JP3279232B2

JP3279232B2 - 加熱調理器

Info

Publication number: JP3279232B2
Application number: JP28012797A
Authority: JP
Inventors: 淳麻植; 英賢川西
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1997-10-14
Filing date: 1997-10-14
Publication date: 2002-04-30
Anticipated expiration: 2017-10-14
Also published as: JPH11117078A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表面に汚れ等が付
着しても、簡単に汚れを除去することができる為、その
反射特性を長期間維持することが可能な高反射非粘着金
属材料、及びこれを庫内を構成する金属部品（以下”内
筐体等”と称する）に用いた加熱調理器に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の金属材料は、ステンレス
やアルミニウムの薄板が用いられていたが、これらの表
面は本来撥水性を有していないので、汚れ等が付着しや
すく、また汚れ等が付着した場合、それを除去すること
が困難であった。

【０００３】また、加熱調理器に於いては、従来溶融亜
鉛メッキ鋼板や溶融亜鉛・アルミメッキ鋼板等の表面処
理鋼板をその内筐体等に用い、熱源からのエネルギーを
ある程度反射させることにより、被加熱物を効率よく加
熱するような構成をとられていた。また、内筐体等の一
部に、琺瑯処理を施した金属材料を用い、汚れ付着時の
手入れ作業の軽減を図ったり、触媒分解作用を有する材
料を塗装等により表面に形成した金属材料を用い、付着
した汚れを自己分解することにより、汚れの蓄積を抑え
るといった工夫をされているものもあった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の金属材料では、汚れが付着していくに従って、反射
効率が低下していくという問題があった。

【０００５】また、加熱調理器に於いて、上記従来の構
成では、被加熱物等から発生した汚れが内筐体等の表面
に付着すると、熱源からのエネルギーの内筐体等の表面
での反射が低下していくため、加熱性能が変化していっ
た。また、従来の表面処理鋼板では付着した汚れを除去
することは非常に困難であり、当初の加熱性能を回復す
ることができなかった。すなわち、使用していくに従っ
て、内筐体等の表面での反射効率が悪くなる方向に変化
していくことが避けられず、反射エネルギーを有効に活
用するための内筐体等の設置方法の設計に於いても、あ
る程度反射効率が低下した状態に合わせていく必要があ
った。

【０００６】また、琺瑯処理や触媒分解処理を施した材
料は何れも反射率が低いため、熱源からのエネルギーを
有効に利用することができなかった。

【０００７】本発明は、上記従来の課題を解決するもの
であり、高反射非粘着金属材料及びそれを用いた加熱調
理器を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、波長７００ｎｍ〜３０μｍの電磁波を発生
させるヒーターを有し、前記電磁波の全反射率が５０％
以上の金属素材表面に前記電磁波の透過率９０％以上の
透明な撥水処理膜を形成した高反射非粘着金属材料を内
筐体として使用した加熱調理器とする。

【０００９】この様な高反射非粘着金属材料を加熱調理
器の内筐体等に用いることにより、内筐体等の表面での
熱エネルギーの反射を有効に利用した効率の良い調理器
を提供することが可能である。また、内筐体等の表面が
汚れて反射効率が低下しても、その汚れを簡単に拭き取
り当初の反射効率に戻すことが可能であるため、内筐体
等の設置方法に於いても、当初の最も良い反射効率に合
わせた設計が可能となり、さらにエネルギー効率の良い
加熱調理器を提供することが可能である。

【００１０】

【発明の実施の形態】請求項１記載の発明は、波長７０
０ｎｍ〜３０μｍの電磁波を発生させるヒーターを有
し、前記電磁波の全反射率が５０％以上の金属素材表面
に前記電磁波の透過率９０％以上の透明な撥水処理膜を
形成した高反射非粘着金属材料を内筐体として使用した
加熱調理器とする。

【００１１】上記発明によれば、内筐体等の表面で熱エ
ネルギーが拡散反射されるため、被加熱物にムラなく焼
き色をつけることが可能である。またこの金属材料を照
明器具の反射板や建材のパネル部品に用いた場合、反射
光が特定の箇所に集中したり、特定の方向から見ると反
射した光源が直接見え非常に眩しいといったことがな
く、反射光を有効に利用することが可能である。なお、
ここで言う拡散反射率とは、基材に対して垂直方向以外
から入射したエネルギーに対して、その正反射方向以外
へ拡散反射したエネルギーの割合のことである。すなわ
ち「全反射率」＝「正反射率」＋「拡散反射率」の関係
が成り立つ。

【００１２】請求項２記載の発明は、波長７００ｎｍ〜
３０μｍの電磁波を発生させるヒーターと、パンくず受
けを有し、前記パンくず受けに前記電磁波の全反射率が
５０％以上の金属素材表面に前記電磁波の透過率９０％
以上の透明な撥水処理膜を形成した高反射非粘着金属材
料を使用した加熱調理器とする。

【００１３】請求項３記載の発明は、金属素材として、
中心線平均粗さを０．１μｍ以下とすることにより、表
面の凹凸が小さくなるため反射率が良くなると同時に、
汚れが付着した場合も、表面の凹凸への食い込みが少な
くなり、撥水処理膜の効果がより有効に発揮され、汚れ
の除去が非常に容易になる。

【００１４】請求項４，５記載の発明は、撥水処理膜と
して、フッ化炭素基を有するシラン系カップリング剤を
表面に化学的に結合させることにより形成したり、また
フッ化炭素基を有する分子を含むゾルゲル膜をコーティ
ングすることにより形成し、透明な撥水処理膜が形成さ
れるので、入射光を撥水処理膜によって減衰させること
なく反射でき、非常に効率が良くなる。またこれらの撥
水処理膜は金属素材表面と化学的に結合しているため、
撥水膜の密着性、摩耗性、耐熱性等の耐久性も非常に良
好になる。

【００１５】請求項６記載の発明は、撥水処理膜の下地
処理層として、酸化珪素を主成分とする皮膜を形成する
ことにより、金属素材表面と撥水処理膜の密着性を更に
向上させてやることが可能である。これは、例えば酸化
珪素を主成分とする下地処理剤としてオクタクロロトリ
シロキサン（化学式：Ｃｌ3ＳｉＯＳｉＣｌ2ＯＳｉＣｌ
3、以下”ＯＣＴＳ”と称する）を用いた場合、分子の
一方でしか多分子と結合しないフッ化炭素基を有するシ
ランカップリング剤などと比較して、分子の両端で金属
表面等の他分子と結合が可能で、さらに分子の大きさも
小さい為、金属表面でより緻密に結合することができ
る。更に、この下地処理層の表面は反応性の高いクロル
基（−Ｃｌ）が形成されているので、次に来る撥水処理
膜の反応基とも化学的に結合しやすくなる。また、この
緻密な下地処理層は、アルカリ金属イオン（例えば、Ｎ
ａＣｌのＮａ+イオン）等の不純物や熱による結合の破
壊も低下させる効果もある。この下地処理層には、他に
も酸化珪素を主成分とする一般的なシリカコートやシリ
ケート処理なども応用が可能なことは言うまでもない。

【００１６】請求項７記載の発明は、撥水処理膜の下地
処理層として、アルマイト処理を施すことにより、その
表面に金属素材よりも多くの水酸基（−ＯＨ）が形成さ
れているので、次に来る撥水処理膜と化学的に結合しや
すくなる。また、アルマイト処理をすることにより、金
属素材表面自身も硬くなるので、耐摩耗性が良くなり、
汚れの除去に対しても有利になる。

【００１７】

【実施例】以下本発明の実施例について、オーブントー
スターに応用した場合を代表として、図面を参照にしな
がら説明する。

【００１８】（実施例１）図１（ａ）は本実施例の要部に用いる高反射非粘着金属
材料の外観図、（ｂ）はその断面図である。ここで１は
高反射金属素材、２は撥水処理膜である。

【００１９】また、図２（ａ）は本実施例の加熱調理器
であるオーブントースターの外観図、（ｂ）は断面図で
ある。ここで、１１は前面が開口した外筐体、１２は調
理庫、１３は調理庫１２を形成する内筐体（庫内奥、上
面及び側面を含む）、１４は前面に引き出し可能なパン
くず受けである。１５は内筐体１３の上部側壁に懸架さ
れた上ヒーター、１６は内筐体１３下部側壁に懸架され
た下ヒーターである。１７は上ヒーター１５と下ヒータ
ー１６間に前後にスライド自在に内筐体１３に設けた焼
き網であり、１８は内筐体１３の前側開口部の開閉を行
う扉であり、扉１８の下部の軸を中心に回転自在に本体
に取り付けられている。扉１８の開閉に連動して焼き網
１７は前後にスライドする。１９は外筐体１１の前面の
扉１７の右方に設けられた前板であり、前板１９にはタ
イムスイッチ２０等の操作部が設けられている。

【００２０】この様な構成のオーブントースターに於い
て、図１で示した高反射非粘着金属材料を用いて、内筐
体１３及びパンくず受け１４を作成した。金属素材の反
射率及びその表面に形成した撥水処理膜の透過率を（表
１）に示すような組み合わせとした。この様なオーブン
トースターで、実調理における焼き性能を比較した。

【００２１】

【表１】

【００２２】なお、金属素材としてはアルミニウムを用
い、その反射率は表面仕上げの状態で調節した。また、
撥水処理膜としては、本体No.１、４は実施例５で形成
方法の詳細を説明する分子コート、本体No.２、３は透
明な専用プライマーの上に、四フッ化エチレン・パーフ
ルオロアルコキシエチレン共重合樹脂（略称”ＰＦ
Ａ”）粉体塗料（三井・デュポンフロロケミカル社製）
を塗装・焼き付けることによりそれぞれ形成した。分子
コートの透過率はいずれも１００％であり、また、本体
No.２、３はプライマー及び粉体塗料の膜厚を調整する
ことにより、所定の透過率とした。本体No.５として本
体No.４と同等の金属素材表面に撥水処理膜を形成して
いないものも比較評価した。

【００２３】この様にして作成した出力８００Ｗのオー
ブントースターにて、市販の冷凍グラタンを加熱調理
し、表面が所定の焼き色になるまでの時間を計測するこ
とにより焼き性能を比較した。また、この操作を繰り返
し行い、内筐体等の表面にある程度汚れが付着してきた
１００回目の時点で、水を含ませて良く絞った布巾（以
下”濡れ布巾”と称する）で内筐体１３及びパンくず受
け１４の表面を拭き取り、再度冷凍グラタンの調理時間
を測定した。この拭き取り前の汚れ付着は通常使用の１
〜５年に相当する。

【００２４】（表２）に各本体の所要時間を示す。な
お、冷凍グラタンに表示されている標準調理時間は１０
分間である。

【００２５】

【表２】

【００２６】（表２）からも明らかなように、１回目
（初回）は本体No.３以外は標準調理時間よりも短い時
間で、グラタンの表面に十分な焼き色が付き調理が終了
した。特に、本体No.４、５は１回目で１分２４〜２６
秒も標準調理時間よりも早く調理が終了した。

【００２７】また、１００回目終了後の汚れの除去につ
いては、本体No.１〜４は比較的簡単に除去が可能であ
り、初回と同等の状態にまで回復したが、本体No.５は
付着した汚れがほとんど取れなかった。

【００２８】拭き取り後の調理時間（１０１回目）も
（表２）に示す通りであるが、本体No.１〜４は、ほぼ
初回と同レベルの焼き時間で調理が完了した。これに対
して本体No.５では調理時間が初回よりも２分近く長く
なり、標準時間の１０分間よりも長くなってしまった。
また、表面の焼き色のムラも非常に大きく、内筐体等の
反射度合いが調理物の焼き色に大きく影響することがわ
かる。

【００２９】この様に、内筐体及びパンくずトレイとし
て、全反射率が５０％以上の金属素材表面に、透過率９
０％以上の透明な破水膜を施すことにより、長期的に標
準時間内で調理可能なオーブントースターを実現するこ
とができた。

【００３０】なお、調理に有効な波長は７００ｎｍ〜３
０μｍのいわゆる赤外線領域である。実際の調理器に対
しては、波長３００ｎｍ〜１ｍｍの電磁波の一例とし
て、これらの波長領域を有効に照射している「ハロゲン
ヒーター」（近遠赤外領域：７００ｎｍ〜２．５μｍ）
や、「遠赤外線ヒーター」（遠赤外領域：２．５μｍ〜
３０μｍ）として実用化されている。すなわち、これら
の波長領域を有効に反射する素材で有れば、オーブント
ースターや電子レンジのような調理器に対して効果があ
り、本発明の目的を達成することができる。

【００３１】（実施例２）実施例１と同様にオーブントースターに於いて、溶融亜
鉛・アルミ合金めっき鋼板で、表面のアルミニウム比率
が５５％の材料（新日鉄社製：商品名”ガルバリウム鋼
板）、４０％の材料（試作品）、及び５％の材料（新日
鉄社製：商品名”スーパージンク”）で、内筐体１３及
びパンくず受け１４を作成した。また撥水処理膜として
は実施例５で形成方法の詳細を説明する分子コートによ
り形成した。これらのオーブントースターを用いて、実
施例１と同様に市販の冷凍グラタンを加熱調理し、表面
が所定の焼き色になるまでの時間を計測した。この結果
を（表３）に示す。ここで本体No.１は実施例１に用い
たものと同じである。

【００３２】

【表３】

【００３３】（表３）からも明らかなように、本体No.
６は本体No.１よりも劣るものの、１回目、１０１回目
ともに標準時間よりも早く調理が終了した。これに対し
て、金属素材表面のアルミニウム含有量が少ない本体N
o.７、８は、所要時間がいずれも標準時間より長くなっ
た。これは表面での熱エネルギーの反射が十分でなく、
調理物表面に焼き色が着くまでの時間が長くなってしま
ったものと考えられる。ちなみにそれぞれのオーブント
ースター本体の内筐体およびパンくず受けに用いた材料
表面の全反射率を測定してみると、本体No.１は７３
％、本体No.６は６１％、本体No.７は４７％、本体No.
８は３２％であり、金属素材表面のアルミニウム含有量
が５０％以上であると、全反射率がほぼ５０％以上とな
っており、標準時間内に調理を終了することが可能であ
った。これらの反射率の差は、金属素材表面のアルミニ
ウム含有量の差に起因し、これが調理所要時間の長短に
も影響しているものと考えられる。

【００３４】（実施例３）実施例１と同様のオーブントースターに於けるパンくず
受け１４として、（表４）に示すように中心線平均粗さ
が異なる部品を準備し、その上に実施例５で形成方法の
詳細を説明する分子コートを施し撥水性能を持たせた。

【００３５】この様にして作成した３台のオーブントー
スターの焼き網１７上に直接ウィウンナーソーセージを
載せ、１０分間加熱した。このときウインナーソーセー
ジから油等が流出し、パンくず受けの上に滴下された。
調理終了後、パンくず受けの油等はそのままにして、ト
ーストを２０回行った。この後パンくず受けを本体より
取り出し、濡れ布巾で油等の汚れの除去を行った。この
ときの除去のしやすさも（表４）に併せて示す。ここで
◎は簡単に除去が可能、○は十分に拭き取れば除去可
能、△は十分に拭き取っても一部汚れの付着が残ること
を示す。

【００３６】

【表４】

【００３７】（表４）からもわかるように、本体No.９
の中心線平均粗さが０．５μｍの金属素材を用いた場合
は、汚れが完全に除去できなかった。これは金属素材表
面が全て撥水性の膜に覆われていても、表面の凹凸に物
理的に付着した汚れは除去しにくいためと考えられる。
この様な状況が繰り返されると、十分な手入れを行って
いてもパンくず受け表面への汚れの付着が広がり、調理
性能、特に焼き色への悪影響の発生が容易に考えられ
る。

【００３８】逆に中心線平均粗さが０．１μｍ以下あれ
ば、撥水処理膜の効果が十分に発揮され、汚れがこびり
着かず、簡単な手入れで汚れの除去が可能なオーブント
ースターを提供することが可能である。

【００３９】ちなみに、本体No.１０のパンくず受け表
面の全反射率は５５％であり、中心線平均粗さが０．１
μｍ以下であれば、表面での全反射率がほぼ５０％以上
となっている。

【００４０】なお、本実施例ではパンくず受けについて
のみ説明したが、内筐体を構成する部品に於いても同様
の効果が得られる。

【００４１】（実施例４）実施例１と同様のオーブントースターの内筐体１３及び
パンくず受け１４に用いる金属素材に於いて、全反射率
及び拡散反射率が（表５）に示すような組み合わせの物
を準備した。これらの内筐体及びパンくず受けには実施
例５で形成方法の詳細を説明する分子コートを施し撥水
性能を持たせてある。これらのオーブントースターにて
食パンのトーストを行い、焼き色の付き具合を確認し
た。その結果も併せて（表５）に示す。なおトースト焼
き色において、◎及び○は均一に焼き色が付いたこと
を、×は焼き色に不具合が生じたことを示す。

【００４２】

【表５】

【００４３】（表５）からも明らかなように、本体No.
１３及び１４はいずれも所定時間内に問題なく焼き色が
付いた。特に本体No.１４は短時間で均一に焼き色が付
いた。一方本体No.１２はトースト終了時に焼き色のム
ラが発生し、本体No.１５では所定時間経過しても、焼
き色が不十分であった。これらは拡散反射が不十分なた
めに特定方向に反射エネルギーが集中し焼き色にムラが
生じたり（本体No.１２）、拡散反射が十分に起こって
いても、金属素材自身の全反射率が小さく、十分に焼き
色が付かなかった（本体No.１５）ためと考えられる。

【００４４】（実施例５）実施例１と同様のオーブントースターの内筐体１３及び
パンくず受け１４に於いて、（表６）に示す「粉体塗
装」、「ＰＴＦＥフィルム」、「分子コート」、「ゾル
ゲル膜」により撥水処理膜を形成させた。それぞれの処
理方法を簡単に示す。「粉体塗装」は、実施例１で述べ
たＰＦＡ粉体塗料を用いており詳細は省略する。

【００４５】「ＰＴＦＥフィルム」は、市販のＰＴＦＥ
フィルム（デュポン製）を熱融着により、金属素材表面
に密着させたものである。

【００４６】「分子コート」は、非水雰囲気下で、フッ
化炭素基を有するシランカップリング剤の１つであるヘ
プタデシルデカフルオロデシルトリクロロシラン（化学
式：Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3）数％をシリコーンオ
イルに混ぜた液に、アセトンで完全に洗浄した部品を所
定時間浸漬させ、同雰囲気内に引き上げ完全に乾かした
後、通常雰囲気下へ取り出すことにより作成した。

【００４７】「ゾルゲル膜」は、化学式ＣＦ3（ＣＦ2）
7Ｃ2Ｈ4（ＣＯＨ3）3（以下”ＫＢＭ”と称する）から
なる撥水分子をシリカ成分に分散させてゾル液を作成
し、この液にアセトンで完全に洗浄した部品を浸漬さ
せ、一定速度で引き上げ、その後３００℃で３０分間焼
成することにより作成した。それぞれの撥水処理膜の透
過率は（表６）に示す通りである。

【００４８】この様にして作成した４台のオーブントー
スターにおいて、撥水処理膜の基本特性である基材との
結合性、汚れの除去性および耐熱性を確認した。以下に
それぞれの評価方法を簡単に述べる。

【００４９】結合性は、濡れ布巾に５００ｇ程度の加重
をかけ、１００００往復擦った後、外観および撥水性を
確認した。

【００５０】汚れ除去性は、油汚れが多く発生する冷凍
フライの再加熱を実機で１００回実施し、その後濡らし
た布巾で表面に付着した汚れを拭き取り、その拭き取り
やすさを確認した。

【００５１】耐熱性は、実機にて食パンのトーストを３
６５０回行い、その後の外観および撥水性を確認した。

【００５２】これらの結果も（表６）に併せて示した。
ここで○は不具合無く使用できたこと、△はやや不具合
が発生したが使用は可能であったこと、×は不具合が発
生し使用が不可能であったことを示す。

【００５３】

【表６】

【００５４】（表６）にも示したように、結合性の評価
では本体No.１６および１７は、摩耗分の撥水処理膜が
完全に無くなっており、水の接触角も金属素材と変わら
ない値であった。これに対して本体No.１８および１９
は、表面状態に変化はなく、また水の接触角も初期値と
同程度であった。

【００５５】汚れ除去性に於いても、本体No.１６は汚
れがほとんど取れず、また本体No.１７も完全には除去
できなかったのに対して、本体No.１８および１９は何
の問題もなく汚れが除去できた。

【００５６】また、耐熱性に於いては、本体No.１６お
よび１７はいずれも部分的に熱分解し、その部分が変色
するとともに撥水性も低下していた。これに対して、本
体No.１８および本体No.１９は外観上の変化もなく、撥
水性も低下していなかった。

【００５７】これらの差は基材と撥水処理膜と結合状態
の差によって説明することができる。粉体塗装やＰＴＦ
Ｅフィルムは基材と物理的に結合している。これに対し
て、分子コートやゾルゲル膜は基材と化学的に結合して
おり、機械的な力や熱に対する耐久性が格段に良くなっ
ている。

【００５８】なお、ここで上げたヘプタデシルデカフル
オロデシルトリクロロシラン以外のフッ化炭素基を有す
るシランカップリング剤や、ＫＢＭ以外のフッ素化炭素
基を有する分子を用いても同様の効果が得られる。

【００５９】（実施例６）図３（ａ）は実施例１のパンくず受け４に用いる金属素
材で、（ｂ）にその断面を示す。ここで１は高反射金属
素材、２は撥水処理膜、３は下地処理層である。金属素
材としてはアルミニウムを用いた。また下地処理層とし
ては、シリコーンオイル中にオクトクロロトリシロキサ
ン（化学式：Ｃｌ3ＳｉＯＳｉＣｌ2ＯＳｉＣｌ3、以
下”ＯＣＴＳ”と称する）を分散させ、その中に基材を
所定時間浸漬させることにより、ＯＣＴＳを化学吸着さ
せたもの、及び鏡面アルマイト処理を施すことにより形
成したものを、下地処理層を形成していないものと比較
した。撥水処理膜はいずれも実施例５の分子コートによ
り形成した。

【００６０】これらのサンプルの撥水性の耐久性を、耐
熱性及び耐磨耗性で評価した。耐熱性は３００℃の電気
炉内に５００時間放置し、その後の撥水処理膜表面にお
ける水の接触角を測定した。一方、耐磨耗性は濡れ布巾
に５００ｇ程度の加重をかけ、１００００往復擦った
後、磨耗箇所に於ける水の接触角を測定した。なお、こ
れまでの経験より、撥水性が有効に作用するには、接触
角が８５度以上必要であることがわかっている。また、
評価前の接触角は各サンプルとも１０５〜７度の間であ
ったため、ほぼ同等であると判断した。（表７）に本実
施例のサンプルの下地処理層の内容及び各評価後の接触
角を示す。

【００６１】

【表７】

【００６２】（表７）にも示すように、下地処理層の無
いものはいずれの評価でも接触角が８５度を下回ってい
るが、下地処理層を形成させたものはいずれも８５度を
大きく上回っている。特に、ＯＣＴＳを処理したものは
耐熱性が、鏡面アルマイト処理を行ったものは耐磨耗性
が向上していた。この様に、適切な下地処理を形成させ
ることによって、撥水処理膜の耐久性を大きく向上させ
ることが可能である。

【００６３】なお、本実施例では、下地処理層としてＯ
ＣＴＳを処理したもの及び鏡面アルマイト処理すること
により形成したものに限定して説明したが、もちろんこ
れらに限定されることはなく、一般的にシリカコートや
シリケート処理と言われているものをはじめとする酸化
珪素を主成分とする皮膜の形成や、各種のアルマイト処
理によっても、同様の効果が得られる。

【００６４】また、上記各実施例ではオーブントースタ
ーを例として説明したが、もちろんこれに限定されるも
のではなく、オーブン、オーブンレンジ、電子レンジ、
ロースター、トースターなどの加熱調理器や、照明器具
の反射板、建材用パネル等、反射性が必要でかつ汚れの
付着による反射性の低下を防ぐ必要のある箇所に適用可
能である。

【００６５】

【発明の効果】本発明によれば、内筐体等の表面での熱
エネルギーの反射を有効に利用した効率の良い調理器を
提供することが可能である。また、内筐体等の表面が汚
れて反射効率が低下しても、その汚れを簡単に拭き取り
当初の反射効率に戻すことが可能であるため、内筐体等
の設置方法に於いても、当初の最も良い反射効率に合わ
せた設計が可能となり、さらにエネルギー効率の良い加
熱調理器を提供することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）本発明の実施例を示す高反射非粘着金属
材料の外観図（ｂ）同、高反射非粘着金属材料の要部断面図

【図２】（ａ）本発明の高反射非粘着金属材料を用いた
加熱調理器の外観図（ｂ）同、加熱調理器の要部断面図

【図３】（ａ）本発明の他の実施例を示す高反射非粘着
金属材料の外観図（ｂ）同、高反射非粘着金属材料の要部断面図

【符号の説明】

１高反射金属素材２撥水処理膜３下地処理層１３内筐体１４パンくず受け

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C23C 22/00 - 22/86 F24C 7/04

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】波長７００ｎｍ〜３０μｍの電磁波を発
生させるヒーターを有し、前記電磁波の全反射率が５０
％以上の金属素材表面に前記電磁波の透過率９０％以上
の透明な撥水処理膜を形成した高反射非粘着金属材料を
内筐体として使用した加熱調理器。
【請求項２】波長７００ｎｍ〜３０μｍの電磁波を発
生させるヒーターと、パンくず受けを有し、前記パンく
ず受けに前記電磁波の全反射率が５０％以上の金属素材
表面に前記電磁波の透過率９０％以上の透明な撥水処理
膜を形成した高反射非粘着金属材料を使用した加熱調理
器。
【請求項３】金属素材として、中心線平均粗さを０．
１μｍ以下としたものを用いたことを特徴とした請求項
１または２記載の加熱調理器。
【請求項４】撥水処理膜は、フッ化炭素基を有するシ
ランカップリング剤を、表面に化学的に結合させたこと
を特徴とする請求項１または２記載の加熱調理器。
【請求項５】撥水処理膜は、フッ化炭素基を有する分
子を含むゾルゲル膜をコーティングしたことを特徴とす
る請求項１または２に記載の加熱調理器。
【請求項６】撥水処理膜の下地処理として、酸化珪素
を主成分とする下地処理層を形成させたことを特徴とす
る請求項１または２に記載の加熱調理器。
【請求項７】撥水処理膜の下地処理層として、アルマ
イト処理による下地処理層を形成させたことを特徴とす
る請求項１または２に記載の加熱調理器。