JP2000237056A - 高反射防汚性板及びこれを有する調理器 - Google Patents
高反射防汚性板及びこれを有する調理器Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 防汚性を付与する際、フッ素ポリマーを塗布
する方法では、塗膜の膜厚が厚くなることからオーブン
電子レンジの庫内等、加熱機器に用いた場合に輻射によ
る熱量損失が大きい。また、化学吸着単分子膜は、塗膜
の耐久性、透明性には優れるものの、ステンレス等、表
面に活性水素の少ない基材には緻密な吸着膜を形成し難
い等の問題を有していた。 【解決手段】 高反射率のアルミニウム合金、またはフ
ェライト系ステンレス基材１に下層膜２を設け、さらに
その下層膜表面上に防汚性を有するフッ化アルキル系化
学吸着単分子膜３とを設けることを特徴とする高反射防
汚性板、及びこの高反射防汚性板を用いた調理器とす
る。
する方法では、塗膜の膜厚が厚くなることからオーブン
電子レンジの庫内等、加熱機器に用いた場合に輻射によ
る熱量損失が大きい。また、化学吸着単分子膜は、塗膜
の耐久性、透明性には優れるものの、ステンレス等、表
面に活性水素の少ない基材には緻密な吸着膜を形成し難
い等の問題を有していた。 【解決手段】 高反射率のアルミニウム合金、またはフ
ェライト系ステンレス基材１に下層膜２を設け、さらに
その下層膜表面上に防汚性を有するフッ化アルキル系化
学吸着単分子膜３とを設けることを特徴とする高反射防
汚性板、及びこの高反射防汚性板を用いた調理器とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材表面の反射特
性を損なわず防汚性を付与することを可能とする表面処
理と、これを有する調理器に関するものである。
性を損なわず防汚性を付与することを可能とする表面処
理と、これを有する調理器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】基材表面の撥水撥油防汚性を改善する方
法として、フッ素ポリマーを塗布焼き付けたり、フロロ
カーボン系の化学吸着単分子膜を形成する方法が提案さ
れている（特開平８−１８８４４８号公報参照）。ま
た、フッ素ポリマー中にアルミフレークを分散させ、塗
布焼き付ける方法で反射効果を付与する方法も提案され
ている。
法として、フッ素ポリマーを塗布焼き付けたり、フロロ
カーボン系の化学吸着単分子膜を形成する方法が提案さ
れている（特開平８−１８８４４８号公報参照）。ま
た、フッ素ポリマー中にアルミフレークを分散させ、塗
布焼き付ける方法で反射効果を付与する方法も提案され
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、フッ素ポリマ
ーを塗布する方法では、塗膜の膜厚が厚くなることか
ら、オーブン電子レンジの庫内等、加熱機器に用いた場
合、輻射による熱量損失が大きい。また、フッ素ポリマ
ー中にアルミフレークを分散させ反射効果を付与した場
合においても、基材鋼板に比べると輻射率が依然として
大きい。また、塗膜の耐久性の面でも、ピンホールの発
生により劣化する等の問題を有していた。
ーを塗布する方法では、塗膜の膜厚が厚くなることか
ら、オーブン電子レンジの庫内等、加熱機器に用いた場
合、輻射による熱量損失が大きい。また、フッ素ポリマ
ー中にアルミフレークを分散させ反射効果を付与した場
合においても、基材鋼板に比べると輻射率が依然として
大きい。また、塗膜の耐久性の面でも、ピンホールの発
生により劣化する等の問題を有していた。
【０００４】一方、フロロカーボン系の化学吸着単分子
膜は、吸着試薬であるシラン系界面活性剤と基材表面の
活性水素との縮合反応によって起こり、ガラス等の表面
に活性水素を多く持つ基材表面には緻密な膜が形成可能
であるが、金属等活性水素量が少ない基材表面に形成さ
れた膜は緻密さに欠け、吸着膜の耐久性が劣るという問
題を有していた。また、その膜厚（数nm）が非常に薄い
ため、基材表面に酸化皮膜が形成され、変色（例えばテ
ンパーカラー）、劣化等の問題を有していた。
膜は、吸着試薬であるシラン系界面活性剤と基材表面の
活性水素との縮合反応によって起こり、ガラス等の表面
に活性水素を多く持つ基材表面には緻密な膜が形成可能
であるが、金属等活性水素量が少ない基材表面に形成さ
れた膜は緻密さに欠け、吸着膜の耐久性が劣るという問
題を有していた。また、その膜厚（数nm）が非常に薄い
ため、基材表面に酸化皮膜が形成され、変色（例えばテ
ンパーカラー）、劣化等の問題を有していた。
【０００５】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
ので、反射特性に優れ、かつ防汚性、耐久性、耐酸化性
を兼ね備えた高反射防汚性板およびこれを有する調理器
を提供することを目的とする。
ので、反射特性に優れ、かつ防汚性、耐久性、耐酸化性
を兼ね備えた高反射防汚性板およびこれを有する調理器
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、反射特性、耐熱性、耐酸化性に優れた基材
表面に、下層膜とフロロカーボン系の化学吸着膜の２層
から成る防汚性を有する透明性薄膜を設けることを特徴
とする高反射防汚性板及びこれを用いた調理器とする。
この構成により、高反射性、防汚性、耐熱性、耐酸化性
を兼ね備えた高反射防汚性板と、これを適用した調理器
を実現できる。
に本発明は、反射特性、耐熱性、耐酸化性に優れた基材
表面に、下層膜とフロロカーボン系の化学吸着膜の２層
から成る防汚性を有する透明性薄膜を設けることを特徴
とする高反射防汚性板及びこれを用いた調理器とする。
この構成により、高反射性、防汚性、耐熱性、耐酸化性
を兼ね備えた高反射防汚性板と、これを適用した調理器
を実現できる。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１記載の発明は、
高い反射特性を示す基材表面に防汚性を有する薄膜を形
成して成ることを特徴とする高反射防汚性板であり、こ
の構成により、反射特性と防汚性を兼ね備えた表面処理
を実現できる。
高い反射特性を示す基材表面に防汚性を有する薄膜を形
成して成ることを特徴とする高反射防汚性板であり、こ
の構成により、反射特性と防汚性を兼ね備えた表面処理
を実現できる。
【０００８】本発明の請求項２記載の発明は、高い反射
特性を示す基材と、前記基材表面に防汚性を有する薄膜
を有する高反射防汚性板とするものであり、この構成に
より、反射特性と防汚性を兼ね備えた表面処理を実現で
きる。
特性を示す基材と、前記基材表面に防汚性を有する薄膜
を有する高反射防汚性板とするものであり、この構成に
より、反射特性と防汚性を兼ね備えた表面処理を実現で
きる。
【０００９】本発明の請求項３記載の発明は、基材が、
耐熱性、耐酸化性に優れた、アルミニウム、アルミニウ
ム合金、またはアルミニウムあるいはアルミニウム合金
皮膜を有する基材、あるいはフェライト系ステンレスの
少なくとも１つであることを特徴とする請求項１または
２記載の高反射防汚性板であり、この構成により、耐熱
性、耐酸化性に優れ、テンパーカラーが着き難い高反射
防汚性板を提供することが可能となる。
耐熱性、耐酸化性に優れた、アルミニウム、アルミニウ
ム合金、またはアルミニウムあるいはアルミニウム合金
皮膜を有する基材、あるいはフェライト系ステンレスの
少なくとも１つであることを特徴とする請求項１または
２記載の高反射防汚性板であり、この構成により、耐熱
性、耐酸化性に優れ、テンパーカラーが着き難い高反射
防汚性板を提供することが可能となる。
【００１０】本発明の請求項４に記載の発明は、フェラ
イト系ステンレス鋼の表面仕上げが、光輝性、耐酸化性
に優れたＢＡ（ブライトアニール）仕上げであることを
特徴とする請求項３記載の高反射防汚性板である。ＢＡ
仕上げは、冷間圧延後、例えば水素還元雰囲気炉で光輝
熱処理を行っているため、より反射特性に優れ、酸化に
よるテンパーカラーが付き難く、初期の光輝性、反射特
性を持続することが可能となる。
イト系ステンレス鋼の表面仕上げが、光輝性、耐酸化性
に優れたＢＡ（ブライトアニール）仕上げであることを
特徴とする請求項３記載の高反射防汚性板である。ＢＡ
仕上げは、冷間圧延後、例えば水素還元雰囲気炉で光輝
熱処理を行っているため、より反射特性に優れ、酸化に
よるテンパーカラーが付き難く、初期の光輝性、反射特
性を持続することが可能となる。
【００１１】本発明の請求項５記載の発明は、基材表面
に凹凸を設けることにより単位面積当たりの反射面積を
増やすことを特徴とする請求項４記載の高反射防汚性板
であり、この構成により、反射率を向上することが可能
となる。
に凹凸を設けることにより単位面積当たりの反射面積を
増やすことを特徴とする請求項４記載の高反射防汚性板
であり、この構成により、反射率を向上することが可能
となる。
【００１２】本発明の請求項６に記載の発明は、防汚性
を有する薄膜が、基材表面に密着した下層膜と、前記下
層膜表面に一端にＣＦ3基を有し他端にクロロシリル基
またはアルコキシシリル基を有するシラン系界面活性剤
が吸着した化学吸着膜から成る積層膜であることを特徴
とする請求項１〜５いずれか１項に記載の高反射防汚性
板であり、この構成により、防汚性を有する薄膜が、下
層膜と化学結合により吸着しており、アンカー効果によ
り密着しているフッ素ポリマーの塗膜に比べ耐久性に優
れる。下層膜の形成には、金属アルコキシドを用いる、
また形成した膜を後処理することにより、表面上に水酸
基を持つ構造とする。これにより、金属表面には少なか
った活性水素が増加し、シラン系界面活性剤との縮合反
応がより密に起こり、より緻密な吸着膜が形成され、結
果として単分子吸着膜の耐久性、耐熱性もさらに向上し
ている。
を有する薄膜が、基材表面に密着した下層膜と、前記下
層膜表面に一端にＣＦ3基を有し他端にクロロシリル基
またはアルコキシシリル基を有するシラン系界面活性剤
が吸着した化学吸着膜から成る積層膜であることを特徴
とする請求項１〜５いずれか１項に記載の高反射防汚性
板であり、この構成により、防汚性を有する薄膜が、下
層膜と化学結合により吸着しており、アンカー効果によ
り密着しているフッ素ポリマーの塗膜に比べ耐久性に優
れる。下層膜の形成には、金属アルコキシドを用いる、
また形成した膜を後処理することにより、表面上に水酸
基を持つ構造とする。これにより、金属表面には少なか
った活性水素が増加し、シラン系界面活性剤との縮合反
応がより密に起こり、より緻密な吸着膜が形成され、結
果として単分子吸着膜の耐久性、耐熱性もさらに向上し
ている。
【００１３】本発明の請求項７に記載の発明は、防汚性
を有する薄膜が、膜厚１μm以下であり、基材の反射特
性を損なわない透明性薄膜であることを特徴とする請求
項６記載の高反射防汚性板であり、熱線の透過が良いた
め、反射効率を付与した基材表面の特性を損なわずに防
汚性を付与することが可能となる。
を有する薄膜が、膜厚１μm以下であり、基材の反射特
性を損なわない透明性薄膜であることを特徴とする請求
項６記載の高反射防汚性板であり、熱線の透過が良いた
め、反射効率を付与した基材表面の特性を損なわずに防
汚性を付与することが可能となる。
【００１４】本発明の請求項８に記載の発明は、一端に
ＣＦ3基を有し多端にクロロシリル基またはアルコキシ
シリル基を有するシラン系界面活性剤の分子式を提供す
るものであり、この界面活性剤により形成された吸着分
子は、基材にほぼ垂直に配向し、防汚性を発現するＣＦ
3基が最も表面に現れ、防汚性を向上させることが可能
となる。
ＣＦ3基を有し多端にクロロシリル基またはアルコキシ
シリル基を有するシラン系界面活性剤の分子式を提供す
るものであり、この界面活性剤により形成された吸着分
子は、基材にほぼ垂直に配向し、防汚性を発現するＣＦ
3基が最も表面に現れ、防汚性を向上させることが可能
となる。
【００１５】本発明の請求項９に記載の発明は、請求項
１〜８のいずれか１項に記載した高反射防汚性板を有す
る調理器であり、これにより反射特性と防汚性を兼ね備
えた調理器とすることが可能となる。
１〜８のいずれか１項に記載した高反射防汚性板を有す
る調理器であり、これにより反射特性と防汚性を兼ね備
えた調理器とすることが可能となる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。図１において、本発明の高反射防
汚性板は、反射率０．５０以上の基材１に下層膜２を設
け、さらにその下層膜２表面上にフッ化アルキル系化学
吸着単分子膜３を設けて形成しているものである。
照しながら説明する。図１において、本発明の高反射防
汚性板は、反射率０．５０以上の基材１に下層膜２を設
け、さらにその下層膜２表面上にフッ化アルキル系化学
吸着単分子膜３を設けて形成しているものである。
【００１７】例えば、基材１はアルミニウム（例えば反
射率０．９５以上）、アルミニウム合金（例えば反射率
０．９０以上）または、アルミニウムあるいはアルミニ
ウム合金皮膜を有する基材（例えば、反射率０．９０以
上のガルバリウム鋼板等）、ステンレス（例えば反射率
０．５０〜０．９０程度）、チタン（例えば反射率０．
８０％程度）、銅（例えば反射率０．９０程度）等を用
いる。コスト及び耐熱性および耐酸化性を考慮して、ア
ルミニウム、アルミニウム合金、または、アルミニウム
あるいはアルミニウム合金皮膜を有する基材およびフェ
ライト系ステンレスを用いることが好ましい。また、フ
ェライト系ステンレスの中でも、好ましくは、耐熱性及
び耐酸化性に優れた、ＡｌまたはＳｉのどちらか一種あ
るいは複数を含むＳＵＳ４３０（反射率０．８７程度）
を用いても良い。また、ＢＡ（ブライトアニール）仕上
げした表面をエンボス加工またはディンプル加工等によ
り粗面化することにより単位面積当たりの反射面積を増
加させ、より反射率の高い基材を提供するとことが可能
である。
射率０．９５以上）、アルミニウム合金（例えば反射率
０．９０以上）または、アルミニウムあるいはアルミニ
ウム合金皮膜を有する基材（例えば、反射率０．９０以
上のガルバリウム鋼板等）、ステンレス（例えば反射率
０．５０〜０．９０程度）、チタン（例えば反射率０．
８０％程度）、銅（例えば反射率０．９０程度）等を用
いる。コスト及び耐熱性および耐酸化性を考慮して、ア
ルミニウム、アルミニウム合金、または、アルミニウム
あるいはアルミニウム合金皮膜を有する基材およびフェ
ライト系ステンレスを用いることが好ましい。また、フ
ェライト系ステンレスの中でも、好ましくは、耐熱性及
び耐酸化性に優れた、ＡｌまたはＳｉのどちらか一種あ
るいは複数を含むＳＵＳ４３０（反射率０．８７程度）
を用いても良い。また、ＢＡ（ブライトアニール）仕上
げした表面をエンボス加工またはディンプル加工等によ
り粗面化することにより単位面積当たりの反射面積を増
加させ、より反射率の高い基材を提供するとことが可能
である。
【００１８】下層膜２は、金属アルコキシド、金属アル
コキシドの部分加水分解物、ポリシラザン等を用いて形
成し、基材に塗布後、熱処理、酸処理などの後処理を加
えることにより表面の水酸基を増やした構造とする。
コキシドの部分加水分解物、ポリシラザン等を用いて形
成し、基材に塗布後、熱処理、酸処理などの後処理を加
えることにより表面の水酸基を増やした構造とする。
【００１９】例えば、東京応化工業（株）社製のOCD製
品（P-80315-SG、Si-59000-SG等）をディップ法により
塗布後、３００〜４５０℃で３０分程度焼成することで
シリカ層を形成する。
品（P-80315-SG、Si-59000-SG等）をディップ法により
塗布後、３００〜４５０℃で３０分程度焼成することで
シリカ層を形成する。
【００２０】また、三菱化学（株）社製のＭＳ５１ＳＧ
１をディッピングにより塗布後、１５０℃で１時間焼成
することで形成する。基材１との密着性を向上させるた
めにシランカップリング剤（例えばチッソ（株）のサイ
ラエースＳ５１０）をＭＳ５１ＳＧ１に加え、上記方法
と同様に形成しても良い。上記のようにして得られた下
層膜２を酸処理することにより、下層膜２の表面のメト
キシ基を水酸基へ加水分解する。
１をディッピングにより塗布後、１５０℃で１時間焼成
することで形成する。基材１との密着性を向上させるた
めにシランカップリング剤（例えばチッソ（株）のサイ
ラエースＳ５１０）をＭＳ５１ＳＧ１に加え、上記方法
と同様に形成しても良い。上記のようにして得られた下
層膜２を酸処理することにより、下層膜２の表面のメト
キシ基を水酸基へ加水分解する。
【００２１】また、コルコート（株）の帯電防止塗料コ
ルコート（例えばコルコートＮ−１０３Ｘ）を塗布、室
温乾燥した後、３００〜４５０℃で３０分焼成すること
でシリカ層を形成してもよい。
ルコート（例えばコルコートＮ−１０３Ｘ）を塗布、室
温乾燥した後、３００〜４５０℃で３０分焼成すること
でシリカ層を形成してもよい。
【００２２】なお、東燃（株）社製のポリシラザンコー
ティング液を塗布し、得られるポリシラザン薄膜を、大
気中で焼成する、また高湿度下で処理する、また触媒存
在下で処理することにより、シリカ薄膜へと転化するこ
とで形成しても良い。
ティング液を塗布し、得られるポリシラザン薄膜を、大
気中で焼成する、また高湿度下で処理する、また触媒存
在下で処理することにより、シリカ薄膜へと転化するこ
とで形成しても良い。
【００２３】上記のようにして得られた表面に水酸基を
持つ下層膜２上に、一般式（化３）、（化４）で表され
るフッ化アルキル基を含むシラン系界面活性剤を縮合反
応させ吸着し、フッ化アルキル系化学吸着単分子膜３を
形成する。
持つ下層膜２上に、一般式（化３）、（化４）で表され
るフッ化アルキル基を含むシラン系界面活性剤を縮合反
応させ吸着し、フッ化アルキル系化学吸着単分子膜３を
形成する。
【００２４】
【化３】
【００２５】
【化４】
【００２６】形成したフッ化アルキル系化学吸着単分子
膜３はシロキサン結合で下層膜表面に固定されるため、
防汚性に優れ、耐久性が非常に良い。
膜３はシロキサン結合で下層膜表面に固定されるため、
防汚性に優れ、耐久性が非常に良い。
【００２７】次に、実施例に示した方法で形成した高反
射防汚性板を用いた実験例について示す。
射防汚性板を用いた実験例について示す。
【００２８】まず、３００℃での耐熱試験による反射率
の変化を図２に示す。反射率は次式（１−防汚膜の輻射
率）／（１−基材の輻射率）により、輻射率から換算し
求めた。輻射率はDEVICE&SERVICE COMPANY社製の簡易型
輻射率計を用いて３〜３０μmの波長範囲で測定した。
初期値を測定したところ、ガルバリウム鋼板（Ｚｎ-５
５５％Ａｌ合金）が最も高反射率で、０．９４であっ
た。また、同じＳＵＳ４３０系でも仕上げがＢＡ仕上げ
のものが最も高反射率であった（０．８８）。さらに、
ＢＡ仕上げ表面をエンボス加工等により凹凸を設けるこ
とにより０．９０と反射率を上げることが出来る。３０
０℃の雰囲気で１００時間耐熱試験を試みたが反射率の
劣化は見られなかった。
の変化を図２に示す。反射率は次式（１−防汚膜の輻射
率）／（１−基材の輻射率）により、輻射率から換算し
求めた。輻射率はDEVICE&SERVICE COMPANY社製の簡易型
輻射率計を用いて３〜３０μmの波長範囲で測定した。
初期値を測定したところ、ガルバリウム鋼板（Ｚｎ-５
５５％Ａｌ合金）が最も高反射率で、０．９４であっ
た。また、同じＳＵＳ４３０系でも仕上げがＢＡ仕上げ
のものが最も高反射率であった（０．８８）。さらに、
ＢＡ仕上げ表面をエンボス加工等により凹凸を設けるこ
とにより０．９０と反射率を上げることが出来る。３０
０℃の雰囲気で１００時間耐熱試験を試みたが反射率の
劣化は見られなかった。
【００２９】次に、上記耐熱性試験におけるテンパーカ
ラーの着色状態をミノルタカメラ（株）製色彩計を用い
て測定し、Ｌａｂ表示法による色差（ΔＥ）で表した結
果を図３に示す。ガルバリウム鋼板は、色差（ΔＥ）値
も０に近く、ほとんど変化していない。ＳＵＳ４３０に
ついては、ＢＡ仕上げが最も低い色差値を示した。以上
から、反射特性、耐酸化性（耐テンパーカラー性）に優
れているのは、ガルバリウム鋼板、ＳＵＳ４３０系のＢ
Ａ仕上げのものである。
ラーの着色状態をミノルタカメラ（株）製色彩計を用い
て測定し、Ｌａｂ表示法による色差（ΔＥ）で表した結
果を図３に示す。ガルバリウム鋼板は、色差（ΔＥ）値
も０に近く、ほとんど変化していない。ＳＵＳ４３０に
ついては、ＢＡ仕上げが最も低い色差値を示した。以上
から、反射特性、耐酸化性（耐テンパーカラー性）に優
れているのは、ガルバリウム鋼板、ＳＵＳ４３０系のＢ
Ａ仕上げのものである。
【００３０】次に、この高反射防汚性板の撥水性（防汚
性）の耐久を評価する加速試験方法として、３００℃の
電気炉でサンプルを一定時間加熱した後の接触角の変化
を測定して評価した。ＳＵＳ４３０ ＢＡ仕上げに上記
実施例に示した方法で処理したものと、下層膜を設けず
フッ化アルキル系化学吸着単分子膜を設けたものと比較
した結果を図４に示す。下層膜を設けない場合には１０
０時間経過した後の接触角は５８°（ほぼＳＵＳ４３
０、ＢＡ仕上げの接触角に等しい）まで低下している
が、下層膜を設けた場合には、１００時間経過した後で
も９０°以上を保っており、耐久性が優れている。
性）の耐久を評価する加速試験方法として、３００℃の
電気炉でサンプルを一定時間加熱した後の接触角の変化
を測定して評価した。ＳＵＳ４３０ ＢＡ仕上げに上記
実施例に示した方法で処理したものと、下層膜を設けず
フッ化アルキル系化学吸着単分子膜を設けたものと比較
した結果を図４に示す。下層膜を設けない場合には１０
０時間経過した後の接触角は５８°（ほぼＳＵＳ４３
０、ＢＡ仕上げの接触角に等しい）まで低下している
が、下層膜を設けた場合には、１００時間経過した後で
も９０°以上を保っており、耐久性が優れている。
【００３１】次に、この高反射防汚性板をオーブン電子
レンジ庫内に施し、トースト調理における受熱量変化を
従来のフッ素コート庫内（松下電器産業（株）製オーブ
ンレンジＮＥーＮ２００）の場合と比較した結果を図５
に示す。受熱量は、アルミニウム製のトーストと同じ面
積のブロックに黒色塗料（反射率：０．１１）を塗布焼
き付けたトーストダミーを用いて、オーブントーストモ
ードで加熱した際の温度変化から求めた。
レンジ庫内に施し、トースト調理における受熱量変化を
従来のフッ素コート庫内（松下電器産業（株）製オーブ
ンレンジＮＥーＮ２００）の場合と比較した結果を図５
に示す。受熱量は、アルミニウム製のトーストと同じ面
積のブロックに黒色塗料（反射率：０．１１）を塗布焼
き付けたトーストダミーを用いて、オーブントーストモ
ードで加熱した際の温度変化から求めた。
【００３２】トースト調理に必要な熱量は３３ｋＪであ
り、トーストダミーが必要熱量に達する時間を比較した
ところ、従来フッ素コートでは３８８秒の時間を要した
が、反射率０．９０の高反射防汚性板を庫内に施した場
合２７７秒となり、２９％の調理時間短縮が図れた。
り、トーストダミーが必要熱量に達する時間を比較した
ところ、従来フッ素コートでは３８８秒の時間を要した
が、反射率０．９０の高反射防汚性板を庫内に施した場
合２７７秒となり、２９％の調理時間短縮が図れた。
【００３３】また、図６に、本発明の高反射防汚性板を
オーブン電子レンジ庫内に用いた場合の庫内反射率と調
理時間の短縮率との関係を示す。１０％以上の調理時間
の短縮を可能とするためには、庫内反射率を０．５以上
にする必要がある。また、０．８以上の反射率であれ
ば、調理時間短縮効果がより大きくなる。目標の反射率
を実現するためには、基材と防汚性を有する薄膜とを選
択する必要がある。例えば、庫内反射率０．５０を実現
するために、反射率０．５０程度のステンレス基材を用
いるのであれば、表面に塗布する防汚性を有する薄膜は
熱線の減衰のない薄膜でなければならない。すなわち、
基材の反射によって、表面に塗布する薄膜を決定すれば
良い。
オーブン電子レンジ庫内に用いた場合の庫内反射率と調
理時間の短縮率との関係を示す。１０％以上の調理時間
の短縮を可能とするためには、庫内反射率を０．５以上
にする必要がある。また、０．８以上の反射率であれ
ば、調理時間短縮効果がより大きくなる。目標の反射率
を実現するためには、基材と防汚性を有する薄膜とを選
択する必要がある。例えば、庫内反射率０．５０を実現
するために、反射率０．５０程度のステンレス基材を用
いるのであれば、表面に塗布する防汚性を有する薄膜は
熱線の減衰のない薄膜でなければならない。すなわち、
基材の反射によって、表面に塗布する薄膜を決定すれば
良い。
【００３４】次に、実際の調理を行った時の反射率の効
果を検討した結果を（表１）に示す。
果を検討した結果を（表１）に示す。
【００３５】
【表１】
【００３６】（表１）において、冷凍ピザ、冷凍グラタ
ン調理は、予熱無しで行った。調理物の重量が大きく、
調理時間が長くなるほど、反射による調理時間短縮の効
果が大きくなることが解った。ピザ、グラタン調理にお
いては、調理物の表面の焦げ目についても、本発明の高
反射防汚性板を用いた場合の方がより均一なもとのなっ
た。また、オーブン電子レンジを用いたトースト調理で
は、調理時間を短縮出来たことで、加熱によって失われ
るトースト内部の水分量の減少が少なくなり、表面が香
ばしく内部がしっとりとしたトーストに調理を実現でき
るものである。
ン調理は、予熱無しで行った。調理物の重量が大きく、
調理時間が長くなるほど、反射による調理時間短縮の効
果が大きくなることが解った。ピザ、グラタン調理にお
いては、調理物の表面の焦げ目についても、本発明の高
反射防汚性板を用いた場合の方がより均一なもとのなっ
た。また、オーブン電子レンジを用いたトースト調理で
は、調理時間を短縮出来たことで、加熱によって失われ
るトースト内部の水分量の減少が少なくなり、表面が香
ばしく内部がしっとりとしたトーストに調理を実現でき
るものである。
【００３７】
【発明の効果】以上から明らかなように、請求項１およ
び２記載の発明によれば、反射特性に優れ、かつ防汚性
を兼ね備えた高反射防汚性板を提供することが可能とな
る。
び２記載の発明によれば、反射特性に優れ、かつ防汚性
を兼ね備えた高反射防汚性板を提供することが可能とな
る。
【００３８】また、請求項３記載の発明によれば、耐熱
性、耐酸化性に優れた高反射防汚性板を提供することが
可能となる。
性、耐酸化性に優れた高反射防汚性板を提供することが
可能となる。
【００３９】また、請求項４記載の発明によれば、より
反射特性が優れ、テンパーカラーの付き難い高反射防汚
性板が提供可能となり、初期の光輝性、反射特性を持続
することが可能となる。
反射特性が優れ、テンパーカラーの付き難い高反射防汚
性板が提供可能となり、初期の光輝性、反射特性を持続
することが可能となる。
【００４０】また、請求項５記載の発明によれば、基材
表面の反射率をより高めることが可能となる。
表面の反射率をより高めることが可能となる。
【００４１】また、請求項６記載の発明によれば、従来
のフッ素樹脂コーティングと比較し、耐久性、透明性に
優れた薄膜を提供することが可能となる。また、下層膜
を設けることにより、活性水素の少ない金属基材に多く
の活性水素（水酸基）を導入することができ、この活性
水素を核として緻密な化学吸着膜を形成することが可能
となり、膜の耐久性がさらに向上できる。
のフッ素樹脂コーティングと比較し、耐久性、透明性に
優れた薄膜を提供することが可能となる。また、下層膜
を設けることにより、活性水素の少ない金属基材に多く
の活性水素（水酸基）を導入することができ、この活性
水素を核として緻密な化学吸着膜を形成することが可能
となり、膜の耐久性がさらに向上できる。
【００４２】また、請求項７記載の発明によれば、基材
の反射特性を損なうことなく防汚性を兼ね備えることが
可能となる。また、オーブン電子レンジ庫内の従来フッ
素コート鋼板に代替した場合、庫内が明るくなる等の視
覚的効果も期待できる。
の反射特性を損なうことなく防汚性を兼ね備えることが
可能となる。また、オーブン電子レンジ庫内の従来フッ
素コート鋼板に代替した場合、庫内が明るくなる等の視
覚的効果も期待できる。
【００４３】また、請求項８記載の発明によれば、吸着
分子が基材にほぼ垂直に配向した化学吸着膜を形成する
ことができ、さらに防汚性が優れた高反射防汚性板を提
供することが可能となる。
分子が基材にほぼ垂直に配向した化学吸着膜を形成する
ことができ、さらに防汚性が優れた高反射防汚性板を提
供することが可能となる。
【００４４】また、請求項９記載の発明によれば、反射
特性と防汚性を兼ね備えた調理器を提供することが可能
となる。特に、オーブン電子レンジ、オーブントースタ
ー等の庫内に用いた場合、反射率が向上し、輻射による
熱量損失が抑えられ、調理時間短縮、それに伴う省エネ
効果が発揮できるものである。
特性と防汚性を兼ね備えた調理器を提供することが可能
となる。特に、オーブン電子レンジ、オーブントースタ
ー等の庫内に用いた場合、反射率が向上し、輻射による
熱量損失が抑えられ、調理時間短縮、それに伴う省エネ
効果が発揮できるものである。
【図１】本発明の実施例を示す高反射防汚板の断面図
【図２】本発明の高反射防汚板の３００℃耐熱試験にお
ける反射率の変化を示す図
ける反射率の変化を示す図
【図３】本発明の高反射防汚板の３００℃耐熱試験にお
ける色差（ΔＥ）の変化を示す図
ける色差（ΔＥ）の変化を示す図
【図４】本発明の高反射防汚板の３００℃耐熱試験にお
ける接触角の変化を示す図
ける接触角の変化を示す図
【図５】本発明の高反射防汚性板をオーブン電子レンジ
庫内に用いた場合のトースト調理における受熱量変化を
示す図
庫内に用いた場合のトースト調理における受熱量変化を
示す図
【図６】本発明の高反射防汚性板をオーブン電子レンジ
庫内に用いた場合の庫内反射率と調理時間の短縮率との
関係を示す図
庫内に用いた場合の庫内反射率と調理時間の短縮率との
関係を示す図
１ 基材 ２ 下層膜 ３ 化学吸着単分子膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ２４Ｃ 15/22 Ｆ２４Ｃ 15/22 Ａ (72)発明者 ▲徳▼▲満▼ 修三 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 3L086 AA01 AA12 AA13 AA14 BB03 BB14 DA09 DA16 DA30 3L087 AA01 AA02 AA04 AA05 AA06 AB11 AC07 AC12 DA06 DA08 4B055 AA01 BA14 BA27 CA01 CA13 CA19 CB01 CB03 CC43 CC45 CC48 FA03 FB02 FB05 FB12 FB18 FC02 FC09 FC12 FC20 FD03 4K044 AA03 AA06 AB02 AB10 BA14 BA19 BA20 BA21 BB03 BB15 BC00 BC09 BC11 CA07 CA16 CA53 CA62
Claims (9)
- 【請求項１】 高い反射特性を示す基材表面に防汚性を
有する薄膜を形成しても高反射特性を損なわないことを
特徴とする高反射防汚性板。 - 【請求項２】 高い反射特性を示す基材と、前記基材表
面に防汚性を有する薄膜を有する高反射防汚性板。 - 【請求項３】 基材が、耐熱性、耐酸化性に優れた、ア
ルミニウム、アルミニウム合金、またはアルミニウムあ
るいはアルミニウム合金皮膜を有する基材、あるいはフ
ェライト系ステンレスの少なくとも１つであることを特
徴とする請求項１または２記載の高反射防汚性板。 - 【請求項４】 フェライト系ステンレスの表面仕上げ
が、光輝性、耐酸化性に優れたＢＡ（ブライトアニー
ル）仕上げであることを特徴とする請求項３記載の高反
射防汚性板。 - 【請求項５】 基材表面に凹凸を設けることにより単位
面積当たりの反射面積を増やすことを特徴とする請求項
４記載の高反射防汚性板。 - 【請求項６】 防汚性を有する薄膜が、基材表面に密着
した下層膜と、前記下層膜表面に一端にＣＦ3基を有し
他端にクロロシリル基またはアルコキシシリル基を有す
るシラン系界面活性剤が吸着した化学吸着膜から成る積
層膜であることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項
に記載の高反射防汚性板。 - 【請求項７】 防汚性を有する薄膜が、膜厚１μm以下
であり、基材の反射特性を損なわない透明性薄膜である
ことを特徴とする請求項６記載の高反射防汚性板。 - 【請求項８】 一端にＣＦ3基を有し他端にクロロシリ
ル基またはアルコキシシリル基を有するシラン系界面活
性剤分子が一般式（化１）および（化２）から選ばれる
少なくとも一つである請求項７記載の高反射防汚性板。 【化１】 【化２】 - 【請求項９】 請求項１〜８のいずれか１項に記載した
高反射防汚性板を有する調理器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3954499A JP2000237056A (ja) | 1999-02-18 | 1999-02-18 | 高反射防汚性板及びこれを有する調理器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3954499A JP2000237056A (ja) | 1999-02-18 | 1999-02-18 | 高反射防汚性板及びこれを有する調理器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000237056A true JP2000237056A (ja) | 2000-09-05 |
Family
ID=12556007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3954499A Withdrawn JP2000237056A (ja) | 1999-02-18 | 1999-02-18 | 高反射防汚性板及びこれを有する調理器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000237056A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007126904A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Nisshin Steel Co Ltd | 耐疵付き性，耐汚染性，耐温水性に優れたキッチンシンク |
| JP2017512360A (ja) * | 2014-02-18 | 2017-05-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 封止フィルム及びこれを含む有機電子装置 |
-
1999
- 1999-02-18 JP JP3954499A patent/JP2000237056A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007126904A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Nisshin Steel Co Ltd | 耐疵付き性，耐汚染性，耐温水性に優れたキッチンシンク |
| JP2017512360A (ja) * | 2014-02-18 | 2017-05-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 封止フィルム及びこれを含む有機電子装置 |
| JP2019200994A (ja) * | 2014-02-18 | 2019-11-21 | エルジー・ケム・リミテッド | 封止フィルム及びこれを含む有機電子装置 |
| US10720600B2 (en) | 2014-02-18 | 2020-07-21 | Lg Chem, Ltd. | Encapsulation film and organic electronic device including the same |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050816 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060127 |