装置はシステムLS
Iとして機能するようになる。フローチャートにおいて
はステップS2に戻りループを循環する。発振部2の温
度が低下し0℃以下になりステップS6において周波数
が異常周波数の下限値よりも大きいと判断されば、上記
と同様にしてヒーター3をONにする。ただ、このとき
は回路部8と回路部9を停止モードにする必要はない。
これには、異常周波数の下限値を少し低めに設定すれば
よい。
【0042】以上、本発明の実施例1に係る半導体装置
においては、半導体チップ11に動作温度保証範囲の狭
いハードマクロコア1を含んだ場合でも、そのコアの保
証範囲下限値−10℃より下回る使用環境温度において
も動作を可能にしている。
【0043】(実施例2)図10は、本発明の実施例2
に係る半導体装置である。本発明の実施例2に係る半導
体装置は、ヒーター制御部34にAND回路を有する。
実施例1に係る半導体装置と比較してAND回路を含む
ヒーター制御部34とこれに対する結線のみが異なって
いる。結線においては発振部の出力端子14とヒーター
制御部34が新たに結線されている。発振部2には図5
(a)に示すものを、ヒーター3には図6(a)に示す
ものを使用する。
【0044】ヒーターのON、OFF端子15では異常
周波数検出部4から判定信号として周波数異常信号<1
>が出力されている間は発振部の出力端子14に出力さ
れる発振波と同じものが入力される。一方、周波数正常
信号<0>が出力されている間は0が入力されヒーター
はOFFされる。
【0045】ヒーターのON、OFF端子15に発振波
と同じものが入力されると次のような効果がある。この
波形は“1”と“0”のロジックレベルを交互に繰り返
し、その周波数はインバータの遅延時間に反比例する。
温度が−40℃のような低温になると周波数は増加し、
一定時間に貫通する電流の回数を増やせるので高速ヒー
トアップが可能になり、0℃のように常温近くになると
周波数は減少するので、ゆっくりとヒートアップさせる
事が可能となる。このことにより温度をオーバーシュー
トさせたり大きく振動させることが無くなる。また、実
施例2の半導体装置においても実施例1と同様の効果が
得られるのはもちろんである。
【0046】(実施例3)図11は、本発明の実施例3
に係る半導体装置である。図12は、本発明の実施例3
に係る半導体装置の動作保証対策回路の拡大図である。
本発明の実施例3に係る半導体装置は、発振部2と、ヒ
ーター3と、異常周波数検出部37と、ハードマクロコ
ア1による回路部8と、ハードマクロコア2による回路
部9とを同一の半導体チップ上に搭載したシステムLS
Iである。また、別の観点から、本発明の実施例3に係
る半導体装置では、発振部2と、ヒーター3と、異常周
波数検出部37と、ハードマクロコア1による回路部8
とで構成される単数の動作保証対策回路35が同一の半
導体チップ上にあるともいえる。本発明の実施例3に係
る半導体装置はワン・チップ化され半導体チップ11の
みからなる。動作保証対策回路35からは半導体チップ
11の外部に取り出す端子として、判定信号出力端子3
6が導き出され、また、この端子は回路部9にも結線さ
れている。
【0047】図13は、異常周波数検出部37の構成図
である。異常周波数検出部37は、周波数カウンター部
5、異常周波数判定部6とAND回路を含むヒーター制
御部38で構成されている。
【0048】実施例3では、実施例2の異常周波数検出
部4およびヒーター制御部34を半導体チップ11に取
込むことにより、半導体装置の部品点数の削減ができ
る。また、実施例3の半導体装置により実施例1と同様
の効果が得られる。
【0049】(実施例4)図14は、本発明の実施例4
に係る半導体装置である。本発明の実施例4に係る半導
体装置では、発振部、ヒーター、異常周波数検出部、ハ
ードマクロコア3による回路部41およびハードマクロ
コア4と5をそれぞれ含む動作保証対策回路42と43
が同一の半導体チップ11上にある。半導体チップ11
はハードマクロコア3、4と5を混載したシステムLS
Iである。回路43からは半導体チップ11の外部に取
り出す端子として、判定信号出力端子49が導き出さ
れ、また、この端子は回路42の判定信号入力端子46
と回路部41の判定信号入力端子44に結線されてい
る。回路42からは半導体チップ11の外部に取り出す
端子として、判定信号出力端子47が導き出され、ま
た、この端子は回路43の判定信号入力端子48と回路
部41の判定信号入力端子45に結線されている。
【0050】動作保証対策回路42と動作保証対策回路
43のそれぞれの構成は図12の動作保証対策回路35
とほぼ同じである。動作保証対策回路42と43では動
作保証対策回路35の回路部8から導かれる判定信号入
力端子(図14の46と48に該当)が新たに必要にな
る。この判定信号入力端子46、48により一方の動作
保証対策回路によって他方の動作保証対策回路内のハー
ドマクロコアによる回路部を停止モードから正常動作モ
ードに切り替えることができる。
【0051】図15は、本発明の実施例4に係る半導体
装置のハードマクロコア3、4、5の動作保証温度範囲
および半導体チップ11としての半導体動作保証温度範
囲を示す。ハードマクロコア3は−40℃から85℃に
て動作可能であり、ハードマクロコア4は−20℃から
95℃の動作可能範囲、ハードマクロコア5は−5℃か
ら105℃の動作可能範囲と各々のハードマクロコアの
動作可能範囲が異なっている。この場合、半導体チップ
11は低温側ではハードマクロコア5の回路が動作しな
くなることから、−5℃より低温では動作しなくなる。
また高温側ではハードマクロコア3の回路が動作しなく
なることから、85℃を超える高温では動作しなくな
る。こうして半導体チップ11は温度範囲−5℃から8
5℃まででしか使用できない。
【0052】本発明の実施例4に係る半導体装置は、コ
アの設計の変更をすることなしに温度範囲−40℃から
−5℃までの使用を可能にする。使用環境温度が−5℃
を下まわり半導体チップ11が使用環境温度と同じにな
っているときに、半導体チップの使用をスタートさせた
場合について半導体装置の動作を説明する。動作のフロ
ーは図2のフローチャート図に従う。そして、動作保証
対策回路毎に別々のフローが進行する。
【0053】(イ)まず、図2のステップS1におい
て、半導体チップ11の各ハードマクロコアが動作しな
くなる温度に対応した異常周波数の下限値を各ハードマ
クロコアの周波数判定部6に設定する。図14の回路4
2に−20℃に対応下周波数、回路43には−5℃に対
応した周波数を設定する。そして、これらの温度によっ
て一意に決まる異常周波数の下限値を回路42と回路4
3それぞれの周波数カウンター部5に設定する。回路部
41と回路42と43にそれぞれ含まれるハードマクロ
コアによる回路部を停止モードにする。
【0054】(ロ)(ハ)ステップS2からS5は、図
2と重複するので省略する。
【0055】(ニ)ステップS6からS10は、図2を
用いた実施例1の説明と重複するので省略する。
【0056】以上、本発明の実施例4に係る半導体装置
においては、−5℃以下の温度では動作しないハードマ
クロコアを搭載しても、これらによってシステムを組ん
だシステムLSIでは使用できない使用環境温度−5℃
を下まわっても、その動作を可能にしている。この効果
を図にしたのが、図15の実施例4を使った半導体の動
作保証温度範囲欄である。この例では−40℃から85
℃が動作温度保証範囲となる。
【0057】(実施例5)図16は、本発明の実施例5
に係る半導体装置である。本発明の実施例5に係る半導
体装置は、実施例1から4に示した複数の半導体チップ
11と49から構成される。又は、本発明の実施例5に
係る半導体装置は、実施例1から4に示した半導体チッ
プ11とハードマクロコアによる回路部は含むが動作保
証対策回路は含まない半導体チップ49から構成され
る。
【0058】半導体チップ11からは、判定信号出力端
子36が導き出され、また、この端子は半導体チップ4
9の判定信号入力端子50に結線されている。半導体チ
ップ49からは、判定信号出力端子36が導き出され、
また、この端子は半導体チップ11の判定信号入力端子
50に結線されている。
【0059】ハードマクロコアによる回路部の構成は図
14の回路部41と同じである。動作保証対策回路の構
成は図14の動作保証対策回路42と43と同じであ
る。判定信号出力端子36は動作保証対策回路の判定信
号出力端子に接続されている。判定信号入力端子50は
ハードマクロコアによる回路部の判定信号入力端子に接
続されている。このことにより一方の半導体チップの動
作保証対策回路によって他方の半導体チップにあるハー
ドマクロコアによる回路部を停止モードから正常動作モ
ードに切り替えることができる。
【0060】半導体チップ11と49の両方の判定信号
出力端子36から周波数正常信号<0>が出力されれば
半導体装置は正常動作モードで動作する。一方、どちら
か一方でも周波数異常信号<1>が出力されれば半導体
装置は停止モードとなり動作しない。そして、ヒートア
ップしながら停止モードを固持して、正常動作可能な状
態になるのを待つ。この様に一つの半導体チップに複数
のハードマクロコアが混載されている場合だけでなく複
数のチップに分割されている場合でも適用は可能であ
る。
【0061】(その他の実施の形態)上記のように、本
発明の実施の形態を記載したが、この開示の一部をなす
論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解す
べきでない。この開示から当業者には様々な代替しうる
実施の形態、実施例及び運用技術が明らかになろう。
【0062】既に述べた実施の形態の説明においては、
ヒーターについてのみ述べたが、冷却装置を一部の回路
部に取り付けることも有効である。冷却装置としてはペ
ルチェ素子やヒートポンプの様に発生する熱エネルギー
を強制的の排出方法も考えられるが、局部的に熱抵抗を
変化させて各回路部毎に温度分布を持たせることも有効
な手段である。
【0063】また、ヒーターを構成するドライブ能力の
大きなメインバッファが複数のCMOSトランジスタが
複数個並列接続されていても良い。
【0064】この様に、本発明はここでは記載していな
い様々な実施の形態を包含するということを理解すべき
である。したがって、本発明はこの開示から妥当な特許
請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ限定される
ものである。
【0065】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、温
度動作保証が難しい複数種類のコアを有する場合でも、
同一プロセス製品を用いて、動作速度に関する要求仕様
を低下させることなく、広い動作温度範囲を保証可能な
半導体装置を供給できる。
【0066】本発明によれば、発振部を温度に敏感な回
路の近くに設置することにより正確な値を把握すること
ができる。
【0067】本発明によれば、発振部、ヒーター、ヒー
ター制御部と異常周波数検出部を半導体チップ内部に設
置する半導体装置を提供できる。
【0068】本発明によれば、異常周波数検出部の設計
が標準化され、顧客の様々な動作温度要求範囲に合った
検出装置が自動設計できる半導体装置を提供できる。
【0069】本発明によれば、異常周波数検出部の出力
をヒーター制御部の制御信号としてすることにより、半
導体チップ上に追加される必要な回路が簡素化され、半
導体チップの増大を小さくできる。
【0070】本発明によれば、低温の際にも仕様の動作
速度で自動的に動作をスタートさせる半導体装置を提供
することができる。
【0071】本発明によれば、広い温度保証範囲を確保
するために相対的な遅延時間を広くする設計をする必要
がないので設計に自由度が生まれる。
【0072】本発明によれば、オーバーシュートしにく
い昇温が可能なヒーターを有する半導体装置を提供する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る半導体装置の構成図
である。
【図2】本発明の実施の形態に係る半導体装置の動作を
説明するフローチャート図である。
【図3】本発明の実施例1に係る半導体装置の配置図で
ある。
【図4】図3の回路13の拡大図である。
【図5】(a)は、本発明の実施例1に係る半導体装置
の発振部の構成図で、(b)、(c)はその発振波形の
温度依存性を示す図である。
【図6】(a)はヒーターの構成図、(b)は電子回路
図、(c)はヒーターに係るメインバッファ24への入
力電圧V1の電圧波形、(d)はメインバッファ24を
流れる貫通電流I2の電流波形である。
【図7】ヒーターを抵抗素子で形成した場合のヒーター
の構成図である。
【図8】(a)は本発明の実施例1に係る半導体装置の
遅延時間に対する半導体チップの温度依存性を示す図で
ある。(b)はハードマクロコア1に内蔵される回路構
成の例を示す図である。
【図9】図8(b)の回路の動作を示す図である。
【図10】本発明の実施例2に係る半導体装置の配置図
である。
【図11】本発明の実施例3に係る半導体装置の配置図
である。
【図12】本発明の実施例3に係る半導体装置の動作保
証対策回路の拡大図である。
【図13】異常周波数検出部の構成図である。
【図14】本発明の実施例4に係る半導体装置の配置図
である。
【図15】本発明の実施例4に係る半導体装置の各ハー
ドマクロコアの動作保証温度範囲およびチップ11の半
導体動作保証温度範囲を示す図である。
【図16】本発明の実施例5に係る半導体装置の配置図
である。
【符号の説明】
1 半導体装置 2 発振部 3 ヒーター 4、37 異常周波数検出部 5 周波数カウンター部 6 異常周波数判定部 7 ヒーター制御部 8 ハードマクロコア1による回路部 9 ハードマクロコア2による回路部 10 動作保証対策回路 11 半導体チップ 13 ハードマクロコア1による回路部を含む回路 14 発振部の出力端子 15 ヒーターのON、OFF端子 16、17、44、45、46、48、50 判定信号
入力端子 21 リングオシレータ回路 22 インバータ 23 ドライブ能力の小さいプリバッファ 24 ドライブ能力の大きいプリバッファ 30 抵抗素子 34、38 AND回路を含むヒーター制御部 35 ハードマクロコア1による回路部8を含む動作保
証対策回路 36、47、48 判定信号出力端子 41 ハードマクロコア3による回路部 42 ハードマクロコア4による回路部を含む動作保証
対策回路 43 ハードマクロコア5による回路部を含む動作保証
対策回路 49 周辺の半導体チップ

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 温度依存性を有する周波数で発振する発
    振部と、前記発振部の周波数が異常周波数か否か判定す
    る異常周波数検出部と、前記発振部の周波数が異常周波
    数であるとの判定により発熱するヒーターと、前記発振
    部の個数以上で、停止モードから始動し前記周波数が異
    常周波数でないとの判定により正常動作モードに移るハ
    ードマクロコアによる回路部とで構成されることを特徴
    とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記発振部と、前記ヒーターと、前記ハ
    ードマクロコアによる回路部が、同一の半導体チップ上
    にあることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記発振部と、前記ヒーターと、前記異
    常周波数検出部と、前記ハードマクロコアによる回路部
    が同一の半導体チップ上にあることを特徴とする請求項
    1記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記発振部と、前記ヒーターと、前記異
    常周波数検出部と、前記ハードマクロコアによる回路部
    とで構成される動作保証対策回路が同一の半導体チップ
    上にあることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記発振部の外周部に前記ハードマクロ
    コアによる回路部が位置し、前記ハードマクロコアによ
    る回路部の外周部に前記ヒーターが位置することを特徴
    とする請求項1乃至4のいずれか1記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 複数の前記半導体チップから構成される
    ことを特徴とする請求項2乃至5のいずれか1記載の半
    導体装置。
  7. 【請求項7】 前記半導体チップと前記ハードマクロコ
    アによる回路部は含むが前記動作保証対策回路は含まな
    い半導体チップから構成されることを特徴とする請求項
    2乃至5のいずれか1記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記異常周波数検出部が、前記発振部で
    発振する周波数をカウントする周波数カウンター部と、
    前記異常周波数の下限値を設定し、カウントされた前記
    周波数を異常周波数か判定する異常周波数判定部と、前
    記判定により前記ヒーターのONとOFFを行うヒータ
    ー制御部とで構成されることを特徴とする請求項1乃至
    7のいずれか1記載の半導体装置。
  9. 【請求項9】 前記ヒーター制御部がAND回路を有す
    ることを特徴とする請求項8記載の半導体装置。
  10. 【請求項10】 前記発振部が、奇数のインバータ回路
    を直列に接続してなるリングオシレータ回路を有するこ
    とを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1記載の半導
    体装置。
  11. 【請求項11】 前記ヒーターが、pMOSとnMOS
    で構成されドライブ能力が小さいプリバッファと、pM
    OSとnMOSで構成されドライブ能力が大きいメイン
    バッファとが、直列に接続されてなることを特徴とする
    請求項1乃至10のいずれか1記載の半導体装置。
  12. 【請求項12】 前記ヒーターが、貫通電流が前記大き
    いメインバッファを流れることで発熱することを特徴と
    する請求項11記載の半導体装置。
JP11070499A 1999-03-16 1999-03-16 半導体装置 Pending JP2000269417A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11070499A JP2000269417A (ja) 1999-03-16 1999-03-16 半導体装置
US09/526,469 US6329642B1 (en) 1999-03-16 2000-03-15 Semiconductor device and semiconductor chip

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11070499A JP2000269417A (ja) 1999-03-16 1999-03-16 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000269417A true JP2000269417A (ja) 2000-09-29

Family

ID=13433286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11070499A Pending JP2000269417A (ja) 1999-03-16 1999-03-16 半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6329642B1 (ja)
JP (1) JP2000269417A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7459983B2 (en) 2005-06-17 2008-12-02 Renesas Technology Corp. Temperature detecting semiconductor device

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10114825C1 (de) * 2001-03-26 2002-10-10 Infineon Technologies Ag Verfahren und Vorrichtung zum Ermitteln einer Betriebstemperatur bei einem Halbleiterbauelement
US6861860B2 (en) * 2002-05-17 2005-03-01 Stmicroelectronics, Inc. Integrated circuit burn-in test system and associated methods
JP3853302B2 (ja) * 2002-08-09 2006-12-06 東京エレクトロン株式会社 熱処理方法及び熱処理装置
US6933739B1 (en) * 2003-05-23 2005-08-23 Marvell Semiconductor Israel Ltd. Ring oscillator system
US20060066335A1 (en) * 2004-09-28 2006-03-30 Kang Seung H Semiconductor test device with heating circuit
JP4461430B2 (ja) 2004-12-10 2010-05-12 エルピーダメモリ株式会社 セルフリフレッシュタイマ回路及びセルフリフレッシュタイマの調整方法
JP2009130715A (ja) * 2007-11-26 2009-06-11 Toshiba Corp クロック生成回路
US8358145B1 (en) * 2009-06-19 2013-01-22 Western Digital Technologies, Inc. Self-heating integrated circuit
CN101944054B (zh) * 2009-07-06 2013-11-06 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 频率范围测试系统及方法
US9148910B1 (en) * 2011-11-21 2015-09-29 Marvell Israel (M.I.S.L.) Ltd. Method and apparatus for heating up integrated circuits
TWI594655B (zh) * 2013-07-08 2017-08-01 金龍俊科技股份有限公司 電熱單元之微形溫控器結構
TW201525889A (zh) * 2013-12-20 2015-07-01 King Lung Chin Ptc Co Ltd 電熱片製造、銷售之產品規格管理方法
US10006959B2 (en) 2014-08-20 2018-06-26 Darryl G. Walker Testing and setting performance parameters in a semiconductor device and method therefor
US10796977B2 (en) * 2019-03-04 2020-10-06 Intel Corporation Method and apparatus to control temperature of a semiconductor die in a computer system

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4015218A (en) * 1974-05-06 1977-03-29 Inventronics, Inc. Temperature compensated solid-state oscillator
JP3348536B2 (ja) 1994-08-10 2002-11-20 ヤマハ株式会社 自己発熱抑制機能付き集積回路
US5723998A (en) 1994-08-10 1998-03-03 Yamaha Corporation Electronic circuit with operation self-control function
US5517053A (en) 1995-01-09 1996-05-14 Northrop Grumman Corporation Self stabilizing heater controlled oscillating transistor
US5745130A (en) * 1995-12-11 1998-04-28 Xerox Corporation System for sensing the temperature of a printhead in an ink jet printer
IL120119A0 (en) * 1997-01-31 1997-04-15 Binder Yehuda Method and system for calibrating a crystal oscillator

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7459983B2 (en) 2005-06-17 2008-12-02 Renesas Technology Corp. Temperature detecting semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
US6329642B1 (en) 2001-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000269417A (ja) 半導体装置
US6908227B2 (en) Apparatus for thermal management of multiple core microprocessors
US7782119B2 (en) Semiconductor integrated circuit and operation method for the same
US7536578B2 (en) Method and apparatus for over clocking in a digital processing system
JP4843034B2 (ja) 温度センサ用リングオシレータ、温度センサ回路及びこれを備える半導体装置
US7411436B2 (en) Self-timed thermally-aware circuits and methods of use thereof
JP5498047B2 (ja) 半導体集積回路
KR100998452B1 (ko) 멀티플렉서의 선택-대-출력 지연을 결정하기 위한 링발진기
JP2007258216A (ja) 半導体集積回路、回路システム、及び半導体集積回路の駆動方法
US7598784B2 (en) System and method for controlling signal transitions
JP2008278482A (ja) マルチスピードリングオシレータ
JP2000146710A (ja) 低電圧/低電力温度センサ
US7609041B2 (en) Automatic voltage control circuit and method thereof
JP2007165527A (ja) 半導体集積回路の制御方法
TW201921212A (zh) 半導體裝置、半導體系統及半導體裝置之製造方法
US6900701B2 (en) Automatic detection, selection and configuration of clock oscillator circuitry
US7282975B2 (en) Apparatus and method to control self-timed and synchronous systems
TW202246788A (zh) 後段製程(beol)工藝角感測
JPH08274607A (ja) Cpuの電源電圧監視回路
JP2006245395A (ja) 半導体集積回路
JPH10326867A (ja) 半導体装置
JP2000077999A (ja) 半導体集積回路
JPH09270692A (ja) 温度補償回路およびこれを含む半導体集積回路
JPH05235138A (ja) 半導体集積回路
JP2004071811A (ja) 半導体集積回路

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040406