JP2000260657A - 積層セラミック部品の製造方法 - Google Patents

積層セラミック部品の製造方法

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JP2000260657A
JP2000260657A JP5822299A JP5822299A JP2000260657A JP 2000260657 A JP2000260657 A JP 2000260657A JP 5822299 A JP5822299 A JP 5822299A JP 5822299 A JP5822299 A JP 5822299A JP 2000260657 A JP2000260657 A JP 2000260657A
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JP
Japan
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via hole
green sheet
forming
wiring pattern
less
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Pending
Application number
JP5822299A
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English (en)
Inventor
Ryuichi Saito
隆一 斉藤
Hidenori Katsumura
英則 勝村
Hiroyuki Ishitomi
裕之 石富
Tsunehisa Mita
倫久 三田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 積層数が多層となりかつ複数層にビアホール
を有する複雑な回路構成を有すると生産性が劣るという
問題を解決するもので、生産性が向上した積層セラミッ
ク部品の製造方法を提供するものである。 【解決手段】 厚みが200μm以下のセラミックグリ
ーンシート2のビアホール3へ導体を充填するのと同時
に内部配線パターン6を形成し、ビアホール3および内
部配線パターン6を有するセラミックグリーンシート2
を複数枚積層した後、切断、焼成してなるものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、積層セラミック部
品の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の積層セラミック部品は、セラミッ
クグリーンシートにパンチングまたはレーザ加工等によ
りビアホールを形成し、このビアホールに導電ペースト
を充填して形成した後、セラミックグリーンシート上に
前工程で作製したビアホールに形成した導体と電気的に
接続するように内部配線パターンを形成していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の製造方法では積
層数が多層となりかつ複数層にビアホールを有する複雑
な回路構成を有すると生産性が劣るという問題点を有し
ていた。
【0004】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で、生産性が向上した積層セラミック部品の製造方法を
提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、厚みが200μm以下のセラミックグリー
ンシートにビアホールを形成し、このビアホールへ導体
を充填するのと同時に前記セラミックグリーンシートに
内部配線パターンを形成するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、厚みが200μm以下のセラミックグリーンシート
にビアホールを形成し、このビアホールへ導体を充填す
るのと同時に前記セラミックグリーンシートに内部配線
パターンを形成し、前記ビアホールおよび内部配線パタ
ーンを有するセラミックグリーンシートを複数枚積層し
た後、切断、焼成してなるもので、積層セラミック部品
の製造プロセスが簡略化でき歩留まりが向上するという
作用を有するものである。
【0007】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
記載のセラミックグリーンシートにビアホールを形成す
る工程は、100μm以上300μm以下のビアホール
を形成する工程であるもので、高密度の配線パターンを
形成できるという作用を有するものである。
【0008】また、請求項3に記載の発明は、請求項1
記載のビアホールへ導体を充填するのと同時に前記セラ
ミックグリーンシートに内部配線パターンを形成する工
程は、金属粉の粒径を1μm以上5μm以下の導電ペー
ストを用いて形成する工程であるもので、焼成後におい
ても確実にビアホール導体を形成することができるとい
う作用を有するものである。
【0009】また、請求項4に記載の発明は、請求項1
記載のビアホールへ導体を充填するのと同時に前記セラ
ミックグリーンシートに内部配線パターンを形成する工
程は、粘度を100Pa・s以上600Pa・s以下の
導電ペーストを用いて形成する工程であるもので、確実
にビアホール導体を形成できるという作用を有するもの
である。
【0010】以下、本発明の一実施の形態における積層
セラミック部品の製造方法について、図面を参照しなが
ら説明する。
【0011】図1は本発明の実施の形態1における積層
セラミック部品の製造方法の工程図である。
【0012】まず、図1(a)に示すように、フォルス
テライト粉末とSiO2−BaO−La23を主成分と
するガラスとを所定の割合で混合・粉砕したガラスセラ
ミック混合粉末に、溶剤、バインダ、可塑剤および分散
材を所定量添加して、スラリーを作製する。このスラリ
ーをドクターブレード法等によりベースフィルム1上に
厚みが200μm以下のグリーンシート2を形成する。
【0013】次に、図1(b)に示すように、グリーン
シート2を有するベースフィルム1に、パンチングまた
はレーザ加工等により孔径が100μm以上300μm
以下の所望の位置に複数個のビアホール3を形成する。
この時、同時に積層用のパイロット穴4も同時に形成す
る。
【0014】次に、図1(c)に示すように、セラミッ
クグリーンシート2とベースフィルム1と接する面の反
対側より、ビアホール3へ粒径が1μm以上5μm以下
の金属粉を含有してなる100Pa・s以上600Pa
・s以下の粘度の導電ペーストを充填してビアホール導
体5を形成するのと同時に、セラミックグリーンシート
2にビアホール導体5と同一の材料を用いて内部配線パ
ターン6を形成する。
【0015】次に、図1(d)に示すように、ベースフ
ィルム1の面を上にして積層機7のピン8をパイロット
穴4に通して積層パレット9上に圧着した後、ベースフ
ィルム1は剥離する。この工程を図1(e)に示すよう
に、所定の回路となるまで複数回繰り返し、積層体ブロ
ック10を形成する。
【0016】最後に、この積層体ブロック10を所望の
大きさとなるように個片状に切断した後、焼成して、積
層セラミック部品を製造するものである。
【0017】以上のように製造される積層セラミック部
品に適するセラミックグリーンシートの厚みおよびビア
ホールの孔径について説明する。
【0018】セラミックグリーンシートの厚みおよびビ
アホールの孔径は、銀ペーストをスクリーン印刷するこ
とにより、ビアホール導体と内部配線パターンを同時に
形成した結果を(表1)および(表2)に示す。この表
中の「○は十分実用可能」、「△は実用可能」および
「×は実用不可能」であることを示している。
【0019】
【表1】
【0020】
【表2】
【0021】(表1)から明らかなように、銀ペースト
をビアホール導体および内部配線パターンを形成する際
に、印字圧を上げたり、スキージ接触角を小さくしたり
すると、内部配線パターンに滲みが生じることは望まし
くなく、1層当たりのグリーンシートの厚みは200μ
m以下ではプロセス安定するために良く、150μm以
下とするとさらに好ましい。
【0022】また、(表2)から明らかなように、ビア
ホールへの銀ペーストの挿入性および内部配線パターン
の印刷性を考慮すると、100μm以上300μm以下
が良く、100μm以上200μm以下とすると内部配
線パターンを非常にファインに印刷できるためさらに好
ましい。
【0023】以下に、上述した積層セラミック電子部品
に適する1層当たり200μm以下のグリーンシートを
用いて、ビアホールの孔径を200μmとするビアホー
ル導体および内部配線パターンを形成する際の導電ペー
ストの金属粒子径および粘度について、説明する。
【0024】
【表3】
【0025】(表3)から明らかなように、金属粒子径
が5.0μmより大きくなるとビアホール導体の部分が
盛り上がった形状となりうねり等の原因となるし、1.
0μmより小さくなるとビアホールの収縮量が大きくな
るため、焼成後にビアホール導体が外れてしまいビアホ
ールの形状が保持できなくなるため、金属粒子径は1.
0μm以上5.0μm以下が好ましい。
【0026】
【表4】
【0027】(表4)から明らかなように、粘度が40
0μmより大きくなると内部配線パターンの印刷性およ
び焼成後のビアホール導体の部分が盛り上がった形状と
なりうねり等が発生する原因となるし、100μmより
小さくなるとビアホールへの充填性が悪くなるので、1
00μm以上400μm以下が好ましい。
【0028】
【発明の効果】以上のように本発明は、従来個別に行っ
ていたビアホール導体の形成と内部配線パターンの形成
とを同時に行うことで、積層セラミック部品の製造プロ
セスが簡略化でき歩留まりが向上するという効果を奏す
るものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1における積層セラミック
部品の製造方法の工程図
【符号の説明】
1 ベースフィルム 2 グリーンシート 3 ビアホール 4 パイロット穴 5 ビアホール導体 6 内部配線パターン 7 積層機 8 ピン 9 積層パレット 10 積層体ブロック
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石富 裕之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 三田 倫久 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E001 AB03 AC09 AE00 AE04 AH01 AH05 AH06 AH09 AJ01 AJ02 AZ01 5E082 AB03 BC38 EE04 EE23 EE35 FG06 FG22 FG26 FG54 JJ03 JJ12 JJ15 JJ23 LL01 LL03 MM22 PP03 PP09

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 厚みが200μm以下のセラミックグリ
    ーンシートにビアホールを形成し、このビアホールへ導
    体を充填するのと同時に前記セラミックグリーンシート
    に内部配線パターンを形成し、前記ビアホールおよび内
    部配線パターンを有するセラミックグリーンシートを複
    数枚積層した後、切断、焼成してなる積層セラミック部
    品の製造方法。
  2. 【請求項2】 セラミックグリーンシートにビアホール
    を形成する工程は、100μm以上300μm以下のビ
    アホールを形成する工程である請求項1記載の積層セラ
    ミック部品の製造方法。
  3. 【請求項3】 ビアホールへ導体を充填するのと同時に
    前記セラミックグリーンシートに内部配線パターンを形
    成する工程は、金属粉の粒径を1μm以上5μm以下の
    導電ペーストを用いて形成する工程である請求項1記載
    の積層セラミック部品の製造方法。
  4. 【請求項4】 ビアホールへ導体を充填するのと同時に
    前記セラミックグリーンシートに内部配線パターンを形
    成する工程は、粘度を100Pa・s以上600Pa・
    s以下の導電ペーストを用いて形成する工程である請求
    項1記載の積層セラミック部品の製造方法。
JP5822299A 1999-03-05 1999-03-05 積層セラミック部品の製造方法 Pending JP2000260657A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004165631A (ja) * 2002-10-08 2004-06-10 Ngk Spark Plug Co Ltd 積層コンデンサ及びその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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