JP2000239244A - 4−アルコキシ酪酸アミド誘導体及びその製造法 - Google Patents

4−アルコキシ酪酸アミド誘導体及びその製造法

Info

Publication number
JP2000239244A
JP2000239244A JP11041668A JP4166899A JP2000239244A JP 2000239244 A JP2000239244 A JP 2000239244A JP 11041668 A JP11041668 A JP 11041668A JP 4166899 A JP4166899 A JP 4166899A JP 2000239244 A JP2000239244 A JP 2000239244A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid amide
alkyl group
general formula
group
amide derivative
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11041668A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaru Utsunomiya
賢 宇都宮
Yoko Seto
陽子 勢藤
Kazunari Takahashi
和成 高橋
Ken Okamoto
謙 岡本
Yuuki Takuma
勇樹 詫摩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP11041668A priority Critical patent/JP2000239244A/ja
Publication of JP2000239244A publication Critical patent/JP2000239244A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高沸点、高極性で、多機能溶媒となりうる新
規化合物を提供する。 【解決手段】 下記一般式(1)で示される4−アルコ
キシ酪酸アミド誘導体。 【化1】 (式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立して、水素原
子、アルキル基又はアリール基を表し、R3 はアルキル
基を表す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なアルコキシ酪
酸アミド誘導体及びその製造法に関する。本発明に係わ
るアルコキシ酪酸アミド誘導体は高沸点、高極性の多機
能溶媒として有用である。
【0002】
【従来の技術】高沸点、高極性の溶媒として、多くの有
機化合物が知られている。例えば、γ−ブチロラクトン
やN−メチルピロリドンの様なヘテロ原子を持つ環状化
合物がその代表例であるが、これらの化合物は、高沸
点、高極性であるのみならず、親水性及び親油性を併せ
持つことから、コンデンサや電池向けの電解溶媒等にも
広く用いられている。しかしながら、技術の発展に伴
い、特に医薬、高機能性ポリマーや電解液分野等では、
より多機能な溶媒が求められている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる現状に
鑑み成されたものであって、高沸点、高極性で、多機能
溶媒となりうる新規化合物を提供することを目的とする
ものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、下記一
般式(1)で示される4−アルコキシ酪酸アミド誘導体
及びその製造法に存する。
【0005】
【化4】
【0006】(式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立し
て、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、R3
はアルキル基を表す。)本発明に係わる一般式(1)の
酪酸アミド誘導体は、沸点が200℃以上でγ−ブチロ
ラクトンやN−メチルピロリドン等のヘテロ原子を持つ
環状化合物よりも沸点が高く、又、高温でも安定であ
る。又、酪酸誘導体であることから、主鎖の炭素数が4
と少なくかつ、親水性のアミド基を持つため、水に良く
溶解する。又、親油性のエーテル基を有するので多くの
有機化合物を溶解し得る。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
前記一般式(1)において、R1 、R2 がアルキル基を
表す場合、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基等の炭素数1〜8の直鎖も
しくは分岐鎖アルキル基が挙げられる。R1 、R2 がア
リール基を表す場合、具体的には、フェニル基、トリル
基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。R1 、R
2 として好ましくは、水素原子、炭素数1〜4の低級ア
ルキル基であり、特に好ましくはメチル基である。な
お、本明細書において、「低級アルキル基」とは「炭素
数1〜4の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基」を意味す
る。R3 としては、具体的にR1 、R2 と同様の炭素数
1〜8の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基が挙げられ、好
ましくは低級アルキル基、特に好ましくはメチル基であ
る。
【0008】一般式(1)で示される4−アルコキシ酪
酸アミド誘導体は例えば、下記一般式(2)
【0009】
【化5】
【0010】(式中、R3 はアルキル基を表し、R4
置換基を有していても良いアルキル基又はアリール基を
表す。)で示される酪酸エステル誘導体を、下記一般式
(3)
【0011】
【化6】
【0012】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して
水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。)で示さ
れるアンモニア又はアミンと反応させることにより、容
易に製造される。
【0013】原料である一般式(2)の酪酸エステル誘
導体において、R3 は目的とする一般式(1)の4−ア
ルコキシ酪酸アミド誘導体のR3 と同じアルキル基であ
る。R4 としては、R1 、R2 と同様のアルキル基、フ
ェニル基、或いはこれらが更にメチル基、メトキシ基、
ニトロ基、ハロゲン原子等により置換された基が挙げら
れ、好ましくは低級アルキル基、特に好ましくはメチル
基である。
【0014】又一般式(3)におけるR1 及びR2 は、
目的とする一般式(1)の4−アルコキシ酪酸アミド誘
導体のR1 及びR2 に対応する。一般式(3)のアンモ
ニア又はアミンとしては、アンモニア、例えばモノメチ
ルアミン等のモノアルキルアミン、ジメチルアミン等の
ジアルキルアミン、アニリン、ナフチルアミン等が挙げ
られる。一般式(2)の酪酸エステルと一般式(3)の
アンモニア又はアミンとの反応は、−20〜100℃の
温度で、溶媒の存在下又は不存在下、1〜80時間、好
ましくは5〜40時間行われる。アンモニア又はアミン
の使用量は、酪酸エステルに対し、1〜20倍モル、好
ましくは1〜10倍モルである。溶媒を使用する場合
は、水、メタノール等の低級アルカノール等が使用され
る。反応後、溶媒及び過剰のアミン類を、減圧蒸留等の
手段で除去すると目的とする一般式(1)のアルコキシ
酪酸アミド誘導体を取得することが出来る。又、反応混
合物中に、原料の酪酸エステル誘導体が残存している場
合は、反応混合物にアルカリ、好ましくは水酸化カリウ
ム水溶液を加えて、酪酸エステル誘導体を加水分解して
カルボン酸のカリウム塩とし、有機溶媒により抽出除去
することが出来る。
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例に制約されるものではない。なお、以下の例において
「%」は特記しない限り「重量%」を意味する。
【0016】実施例1(4−メトキシ−N,N−ジメチ
ル酪酸アミドの製造) 4−メトキシ酪酸メチル5.03gにジメチルアミンの
水溶液(50%)を室温で10mL(5当量)加え、2
0時間撹拌した。撹拌終了後、反応液を100mLの分
液ロートに入れ、ジエチルエーテル20mLと脱塩水1
0mLを用いて、3回抽出を行った。次に、得られたエ
ーテル層を無水の硫酸マグネシウムにより乾燥し、硫酸
マグネシウムをひだ折り濾過により取り除き、得られた
濾液を減圧乾燥してエーテルを除去して、無色透明のオ
イル1.31gを得た。1H,13C−NMR分析結果よ
り4−メトキシ−N,N−ジメチル酪酸アミドと同定し
た。収率は27%であった。
【0017】分析結果;1 H−NMR(CDCl3 ,400MHz):δ3.2
6(t,J=6.0Hz,2H)、3.16(s,3
H),2.85(s,3H),2.78(s,3H),
2.23(t,J=7.3Hz,2H),1.73(t
t,J=7.3,6.0Hz,2H)13 C−NMR(CDCl3 ,100MHz):δ17
2.4,71.5,58.1,36.9,35.0,2
9.3,24.8
【0018】実施例2(4−メトキシ−N−メチル酪酸
アミドの製造) 4−メトキシ酪酸メチル12.08gに、モノメチルア
ミンの40%メタノール溶液を20℃で15mL(5当
量)加え、10時間撹拌した。その後、エバポレーター
で過剰のモノメチルアミンとメタノールを留去して、無
色透明のオイル9.97gを得た。1H,13C−NMR
分析により4−メトキシ−N−メチル酪酸アミドと同定
した。収率は83%であった。
【0019】分析結果;1 H−NMR(CDCl3 ,400MHz):δ6.6
6−6.37(br,1H),3.25(t,J=6.
2Hz,2H)、3.16(s,3H),2.62
(d,J=4.8Hz,3H),2.12(t,J=
7.3Hz,2H)、1.74(tt,J=6.2,
7.3Hz,2H)13 C−NMR(CDCl3 ,100MHz):δ17
3.4,71.6,58.1,32.7,25.9,2
5.3
【0020】実施例3(4−メトキシ酪酸アミドの製
造) 4−メトキシ酪酸メチル1.08gに、アンモニアの2
8%水溶液を20℃で1mL(5当量)加え、5時間撹
拌した。反応液を100mLの分液ロートに入れ、ジエ
チルエーテル20mLと脱塩水10mLをもちいて、3
回抽出を行った。次に、得られたエーテル層を無水の硫
酸マグネシウムにより乾燥させた。乾燥後、硫酸マグネ
シウムをひだ折り濾過により取り除き、得られた濾液を
減圧乾燥してエーテルを除去して、無色透明のオイル
0.57gを得た。1H,13C−NMR分析により4−
メトキシ酪酸アミドと同定した。収率は55%であっ
た。
【0021】分析結果;1 H−NMR(CDCl3 ,400MHz):δ6.4
8−6.22(br,1H),6.40−6.16(b
r,1H),3.30(t,J=6.0Hz,2H),
3.21(s,3H),2.18(t,J=7.3H
z,2H),1.76(tt,J=7.3,6.0H
z,2H)13 C−NMR(CDCl3 ,100MHz):δ17
6.2,71.7,58.1,32.2,25.3
【0022】
【発明の効果】本発明に係るアルコキシ酪酸アミド誘導
体は、高沸点、高極性の性質を有し、親水性のアミド基
と親油性のエーテル結合の双方を併せ持つ新規な多機能
性有機溶媒である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 和成 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化学 株式会社水島事業所内 (72)発明者 岡本 謙 北九州市八幡西区黒崎城石1番1号 三菱 化学株式会社黒崎事業所内 (72)発明者 詫摩 勇樹 北九州市八幡西区黒崎城石1番1号 三菱 化学株式会社黒崎事業所内 Fターム(参考) 4H006 AA01 AA02 AB80 AC53 AD13 BB14 BB20 BB31 BB49 BC10 BC19 BC31 BP10 BV34

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)で示される4−アルコ
    キシ酪酸アミド誘導体。 【化1】 (式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立して、水素原
    子、アルキル基又はアリール基を表し、R3 はアルキル
    基を表す。)
  2. 【請求項2】 前記一般式(1)において、R1 、R2
    及びR3 が低級アルキル基であることを特徴とする請求
    項1記載の4−アルコキシ酪酸アミド誘導体。
  3. 【請求項3】 前記一般式(1)において、R1 及びR
    2 が、それぞれ独立して水素原子或いは低級アルキル基
    であり、R3 が低級アルキル基であることを特徴とする
    請求項1記載の4−アルコキシ酪酸アミド誘導体。
  4. 【請求項4】 4−メトキシ−N,N−ジメチル酪酸ア
    ミド。
  5. 【請求項5】 4−メトキシ−N−メチル酪酸アミド。
  6. 【請求項6】 4−メトキシ酪酸アミド。
  7. 【請求項7】 下記一般式(2) 【化2】 (式中、R3 はアルキル基を表し、R4 は置換基を有し
    ていても良いアルキル基又はアリール基を表す。)で示
    される酪酸エステル誘導体を、下記一般式(3) 【化3】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して水素原子、ア
    ルキル基又はアリール基を表す。)で示されるアンモニ
    ア又はアミンと反応させることを特徴とする請求項1乃
    至6の何れかに記載の4−アルコキシ酪酸アミド誘導体
    の製造法。
JP11041668A 1999-02-19 1999-02-19 4−アルコキシ酪酸アミド誘導体及びその製造法 Pending JP2000239244A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11041668A JP2000239244A (ja) 1999-02-19 1999-02-19 4−アルコキシ酪酸アミド誘導体及びその製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11041668A JP2000239244A (ja) 1999-02-19 1999-02-19 4−アルコキシ酪酸アミド誘導体及びその製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000239244A true JP2000239244A (ja) 2000-09-05

Family

ID=12614782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11041668A Pending JP2000239244A (ja) 1999-02-19 1999-02-19 4−アルコキシ酪酸アミド誘導体及びその製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000239244A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010222262A (ja) * 2009-03-19 2010-10-07 Idemitsu Kosan Co Ltd アルコキシn,n−ジアルキル酢酸アミドの製造方法、及びポリマー溶液

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010222262A (ja) * 2009-03-19 2010-10-07 Idemitsu Kosan Co Ltd アルコキシn,n−ジアルキル酢酸アミドの製造方法、及びポリマー溶液

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1340549C (en) Method of preparing sphingosine derivatives
JP2003506425A (ja) ナプロキセンのニトロキシアルキルエステルの製造法
JP3563643B2 (ja) イミダゾリン化合物、その中間体、およびそれらの製造方法、並びにアゼピン化合物およびその塩の製造方法
JP2000239244A (ja) 4−アルコキシ酪酸アミド誘導体及びその製造法
JPH07116116B2 (ja) 3−アミノアクリル酸エステルの製造法
JP3241889B2 (ja) シアノアシルシクロプロパン化合物の製造方法とそれに用いる2−シアノアシル−4−ブタノリド化合物
JPH10101627A (ja) 3−アミノ−4,4,4−トリハロクロトネート化合物の製造方法
JP2004323433A (ja) 5’−アシルオキシヌクレオシド化合物の製造方法
JP3303050B2 (ja) アゾニアアダマンタン化合物およびこのものからのアザアダマンタン化合物の製造方法並びに該アゾニアアダマンタン化合物の製造方法
JP3477631B2 (ja) 1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラオルガノジシロキサンの精製方法
JP2794241B2 (ja) 芳香族アミン誘導体の製造方法
JP2000044549A (ja) ベンゾトリアゾール誘導体
JP2815988B2 (ja) 3―n―シクロヘキシルアミノフェノール誘導体の製造法
JP4218310B2 (ja) 光学活性2−アミノ−2−フェニルエタノール類の製造方法およびその中間体
JPS6210500B2 (ja)
JP4487674B2 (ja) テトラヒドロピラニル−4−カルボキシレート化合物の製法
JP4663105B2 (ja) 2−スルホニル−4−オキシピリジン誘導体の製造方法
US20040006225A1 (en) Preparation of enantiomerically enriched amine-functionalized compounds
JP2000063321A (ja) 光学純度の高い長鎖β−ヒドロキシカルボン酸の製造方法
JP2004026652A (ja) β−アルコキシアクリロニトリル誘導体
JPS6254416B2 (ja)
JPH09110756A (ja) ビスフェノール系ジメチロール化合物の製造方法
JP3819473B2 (ja) 4,4−ビスハロメチル−3−オキソアルカンカルボン酸誘導体とそれを用いる3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン酸誘導体の製造方法
JP2000344703A (ja) 4−アルコキシメチル−2,3,5,6−テトラフルオロベンジルアルコールの製造法
JP2000327629A (ja) フェニル酢酸誘導体、ベンゾニトリル誘導体、およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040401

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070724

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070920

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071023

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080311